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JPH0131933B2 - - Google Patents
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JPH0131933B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0131933B2
JPH0131933B2 JP56060683A JP6068381A JPH0131933B2 JP H0131933 B2 JPH0131933 B2 JP H0131933B2 JP 56060683 A JP56060683 A JP 56060683A JP 6068381 A JP6068381 A JP 6068381A JP H0131933 B2 JPH0131933 B2 JP H0131933B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
plasma
container
plasma processing
cylindrical
Prior art date
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Expired
Application number
JP56060683A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS57177342A (en
Inventor
Yoshimi Akai
Takashi Anami
Akira Taya
Masahiko Hirose
Tadashi Ido
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP56060683A priority Critical patent/JPS57177342A/en
Publication of JPS57177342A publication Critical patent/JPS57177342A/en
Publication of JPH0131933B2 publication Critical patent/JPH0131933B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/126Microwaves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0894Processes carried out in the presence of a plasma

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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は粉体のプラズマ処理装置に係り、特に
粉体を均一にかつ効率よくプラズマで処理するこ
とができる装置に関する。 各種の粉体例えば螢光体粉末、バリスタ用酸化
亜鉛粉末、乾電池用二酸化マンガン粉末、乾式複
写機用トナー粉末、シリカ粉末、プラスチツクス
粉末、磁気記録用磁性粉末などをプラズマあるい
はその活性種によつて処理することにより、粉体
に求められる特性を改善し得ることを見出した。
即ち、例えばハロリン酸カルシウムなどの螢光体
粉末の場合には、プラズマの活性種により処理す
ることにより、発光効率を向上させることがで
き、磁性粉をプラズマ処理することにより胞和磁
化や保磁力を高めることができる。また、乾電池
用二酸化マンガン粉末の場合には起電力の向上;
乾式複写機用トナー粉末、シリカ粉末、プラスチ
ツク粉末の場合には流動性(分散性)の改善;バ
リスタ用酸化亜鉛粉末の場合にはボイドの減少な
ど、それぞれ特性の改良を行うことができる。し
かし、従来、これらの粉体を効率よく、かつ均一
にプラズマ処理し得る装置は余り存在しなかつ
た。 本発明の目的は、そこで、粉体を効率よくかつ
均一にプラズマ処理することができる装置を提供
することにある。 本発明者らが開発した装置は、 マイクロ波発生系と、 前記マイクロ波発生系から気密に隔てられた粉
体用プラズマ処理系であつて、前記マイクロ波発
生系からマイクロ波伝送用アンテナがその内部に
突出していて、回転容器型の粉体撹拌手段を備え
ているものと、 前記粉体用プラズマ処理系に放電用ガスを供給
する手段と、 前記粉体用プラズマ処理系を排気する手段と、
を具備することを特徴とする粉体用プラズマ処理
装置である。 第1図に示した本発明装置の好ましい実施態様
に即しながら、本発明を詳細に説明する。 第1図は本装置の主要部を縦断面にて表した図
で、第2図、第3図及び第4図は、それぞれ第1
図における−断面図、−断面図、及び
−断面図である。 第1図において破線にて包囲した部分は、それ
ぞれ本装置の主要構成部分であり、1はマイクロ
波発生系、2は粉体用プラズマ処理系、3は放電
用ガス供給手段、そして4は排気手段である。 マイクロ波発生系1は、マイクロ波発振器(こ
の例ではマグネトロン)11と、該発振器に接続
され、マイクロ波を伝送するための導波管12と
から構成されている。13は、スリースタブチユ
ーナで、14はプランジヤーである。 粉体用プラズマ処理系2は、放電用ガス導入口
201及び排気口202を備えた円筒状容器(こ
の例ではステンレス鋼製)203からなり、該容
器内は粉体のプラズマ処理室204になつてい
る。この容器203は前記ガス導入口201と排
気口202を有するほかは気密に封じられている
が、導波管12の内部から導電性材料(この例で
はステンレス鋼管であるが、アルミニウム管、銅
管、あるいは石英管に金属膜を蒸着したものでも
よい)から成るアンテナ205が容器円筒の中心
へ突出している。このアンテナ205の容器20
3内への突出部分はマイクロ波透過性材料(この
場合は石英)からなる筒体206により気密に包
囲されている。この筒体206の基部206aは
強度を高めるために直径が大きくなつていて、更
にフランジ部206bによつて容器203の蓋体
