JPH0127554B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は長さに比し横断面積の小さな金属製品
の誘導加熱に関する。 本発明の目的は大きな寸法の平らな金属製品の
誘導加熱用の改良された装置を提供することであ
り、そして更らに詳しくは、連続作動し、二つの
加熱作業間の自由な空気中での製品の移動を防
ぎ、非常に大きな幅のブルームを受入れ且つブル
ームを非常に狭い間隔で支持することができ、そ
れによつて好ましい直線形状を保持する装置を提
供することである。 概して、本発明は平板、スラブおよびブルーム
のような平らで長い金属製品の加熱用装置を意図
するものであつて、その装置は前記製品を支持
し、かつ前記製品をトンネルに沿つて、典型的に
は前記製品の非常に長い長さの方向に前進させる
装置を含み、前記製品は前記装置の上にその大き
な面の一つによつて平らに載せられ、さらに製品
を誘導加熱するため少なくも二つの平らな誘導子
（典型的にはトンネルの長手方向に移動するすべ
り域（Sliding field）を創る多相誘導子）を含む
電気装置を含み、前記誘導子の一つは製品の移動
通路上に且つ他の一つは前記通路の下に置かれ
る。その支持および前進装置は典型的には下方の
誘導子を貫通して突出する。 誘導子は移動通路に沿つて動くにつれて製品に
加えられる熱量を変化するように設計され得る。
例えば、製品を急速に所要の温度にするため、炉
の入口部分では高電力を消費するのが望ましい。
下流部分ではその温度を維持するために低電力で
充分である。一般には炉を長手方向にいくつかの
区域を分割し、それらの区域に別個の温度調整装
置を備えて、連続した区域に設けられた誘導子の
部分における電力の調整を可能にすることが有利
である。温度上昇曲線が処理される金属の種々の
等級に適合させられ、かつ必要なら均質化を行う
最終域を作り得る。炉への入口はトンネルの側壁
の位置では電導体がないため、前記側壁を介して
保持され得る。 支持および前進装置は下方の誘導子を通つて突
出するフインガーにより製品を支持する所謂「徘
徊ステツプ」コンベヤでもよい。これらのフイン
ガーは誘導子の下において加熱されようとする製
品の近くに設けられた機構に接続される。 また支持および前進装置は下方の誘導子を貫通
して突出し且つトンネルの外側に設けられた軸に
固定された円板の形のものでもよい。 次に図面を参照のもとに本発明の好適な実施例
について説明する。第１図および第２図（明瞭に
するため寸法は考慮されていない）にはブルーム
の誘導加熱用の装置が示されている。第１図は炉
の一部を示す。それは搬入テーブル１０と搬出テ
ーブル１２に関連し、且つ搬出テーブルにはロー
ラが備えられ、ブルームはピンチローラ１１によ
つて移動される。いくつかの炉が並設され、全て
の炉の搬出テーブル１２が分配のために同じトロ
リーを圧延機に送り、前記トロリーは炉に対し横
方向の軌道上を移動する。 炉９は典型的には熱の損失を制限するトンネル
ケーシング１３を含む。ケーシング１３の下部は
床１４を形成し得る。第１図に示すように、ケー
シング１３は炉の長手方向に移動する電気的すべ
り域を供給するため二つの多相誘導子１６および
１７を含む。その下方の誘導子１７は床１４によ
つて支持される。それはブルーム１５の通路の下
に設置される。それは例えば耐火レンガなどの絶
縁ラギング１８によつてブルームによる放射熱か
ら保護される。誘導子１６はケーシングから吊下
げられ、またはケーシングを貫通する支持棒によ
つて支持される。その構造は誘導子１７に類似す
るものでよい。吊下げ支持棒は典型的には誘導子
１６と製品１５との間のすき間を最適値にするた
め誘導子１６の高さ調整機構によつて支持され
る。 炉にはブルーム１５を支持し且つ前進する装置
が備えられる。第１図および第２図に示す実施例
では、その装置は通常の構造の「徘徊ステツプ」
コンベヤである。このコンベヤは床１４によつて
支持され且つブルームのたわみを防ぐため長手方
向に充分狭い間隔で分布された固定の支持脚１９
を含む。また、それはケーシング１３の下に置か
れた長手方向のビーム２１によつて支持される可
動の脚２０を含む。図示しない機構が、可動の脚
に対し第１図の矢印ｆで示された運動を与え且つ
戻り運動を与える。前進中は、可動の脚２０が一
つの予め決められた行程によりブルームを前方に
移動する。戻り移動（下方、次いで後方への）の
ときは、元の状態にもどされる。 それらの脚２０と１９は高温の製品に接触して
いるので、それらは適当な材料で形成しなければ
ならない。実際には、温度がキユリー点に達しな
い炉の部分では、少なくとも部分的に非磁性の材
料を用いるのが利益的である。往々、これらの脚
（または少なくも製品１５に接触する部分）を炉
の長さ全体にわたり耐火材で形成するのが得策で
ある。 取扱われる製品が通常のや金学的製品でその幅
が殆んど２ｍを越えないものでは、例えば１ｍ間
隔の脚２０の二つの長手方向のラインで充分であ
る。温度が上昇すると、や金学的製品の曲げおよ
びクリープに対する抵抗は減少するので、炉の最
も高温な区域の二つの連続した脚間のすき間を減
少することが往々にして好ましい。例えば、炉の
入口区域では金属は適度の温度であるためその区
域では数ｍの間隔にすることができ、そして最も
高温の区域では約１ｍの距離を選択してもよい。 誘導子１６と１７の熱絶縁にも拘らず、往々そ
