JPH0116037B2 - - Google Patents
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- JPH0116037B2 JPH0116037B2 JP3616084A JP3616084A JPH0116037B2 JP H0116037 B2 JPH0116037 B2 JP H0116037B2 JP 3616084 A JP3616084 A JP 3616084A JP 3616084 A JP3616084 A JP 3616084A JP H0116037 B2 JPH0116037 B2 JP H0116037B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プリント配線基板の回路パターン等
を形成する現像機、エツチングマシン、剥離機等
の基板製造装置の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to improvements in board manufacturing equipment such as developing machines, etching machines, and peeling machines for forming circuit patterns and the like on printed wiring boards.
最近電子部品・半導体部品の小型化、軽量化、
高度化は更に進み、これに伴つてプリント配線基
板もより一層の微細化、精密化、フアインパター
ン化が要求されている。すなわち、プリント配線
基板に形成される回路幅は、従来の2.5mmから
0.15mm、0.1mmへと微細化し、又従来ICのピン間
に回路パターンを1本通していたのが2本、3本
と増加し、更にプリント配線基板に形成される部
品装着部も径が2.5mmから1.27mm程度へ、そのス
ルホール・導通径も0.8mmから0.5mm、0.2mm程度へ
と極小化してきている。そしてその傾向は今後更
に進展し、より一層の極微細化、極小化が予想さ
れる実情にある。 Recently, electronic parts and semiconductor parts have become smaller and lighter.
As the sophistication continues to advance, printed wiring boards are also required to be further miniaturized, more precise, and finely patterned. In other words, the width of circuits formed on printed wiring boards has increased from the conventional 2.5 mm.
The size of the circuit pattern has been reduced to 0.15mm and 0.1mm, and the circuit pattern that used to be passed between the pins of an IC has increased from one to two to three, and the diameter of the parts mounting part formed on the printed wiring board has also become smaller. The through holes and conduction diameters have been miniaturized from 2.5mm to 1.27mm, and from 0.8mm to 0.5mm to 0.2mm. This trend is expected to further develop in the future, with further miniaturization and miniaturization expected.
ところが、係るプリント配線基板の回路パター
ン等を形成するべく各種薬液をスプレーするその
製造装置たる現像機、エツチングマシン、剥離機
等は、現在従来のままの構造のものがそのまま用
いられているので、この微細化、極小化の事態に
対処しきれない限界に達し、不良の発生が著しく
増加してきている。 However, the manufacturing equipment such as developing machines, etching machines, peeling machines, etc. that spray various chemical solutions to form circuit patterns etc. of printed wiring boards are currently being used as they are with conventional structures. The situation of miniaturization and miniaturization has reached its limit, and the occurrence of defects has increased significantly.
すなわち例えば、従来のエツチングマシンを第
1図により説明する。前工程たる現像工程からコ
ンベヤー1により搬送方向Aに向つて搬送されて
きたプリント配線基板(以下単に基板と言う)2
に対し、多数のノズル3から薬液4が噴射され、
所定銅箔部分がエツチングされて、回路パターン
等が形成される。 For example, a conventional etching machine will be explained with reference to FIG. A printed wiring board (hereinafter simply referred to as the board) 2 has been transported in the transport direction A by the conveyor 1 from the development process, which is the previous process.
On the other hand, the chemical solution 4 is sprayed from a large number of nozzles 3,
A predetermined portion of the copper foil is etched to form a circuit pattern or the like.
さてここで、微細化した所定の回路パターン等
を正確に形成するには、基板2の外表面に対しノ
ズル3から薬液4が均一にムラなく噴射し、スプ
レーすることが最重要テーマとなる。そこでこの
均一スプレーを達成すべく、従来例にあつては、
ノズル3を固定することなく基板2の搬送方向A
とクロスする軌跡をえがいて駆動機構5により反
復動作させていた。 Now, in order to accurately form a predetermined fine circuit pattern, etc., the most important issue is to uniformly and evenly spray the chemical solution 4 from the nozzle 3 onto the outer surface of the substrate 2. Therefore, in order to achieve this uniform spray, in the conventional example,
Transfer direction A of the substrate 2 without fixing the nozzle 3
The drive mechanism 5 was used to draw a trajectory that intersects with the one shown in FIG.