部分へ固定されている。この筒体206の基部及
びフランジ部の表面には、導電性膜(この場合は
Au(金)蒸着膜)(図示略)が被覆され、この導
電性膜は接地されていてマイクロ波に対するシー
ルド効果が生じるようになつている。第1図にお
ける容器の左端は、中心に穴を有する円板207
に隣接して、筒体の基部206aを囲むように冷
却水用ジヤケツト208が設けられ、該ジヤケツ
トに筒体のフランジ部206bが部材209によ
り固定されている。円板207とジヤケツト20
8の間、及びジヤケツト208と筒体のフランジ
部206bの間にはそれぞれオーリング210と
211が取り付けられていて、容器203内の気
密を保持している。冷却水用ジヤケツト208
は、過熱によりオーリング210及び211が劣
化するのを防ぐために設けられている。 アンテナ205は中空のパイプから成り、その
固定用基部205aが絶縁材料(この例では石英
管であるが、アルミナ管、テフロン管などでもよ
い)でできているが、アンテナ本体部は前述のよ
うに導電性材料でできている。アンテナのパイプ
には外部から冷却用ガス例えばN2ガスが送り込
まれ、アンテナの先端から流出したガスはアンテ
ナ基部に設けられた隙間212から外部へ排出さ
れるようになつている。 アンテナ205は導波管12内からマイクロ波
を処理容器203内へ伝送し、その周囲にプラズ
マを発生させるものであるが、水平に配置された
容器203内では被処理粉体はほぼ筒体の下方に
位置することになるので、マイクロ波が反射され
筒体206の下方にて高濃度のプラズマが生成す
るように筒体206の上半分の表面は金蒸着膜
(図示略)で被覆されている。この被覆は、導電
性材料であればよく、他の金属の蒸着膜を形成し
たり、金属曲版を当てたり、更にはSnO2、In2O3
などの材料で被覆してもよい。 円筒状容器203は、その一部にキヤパシタン
スマノメータ213を備え、更に均一な処理を実
施するために撹拌手段を備えている。即ち、円筒
状撹拌具214が処理容器203内中央に、それ
と同軸に設けられている。この円筒状撹拌具21
4は、先端215が開口しており他端において
は、穿孔216を有する止板217によつて回転
駆動軸218に固定されている。容器203の他
端は、回転駆動軸218を収容する凹部219
(駆動軸収納ハウジング222)が中心部に設け
られた円板状蓋体220が当てられていて、容器
203と蓋体220との間はオーリングなどのシ
ール部材221により気密に封じられている。こ
の気密性は、排気手段4を動作させて容器203
内を減圧状態にすると蓋体220に吸引力が働く
ため稼動時に当然に達成される。蓋体220の凹
部219は端部が封じられた円筒状のハウジング
222からなり、内部に前記回転駆動軸218の
一端が挿入されている。回転駆動軸218は、蓋
体220に設けられた軸受223と、駆動軸収納
ハウジング222内に設けられた軸受224とに
より、回転可能な状態で支持されているほかは、
蓋体220とも駆動軸収容ハウジング222とも
全く接触していない。回転駆動軸の端部218a
は、鉄鋼などの強磁体から成り、後述のように磁
力を利用して回転されるようになつている。駆動
軸収納ハウジング222の周囲には、複数の電磁
石又は永久磁石、この実施例では4個の永久磁石
225が等間隔で配された回転体226が隙間2
27を置いて配置されている。回転体は、駆動軸
収納ハウジングの周囲に、しかも離れた状態で回
転可能に支持(支持手段、図示略)されている。
228は駆動用モータで、このモータの動力はベ
ルト229により回転体226に伝達され、回転
体226を駆動軸収納ハウジング222の周囲に
回転し得るようになつている。回転体226が回
転すると、回転体226が有する4個の永久磁石
により形成される磁場も回転するため、それによ
り回転駆動軸218も回転するに至る。即ち、こ
の装置は、処理室内部を外部から気密に閉ざした
状態で円筒状撹拌具214を回転させ、しかして
粉体を撹拌することができる。円筒状撹拌具21
4内面には所々に撹拌効率が高まるように、突起
230が設けられ、凹凸状である。 放電用ガス供給手段3は、ガス貯蔵ボンベ3
1、該ボンベ31の開閉弁31aに接続された配
管32、該配管32上に設けられたガス流量計3
3及びニードル弁34とから構成されている。配
管32は容器203のガス導入口201へ接続さ
れる。放電用ガスとしては、プラズマ処理の目的
に応じて種々のガスを用いる。例えば、窒化処理
にはN2、N2+H2、NH3;還元処理には、H2
N2+H2、CH4、NH3;酸化処理には、O2、希ガ
ス+O2;粉体表面のエツチングにはハロゲン化
メタン、ハロゲン化メタン+O2、ハロゲン化メ
タン+希ガスなど、また粉体の上記以外の改質に
使用するガスとしては、CO2、CO、などを用い
ればよい。 また、容器203の排気口202に接続される
排気手段4は、配管41と弁42とトラツプ43
と油回転ポンプ44とから構成されている。 本装置のアンテナ205を包囲して設けられた
筒体206はその周囲に高密度のマイクロ波放電
プラズマを発生する。前記の好ましい実施態様で
は、筒体の下方においてプラズマの活性種がより
高濃度となるように、筒体の上半面に導電性材料
(上例では、金蒸着膜)が被覆されている。同様
の効果は、次の第5〜7図に表した態様によつて
も得られる。これらの図面には、筒体のみが縦断
面図a及び横断面図bとして表されている。 第5図では、筒体51の上半部を覆うように半
円筒状の導電性材料(例えばステンレス鋼、アル
ミニウムあるいは石英に金属膜を蒸着したもの。)
からなる屋根52が基部からはり出すように設け
られている。第6図では、筒体が石英のようなマ
イクロ波透過性材料からなる二重管構造で、外筒
53は下部に孔54を有している。この場合、プ
ラズマは外筒と内筒の間において最も高濃度に発
生し、生成した活性種は孔54を通つて下方へ流
れることになる。第7図の態様は、第6図と同様
筒体が二重管構造をなし、さらに外筒55の上半
分に導電性材料の被覆例えば金属蒸着層56が設
けられている。第5図の屋根52及び第7図の被
