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JPH0135511B2 - - Google Patents
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JPH0135511B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0135511B2
JPH0135511B2 JP58065172A JP6517283A JPH0135511B2 JP H0135511 B2 JPH0135511 B2 JP H0135511B2 JP 58065172 A JP58065172 A JP 58065172A JP 6517283 A JP6517283 A JP 6517283A JP H0135511 B2 JPH0135511 B2 JP H0135511B2
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JP
Japan
Prior art keywords
laser
metal layer
pulse
forming network
partial metal
Prior art date
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Expired
Application number
JP58065172A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS58191483A (en
Inventor
Chirukeru Hansuyurugen
Betsute Uirii
Myuraa Rainharuto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Publication of JPS58191483A publication Critical patent/JPS58191483A/en
Publication of JPH0135511B2 publication Critical patent/JPH0135511B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明はレーザー光軸に平行に拡がる対向電
極間に発生するコンデンサ放電によつて励起され
る横励起TE型高エネルギーレーザー装置の励起
回路に対してパルス形成回路網を適合させる装置
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a pulse forming circuit network for the excitation circuit of a horizontally pumped TE type high-energy laser device excited by a capacitor discharge generated between opposing electrodes extending parallel to the laser optical axis. It relates to a device for adapting.

TE型高エネルギーレーザー装置とその特徴は
昭和56年特許出願公開第29387号公報によつて公
知である。この装置に適した前イオン化装置は西
独国特許出願公開第3035730号および第3035702号
明細書中に記載されている。この発明の対象とな
る高エネルギーレーザー装置はこの種の前イオン
化装置を備えているものとする。従つてパルス形
成回路の効果的な構成とその励起回路中のスイツ
チング要素の設計に関する検討はここではとり上
げないことにする。ここで励起回路と呼んでいる
ものは高電圧スイツチを備えるパルス形成回路網
の外レーザー頭をも含んでいる。
The TE type high energy laser device and its characteristics are known from Patent Application Publication No. 29387 of 1981. A preionization device suitable for this device is described in German Patent Application Nos. 3035730 and 3035702. It is assumed that the high-energy laser device to which this invention is applied is equipped with this type of pre-ionization device. Therefore, consideration of the effective construction of the pulse forming circuit and the design of switching elements in its excitation circuit will not be discussed here. What is referred to herein as the excitation circuit also includes a laser head outside the pulse forming network with a high voltage switch.

高エネルギーTEレーザーは低廉な原価と高い
光出力の点で光学機械的利用特に工業的分野にお
いて必要になつている。
High-energy TE lasers have become necessary for opto-mechanical applications, especially in industrial fields, due to their low cost and high optical power.

このレーザーの運転に対しては電流上昇速度が
充分高いときにもパルス形成回路網の特性インピ
ーダンスができるだけ低いことが有利である。こ
れは励起回路のインダクタンスとパルス形成回路
網のキヤパシタンスとの適切な組合せによつて達
成される。TEレーザーの多くの応用分野ではそ
れに加えてできるだけ長いレーザーパルスが望ま
れる。この要求は励起パルスを矩形パルスとして
急峻な上昇線とできるだけ広く平坦な頂線と急峻
な下降線を持たせることによつて満たすことがで
きる。この発明の目的は冒頭に挙げた装置を、そ
のパルス形成回路網内部において上記の要求をで
きるだけ広範囲に満たす励起パルスが作られるよ
うに構成することである。この種の装置に条導体
コンデンサを使用し、レーザー室の高電圧側の第
一電極に接続されているコンデンサ金属層にその
電流路の長さを数倍にする切り込みを設けること
は既に提案されている。しかしこの構造では達成
されるパルス長に限度があり、この限度を越えて
パルスを長くすることがこの発明の基本的な目的
となつている。更にコンデンサ金属層および液体
誘電体特に水を使用するコンデンサの場合、その
電極板の製作を簡単廉価することもこの発明の主
要な目的である。
For the operation of this laser, it is advantageous for the characteristic impedance of the pulse-forming network to be as low as possible even when the rate of current rise is sufficiently high. This is achieved by a suitable combination of the inductance of the excitation circuit and the capacitance of the pulse forming network. In addition, in many applications of TE lasers, a laser pulse as long as possible is desired. This requirement can be met by making the excitation pulse a rectangular pulse with a steep rising line, a flat top line as wide as possible, and a steep falling line. The object of the invention is to design the device mentioned at the outset in such a way that, within its pulse-forming network, excitation pulses are produced which satisfy the above-mentioned requirements to the greatest extent possible. It has already been proposed to use strip conductor capacitors in devices of this type and to provide a cut in the capacitor metal layer connected to the first electrode on the high-voltage side of the laser chamber, increasing the length of the current path several times. ing. However, there is a limit to the pulse length that can be achieved with this structure, and a fundamental objective of the present invention is to extend the pulse length beyond this limit. Furthermore, in the case of a capacitor using a capacitor metal layer and a liquid dielectric, especially water, it is a principal object of the present invention to simplify and inexpensively manufacture the electrode plates thereof.