しかしながらこの従来例の方式は、第2図は示
すごとく、基板2の搬送方向Aにクロスする方向
Bの回路パターン21のエツチングには、形成中
の凹溝22中をスムーズに噴射された薬液4が流
れる結果、薬液4の均一性保持が確実に達成され
る反面、基板2の搬送方向Aに沿つた回路パター
ン23のエツチングについては、第3図にも示し
たごとく、噴射された薬液4が、形成される凸部
たる回路パターン23に当つて多量にはね返つた
り、回路パターン23間に形成中の凹溝22中に多
量の液だまりとなつて滞留したりする結果、前述
の薬液4の均一性が確保されなくなる。このよう
にして薬液4の均一性が阻害され、スプレームラ
が生じると、液だまりが発生した箇所に銅箔の腐
食残りが残留し、もつて第1に事後回路として使
用した際に回路パターン23,23どおしが導通し
シヨート事故が発生したり、更に第2に、特に上
記銅箔の残留物を除去すべく薬液4の噴射を行つ
た場合には、回路パターン23の側面が凹溝22側
から浸蝕され、設定されたパターン幅が維持でき
なくなつたり、一部に破損箇所が生じたりし、も
つて通電容量が設計値より減少し、事後の使用に
際し該箇所において発熱する等、問題となつてい
た。 However, as shown in FIG. 2, in this conventional method, when etching the circuit pattern 21 in the direction B that crosses the conveyance direction A of the substrate 2, it is necessary to spray the etching smoothly into the groove 22 that is being formed. As a result of the flow of the chemical liquid 4, uniformity of the chemical liquid 4 is reliably maintained, but the etching of the circuit pattern 23 along the conveyance direction A of the substrate 2 is affected by the sprayed chemical liquid as shown in FIG. A large amount of the chemical liquid 4 may bounce off the circuit pattern 2 3 which is a convex portion to be formed, or a large amount of liquid may remain in the groove 2 2 that is being formed between the circuit patterns 2 3 . As a result, the uniformity of the chemical liquid 4 described above cannot be ensured. In this way, if the uniformity of the chemical solution 4 is inhibited and uneven spraying occurs, residual corrosion of the copper foil will remain in the areas where the liquid pools have occurred. If conduction occurs between 3 and 2 3 and a shot accident occurs, and secondly, especially if the chemical solution 4 is sprayed to remove the residue on the copper foil, the side surface of the circuit pattern 2 3 is eroded from the concave groove 2 side, making it impossible to maintain the set pattern width, or causing damage to some parts, resulting in the current carrying capacity being reduced from the design value, and when used after the fact, at that part. There were problems such as heat generation.
例えばこの従来例の方式による実験例によれ
ば、0.035mmの高さの銅箔で形成される回路のパ
ターン幅が0.1mm、回路間の間隔が0.4mmの設定値
のもとに、塩化第2銅液でエツチングした場合、
前述の基板2の搬送方向Aに沿つた回路パターン
23が浸蝕されて細くなる等により、回路パター
ン21と回路パターン23との誤差は0.05mm以上に
達し、フアインパターンの形成は著しく困難とな
つていた。前述のごとく微細化、極小化が進む基
板2において、スプレームラによる薬液4の不
足、過多に起因するこれらの諸問題は、致命的欠
陥とさえなつていたのである。 For example, according to an experimental example using this conventional method, chloride When etched with 2 copper solution,
As the circuit pattern 2 3 along the conveyance direction A of the substrate 2 is eroded and becomes thinner, the error between the circuit pattern 2 1 and the circuit pattern 2 3 reaches 0.05 mm or more, and the formation of a fine pattern is significantly reduced. It was becoming difficult. As described above, in the substrate 2 which is becoming increasingly finer and miniaturized, these problems caused by insufficient or excessive amounts of the chemical solution 4 due to uneven spraying have even become fatal defects.