覆56は、マイクロ波を下方へ反射する作用を有
し、下方にてプラズマが高密度に発生するのに有
利である。 以上、本発明の装置を実施例に即して詳細に説
明したが、その運転方法を、磁性粉のプラズマ処
理を例として説明する。 まず、油回転ポンプ44を動作させて処理容器
203内を10-3Torr以下の圧力に排気する。次
いで、放電用ガスを流量計33及びニードル弁3
4を介して、ガス貯蔵ボンベ31から、放電用ガ
ス導入口201を通して処理室204に供給す
る。このとき、油回転ポンプ44で排気を継続
し、処理室204の圧力を10-1〜5Torr程度に、
ガス流量を30〜300c.c./min程度に調節するとよ
い。圧力及びガス流量の調節は、キヤパシタンス
マノメータ213及び流量計33を見ながらニー
ドル弁34により行う。 次に、マイクロ波発振器11を動作させ、例え
ば周波数2450MHz、電力100〜500Wのマイクロ波
を発振させ、導波管12のスリースタブチユーナ
13及びプランジヤー14でインピーダンス整合
を行つて、マイクロ波をアンテナ11によつて処
理室204内に伝送する。すると筒体206の周
囲に放電によつてプラズマが発生する。このとき
プラズマは処理室204内のほぼ全体にできる
が、筒体206の上半面に被覆されたAu蒸着膜
により、筒体206の下側近傍に特に密度の高い
プラズマができる。こうして処理室204内に出
来たプラズマ中の活性種が、撹拌具214内に入
れておいた粉体231と接触し、これをプラズマ
処理するに至る。このとき、円筒状粉体撹拌具2
14を、モータ228の動力によつて回転させて
粉体を撹拌する。この際、処理すべき粉体231
とともに石英製又は金属製の撹拌片232を撹拌
具内に載せて撹拌を行うとより高い撹拌効率が得
られ好ましい。 使用例 第1図に示した装置を用いて胞和磁化
57.5emu/gのバリウムフエライト粉末
(BaOFe10.4Co0.8Ti10.8O18)をプラズマ処理した。
使用した放電用ガス、放電々力及び処理時間と、
処理後の飽和磁化を下表に示す。 磁気記録装置の入出力特性及び周波数特性は、
磁気テープに用いられる磁性粉の飽和磁化に負う
ところが大きい。バリウムフエライトは、通常保
磁力を制御するために、その成分であるFeの一
部をCo、Tiで置換したものが使用されるが、飽
和磁化の最大値は63±1emu/gと推定されてい
る(Journal of Applied Physics、35、3482
(1964))、しかし、通常製造されるバリウムフエ
ライトの飽和磁化は57〜58である。下表の結果に
よれば、本発明装置を用いるプラズマ処理によ
り、この飽和磁化の値をかなり向上させ得ること
がわかる。 このように、本発明の装置は、粉体を均一かつ
効率よくプラズマ処理する上で極めて有用であ
る。
The present invention relates to a plasma processing apparatus for powder, and particularly to an apparatus that can uniformly and efficiently process powder with plasma. Various powders such as fluorescent powder, zinc oxide powder for varistors, manganese dioxide powder for dry batteries, toner powder for dry copying machines, silica powder, plastic powder, magnetic powder for magnetic recording, etc., are processed by plasma or its active species. It has been found that the properties required of the powder can be improved by processing the powder with heat.
That is, for example, in the case of a phosphor powder such as calcium halophosphate, luminous efficiency can be improved by treating it with active species of plasma, and by plasma treatment of magnetic powder, solubility magnetization and coercive force can be improved. can be increased. In addition, in the case of manganese dioxide powder for dry batteries, the electromotive force is improved;
In the case of toner powder for dry copying machines, silica powder, and plastic powder, improvements in fluidity (dispersibility) can be made; in the case of zinc oxide powder for varistors, it is possible to improve the properties of each, such as reducing voids. However, conventionally, there have been few apparatuses capable of efficiently and uniformly plasma-treating these powders. Therefore, an object of the present invention is to provide an apparatus that can efficiently and