この目的は特許請求の範囲第1項に特徴として
挙げた構成とすることによつて達成される。この
発明の有利な実施形態は特許請求の範囲第2項以
下に明らかにされている。この発明によつて得ら
れる利点の主なものはパルス延長度を異にする走
行時間系列を単一のプランに従いコンデンサ部分
層、間隙幅および連結コイルの大きさ、個数、接
続点等のパラメーターを変えることだけによつて
簡単に作ることとができることである。
This object is achieved by the configuration listed as the feature in claim 1. Advantageous embodiments of the invention are revealed in the subclaims. The main advantage obtained by this invention is that the transit time series with different pulse extensions can be changed according to a single plan, and parameters such as capacitor partial layers, gap widths, and the size, number, and connection points of coupling coils can be changed. It can be easily made by simply changing it.

この発明の実施例を示した図面についてこの発
明を更に詳細に説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the drawings showing embodiments of the invention.

まず第5図に示すようにパルス形成回路網の条
導体コンデンサの金属層Bは接合区間g1,g2によ
つて矩形又は近似的に矩形の部分層B1,B2およ
びB3に分割され、隣り合せた部分層は連結イン
ダクタンスL1又はL2を通して連結されている。
各部分層の高さ(図の上で)はhi(i=1、2、
3、…)であり、その長さはli(i=1、2、3、
…)となつている。金属層Bの長さあるいは走行
時間系列の長さに応じてn個の部分層、n−1個
の連結インダクタンスおよびn−1個の接合区間
がある。ここでn≦2である。
First, as shown in FIG. 5, the metal layer B of the strip capacitor of the pulse-forming network is divided into rectangular or approximately rectangular partial layers B 1 , B 2 and B 3 by the junction sections g 1 , g 2 . and adjacent partial layers are connected through a connecting inductance L 1 or L 2 .
The height of each partial layer (on the diagram) is h i (i=1, 2,
3,...), and its length is l i (i=1, 2, 3,
). Depending on the length of the metal layer B or the length of the transit time sequence, there are n sublayers, n-1 coupling inductances and n-1 junction sections. Here, n≦2.

連結インダクタンスLiは図に示すように小コイ
ルとして作られ、その大きさは所望のパルス遅延
時間に関係する。連結インダクタンスを短い針金
片としてもよい。第5図において連結インダクタ
ンスLiが接合区間を橋絡するように部分層Biの縁
辺上の上端と下端と中央部に接続されているが、
接合区間毎に接続点を変えて上端と下端に交互に
接続して強いメアンダー形の電流路とするか、あ
るいは中央のコイルはそのまま保存し、上下のコ
イルは一つ置きにして弱いメアンダー形の電流路
としてもよい。連結インダクタンスはそれぞれの
部分層に軟ろう付け、硬ろう付け等の中間金属結
合によるか、溶接によつて接続する。原理的には
締めつけ、差し込み、ねじ込みあるいはワイヤ巻
き付け等の機械的結合法によることも可能であ
る。第5図から分るように部分層Biと接合区間gi
はそれぞれ互に等しい大きさである。しかし所望
のパルス形状とパルス遅延時間に適合させて部分
層Biの面積、接合区間の幅、結合インピーダンス
LiのLR値を少くとも部分的に異つたものにする
ことも可能である。Aは金属層Bをレーザー電極
又は高電圧スイツチFKの電極に接続するための
接合板である。第5図に示した分割法は第1図お
よび第2図に示したブリユームライン回路形のパ
ルス形成回路網の第二条導体コンデンサの金属層
4に対して、あるいはこの金属層4と第一の第二
の条導体コンデンサCF,CKの金属層2と3に対
して適用される。
The coupling inductance L i is made as a small coil as shown in the figure, the size of which is related to the desired pulse delay time. The coupling inductance may be a short piece of wire. In FIG. 5, a coupling inductance L i is connected to the upper and lower ends and the center of the edge of the partial layer B i so as to bridge the joint section.
You can change the connection points for each joint section and alternately connect the top and bottom ends to create a strong meander-shaped current path, or leave the center coil as is and create a weak meander-shaped current path by leaving every other coil above and below. It may also be used as a current path. The coupling inductance is connected to the respective partial layer by an intermediate metal bond such as soft soldering or hard soldering, or by welding. In principle, it is also possible to use mechanical coupling methods such as tightening, insertion, screwing, or wire wrapping. As can be seen from Fig. 5, the partial layer B i and the joint section g i
are of equal size. However, depending on the area of the partial layer B i , the width of the junction section, the coupling impedance
It is also possible to make the LR values of L i at least partially different. A is a bonding plate for connecting the metal layer B to the laser electrode or the electrode of the high voltage switch FK. The division method shown in FIG. This applies to metal layers 2 and 3 of one second strip conductor capacitor C F , C K .