なお以上、従来のエツチングマシンにおける問
題点について述べたが、この間の事情は、同様に
薬液のスプレーを行う従来の現像機においても
又、同様であつた。すなわち、ノズルから噴射さ
れる現像液の均一性は、前述と同様に基板2の搬
送方向Aに沿つた回路パターン23の形成には維
持されがたく、スプレームラが生じ、もつて液だ
まりが発生し、露光された硬化膜部分が浸蝕さ
れ、シヤープに現像されない箇所が生じる等、現
像による回路幅のプラス、マイナスの誤差が大き
くなり、前述のエツチング工程での回路パターン
形成上の問題点が更に増幅され、事後の使用に際
しシヨート、発熱等の事故が発生する等、問題と
なつていたのである。 Although the problems with conventional etching machines have been described above, the same situation also applies to conventional developing machines that spray chemical solutions. That is, the uniformity of the developer sprayed from the nozzle is difficult to maintain when forming the circuit pattern 23 along the transport direction A of the substrate 2, as described above, resulting in uneven spraying and liquid pooling. The cured film portion exposed to light is eroded, and some areas are left undeveloped due to sharpness, resulting in large positive and negative errors in circuit width due to development, and the above-mentioned problems in circuit pattern formation in the etching process. This was further amplified, causing problems such as shots and heat generation during subsequent use.
更に、この間の事情は、エツチング工程の次
に、感光・硬化膜部分を薬液のスプレーにより除
去する剥離機においても、同様であつた。 Furthermore, the same situation applies to a peeling machine that removes the photosensitive and cured film portion by spraying a chemical solution after the etching process.
従来の基板製造装置は、このような問題点が指
摘されていた。 Conventional board manufacturing equipment has been pointed out to have such problems.
本発明は、このような実情に鑑み、上記従来例
の問題点を解決すべく、発明者の鋭意研究努力の
結果なされたものであつて、各々所定の軌跡をえ
がいて反復作動する第1ノズルと第2ノズルとを
設けてなることにより、薬液のスプレーの均一性
が確保される基板製造装置を提案することを目的
とする。 In view of the above circumstances, the present invention has been made as a result of the inventor's earnest research efforts in order to solve the problems of the above-mentioned conventional example. An object of the present invention is to provide a substrate manufacturing apparatus in which uniformity of chemical spray is ensured by providing a first nozzle and a second nozzle.
以下本発明を、第4図に示すその1実施例に基
づいて説明する。 The present invention will be explained below based on one embodiment shown in FIG.
まず本発明の特徴とする基本的構成について説
明する。 First, the basic configuration that characterizes the present invention will be explained.
この基板製造装置は、基板2の回路パターン2
1,23等を形成する現像機、エツチングマシン、
剥離機等に関する。そしてコンベヤー1により搬
送される基板2に対し薬液4を噴射すべく配設さ
れたノズルが、基板2の搬送方向Aにほぼ沿つた
軌跡をえがいて駆動機構6により反復動作される
多数の第1ノズル7と、基板2の搬送方向Aとク
ロスする軌跡をえがいて駆動機構8により反復動
作される多数の第2ノズル9とから、なつてい
る。 This board manufacturing apparatus has a circuit pattern 2 on a board 2.
1 , 2, 3 , etc. developing machine, etching machine,
Regarding peeling machines, etc. Then, a number of first nozzles arranged to spray the chemical liquid 4 onto the substrate 2 transported by the conveyor 1 are repeatedly operated by the drive mechanism 6 in a trajectory substantially along the transport direction A of the substrate 2. It consists of a nozzle 7 and a large number of second nozzles 9 that are repeatedly operated by a drive mechanism 8 in a trajectory that intersects the transport direction A of the substrate 2.
