JPH0127425B2 - - Google Patents
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- JPH0127425B2 JPH0127425B2 JP58173391A JP17339183A JPH0127425B2 JP H0127425 B2 JPH0127425 B2 JP H0127425B2 JP 58173391 A JP58173391 A JP 58173391A JP 17339183 A JP17339183 A JP 17339183A JP H0127425 B2 JPH0127425 B2 JP H0127425B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体表示装置に関し、更に特定して
述べると、マトリクス状に多数配列された液晶表
示素子を選択的に駆動するため、電荷記憶用コン
デンサ及び電荷制御ゲートを液晶表示素子に対応
するように同じくマトリクス状に配置して成る半
導体表示装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor display device, and more specifically, in order to selectively drive a large number of liquid crystal display elements arranged in a matrix, a charge storage capacitor and a charge control gate are connected to a liquid crystal display device. The present invention relates to a semiconductor display device arranged in a matrix pattern corresponding to display elements.
文字、図形などの表示を液晶パネルによつて行
う場合、微細な液晶表示素子をマトリクス状に配
設すると共に、各液晶表示素子に対応させて表示
制御素子を液晶面の下に設けた半導体表示装置が
使用される。この種の半導体表示装置の駆動は、
X方向に多数設けられた第一電極駆動線と、Y方
向に多数設けられた第二電極駆動線とを有してお
り、駆動しようとする表示素子に対応する第一電
極及び第二電極駆動線に所定の電圧を与えること
により、両駆動線の交点に配置されている表示制
御素子(例えばMOSトランジスタ)を駆動し、
その表示素子がオン、オフ制御されるようになつ
ている。 When displaying characters, figures, etc. using a liquid crystal panel, a semiconductor display is used in which fine liquid crystal display elements are arranged in a matrix and a display control element is provided below the liquid crystal surface in correspondence with each liquid crystal display element. equipment is used. Driving this type of semiconductor display device is
It has a first electrode drive line provided in large numbers in the X direction and a large number of second electrode drive lines provided in the Y direction, and the first electrode and second electrode drive lines correspond to the display element to be driven. By applying a predetermined voltage to the line, a display control element (for example, a MOS transistor) placed at the intersection of both drive lines is driven,
The display element is controlled to be turned on and off.
前記半導体表示装置は、ICとしての規模が大
きいので、これらの駆動線によつて各表示素子の
チエツクを行なうことが困難であり、特に、各方
向の駆動線相互の短絡、断線の検出を充分に行な
うことができないという問題点を有している。こ
のため、最終的には、液晶を配して組立ててみな
ければ、配線の欠陥をチエツクすることができな
かつた。 Since the semiconductor display device has a large scale as an IC, it is difficult to check each display element using these drive lines.In particular, it is difficult to sufficiently detect short circuits and disconnections between drive lines in each direction. The problem is that it cannot be carried out on a regular basis. Therefore, in the end, it was not possible to check for defects in the wiring unless the liquid crystal was placed and assembled.
本発明の目的は、従つて、各駆動線の相互短絡
及び断線障害をウエハー段階で簡単にチエツクす
ることができるようにした半導体表示装置を提供
することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor display device in which mutual short circuits and disconnection faults in each drive line can be easily checked at the wafer stage.
上記目的を達成するための本発明の構成の特徴
は、多数の第一電極駆動線と、該第一電極駆動線
と電気的に絶縁性を保ちつつ交叉するように配設
された多数の第二電極駆動線と、上記第一電極駆
動線と上記第二電極駆動線との各交叉部に対応し
て設けられ上記第一電極駆動線及び上記第二電極
駆動線に与えられる電位差に応答して作動する駆
動素子とを備え、これらの駆動素子によつてマト
リクス状に配置された表示素子を駆動するように
した半導体表示装置において、上記第一電極駆動
線及び上記第二電極駆動線が第1層目に配置さ
れ、全ての第一電極駆動線と接続されている第一
検査用配線と全ての第二電極駆動線と接続されて
いる第二検査用配線とが第2層目に配置される多
重配線構造となつている点にある。 The features of the configuration of the present invention for achieving the above object include a large number of first electrode drive lines, and a large number of first electrode drive lines arranged to intersect with the first electrode drive lines while maintaining electrical insulation. A two-electrode drive line is provided corresponding to each intersection of the first electrode drive line and the second electrode drive line, and is responsive to a potential difference applied to the first electrode drive line and the second electrode drive line. In the semiconductor display device, the first electrode drive line and the second electrode drive line are connected to the second electrode drive line. The first test wiring arranged in the first layer and connected to all the first electrode drive lines and the second test wiring connected to all the second electrode drive lines are arranged in the second layer. The reason is that it has a multi-wiring structure.