パルス形成回路網PENが第3図と第4図に示
した電荷転送回路であるときは第5図に示したコ
ンデンサ金属層構造が少くとも条導体コンデンサ
CF′とCK′の金属層2′と3′に適用される。これ
らの金属層は共通にレーザー電極EL2に接続され
ているものである。別の実施例ではこれらの金属
層2′,3′の外第一条導体コンデンサCF′の金属
層4′にもこの構造が採用されている。
When the pulse forming network PEN is the charge transfer circuit shown in Figures 3 and 4, the capacitor metal layer structure shown in Figure 5 is at least a strip conductor capacitor.
Applied to metal layers 2' and 3' of C F ' and C K '. These metal layers are commonly connected to the laser electrode E L2 . In another embodiment, this structure is also adopted in the metal layer 4' of the first conductor capacitor C F ' in addition to these metal layers 2' and 3'.

第1図と第2図には西独国特許出願公開第
2932781号明細書に記載されている公知のレーザ
ー励起回路が示されているが、ここでは特に高電
圧スイツチFK、レーザーヘツドLK、接続導線お
よび条導体コンデンサCF,CKの固有インダクタ
ンスから構成される等価インダクタンスLFとLK
が破線をもつて記入されている。
Figures 1 and 2 show the West German patent application publication numbers.
2932781 is shown, which consists in particular of the high voltage switch FK, the laser head LK, the connecting conductor and the inherent inductance of the strip conductor capacitors C F and C K. equivalent inductance L F and L K
is marked with a broken line.

これに対応して第3図と第4図には電荷転送回
路としてのパルス形成回路網PFNを含む公知の
レーザー励起回路が示されている。ここでも特に
等価インダクタンスLF′とLK′が破線をもつて記
入されている。第1図乃至第4図においてLKは
レーザーヘツド又はレーザー室でありその内部に
は少くとも二つのレーザー電極EL1,EL2が間隔を
保つて対向し、これらの電極の間に一様な無アー
クコンデンサ放電がパルス形成回路網の作る高電
圧パルスによつて励起される。FKは前に述べた
高速度高電圧スイツチであり、例えば電極EF1
EF2を備える火花放電室として構成される。サイ
ラトロン又はプラズマ開閉装置として構成しても
よい。RKはレーザー放電間隔に並列に接続され
たインピーダンスであり、レーザー内部抵抗に比
べて高い低抗値を持つ。HVは高電圧あるいは高
電圧端子を表わし、横線sは容量ユニツトCF
KあるいはCF′,K′から構成されるコンデンサ堆
積の対称面を表わしている。図に示した鏡像配置
の容量ユニツトの代りに非対称配置のものも使用
可能である。dは特に網目線で強調した固体、液
体又は気体のコンデンサ誘電体であり、oはレー
ザー室LKの光軸である。
Correspondingly, a known laser excitation circuit is shown in FIGS. 3 and 4, which includes a pulse-forming network PFN as a charge transfer circuit. Here, too, the equivalent inductances L F ′ and L K ′ are drawn in broken lines. In Figs. 1 to 4, LK is a laser head or a laser chamber, inside which at least two laser electrodes E L1 and E L2 are opposed with a distance maintained between them, and a uniform gap is formed between these electrodes. An arc capacitor discharge is excited by high voltage pulses produced by a pulse forming network. FK is the high speed high voltage switch mentioned earlier, for example with electrode E F1.
Configured as a spark discharge chamber with E F2 . It may also be configured as a thyratron or plasma switchgear. R K is an impedance connected in parallel to the laser discharge interval, and has a high resistance value compared to the laser internal resistance. HV represents a high voltage or high voltage terminal, and the horizontal line s represents the capacitance unit C F ,
It represents the plane of symmetry of a capacitor stack consisting of K or C F ', K'. Instead of the mirror-image arrangement of the capacitor units shown in the figure, an asymmetrical arrangement can also be used. d is the capacitor dielectric, solid, liquid or gas, particularly highlighted with crosshatching, and o is the optical axis of the laser chamber LK.