次にこの基板製造装置の構成の詳細について、
図示エツチングマシンの例により説明する。 Next, regarding the details of the configuration of this board manufacturing equipment,
This will be explained using an example of the illustrated etching machine.
1は、基板2を載置転送して搬送方向Aに搬送
する、ロールコンベヤー等のコンベヤーである。 Reference numeral 1 denotes a conveyor such as a roll conveyor, which places and transfers the substrate 2 and conveys it in the conveyance direction A.
この搬送される基板2の外表面に対向位置し
て、多数の第1ノズル7が配設されている。この
第1ノズル7は、前記搬送方向Aに正確に又は大
体沿つた軌跡をえがいて、駆動機構6により反復
動作される。すなわち図示例にあつては、多数の
第1ノズル7は、前記搬送方向Aにほぼ直角にク
ロスしてコンベヤー1上方に並列に架設されたパ
イプ10,10,…の下部に、それぞれ直列に設
けられている。このパイプ10,10,…の一端
は、連結棒11、クランク12等を介し首振りモ
ーター13に連結してなる駆動機構6に接続され
いる。パイプ10,10,…の他端は、配管1
4、ポンプ15を介し、エツチング室16下部の
薬液槽に連通されている。この図示例にあつて
は、パイプ10が駆動機構6により反復回動され
るので、第5図aに示すごとく、第1ノズル7は
所定の軌跡えがいて反復揺動動作・首振動作をす
るが、第5図bに示すごとく、パイプ10、第1
ノズル7を他の駆動機構を用いて搬送方向Aに沿
つて反復スライド移動動作をさせることにより、
所定の軌跡をえがくようにしてもよい。 A large number of first nozzles 7 are arranged opposite to the outer surface of the substrate 2 being transported. This first nozzle 7 is repeatedly operated by the drive mechanism 6, tracing a trajectory exactly or approximately along the conveyance direction A. That is, in the illustrated example, a large number of first nozzles 7 are provided in series at the lower part of pipes 10, 10, . It is being One end of the pipes 10, 10, . . . is connected to a drive mechanism 6 connected to a swing motor 13 via a connecting rod 11, a crank 12, etc. The other end of the pipe 10, 10, ... is the pipe 1
4. It is communicated via a pump 15 to a chemical tank at the bottom of the etching chamber 16. In this illustrated example, since the pipe 10 is repeatedly rotated by the drive mechanism 6, the first nozzle 7 follows a predetermined trajectory and performs a repetitive rocking motion and neck vibration motion, as shown in FIG. 5a. However, as shown in FIG. 5b, the pipe 10, the first
By repeatedly sliding the nozzle 7 along the conveyance direction A using another drive mechanism,
A predetermined trajectory may be drawn.
次にこの第1ノズル7に対し基板2の搬送方向
A下流側には、同様に搬送される基板2の外表面
に対向位置して、多数の第2ノズル9が配設され
ている。この第2ノズル9は、前記搬送方向Aに
例えば90゜の角度でクロスする直線状の軌跡をえ
がいて、駆動機構8により反復動作される。この
クロス角度は、基板2に形成される回路パターン
21の方向により、適宜定める。そして図示例に
あては、この多数の第2ノズル9は、前記搬送方
向Aに沿つてコンベヤー1上方に並列に架設され
たパイプ17,17,…の下部に、それぞれ直列
に設けられている。このパイプ17,17,…の
一端は、連結棒18、クランク19等を介して首
振りモーター20に連結してなる駆動機構8に接
続されている。パイプ17,17,…の他端は、
配管21、パイプ22を介し、エツチング室16
下部の薬液槽に連通されている。なお前述の第1
ノズル7の場合と同様に、この第2ノズル9も、
図示列のごとく揺動動作するもののほか、スライ
ド移動動作することにより、所定の軌跡をえがく
ように構成してもよい。 Next, on the downstream side of the first nozzle 7 in the transport direction A of the substrate 2, a number of second nozzles 9 are arranged to face the outer surface of the substrate 2 that is also transported. This second nozzle 9 is repeatedly operated by the drive mechanism 8, tracing a linear locus that intersects the conveyance direction A at an angle of 90 degrees, for example. This cross angle is appropriately determined depending on the direction of the circuit pattern 2 1 formed on the substrate 2 . In the illustrated example, the large number of second nozzles 9 are provided in series at the lower portions of pipes 17, 17, . . . installed in parallel above the conveyor 1 along the conveyance direction A. One end of the pipes 17, 17, . . . is connected to a drive mechanism 8 connected to a swing motor 20 via a connecting rod 18, a crank 19, etc. The other end of the pipe 17, 17,...