これらの検査用配線と第一電極又は第二電極駆
動線との接続は、所定の検査終了後に、切離すこ
とにより、通常の使用状態とすることができる。 The connection between these test wires and the first electrode or second electrode drive line can be disconnected after a predetermined test is completed, allowing normal use.
以下、図示の実施例により本発明を詳細に説明
する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to illustrated embodiments.
図面には、本発明による半導体表示装置の電極
配線パターンが示されている。この半導体表示装
置1は、所定の間隔をあけて平行に配置されたゲ
ート電極駆動線X1,X2,X3,……,Xoと、これ
らのゲート電極駆動線とほぼ直交するよう間隔を
あけて平行に配置されたソース電極駆動線Y1,
Y2,……,Yoとを備え、これらの駆動線の交叉
点に対応して、図示しない液晶表示素子を駆動す
るためのMOSトランジスタT11,T12,T13,…
…T1o,T21,T22,T23,……T2o,……To1,
To2,……Tooが、半導体基板(図示せず)上に
形成されており、これらのトランジスタのゲート
及びソースは、夫々対応するゲート電極駆動線及
びソース電極駆動線に図示の如く接続されると共
に、各ドレインは、各トランジスタに対応して設
けられている記憶用コンデンサCを介してアース
されている。 The drawing shows an electrode wiring pattern of a semiconductor display device according to the present invention. This semiconductor display device 1 has gate electrode drive lines X 1 , X 2 , Source electrode drive lines Y 1 , which are arranged in parallel with
Y 2 , ..., Yo , and MOS transistors T 11 , T 12 , T 13 , ... for driving liquid crystal display elements (not shown) are provided corresponding to the intersection points of these drive lines.
...T 1o , T 21 , T 22 , T 23 , ...T 2o , ...T o1 ,
T o2 , ...T oo are formed on a semiconductor substrate (not shown), and the gates and sources of these transistors are connected to corresponding gate electrode drive lines and source electrode drive lines, respectively, as shown in the figure. At the same time, each drain is grounded via a storage capacitor C provided corresponding to each transistor.
ソース電極駆動線Y1〜Yoは、上記半導体基板
上に第1層目のアルミニウム配線として形成さ
れ、一方、ゲート電極駆動線X1〜Xoは同じく第
1層目のポリシリコン配線として形成されてい
る。ソース電極駆動線Y1〜Yoには、夫々パツド
A1〜Aoが設けられており、駆動線Y1〜Yoの各端
部は外部端子に接続されている。ゲート電極駆動
線X1〜Xoも同様に、夫々パツドB1〜Boを有して
おり、各端部は外部端子に接続されている。 The source electrode drive lines Y 1 to Y o are formed as first layer aluminum wiring on the semiconductor substrate, while the gate electrode drive lines X 1 to X o are similarly formed as first layer polysilicon wiring. has been done. The source electrode drive lines Y 1 to Y o each have pads.
A 1 to A o are provided, and each end of the drive lines Y 1 to Y o is connected to an external terminal. Similarly, the gate electrode drive lines X 1 to X o have pads B 1 to B o , respectively, and each end is connected to an external terminal.