uniformly plasma-treat powder. The apparatus developed by the present inventors includes a microwave generation system and a powder plasma processing system airtightly separated from the microwave generation system, and a microwave transmission antenna is connected to the microwave generation system. a rotating container-type powder stirring means protruding into the interior; a means for supplying discharge gas to the powder plasma processing system; and a means for exhausting the powder plasma processing system. ,
A plasma processing apparatus for powder is characterized by comprising: The present invention will be described in detail with reference to a preferred embodiment of the apparatus of the present invention shown in FIG. Figure 1 is a vertical cross-sectional view of the main parts of this device, and Figures 2, 3, and 4 are
They are - sectional view, - sectional view, and - sectional view in the figure. The parts surrounded by broken lines in Fig. 1 are the main components of this device, respectively: 1 is a microwave generation system, 2 is a powder plasma processing system, 3 is a discharge gas supply means, and 4 is an exhaust gas. It is a means. The microwave generation system 1 includes a microwave oscillator (a magnetron in this example) 11 and a waveguide 12 connected to the oscillator for transmitting microwaves. 13 is a three-stub tuber, and 14 is a plunger. The powder plasma processing system 2 consists of a cylindrical container (made of stainless steel in this example) 203 equipped with a discharge gas inlet 201 and an exhaust port 202, and the inside of the container becomes a powder plasma processing chamber 204. ing. This container 203 is airtightly sealed except for having the gas inlet 201 and the exhaust port 202. However, from the inside of the waveguide 12, a conductive material (stainless steel tube in this example, aluminum tube, copper tube, etc.) is used. An antenna 205 made of a quartz tube (or a quartz tube with a metal film deposited on it) protrudes toward the center of the container cylinder. Container 20 of this antenna 205
The protruding portion into 3 is hermetically surrounded by a cylindrical body 206 made of a microwave transparent material (quartz in this case). The diameter of the base 206a of the cylindrical body 206 is increased to increase its strength, and the base 206a is fixed to the lid of the container 203 by a flange 206b. A conductive film (in this case
The conductive film is coated with an Au (gold) deposited film (not shown), and this conductive film is grounded to provide a shielding effect against microwaves. The left end of the container in FIG. 1 is a disk 207 with a hole in the center.