第3図と第4図では条導体コンデンサ、コンデ
ンサ金属層および等価インダクタンスにそれぞれ
プライム符号(′)がつけてあるがその他の部分
は第1図、第2図と同じである。第1図乃至第4
図はパルス形成回路網PFNの二つの実施例を示
したもので、これ以外の構成のもの例えば展開形
のものあるいは誘導体として化学純水を使用した
もの等も使用される。連結インダクタンスの大き
さを決める際には等価インダクタンスLF,LK
はLF′,LK′を考慮する必要がある。CK′又はLK
−LK′直列接続に並列に接続されたレーザー放電
間隙に比べて高抵抗のインピーダンスは第3図、
第4図にRFとして示されている。
In FIGS. 3 and 4, the strip conductor capacitor, the capacitor metal layer, and the equivalent inductance are each given a prime sign ('), but the other parts are the same as in FIGS. 1 and 2. Figures 1 to 4
The figure shows two embodiments of the pulse forming network PFN, but other configurations such as an expanded type or one using chemically purified water as a derivative may also be used. When determining the size of the coupling inductance, it is necessary to consider the equivalent inductance L F , L K or L F ′, L K ′. C K ′ or LK
−L K ′ The impedance of the high resistance compared to the laser discharge gap connected in parallel to the series connection is shown in Fig. 3.
It is shown as R F in Figure 4.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図と第2図はブリユームライン回路として
のレーザー励起回路のそれぞれ結線図及び構成配
置図、第3図と第4図は電荷転送回路としてのレ
ーザー励起回路のそれぞれ結線図および構成配置
図、第5図はコンデンサ金属層の分割構造の一例
の構成図を示す。 FK……高電圧スイツチ、LK……レーザーヘツ
ド、EL1,EL2……レーザー電極、PFN……パル
ス形成回路網、CKとCF……条導体コンデンサ、
LF,LK……等価インダクタンス。
Figures 1 and 2 are wiring diagrams and configuration layout diagrams, respectively, of a laser excitation circuit as a Briumline circuit, and Figures 3 and 4 are wiring diagrams and configuration layout diagrams, respectively, of a laser excitation circuit as a charge transfer circuit. , FIG. 5 shows a configuration diagram of an example of a divided structure of a capacitor metal layer. FK...High voltage switch, LK...Laser head, EL 1 , EL 2 ...Laser electrode, PFN...Pulse forming network, C K and C F ...Strip conductor capacitor,
L F , L K ...Equivalent inductance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 レーザー室内に光軸に平行に拡がる電極を備
えるレーザーヘツドLKと、パルス形成回路網を
通してレーザー電極EL1,EL2に高電圧パルス
を加えるための高速度高電圧スイツチFKと、こ
の高電圧スイツチおよびレーザーヘツドに配属さ
れた二つの条導体コンデンサCF,CKを含むパル
ス形成回路網PFNから構成される高エネルギー
レーザー装置の励起回路に対してパルス形成回路
網を適合させる装置において、パルス形成回路網
PFNがブリユームライン回路であるときは二つ
の条導体コンデンサCF,CKの金属層1,2,3,
4の中少なくとも第二の条導体コンデンサCK
レーザー電極に接続された金属層4が(n−1)
個の接合区間g1,g2…go-1を持つn個の部分金属
層B1,B2,…Boに分割され、隣り合せた部分金
属層Bがそれぞれ連結インダクタンスL1,L2
Lo-1を通して互に導電結合されていること、パル
ス形成回路網が電荷転送回路であるときは二つの
条導体コンデンサC′F,C′Kの金属層の中少なくと
も一つのレーザー電極に共通に接続された金属層
2′,3′の一つの部分面が同様にn−1個の接合
区間を持つn個の部分金属層B1,B2,…Boに分
割され、隣り合せた部分金属層Bがそれぞれ連結
インダクタンスL1,L2…Lo-1を通して互に導電
結合されていることを特徴とするレーザー室のガ
ス空間中で少なくとも二つの対向するレーザー電
極間に発生する無アークコンデンサ放電によつて
励起されるTE型高エネルギーレーザー装置の励
起回路にパルス形成回路網を適合させる装置。 2 直方体形のコンデンサ堆積の場合部分金属層
Bがいずれも高さhi、長さliの矩形底面を持つこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
置。 3 連結インダクタンスLiが小コイルとして作ら
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
又は第2項記載の装置。 4 連結インダクタンスLiが針金の小片であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の装置。 5 連結インダクタンスLiの接続個所が部分金属
層Biの境界縁上の離散した点に置かれるか部分金
属層Biの高さ辺上に連続分布していることを特徴
とする特許請求の範囲第1項乃至第4項の一つに
記載の装置。 6 連結インダクタンスLiが部分金属層Biに軟ろ
う付け、硬ろう付け等の中間金属結合によるかあ
るいは溶接あるいは差し込み、締め付け、ねじ止
め、ワイヤ巻付け等の機械的方法によつて接続さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
乃至第5項の一つに記載の装置。 7 部分金属層Biの面積と結合区間giの長さがそ
れぞれほぼ等しくなつていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項乃至第6項の一つに記載の装
置。 8 部分金属層Biの面積と結合区間giの幅と連結
インダクタンスLiのL、R値とが少くとも部分的
に互に異つていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項乃至第6項の一つに記載の装置。
[Scope of Claims] 1. A laser head LK with electrodes extending parallel to the optical axis within the laser chamber; a high-speed high-voltage switch FK for applying high-voltage pulses to the laser electrodes EL1, EL2 through a pulse-forming network; A device for adapting the pulse-forming network to the excitation circuit of a high-energy laser device, consisting of a high-voltage switch and a pulse-forming network PFN that includes two strip conductor capacitors C F and C K assigned to the laser head. In, the pulse forming network
