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JPH0140970B2 - - Google Patents
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JPH0140970B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0140970B2
JPH0140970B2 JP7466482A JP7466482A JPH0140970B2 JP H0140970 B2 JPH0140970 B2 JP H0140970B2 JP 7466482 A JP7466482 A JP 7466482A JP 7466482 A JP7466482 A JP 7466482A JP H0140970 B2 JPH0140970 B2 JP H0140970B2
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JP
Japan
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butadiene
layer
photosensitive
polymer
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Application number
JP7466482A
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Japanese (ja)
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JPS57186754A (en
Inventor
Rarufu Guruutsumaakaa Robaato
Haiaramu Mangaa Sutanree
Fuosutaa Uoofuiirudo Piitaa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS57186754A publication Critical patent/JPS57186754A/en
Publication of JPH0140970B2 publication Critical patent/JPH0140970B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • G03F7/405Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は光感受性フレキソグラフイー印刷プレ
ートの表面処理方法に関する。更に特定的には、
本発明はその光感受性層が共役ジオレフイン炭化
水素の重合体を含有しているフレキソグラフイー
印刷プレートの表面処理に関する。更により特定
的には、本発明は共役ジオレフイン炭化水素の重
合体を含有する光感受性弾性層を臭素で表面処理
することに関する。 光感受性フレキソグラフイー印刷プレートは印
刷産業においてより重要となつてきている。その
ようなフレキソグラフイー印刷プレートの製造の
ために特に有用な組成物としては付加重合性エチ
レン性不飽和化合物、光開始剤、および重合体結
合剤としてのブロツク共重合体例えばスチレン−
ブタジエン−スチレンおよびスチレン−イソプレ
ン−スチレン重合体または場合によりカルボキシ
ル基を含有するブタジエン/アクリロニトリル重
合体のいずれかを含有する組成物があげられる。
工業的に使用されている前者の組成物はアルコー
ルまたはアルコール−アセテートをベースとした
インクに対して特に有用である。商品として新し
い後者の組成物は炭化水素をベースとしたインク
に特に有用である。 前記フレキソグラフイー印刷プレートはその他
の天然または合成共役ジオレフイン炭化水素重合
体から製造されたものと同様に一般に像様露光お
よび現像後にレリーフ印刷表面の粘着性低下のた
めの処理を必要とする。層粘着性減少のためには
塩素および臭素両処理が知られている。臭素処理
はフレキソグラフイー印刷プレートそして特に場
合によりカルボキシル基含有ブタジエン/アクリ
ロニトリル重合体を含有するフレキソグラフイー
印刷プレートに関して有効であることが見出され
ている。一般に臭素処理溶液はそれらの製造のあ
る時点において酸、酸蒸気および/または液体ま
たは気体状態の遊離元素状臭素の取扱いを必要と
する。操作者の安全のために、そのような攻撃的
で危険な試薬の取扱いを除外することが望まし
い。 本発明の目的は別個の酸または遊離臭素成分の
使用を除外したフレキソグラフイー印刷プレート
の処理法を提供することである。その他の目的は
中性付近ないし酸条件下のPH範囲にわたつて操作
可能なそのような方法を提供することである。更
にその他の目的は処理溶液の乾燥固体成分が安定
であり、容易に入手可能でありそして併合させた
場合に乾燥状態で保存しそしてその後で水と混合
しそして次いで臭素処理剤として使用できる安定
な混合物を生成しうるような方法を提供すること
である。 本発明によれば共役ジオレフイン炭化水素およ
び少くとも1個の末端エチレン基を含有する非気