A cooling water jacket 208 is provided adjacent to the cylindrical body so as to surround the base 206a of the cylindrical body, and a flange portion 206b of the cylindrical body is fixed to the jacket by a member 209. Disc 207 and jacket 20
8 and between the jacket 208 and the flange portion 206b of the cylindrical body, O-rings 210 and 211 are installed, respectively, to keep the inside of the container 203 airtight. Cooling water jacket 208
is provided to prevent O-rings 210 and 211 from deteriorating due to overheating. The antenna 205 is made of a hollow pipe, and its fixing base 205a is made of an insulating material (in this example, it is a quartz tube, but an alumina tube, a Teflon tube, etc. may also be used), but the antenna body is made of an insulating material as described above. Made of conductive material. A cooling gas such as N 2 gas is fed into the antenna pipe from the outside, and the gas flowing out from the tip of the antenna is discharged to the outside through a gap 212 provided at the base of the antenna. The antenna 205 transmits microwaves from the inside of the waveguide 12 to the inside of the processing container 203 and generates plasma around it, but inside the horizontally arranged container 203, the powder to be processed is almost cylindrical. Since it is located below, the upper half surface of the cylinder 206 is coated with a gold vapor deposition film (not shown) so that the microwaves are reflected and high-concentration plasma is generated below the cylinder 206. There is. This coating may be made of any conductive material, such as forming a vapor deposited film of another metal, applying a metal curved plate, or even SnO 2 , In 2 O 3
It may be coated with materials such as. The cylindrical container 203 is equipped with a capacitance manometer 213 in a part thereof, and is further equipped with a stirring means for uniform treatment. That is, a cylindrical stirring tool 214 is provided at the center of the processing container 203 and coaxially therewith. This cylindrical stirring tool 21
4 has an open end 215 and is fixed to a rotary drive shaft 218 at the other end by a stop plate 217 having a perforation 216. The other end of the container 203 has a recess 219 that accommodates the rotational drive shaft 218.
(Drive shaft storage housing 222) is fitted with a disc-shaped lid 220 provided in the center, and the space between the container 203 and the lid 220 is hermetically sealed by a sealing member 221 such as an O-ring. . This airtightness can be achieved by operating the exhaust means 4
When the inside is reduced in pressure, a suction force acts on the lid body 220, so this is naturally achieved during operation. The recess 219 of the lid 220 is comprised of a cylindrical housing 222 with a closed end, into which one end of the rotary drive shaft 218 is inserted. The rotation drive shaft 218 is rotatably supported by a bearing 223 provided in the lid 220 and a bearing 224 provided in the drive shaft storage housing 222.
There is no contact with either the lid body 220 or the drive shaft housing housing 222 at all. Rotary drive shaft end 218a
is made of a ferromagnetic material such as steel, and is rotated using magnetic force as described below. Around the drive shaft storage housing 222, a rotating body 226 in which a plurality of electromagnets or permanent magnets, four permanent magnets 225 in this embodiment are arranged at equal intervals, is installed in the gap 2.