Etching chamber 16 via piping 21 and pipe 22
It is connected to the chemical tank at the bottom. Note that the first
As in the case of nozzle 7, this second nozzle 9 also
In addition to the swinging motion as shown in the illustrated row, it may also be configured to draw a predetermined trajectory by sliding motion.
本発明に係る基板製造装置は、以上のごとく構
成されている。 The substrate manufacturing apparatus according to the present invention is configured as described above.
次にその作動について説明する。 Next, its operation will be explained.
前工程たる現像工程において現像され、コンベ
ヤー1により搬送方向Aに搬送された基板2は、
エツチング工程でエツチングされる。 The substrate 2 that has been developed in the pre-process development process and transported in the transport direction A by the conveyor 1 is
Etched in the etching process.
すなわちまずこの基板2に対し、多数の第1ノ
ズル7からパイプ15により塩化第2銅等の薬液
4が噴射され、前工程たる現像工程で基板2の外
表面の感光膜がはぎ取られ露出した銅箔部分が腐
蝕によりエツチングされ、反面外表面の感光膜が
硬化して残つている銅箔部分がそのまま存置さ
れ、もつて搬送方向Aに沿つた回路パターン23
がまず重点的に形成される。すなわちこの際、第
1ノズル7は駆動機構6により基板2の搬送方向
Aにほぼ沿つた軌跡をえがいて反復動作している
ので、回路パターン23間に形成中の凹溝22内を
同方向に噴射された薬液4が流され、液だまりの
滞留はなく、又薬液4の多量のはね返りもなく、
薬液4の均一スプレーはこの面では確実に達成さ
れる。 That is, first, a chemical solution 4 such as cupric chloride is sprayed onto the substrate 2 from a plurality of first nozzles 7 through a pipe 15, and the photoresist film on the outer surface of the substrate 2 is peeled off and exposed in the pre-development process. The copper foil portion is etched due to corrosion, while the photoresist film on the outer surface is hardened and the remaining copper foil portion is left as is, and the circuit pattern 2 3 along the conveyance direction A is formed.
is formed first and foremost. That is, at this time, since the first nozzle 7 is repeatedly operated by the drive mechanism 6 while tracing a trajectory substantially along the conveyance direction A of the substrate 2, the inside of the groove 2 2 being formed between the circuit patterns 2 3 is moved in the same manner. The chemical liquid 4 sprayed in the direction is flowed, there is no accumulation of liquid pools, and there is no large amount of the chemical liquid 4 splashing.
Uniform spraying of the chemical solution 4 is reliably achieved in this respect.
このようにして回路パターン23がまず重点的
に形成された基板2は、コンベヤー1により第2
ノズル9に対向するエリアまで搬送され、パイプ
22により第2ノズル9から薬液4が噴射され
て、前述と同様にして、搬送方向Aにクロスする
方向Bの回路パターン21が形成される。すなわ
ちこの際、第2ノズル9は駆動機構8により基板
2の搬送方向Aにクロスする軌跡をえがいて反復
動作しているので、回路パターン21間に形成中
の凹溝22内を同方向に噴射された薬液4が流さ
れ、液だまりの滞留はなく、又薬液4の多量のは
ね返りもなく、薬液4の均一スプレーはこの面で
は確実に達成されている。 The substrate 2, on which the circuit pattern 23 has been formed first in this way, is transferred to the second layer by the conveyor 1.