れらを冷却する必要が生じる。そのため、例えば
上方の誘導子１６には、冷却剤を循環して管２２
を介してケーシングに通し且つ取出すため管の回
路を備えてもよい。或る時間間隔で誘導子の上の
高温空気を取出すため送風機を設けてもよい。そ
の空気流は同時に存在し得るカーボン付着物を除
去する。トンネルケーシング１３は耐火材の内張
りを施した金属シートから作るのが便利である。
炉の中に特殊鋼の処理に要する空気調整雰囲気を
維持するため充分に気密な包囲体を形成するよう
に設計することができる。 第１図および第２図に示す徘徊ステツプコンベ
ヤ以外の支持装置を用いることもできる。第３図
に示す変形された実施例では（ここでは第１図と
第２図の部分に対応する部分には同じ参照数字に
ａを付加した）、支持装置は二列の円板２０ａに
よつて形成される。それらの円板の上部は下方の
誘導子１７ａを貫通して突出する。円板２０ａは
トンネルの下に設けられた駆動軸２１ａに対状に
固定され且つ従つて炉の中における高温による加
熱を受けない。 圧延が中止されて製品が所定位置に留る際に、
製品のゆがみを防止するため、円板に小さな幅の
往復運動を与えるように軸の駆動機構を備えても
よい。炉の端部分に置かれるこれらの円板２０ａ
の制御機構を備えて、加熱後の製品を高速で送る
のが有利である。その際、ピンチローラ１１また
は多くの場合に引出すために必要とする他の機構
は省いてもよい。 この設備の利益は直ちに明らかである。即ち、
炉の長さ全体が用いられ、その長さを減少でき
る。製品は常に平らに運ばれ、調整ができ、しか
しコイル誘導子の誘導炉ではないため熱効率が非
常に高い。加熱曲線は取扱う金属の種々の等級に
適合する。 例示により、上記した種類の三つの装置は年間
6000000トンを生産する連続バンド圧延機のセツ
トに対し、250×1500mmの断面を有し、長さ15ｍ
のブルームを充分に供給できる。これら三つの装
置のおのおのは約100MWの電力を要する。約25
mmの通常の厚さのブルームに対しては、誘導子は
公の配電回路の周波数、即ち欧州では50サイクル
および米国では60サイクルで供給される。 上記の本発明の実施例は単に可能な実施例では
なく、そして本発明が関連する分野の当業者には
多くの均等な実施例が思い起こされるであろう。
例えば、ステツプ バイ ステツプと共に連続的
な前進を用いることができる。スラブをうず電流
を生じる場にもたらす電場を生じる他の型の平ら
な装置と共に多相誘導子を設けることもできる。
また、長手方向に移動する代りに横方向に移動し
てもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一例による装置の縦断面を単
純化して示した図、第２図は第１図の線―に
沿つて取つた図式的な断面図、第３図は他の実施
例を示す第２図に類似の図である。 図中、１３…トンネル、１５…製品、１６，１
７…誘導子、１９，２０…支持および前進装置、
２０ａ…円板、２１ａ…軸。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 金属加工製品の誘導加熱装置であつて、トン
   ネルを包含し、該トンネルがそれに沿つて配置さ
   れた前記製品の誘導加熱のための装置および前記
   トンネルに沿つて前記製品を前進して進めかつ前
   記製品を加熱装置とは関係なく支持する装置を具
   備してなる誘導加熱装置において、前記加熱装置
   が、前記製品の通路の上方に設置された平坦な誘
   導子１６および前記通路の下方に設置された平坦
   な誘導子１７を包含し、そしてこの下方に設置さ
   れた平坦な誘導子は、前記製品を長手方向に移動
   させる前記前進装置の全ての可動要素２０または
   ２０ａが進行方向に前後に移動するようにされ、
   かつスラブのような幅広い金属加工製品１５が前
   記前進装置上で平坦に置かれるように設けられて
   いることを特徴とする誘導加熱装置。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載の装置におい
   て、前記平坦な誘導子が多相誘導子であることを
   特徴とする誘導加熱装置。 ３ 特許請求の範囲第１項に記載の装置におい
   て、前記製品の通路の上方に設置されたその誘導
   子１６のレベルだけが調節可能であることを特徴
   とする誘導加熱装置。 ４ 特許請求の範囲第１項、第２項または第３項
   のいずれかの１項に記載の装置において、支持ま
   たは前進装置が前記製品を支持する脚２０を有し
   かつ前記製品の通路の下に設置された前記誘導子
   １５を貫通する俳回ステツプコンベヤからなるこ
   とを特徴とする誘導加熱装置。 ５ 特許請求の範囲第４項に記載の装置におい
   て、前記脚がトンネルの外に設置された機構によ
   り作動されることを特徴とする誘導加熱装置。 ６ 特許請求の範囲第４項または第５項のいずれ
   かの１項に記載の装置において、前記脚が少なく
   とも部分的に非磁性耐火材からなることを特徴と
   する誘導加熱装置。 ７ 特許請求の範囲第１項、第２項または第３項
   のいずれかの１項に記載の装置において、前記支
   持および前進装置が前記製品の通路の下に位置さ
   れかつ前記トンネルの下に位置された駆動シヤフ
   トにより担持されたその製品を通つて突出する円
   盤からなることを特徴とする誘導加熱装置。