従つて、駆動線X1〜Xo及びY1〜Yoに夫夫選択
的に所定の電位を与えることにより、所望の
MOSトランジスタを選択的に駆動することがで
き、これにより、各トランジスタに対応して設け
られた液晶素子を選択的に駆動制御して、所要の
文字、図形を表示することができる。 Therefore, by selectively applying a predetermined potential to the drive lines X 1 to X o and Y 1 to Y o , a desired value can be obtained.
The MOS transistors can be selectively driven, and thereby the liquid crystal elements provided corresponding to each transistor can be selectively driven and controlled to display desired characters and figures.
上述の如く構成された半導体表示装置1の、各
駆動線の断線、ゲード電極駆動線X1〜Xoをソー
ス電極駆動線Y1〜Yoとの間に短絡、及びコンデ
ンサのシヨート等の検査を、液晶を配して半導体
表示装置として組上げる前に、ウエハー段階で能
率よくチエツクすることができるように、第1検
査用配線2及び第2検査用配線3が、駆動線X1
〜Xo及びY1〜Yoが配設されている第一層目とは
別の第二層目の配線領域に設けられている。 The semiconductor display device 1 configured as described above is inspected for disconnection of each drive line, short circuit between the gate electrode drive lines X 1 to X o and the source electrode drive lines Y 1 to Y o , shorting of the capacitor, etc. The first test wiring 2 and the second test wiring 3 are connected to the drive line
~X o and Y 1 ~ Y o are provided in a second layer wiring area different from the first layer where they are arranged.
第一検査用配線2は、ゲート電極駆動線X1〜
Xoの各他端において各駆動線X1〜Xoと接続され
ると共に、パツドB1〜Boに対応して設けられた
パツドC1〜Co、及びパツドA1…Aoに対応して設
けられたパツドD1〜Doに夫々接続されている。
尚、パツドC1〜Coは各ゲート電極駆動線X1〜Xo
とは接続されておらず、また、パツドD1〜Doは
各ソース電極駆動線Y1〜Yoとは接続されていな
い。 The first inspection wiring 2 includes gate electrode drive lines X 1 to
The other end of X o is connected to each drive line X 1 to X o , and corresponds to pads C 1 to C o provided corresponding to pads B 1 to B o , and pads A 1 to A o . They are respectively connected to pads D 1 to D o provided as follows.
Note that the pads C 1 to C o correspond to each gate electrode drive line X 1 to X o
The pads D 1 -D o are not connected to the respective source electrode drive lines Y 1 -Y o .
第二検査用配線3は、ソース電極駆動線Y1〜
Yoの各他端において各駆動線Y1〜Yoと接続され
ると共に、パツドA1〜Aoに対応して設けられた
パツドE1〜Eoに夫々接続されている。 The second inspection wiring 3 includes source electrode drive lines Y 1 to
The other end of Y o is connected to each drive line Y 1 to Y o , and is also connected to pads E 1 to E o provided corresponding to pads A 1 to A o , respectively.
この場合にも、パツドE1〜Eoは、ソース電極
駆動線Y1〜Yoとは電気的に絶縁状態となつてい
る。 Also in this case, the pads E 1 -E o are electrically insulated from the source electrode drive lines Y 1 -Y o .
次に、このように設けられた第一及び第二検査
用配線2,3を用いて、半導体表示装置1の検査
を行なう手順、方法について説明する。 Next, a procedure and method for testing the semiconductor display device 1 using the first and second testing wirings 2 and 3 provided in this manner will be described.
先ず、パツドB1−C1間、B2−C2間、……の導
通をチエツクすることにより、ゲート電極駆動線
X1,X2,……Xoの断線をチエツクすることがで
きる。これは、第一検査用配線2が、ゲート電極
駆動線X1〜Xoの他端で共通に接続されているか
らである。 First, by checking continuity between pads B 1 and C 1 , B 2 and C 2 , and so on, the gate electrode drive line is
It is possible to check for disconnections in X 1 , X 2 , ...X o . This is because the first inspection wiring 2 is commonly connected to the other ends of the gate electrode drive lines X 1 to X o .