It is transported to an area facing the nozzle 9, and the chemical liquid 4 is injected from the second nozzle 9 by the pipe 22 to form a circuit pattern 2 1 in the direction B crossing the transport direction A in the same manner as described above. That is, at this time, since the second nozzle 9 is repeatedly operated by the drive mechanism 8 in a trajectory that crosses the transport direction A of the substrate 2, it moves in the same direction within the groove 2 2 that is being formed between the circuit patterns 2 1 . The injected chemical solution 4 is flowed away, there is no stagnation of the solution, and there is no large amount of the chemical solution 4 splashing back, and uniform spraying of the chemical solution 4 is reliably achieved in this respect.
又基板2に形成される部品装着部24(第2図参
照)も、上述の第1ノズル7と第2ノズル9との
2方向からの薬液4の噴射により、その周囲への
均一スプレーが確実に達成される。 Furthermore, the component mounting portion 2 4 (see FIG. 2) formed on the substrate 2 also has a uniform spray around it by ejecting the chemical solution 4 from two directions from the first nozzle 7 and the second nozzle 9. definitely achieved.
このように、薬液4の均一スプレーが達成され
る結果、基板2は、各方向の回路パターン23,
21について凹溝22内に銅箔の残留物が残存する
ことなく、その側面が浸蝕されることもなく、所
定の回路幅が確実に得られるのである。又噴射さ
れる薬液4は、各方向の回路パターン23,21に
も均一化されるので、両回路パターン23,21と
も同一精度でのエツチングが達成されることにな
る。 In this way, uniform spraying of the chemical solution 4 is achieved, and as a result, the circuit pattern 2 3 ,
21 , no copper foil residue remains in the groove 22 , and the side surfaces thereof are not eroded, making it possible to reliably obtain a predetermined circuit width. Furthermore, since the sprayed chemical liquid 4 is also uniformized on the circuit patterns 2 3 and 2 1 in each direction, etching of both the circuit patterns 2 3 and 2 1 can be achieved with the same precision.
以上が作動説明である。 The above is the explanation of the operation.
なお上述の実施例にあつては、搬送方向Aに沿
いまず最初に第1ノズル7が配設され、次に第2
ノズル9が配設されていたが、本発明はこれに限
定されるものではなく、まず最初に第2ノズル9
を次に第1ノズル7を配設するようにしてもよ
い。 In the above embodiment, first the first nozzle 7 is disposed along the conveying direction A, and then the second nozzle 7 is disposed along the conveying direction A.
Although the nozzle 9 is disposed, the present invention is not limited thereto, and first the second nozzle 9 is disposed.
Then, the first nozzle 7 may be arranged.
又第1ノズル7と第2ノズル9とは、適宜数交
互に配設するようにしてもよい。 Further, an appropriate number of first nozzles 7 and second nozzles 9 may be arranged alternately.
更に前述の実施例にあつては、1つのエツチン
グ室16内に第1ノズル7と第2ノズル9とが配
設されてなるが、各々が別々のエツチング室内に
設けられるようにしてもよい。 Furthermore, in the embodiment described above, the first nozzle 7 and the second nozzle 9 are arranged in one etching chamber 16, but they may be arranged in separate etching chambers.
又更に、上述の実施例にあつては、ノズル3に
よる基板2への薬液4の噴射は、上方からなされ
ていたが、本発明はこれに限定されず下方又は左
右からなされるようにしてもよい。 Furthermore, in the above-described embodiment, the nozzle 3 sprays the chemical liquid 4 onto the substrate 2 from above, but the present invention is not limited thereto, and may be sprayed from below or from the left or right. good.
