JPS648650B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可とう性の被処理物、例えばプラスチ
ツク成形品をバツチ連続式に真空処理する装置に
関するもので、特にはプラスチツク製のシート、
フイルム、電線など捲状体となつている物質をバ
ツチ連続式に真空処理するための装置に関するも
のである。

従来、プラズマ、イオンプレーテイング、スパ
ツタリング、真空蒸着、真空紫外線処理など真空
処理槽を必要とするプラスチツク成形品のバツチ
連続処理については二、三提案されているが、プ
ラスチツクシート、フイルム、電線のように捲状
体になつている物質の処理の場合は、この真空処
理槽内に捲出装置と捲取装置を内蔵する形とされ
ているため、これにはこの被処理物の出し入れ毎
に装置全体を開放する（大気圧にもどす）必要が
あり、したがつてあらためて処理を行なうために
必要な真空度までに要する時間が長くなつて時間
のロスが非常に多くなるという不利益があり、こ
れにはまたその開放によつて装置内部が湿気、塵
埃などで汚染されるので、この対策が必要になる
という不利があつた。また、この種の装置では揮
発性物質を含有する被処理物、あるいはシート、
フイルムなどの捲状体を真空処理槽に装入した場
合、この揮発性物質または捲状体にとり込まれて
いた空気などのガスが真空処理槽で徐々にぬけ出
すため、真空処理槽の真空度が処理に必要な真空
度まで到達しないという問題があり、このため大
容量の真空ポンプを使用することが必要となるば
かりでなく、１バツチの処理に要する時間が長く
なるという経済的に大きな不利があつた。さらに
この処理物中の揮発性物質あるいは揮散空気は処
理効果のうえにも悪影響があり、例えばプラズマ
処理の場合においては目的とするガスに上記揮発
性物質、空気などが混入するとプラズマ処理の効
果が低下するばかりでなく、その場合には放電の
バラツキによつてその効果が不安定になるという
欠点があつた。

本発明はこのような問題点を解決したバツチ連
続式真空処理装置に関するもので、これは真空処
理槽の前後に上下一対のロールとハウジングとか
らなるシール機構で形成された前方予備真空室と
後方予備真空室を設け、この前方予備真空室には
捲出装置内蔵真空室を、また後方予備真空室には
捲取綴置内蔵真空室をそれぞれ接合させて真空処
理槽と捲出装置および捲取装置を上記シール機構
で真空遮断した状態で捲出装置内の物質を連続的
に真空処理する機構としてなるバツチ連続式真空
処理装置に関するものである。

これを説明すると、本発明の真空処理装置は被
処理物を真空下でプラズマ、イオンプレーテイン
グ、スパツタリング、蒸着、紫外線照射などで処
理するための真空処理槽と、この前後に設けた上
下一対のロールとハウジングとからなるシール機
構で形成された前方予備真空室と後方予備真空室
とからなる連続式真空処理装置に、これをバツチ
連続式とするため、それ自体も真空を保ち得るよ
うにした捲出装置内蔵真空室と捲取装置内蔵真空
室をそれぞれ前記前方予備真空室と後方予備真空
室の前後に設けたものであるから、これによれば
捲出装置に装着されたシート、フイルム、電線な
どの連続した被処理物質をこの捲出装置から捲取
装置までの全系を真空に保持したままで連続的に
表面処理することができる。なお、この捲出装置
内蔵真空室、捲取装置内蔵真空室には被処理物質
の捲状物を出し入れするための気密性の開閉可能
な扉が設けられており、この捲出装置内蔵真空室
に収納した捲状物がその真空処理を終了して捲取
装置内蔵真空室に捲取られたときに、この両室の
真空を解除して処理ずみの捲状物を取り出すと共
に捲出装置内蔵室に未処理の捲状被処理物を収納
し、ついでこの両室を真空とすれば直ちに次の真
空処理を行なうことができるので、これによれば
バツチ連続式による処理を効率よく行なうことが
できるほか、この捲出装置内蔵真空室および捲取
装置内蔵真空室がいずれも上記したシール機構で
真空処理槽とは真空遮断されているので、被処理
物が揮発性物質を含有するものであつたり、ある
いはこの被処理物が捲状体であるためにこれに空
気などが随伴される場合であつても、これによる
不利が未然に防止されるという効果が与えられ
る。

なお、本発明の装置は上記のように構成されて
おり、被処理物に付着しているホコリ、ゴミなど
も捲出装置内蔵真空室で真空除去されるので、こ
れは例えば血液バツク、輸液バツクなどの材料と
される医療用シート材料のプラズマ処理用として
有用とされる。また、本装置ではこの真空処理槽
を複数個とすることができ、この真空処理槽間を
シール機構によつて遮断すれば、それぞれの真空
処理槽で異種の表面処理を連続的に行なうことが
できる。