同様にして、パツドA1−E1間、A2−E2間、…
…の導通をチエツクすることにより、ソース電極
駆動線Y1〜Yoの断線をチエツクすることができ
る。 Similarly, between pads A 1 and E 1 , between A 2 and E 2 ,...
By checking the conductivity of..., it is possible to check for disconnections in the source electrode drive lines Y1 to Yo .
次に、第一検査用配線2と第二検査用配線3と
の間の導通をチエツクすることにより、いずれか
のゲート電極駆動線といずれかのソース電極駆動
線との間に短絡があるか否かのチエツクを行なう
ことができる。若し、短絡があることが判明した
場合には、第二検査用配線3の、ソース電極駆動
線Y1〜Yoとの共通接続状態を解除するため、配
線3と各駆動線Y1〜Yoとの間の接続及び配線3
による各駆動線Y1〜Yo間の相互接続を断ち、配
線3及び各ソース電極駆動線Y1〜Yoとの間が相
互に電気的に絶縁状態となるようにし、しかる
後、パツドA1−D1間、A2−D2間、……の導通状
態をチエツクすることにより、どのソース電極駆
動線がいずれかのゲート電極駆動線と短絡状態に
あるかを知ることができる。 Next, by checking continuity between the first test wiring 2 and the second test wiring 3, it is determined whether there is a short circuit between any gate electrode drive line and any source electrode drive line. You can check whether it is true or not. If it is found that there is a short circuit, in order to release the common connection between the second inspection wiring 3 and the source electrode drive lines Y 1 to Y o , connect the wiring 3 and each drive line Y 1 to Y o. Connection and wiring between Y o and
The interconnection between each drive line Y 1 -Y o is cut off, and the wiring 3 and each source electrode drive line Y 1 -Y o are electrically insulated from each other, and then the pad A By checking the conduction state between 1 and D1 , between A2 and D2 , and so on, it is possible to know which source electrode drive line is short-circuited with any gate electrode drive line.
次に、各ソース電極駆動線Y1〜Yoと基板との
間は短絡があるか否かを調べるため、第一検査用
配線2の一箇所を所定の電位に固定することによ
り全てのトランジスタT11〜Tooのゲート電位を
そのトランジスタがオフするような電位に維持
し、この状態で各パツドA1〜Aoとグランド配線
4との間の導通をチエツクする。これにより、各
ソース電極駆動線Y1〜Yoとグランドとの間の短
絡の有無を知ることができる。 Next, in order to check whether there is a short circuit between each source electrode drive line Y 1 -Y o and the substrate, all the transistors are The gate potential of T 11 to Too is maintained at a potential that turns off the transistor, and in this state, continuity between each pad A 1 to A o and the ground wiring 4 is checked. This makes it possible to know whether there is a short circuit between each of the source electrode drive lines Y 1 to Yo and the ground.
次に、第一検査用配線2とグランド配線4との
間の導通をチエツクすることにより、いずれかの
ゲート電極駆動線とグランド配線との間に短絡が
あるか否かをチエツクすることができる。 Next, by checking continuity between the first inspection wiring 2 and the ground wiring 4, it is possible to check whether there is a short circuit between any of the gate electrode drive lines and the ground wiring. .
最後に、第一検査用配線2に、各トランジスタ
がオンとなるような電位を与え、全てのトランジ
スタをオンとし、この状態で、各ソース電極駆動
線Y1〜Yoとグランド配線4との間の導通状態を
チエツクすることにより、コンデンサCの短絡が
あるソース電極駆動線を特定することができる。 Finally, a potential that turns on each transistor is applied to the first inspection wiring 2 to turn on all the transistors. In this state, the connection between each source electrode drive line Y 1 to Yo and the ground wiring 4 is By checking the conduction state between the two, it is possible to identify the source electrode drive line in which the capacitor C is short-circuited.
尚、第一検査用配線2と各ゲート電極駆動線
X1〜Xoとの接続は、上述の検査が終了した後切
離せばよい。 In addition, the first inspection wiring 2 and each gate electrode drive line
The connections with X 1 to X o may be disconnected after the above-mentioned test is completed.