又前述の実施例はエツチングマシンに適用した
ものであるが、本発明はこれに限定されず、その
前工程にて用いられる現像機に適用してもよい。
すなわち、基板2の外表面に張り付けられた感光
膜に回路写真をあてて露光し、露光され硬化した
感光膜部分を残し、他の感光膜部分が薬液をノズ
ルにより噴射することにより、溶かされ・はぎ取
られるのであるが、この場合にも前述の実施例と
同様に、各々所定の軌跡をえがいて反復作動する
第1ノズル7と第2ノズル9を設けてなることに
より、薬液4のはね返り、液だまりの問題が解消
され、薬液4の均一なスプレーが確保され、硬化
した感光膜が浸蝕されることもなく所定の回路幅
が形成され、しかも各方向の回路パターンとも同
一精度での現像が達成されるのである。 Further, although the above-mentioned embodiment is applied to an etching machine, the present invention is not limited thereto, and may be applied to a developing machine used in a pre-process.
That is, a photoresist film attached to the outer surface of the substrate 2 is exposed to light by applying a circuit photograph to it, leaving the exposed and hardened photoresist film part, and other parts of the photoresist film are melted by spraying a chemical solution through a nozzle. However, in this case, as in the previous embodiment, by providing the first nozzle 7 and the second nozzle 9, each of which operates repeatedly by tracing a predetermined trajectory, the splashing of the chemical liquid 4, The problem of liquid pooling is solved, a uniform spray of the chemical solution 4 is ensured, a predetermined circuit width is formed without eroding the cured photoresist film, and the circuit pattern in each direction can be developed with the same accuracy. It will be achieved.
更に後工程において用いられる剥離機において
も、同様の機能と作用を発揮する。 Furthermore, the peeling machine used in the post-process also exhibits similar functions and effects.
以上説明したごとく、本発明に係る基板製造装
置は、各々所定の軌跡をえがいて反復作動する第
1ノズルと第2ノズルとを設けてなることによ
り、各ノズルから噴射される薬液のプリント配線
基板の外表面へのスプレーの均一性が確保され、
縦方向、横方向の両方向の各回路パターン等が均
一にスプレーされ同一精度で仕上げられ、又回路
幅も所定の寸法に維持され浸蝕されたりすること
がないので、使用に際してのシヨート、発熱もな
く、最近の微細化、極小化した回路パターン等に
あつても不良がなく確実な製品を得ることがで
き、もつてより小型化、軽量化、精密化、フアイ
ンパターン化したプリント配線基板の形成が可能
となり、今後電子部品の飛躍的小型化、軽量化へ
の決め手となることが予想され、従来例のこの種
装置に存した問題点が一掃される等、その発揮す
る効果は、顕著にして大なるものがある。 As explained above, the board manufacturing apparatus according to the present invention includes the first nozzle and the second nozzle, each of which operates repeatedly by drawing a predetermined trajectory, so that the chemical solution sprayed from each nozzle can be applied to the printed wiring board. uniformity of spray on the outer surface of the
Each circuit pattern in both the vertical and horizontal directions is sprayed uniformly and finished with the same precision, and the circuit width is maintained at the specified size and will not be eroded, so there is no shortening or heat generation during use. Even with the recent miniaturization and miniaturization of circuit patterns, it is possible to obtain reliable products without defects, and to form printed wiring boards that are smaller, lighter, more precise, and finely patterned. It is expected that this will become a decisive factor in the dramatic miniaturization and weight reduction of electronic components in the future, and its effects will be significant, such as eliminating the problems that existed in conventional devices of this type. There is something big.