27. The rotating body is rotatably supported (supporting means, not shown) around the drive shaft storage housing in a separate state.
228 is a drive motor, and the power of this motor is transmitted to the rotating body 226 by a belt 229, so that the rotating body 226 can be rotated around the drive shaft storage housing 222. When the rotating body 226 rotates, the magnetic field formed by the four permanent magnets of the rotating body 226 also rotates, which causes the rotary drive shaft 218 to also rotate. That is, in this device, the cylindrical stirring tool 214 is rotated while the inside of the processing chamber is hermetically closed from the outside, thereby stirring the powder. Cylindrical stirring tool 21
4. The inner surface is provided with protrusions 230 in some places and has an uneven shape so as to increase the stirring efficiency. The discharge gas supply means 3 includes a gas storage cylinder 3
1. A pipe 32 connected to the on-off valve 31a of the cylinder 31, and a gas flow meter 3 provided on the pipe 32.
3 and a needle valve 34. Piping 32 is connected to gas inlet 201 of container 203. Various gases are used as the discharge gas depending on the purpose of plasma processing. For example, N 2 , N 2 +H 2 , NH 3 for nitriding; H 2 , NH 3 for reduction
N 2 + H 2 , CH 4 , NH 3 ; For oxidation treatment, use O 2 , rare gas + O 2 ; For etching the powder surface, use halogenated methane, halogenated methane + O 2 , halogenated methane + rare gas, etc. As the gas used for modifying the powder other than the above, CO 2 , CO, etc. may be used. Further, the exhaust means 4 connected to the exhaust port 202 of the container 203 includes a pipe 41, a valve 42, and a trap 43.
and an oil rotary pump 44. A cylinder 206 surrounding the antenna 205 of this device generates high-density microwave discharge plasma around it. In the preferred embodiment described above, the upper half of the cylinder is coated with a conductive material (in the above example, a gold evaporated film) so that the active species of the plasma have a higher concentration below the cylinder. Similar effects can also be obtained by the embodiments shown in FIGS. 5 to 7 below. In these drawings, only the cylindrical body is shown as a longitudinal cross-sectional view a and a cross-sectional view b. In FIG. 5, a semi-cylindrical conductive material (for example, stainless steel, aluminum, or quartz with a metal film deposited on it) covers the upper half of the cylinder 51.
A roof 52 is provided to protrude from the base. In FIG. 6, the cylindrical body has a double tube structure made of a microwave transparent material such as quartz, and the outer cylinder 53 has a hole 54 at the bottom. In this case, plasma is generated at the highest concentration between the outer cylinder and the inner cylinder, and the generated active species flow downward through the holes 54. In the embodiment shown in FIG. 7, the cylindrical body has a double tube structure as in FIG. 6, and the upper half of the outer cylinder 55 is further provided with a coating of a conductive material, such as a metal vapor deposition layer 56. The roof 52 in FIG. 5 and the coating 56 in FIG. 7 have the effect of reflecting microwaves downward, which is advantageous for generating plasma at a high density below. The apparatus of the present invention has been described above in detail with reference to embodiments, and its operating method will now be described using plasma treatment of magnetic powder as an example. First, the oil rotary pump 44 is operated to exhaust the inside of the processing container 203 to a pressure of 10 -3 Torr or less. Next, the discharge gas is passed through the flow meter 33 and the needle valve 3.
4, the gas is supplied from the gas storage cylinder 31 to the processing chamber 204 through the discharge gas inlet 201. At this time, the oil rotary pump 44 continues evacuation, and the pressure in the processing chamber 204 is kept at about 10 -1 to 5 Torr.