本発明によれば、上述の如く、配線を2層構造
として2本の検査用配線を追加しただけで、各電
極駆動線の断線、短絡等の障害を能率よく検査す
ることができ、実際に表示素子を配して半導体表
示装置を組み立てる前に、ウエハー段階で重大な
画面の欠陥を知ることができ、検査が簡単となる
優れた効果を奏する。 According to the present invention, as described above, by using a two-layer wiring structure and adding two inspection wirings, it is possible to efficiently inspect each electrode drive line for failures such as disconnections and short circuits, and in practice Before disposing display elements and assembling a semiconductor display device, serious screen defects can be identified at the wafer stage, which has the advantage of simplifying inspection.
図面は、本発明の半導体表示装置の配線パター
ンを示す平面図である。
1……半導体表示装置、2……第一検査用配
線、3……第二検査用配線、4……グランド配
線、X1〜Xo……ゲート電極駆動線、Y1〜Yo……
ゲート電極駆動線、C……コンデンサ、T11〜
Too……MOSトランジスタ、A1〜Ao,B1〜Bo,
C1〜Co,D1〜Do,E1〜Eo……パツド。
The drawing is a plan view showing the wiring pattern of the semiconductor display device of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Semiconductor display device, 2...First inspection wiring, 3...Second inspection wiring, 4...Ground wiring, X1 -Xo ... Gate electrode drive line, Y1 - Yo ...
Gate electrode drive line, C...capacitor, T 11 ~
Too ...MOS transistor, A1 ~ Ao , B1 ~ Bo ,
C 1 ~C o , D 1 ~D o , E 1 ~ E o ...Put.
Claims (1)
数の表示素子駆動用トランジスタの第一電極に接
続される多数の第一電極駆動線と、前記トランジ
スタの第二電極に接続される多数の第二電極駆動
線とが配設されて成り、前記第一及び前記第二電
極駆動線に選択的に駆動信号を印加することによ
り所望の表示素子駆動用トランジスタを選択的に
駆動する半導体表示装置において、前記第一電極
駆動線及び前記第二電極駆動線が第一層目に配設
され、前記第一電極駆動線の全ての一端部と接続
されている第一検査用配線と、前記第二電極駆動
線の全ての一端部を接続されている第二検査用配
線とを備え、前記第一及び第二検査用配線が第二
層目に配設される多重配線構造となつていること
を特徴とする半導体表示装置。1. A large number of first electrode drive lines connected to the first electrodes of a large number of display element driving transistors arranged in a matrix on a semiconductor substrate, and a large number of second electrodes connected to the second electrodes of the transistors. a drive line, and selectively drives a desired display element driving transistor by selectively applying a drive signal to the first and second electrode drive lines; A first inspection wiring in which the first electrode drive line and the second electrode drive line are arranged in a first layer, and which is connected to one end of each of the first electrode drive lines, and the second electrode drive line. and a second test wiring to which all ends of the wires are connected, and the first and second test wiring are arranged in a second layer to form a multi-wiring structure. semiconductor display device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58173391A JPS6064378A (en) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | Semiconductor display unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58173391A JPS6064378A (en) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | Semiconductor display unit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064378A JPS6064378A (en) | 1985-04-12 |
| JPH0127425B2 true JPH0127425B2 (en) | 1989-05-29 |
Family
ID=15959529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58173391A Granted JPS6064378A (en) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | Semiconductor display unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6064378A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2523190B2 (en) * | 1989-08-29 | 1996-08-07 | シャープ株式会社 | Matrix type display device |
| US6677171B1 (en) | 1998-07-14 | 2004-01-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of collective substrate of active-matrix substrates, manufacturing method of active-matrix substrates, and inspecting method of collective substrates of active-matrix substrates |
-
1983
- 1983-09-20 JP JP58173391A patent/JPS6064378A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6064378A (en) | 1985-04-12 |
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