When the PFN is a Bryum line circuit, the metal layers 1, 2, 3 of the two strip conductor capacitors C F , C K ,
The metal layer 4 connected to the laser electrode of at least the second strip conductor capacitor C K in 4 is (n-1)
It is divided into n partial metal layers B 1 , B 2 , ...B o with joint sections g 1 , g 2 ... go-1 , and the adjacent partial metal layers B have connection inductances L 1 , L, respectively. 2 ...
conductively coupled to each other through L o-1 , and common to at least one laser electrode in the metal layer of the two strip conductor capacitors C′ F , C′ K when the pulse forming network is a charge transfer circuit. One partial surface of metal layers 2 ', 3 ' connected to 2. The interference generated between at least two opposing laser electrodes in the gas space of the laser chamber, characterized in that the partial metal layers B are electrically conductively coupled to each other through coupling inductances L 1 , L 2 . . . L o-1 , respectively. A device for adapting a pulse forming network to the excitation circuit of a TE type high energy laser device excited by an arc capacitor discharge. 2. Device according to claim 1, characterized in that in the case of rectangular parallelepiped capacitor deposits, each partial metal layer B has a rectangular base of height h i and length l i . 3. Device according to claim 1 or 2, characterized in that the coupling inductance L i is made as a small coil. 4. The device according to claim 1 or 2, characterized in that the coupling inductance L i is a small piece of wire. 5. A patent claim characterized in that the connection points of the coupling inductance L i are placed at discrete points on the boundary edge of the partial metal layer B i or are continuously distributed on the height side of the partial metal layer B i Apparatus according to one of the ranges 1 to 4. 6. The coupling inductance L i is connected to the partial metal layer B i by an intermediate metal bond such as soft brazing or hard brazing, or by a mechanical method such as welding, insertion, tightening, screwing, or wire wrapping. Device according to one of the claims 1 to 5, characterized in that: 7. Device according to one of claims 1 to 6, characterized in that the area of the partial metal layer B i and the length of the connection section g i are each approximately equal. 8. Claims 1 to 8, characterized in that the area of the partial metal layer B i , the width of the coupling section g i , and the L and R values of the coupling inductance L i are at least partially different from each other. Device according to one of paragraphs 6.
JP6517283A 1982-04-19 1983-04-13 Device for adapting pulse forming circuit network for exciting circuit of te type high energy laser Granted JPS58191483A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3214480 1982-04-19
DE32144806 1982-04-19
DE32322259 1982-08-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58191483A JPS58191483A (en) 1983-11-08
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4077020A (en) * 1975-05-20 1978-02-28 Wisconsin Alumni Research Foundation Pulsed gas laser
DE2636177C3 (en) * 1976-08-11 1981-08-20 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim High energy laser
DE2932781C2 (en) * 1979-08-13 1985-10-31 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Device for generating rapid, pulsed capacitor discharges in a laser

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