つぎに本発明装置の一実施例を図面について説
明する。

第１図にはプラスチツク成型品などの可とう性
の被処理物Ｆを真空状態で連続的に表面処理する
ための２個の真空処理槽１０１，１０２をもつ真
空処理装置が示されている。この真空処理槽１０
１，１０２は目的とする処理に必要な処理装置、
例えばプラズマ処理のための陽極，陰極、ガス導
入口などが内蔵されている。そして、この真空処
理槽にはその前方側に被処理物の搬送方向に上下
一対のシールロールを複数個配置することによつ
て形成された前方予備真空室２が、またその後方
側には被処理物の搬送方向に上下一対のシールロ
ールを複数個配置することによつて形成された後
方予備真空室３が設けられており、これらの真空
処理槽、前方予備真空室、後方予備真空室はそれ
ぞれ図示されていない真空ポンプによつて所定の
真空度に保持されるように排気管５，６を介して
真空排気される。なお、この前方予備真空室には
その前方側に捲出装置内蔵真空室１０３が、また
この後方予備真空室にはその後方側に捲取装置内
蔵真空室１０４が接合されており、この両室は図
示されていない真空ポンプによつて排気管７を介
して真空排気される。このため捲出装置内蔵真空
室１０３に捲装された被処理物を装架したのち、
全系を真空にし、被処理物Ｆを前方予備真空室２
を経て真空処理槽１０１，１０２に送ると、被処
理物Ｆはここで処理されたのち、後方予備真空室
３を経て捲取装置内蔵真空室１０４に入り、ここ
で捲き取られる。この処理が終了したのち、捲出
装置内蔵真空室１０３、捲取装置内蔵真空室１０
４の真空を解除し、ついでその扉をあけて処理ず
みの被処理物を捲取装置内蔵真空室１０４から取
り出すと共に捲出装置内蔵真空室に未処理の被処
理物捲装体を収め、再びこの両室を真空にし、次
の処理を実施するのであるが、この際、真空処理
槽１０１，１０２は被処理物捲装体の出し入れに
は無関係に常に真空に保たれているので、この真
空処理は短い待ち時間でのくり返しのバツチ連続
とすることができる。

第２図はこの若干の変形を示したもので、図に
は２個のシール機構をもつ予備真空室４によつて
遮断されている２個の真空処理槽１０１，１０２
を有するバツチ連続式真空処理装置が例示されて
いる。

第３図および第４図は上記した一対のシールロ
ールからなる前記予備真空室２，３，４の主要部
を示したものであり、これはその両端側がサイド
ピース１１に回転自在に軸支され、表面にゴムな
どの弾性材１２が一体的に被着されている上ロー
ル１３と、同じくその両端側がサイドピース１１
に回転自在に軸支され、表面にクロムニツケル層
が施こされ、上ロール１３と対設された下ロール
１４、およびこれを覆う上ケース１５、下ケース
１６とから構成されており、これにはまた上ケー
ス１５に固定され、かつこの上ケース１５の外周
部の一部と軸方向に沿つて連続的に対接する、ウ
ンタンゴムのような弾性体で作られたリツプル部
材１７と、下ケース１６に固定され、かつこの下
ケース１６の外周部の一部と軸方向に沿つて連続
的に対接する、同じくウンタンゴムで作られたリ
ツプル部材１８が付設され、このリツプル部材１
８も前記リツプル部材１７と同様にウンタンゴム
のような弾性体で作られている。

これを要するに本発明は真空処理槽の前後に、
シール機構をもつ予備真空室を設け、その前方予
備真空室の前側に捲出装置内蔵真空室を、またそ
の後方予備真空室の後側に捲取装置内蔵真空室を
設けたものであり、これによれば真空処理室の真
空を解除することなく、連続した被処理物捲装体
の出し入れによつて、これをバツチ連続式に真空
処理することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明のバツチ連続式真
空処理装置の例を示す正面図、第３図および第４
図は本発明のバツチ連続式真空処理装置における
予備真空室のロールとケースおよびロール間のシ
ール手段を説明するための部分拡大図で、第３図
はその側断面図、第４図は第３図の―線矢視
図である。 １０１，１０２……真空処理槽、１０３……捲
出装置内蔵真空室、１０４……捲取装置内蔵真空
室、２，３，４……予備真空室、１１……サイド
ピース、１３……上ロール、１４……下ロール、
１７，１８……リツピル部材、Ｆ……被処理物。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ １個または複数個の真空処理槽と、その前後
   に設けた上下一対のロールとハウジングとからな
   るシール機構で形成された前方予備真空室と後方
   予備真空室とからなり、さらにこの前方予備真空
   室にはこれに接合する捲出装置内蔵真空室を、ま
   た後方予備真空室にはこれに接合する捲取装置内
   蔵真空室を設け、前記真空処理槽と捲出装置およ
   び捲取装置を上記シール機構で真空遮断した状態
   で捲出装置内の物質を連続的に真空処理する機構
   としてなるバツチ連続式真空処理装置。 ２ 前記捲出装置内蔵真空室および捲取装置内蔵
   真空室が、開閉可能な扉を有し、真空処理槽を真
   空状態に保持した状態において被処理物を取りつ
   け、または取出すことができる構造とされている
   特許請求の範囲第１項記載のバツチ連続式真空処
   理装置。 ３ 複数個の真空処理槽が前記シール機溝によつ
   て相互に遮断されている特許請求の範囲第１項ま
   たは第２項記載のバツチ連続式真空処理装置。 ４ 前記シール機構が被処理物の搬送方向に複数
   個配置した上下一対のシールロール、このシール
   ロールの一部にその軸方向に沿つて連続的に対接
   させたリツプル部材、およびハウジングで構成さ
   れている特許請求の範囲第１項、第２項または第
   ３項記載のバツチ連続式真空処理装置。