第1図は、従来例の基板製造装置を示す、概略
正断面図である。第2図は、プリント配線基板の
例を示す、拡大平面図である。第3図は、従来例
の基板製造装置による薬液のスプレー状態を示
す、要部側面図である。第4図は、本発明に係る
基板製造装置の1実施例を示す、概略平断面図で
ある。第5図は、ノズルの動作例を示し、a図は
揺動するタイプを、b図はスライドするタイプ
を、それぞれ示す要部正面図である。
符号の簡単な説明 1…コンベヤー、2…プリ
ント配線基板、21…回路パターン、22…凹溝、
23…回路パターン、24…部品装着部、3…ノズ
ル、4…薬液、5…駆動機構、6…駆動機構、7
…第1ノズル、8…駆動機構、9…第2ノズル、
10…パイプ、11…連結棒、12…クランク、
13…首振りモーター、14…配管、15…ポン
プ、16…エツチング室、17…パイプ、18…
連結棒、19…クランク、20…首振りモータ
ー、21…配管、22…ポンプ、A…搬送方向、
B…クロスする方向。
FIG. 1 is a schematic front sectional view showing a conventional substrate manufacturing apparatus. FIG. 2 is an enlarged plan view showing an example of a printed wiring board. FIG. 3 is a side view of a main part showing a state in which a chemical solution is sprayed by a conventional substrate manufacturing apparatus. FIG. 4 is a schematic cross-sectional plan view showing one embodiment of the substrate manufacturing apparatus according to the present invention. FIG. 5 shows an example of the operation of the nozzle, and FIG. 5 is a front view of the main part of the nozzle, in which FIG. 5A shows a swinging type and FIG. 5B shows a sliding type. Brief explanation of symbols 1...conveyor, 2...printed wiring board, 2 1 ...circuit pattern, 2 2 ...concave groove,
2 3 ... circuit pattern, 2 4 ... component mounting section, 3 ... nozzle, 4 ... chemical solution, 5 ... drive mechanism, 6 ... drive mechanism, 7
...first nozzle, 8...drive mechanism, 9...second nozzle,
10...pipe, 11...connecting rod, 12...crank,
13... Swing motor, 14... Piping, 15... Pump, 16... Etching chamber, 17... Pipe, 18...
Connecting rod, 19... Crank, 20... Oscillating motor, 21... Piping, 22... Pump, A... Conveying direction,
B...Cross direction.
Claims (1)
る現像、エツチング工程で用いられる基板製造装
置において、 コンベヤーにより搬送されるプリント配線基板
に対し薬液を噴射すべく配設されたノズルが、上
記プリント配線基板の搬送方向にほぼ沿つた軌跡
をえがいて駆動機構により反復動作される多数の
第1ノズルと、上記プリント配線基板の搬送方向
とクロスする軌跡をえがいて駆動機構による反復
動作される多数の第2ノズルと、からなつている
ことを特徴とする基板製造装置。[Scope of Claims] 1. In a board manufacturing apparatus used in the development and etching process for forming circuit patterns, etc. on printed wiring boards, a nozzle is provided to spray a chemical onto the printed wiring boards being conveyed by a conveyor. , a large number of first nozzles that are repeatedly operated by a drive mechanism by drawing a trajectory substantially along the conveyance direction of the printed wiring board, and a plurality of first nozzles that are repeatedly operated by the drive mechanism by drawing a trajectory that crosses the conveyance direction of the printed wiring board. A substrate manufacturing apparatus comprising: a plurality of second nozzles;
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3616084A JPS60182184A (en) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | Apparatus for producing substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3616084A JPS60182184A (en) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | Apparatus for producing substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182184A JPS60182184A (en) | 1985-09-17 |
| JPH0116037B2 true JPH0116037B2 (en) | 1989-03-22 |
Family
ID=12462011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3616084A Granted JPS60182184A (en) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | Apparatus for producing substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60182184A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0286151A (en) * | 1988-09-22 | 1990-03-27 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Lead frame manufacturing method |
| JPH0572165U (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-28 | 昭和電工株式会社 | Etching equipment |
| TWI226077B (en) * | 2001-07-05 | 2005-01-01 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP3616084A patent/JPS60182184A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60182184A (en) | 1985-09-17 |
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