It is best to adjust the gas flow rate to about 30 to 300 c.c./min. The pressure and gas flow rate are adjusted using the needle valve 34 while observing the capacitance manometer 213 and flow meter 33. Next, the microwave oscillator 11 is operated to oscillate microwaves with a frequency of 2450 MHz and a power of 100 to 500 W, impedance matching is performed using the three-stub tuner 13 and plunger 14 of the waveguide 12, and the microwave is transmitted to the antenna 11. It is transmitted into the processing chamber 204 by. Then, plasma is generated around the cylindrical body 206 due to the discharge. At this time, plasma is generated almost entirely within the processing chamber 204, but a particularly high-density plasma is generated near the bottom of the cylinder 206 due to the Au vapor deposited film covering the upper half of the cylinder 206. The active species in the plasma thus generated in the processing chamber 204 come into contact with the powder 231 placed in the stirring tool 214, and the powder is subjected to plasma treatment. At this time, the cylindrical powder stirring tool 2
14 is rotated by the power of a motor 228 to stir the powder. At this time, the powder 231 to be treated
It is preferable to carry out stirring by placing a stirring piece 232 made of quartz or metal inside the stirring tool, since higher stirring efficiency can be obtained. Example of use: Using the device shown in Fig. 1,
57.5 emu/g barium ferrite powder (BaOFe 10.4 Co 0.8 Ti 10.8 O 18 ) was plasma treated.
Discharge gas used, discharge power and processing time,
The saturation magnetization after treatment is shown in the table below. The input/output characteristics and frequency characteristics of the magnetic recording device are
This is largely due to the saturation magnetization of the magnetic powder used in magnetic tape. Barium ferrite is usually used with some of its Fe components replaced with Co and Ti in order to control the coercive force, but the maximum saturation magnetization is estimated to be 63 ± 1 emu/g. (Journal of Applied Physics, 35 , 3482
(1964)), however, the saturation magnetization of normally produced barium ferrite is 57-58. According to the results in the table below, it can be seen that the value of saturation magnetization can be considerably improved by plasma treatment using the apparatus of the present invention. As described above, the apparatus of the present invention is extremely useful for uniformly and efficiently plasma-treating powder.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】 【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の粉体用プラズマ処理装置の一
実施例を表し、主要部を縦断面図にて表した図で
ある。第2図、第3図及び第4図は、それぞれ第
1図における−,−、及び−断面図
である。そして、第5図、第6図及び第7図は、
それぞれアンテナを包囲して設けられる筒体の一
態様を表した図である。 1……マイクロ波発生系、2……粉体用プラズ
マ処理系、3……放電用ガス供給手段、4……排
気手段、203……円筒状容器、205……アン
テナ、206……筒体、214……円筒状撹拌
具、225……磁石、226……回転体、228
……電動機、229……ベルト、231……粉
体、232……撹拌片。
FIG. 1 shows an embodiment of the plasma processing apparatus for powder according to the present invention, and is a longitudinal cross-sectional view of the main parts. FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 4 are -, -, and - cross-sectional views of FIG. 1, respectively. And, Figures 5, 6, and 7 are
FIG. 3 is a diagram illustrating one embodiment of a cylinder body provided to surround each antenna. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Microwave generation system, 2...Powder plasma treatment system, 3...Discharge gas supply means, 4...Exhaust means, 203...Cylindrical container, 205...Antenna, 206...Cylindrical body , 214... Cylindrical stirrer, 225... Magnet, 226... Rotating body, 228
...Electric motor, 229...Belt, 231...Powder, 232...Stirring piece.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 マイクロ波発生系と、 前記マイクロ波発生系から気密に隔てられた粉
体用プラズマ処理系であつて、前記マイクロ波発
生系からマイクロ波伝送用アンテナがその内部に
突出していて、回転容器型の粉体撹拌手段を備え
ているものと、 前記粉体用プラズマ処理系に放電用ガスを供給
する手段と、 前記粉体用プラズマ処理系を排気する手段と、 を具備することを特徴とする粉体用プラズマ処理
装置。
[Scope of Claims] 1. A microwave generation system, and a powder plasma processing system airtightly separated from the microwave generation system, wherein a microwave transmission antenna projects into the inside of the microwave generation system. a rotating container type powder stirring means; a means for supplying discharge gas to the powder plasma processing system; and a means for exhausting the powder plasma processing system. A plasma processing device for powder, which is characterized by:
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