JPH0125223B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体装置の基板等に被覆を行うプ
リ洗浄付スピンコート法に関するものである。

一般に半導体装置の基板は研磨工程時に、その
表面がワツクス、油類等によつて汚染されるので
洗浄により前記汚染物を完全に除去し、清浄な基
板とすることは良質の半導体装置を生産するため
の不可欠の工程であることは周知である。したが
つて前記汚染物の除去には、トリクレン、洗剤あ
るいは水等を使用して超音波洗浄その他の洗浄法
等で洗浄を行う。この基板表面の清浄度が半導体
装置の品質および歩留りに大きく影響するので、
洗浄の終つた基板は、一旦クリーンルーム中に備
付けられた清浄な容器に保管されたのち、該容器
中に保管された基板をスピンコーターに移して、
たとえばレジスト等をスピンコートするのであ
る。ところが前記基板が保管中あるいは容器より
スピンコーターへ移す作業において、ゴミ等が付
着する懸念がある。このように基板にゴミ等が付
着した状態でスピンコートすると、被膜の剥離、
電食等が発生して、半導体装置の品質を低下させ
る原因となつていた。

本発明は、前記の問題点を解決すべくなされた
もので、予め洗浄された基板にスピンコートを行
う直前に再度洗浄するようにした新規なるプリ洗
浄付スピンコート法を提供するものである。簡単
に述べると本発明は、回転軸に設けられた吸着端
に基板を吸着させた状態で基板を回転せしめ、回
転軸に設けた超音波振動機構を動作せめた状態で
水流噴射管からの水流噴射により基板を洗浄する
工程と、水流噴射を停止した後超音波振動を停止
する工程と、基板を乾燥する工程と、該基板を回
転させながらレジストを基板上にスピンコートす
る工程とを有することを特徴とするスピンコート
法により達成される。

垂直に配置されるモータの回転軸の先端に設け
られる吸着端に基板を吸着させた状態で基板を回
転し、かつ超音波振動を伝達させるのは、超音波
振動発生板上に駆動モータを固定し、該駆動モー
タの垂直な固定軸を中空の吸引管中に収容し、該
軸先端に該吸引管と通気する吸着端を装着するこ
とで容易に実施できる。

かくて吸着端に吸着された基板にゴミ等が付着
する危険なく所定レジストのスピンコートを行う
ことができる。

以下図面を参照しながら本発明の要旨を具体的
に説明する。全図を通じ同一符号は同一対象物を
示す。

第１図は本発明の１実施例を説明するための模
式的斜視図で、第２図はその要部を断面とした側
面図である。１はガラス、磁器等からなる基板、
２は回転軸２１に付設した吸着端２２を介して前
記基板１を回転させるモータ、３は前記回転軸２
１の外周に付設し、図示しない真空ポンプにより
吸引管３１を介して、前記基板１を吸着支持する
吸着管、４は超音波振動機構、５は前記基板１を
洗浄する水流噴射管、６は不活性ガス供給管で、
７は被覆材料吹付管である。

予め超音波洗浄等により清浄保管された基板１
をモータ回転軸２１の外周に付設した吸着管３に
回転自在で、モータ回転軸２１に付設した吸着端
２２に載置し、図示しない真空ポンプを動作せし
め、吸引管３１を介して前記基板１を吸着せしめ
る。これら一連の作業および基板１の保管は何れ
もクリーンルーム中で行なわれ、しかも作業者は
防塵服で作業を行うが、このような状態でも塵芥
が付着する惧れがある。そこで前記基板１を吸着
した状態でモータ２を回転せしめて、基板１を矢
印Ａ方向に回転せしめると同時に超音波振動機構
４を動作せしめ、超音波発振子からの振動を超音
波振動機構４の振動面４′、モータ２、回転軸２
１、およびその先端に設けられた吸着端２２を介
して前記基板１に回転と振動を同時に与えながら
スピンコートを行うに先立つて、水流噴射管５に
水を供給して水流噴射により基板１に付着した塵
芥を洗浄したるのち、超音波振動を止めて、基板
１を充分乾燥する。そして引続きモータ２を回転
させながら不活性ガスたとえば窒素N₂等を供給
管６より供給しながら、不活性ガス雰囲気中にお
いて被覆材料たとえばレジスト等を吹付け所定の
被膜を形成するようにしたものである。

超音波振動機構を動作せしめ水流噴射により基
板を洗浄した場合、５″ウエハでのゴミの出現率
は、0.1個であつた。

一方、水流噴射のみにより基板を洗浄した場合
５″ウエハでのゴミの出現率は２〜３個であつた。

このように超音波振動と水流噴射による基板洗
浄との併用効果により極めて洗浄効果を高めるこ
とができる。

以上の説明から明らかなように、本発明に係る
プリ洗浄付スピンコーターによれば、洗浄後基板
に付着した塵芥を再度洗浄により除去したのち、
基板へのコーテイングを行うことなるので、半導
体装置としての高品質が期待できるとともに、良
品率の向上に寄与する所が大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるスピンコートの一実施例
を説明するための模式的斜視図、第２図は要部断
面とした側面図を示す。 図において、１は基板、２はモータ、３は吸着
管、４は超音波振動機構、５は水流噴射管、６は
不活性ガス供給管、７は被覆材料吹付管、２１は
モータ回転軸、３１は吸引管、を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ モータと、 モータ回転軸の外周に付設した吸引管を介して
   真空ポンプに接続される吸着管と該吸着管に回転
   自在で、該モータ回転軸に付設した基板を載置・
   吸着せしめる吸着端と、 該モータに、該モータ回転軸と対向する側に付
   設され、該モータ、該モータ回転軸、該吸着端を
   介して該基板に超音波振動を伝達せしめる超音波
   振動機構と、 該基板上部に設けられ該基板を洗浄する水流噴
   射部と基板を不活性ガス雰囲気とする不活性ガス
   供給管と被覆材料吹付管とを有するスピンコータ
   ーを用い、 該吸着端に予め洗浄された基板を吸着させた状
   態で基板を回転せしめ、該超音波振動機構を動作
   せしめた状態で水流噴射管からの水流噴射により
   基板を洗浄する工程と、水流噴射を停止した後超
   音波振動を停止する工程と、基板を乾燥する工程
   と、該基板を回転させながらレジストを基板上に
   スピンコートする工程とを有することを特徴とす
   るスピンコート法。