体状エチレン性不飽和化合物を包含する光感受性
弾性体状組成物の層を活性線照射に露光させ、そ
してその未露光部分を液体現像することによりレ
リーフが製造された場合のレリーフフレキソグラ
フイー印刷プレートの表面を修正する方法の改良
が提供されるものであり、而してその改善は乾燥
後に現像された表面にいずれかの順序で (1) 活性線照射源に後露光させること、および (2) 約15秒〜40分の間、アルカリモノパーサルフ
エートとブロミド塩の水性処理溶液に接触させ
ること を実施することである。 本発明の方法に使用される光感受性弾性組成物
は共役ジオレフイン炭化水素の重合体、非気体状
エチレン性不飽和化合物、有機放射感受性遊離ラ
ジカル生成性光開始剤(または系)ならびに以下
に論じられるその他の添加剤を包含する。この組
成物は層の形で使用することができる。あるいは
また層を可撓性支持体に接着させることができる
しまたは一時的支持体を使用することができる。
その他の構造体は光感受性層の各面上にカバーシ
ートおよび重合体層を有しうる。有用な可撓性支
持体としてはプラスチツクフイルムおよび金属シ
ート、開放または閉鎖セルフオーム圧縮成形可能
なゴム層、またはプラスチツクフイルムのフオー
ムおよびゴム層の組合せ物があげられる。組合せ
支持体が使用される場合には、そのプラスチツク
フイルムが一般に光感受性層に隣接している。ポ
リアミドコーテイングしたフイルム例えばポリエ
ステル例えばポリエチレンテレフタレートは適当
な一時的支持体を与える。そのような支持体の例
としては重合体フイルム支持体例えばポリエチレ
ンテレフタレート、火炎処理ポリエチレンテレフ
タレート、電子放電処理ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリイミド(例えばここに参照として包含
されている米国特許第3179634号明細書開示のフ
イルムその他)および薄い金属支持体例えばアル
ミニウム、錫めつきスチール(艷消しまたは光沢
性)があげられるがしかしこれに限定されるもの
ではない。重合体支持体は一般に0.001インチ〜
0.007インチ(0.025〜0.18mm)範囲の厚さを有し
ている。金属支持体は一般にアルミニウムに対し
ては0.010〜0.0115インチ(0.25〜0.29mm)、そし
て錫めつきスチールに対しては0.008〜0.010イン
チ(0.20〜0.25mm)の範囲の厚さを有している。
フオーム支持体の例としては開放または閉鎖セル
フオーム例えばポリ塩化ビニル、ポリウレタン、
エチレンポリレンジエンゴム、ネオプレンその他
があげられる。圧縮成形可能なゴムの例としては
スチレン/イソプレンブロツク共重合体、ブタジ
エン/アクリロニトリル共重合体、天然ゴムその
他があげられる。 本明細書に開示の光感受性組成物はそれらの未
露光状態においてはその光感受性組成物中に存在
する特定の重合体結合剤によつて水性、半水性塩
基性または溶媒溶液中で現像可能である。光感受
性層は0.0005〜0.250インチ(約0.013〜6.35mm)
またはそれ以上の厚さ範囲にある。 光感受性弾性体状組成物の一つの本質的成分は
弾性体状重合体結合剤である。適当な結合剤とし
ては共役ジオレフイン炭化水素の天然または合成
重合体があげられる。結合剤の例としては1,2
−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエン、ブ
タジエン/アクリロニトリル、ブタジエン/スチ
レン、A−B−Aタイプのブロツク共重合体例え
ばスチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重
合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロツク
共重合体その他および結合剤の共重合体があげら
れる。ブロツク共重合体は線状、放射形または連
続(sequential)タイプのものでありうる。好ま
しい結合剤はスチレン−イソプレン−スチレンま
たはスチレン−ブタジエン−スチレンブロツク共
重合体であり、そしてブタジエン/アクリロニト
リル共重合体で場合によりカルボキシル含量を有
するものである。 本発明の有用な線状ブロツク共重合体は一般式
A−B−A〔式中Aは独立して2000〜100000の数
平均分子量(n)および25℃以上のガラス転移
温度を有する非弾性体状重合体ブロツクから選ば
れ、そしてBは約25000〜1000000の間の平均分子
量および約10℃以下のガラス転移温度を有する弾
性体状重合体ブロツクである〕の少くとも1個の
ユニツトを有している。その間に弾性体状重合体
ブロツクBを有する非弾性体状重合体ブロツクA
は一緒になつてユニツトA−B−Aを形成してい
るがこれは本発明の組成物中の光重合性成分と組
合わせて使用するため特別に適当な共重合体を表
わしている。このユニツトは共重合体の一般式全
部を構成しうる。それは他の重合体鎖に結合した
ものであつてもよく、またはそれは反復体であり
うる。勿論例えばこの異つた非弾性体状末端ブロ
ツクAを使用することによつて、またはブロツク
AおよびB中にブロツクまたはグラフト重合体置
換分を生成させることによつて本発明の範囲内で
ユニツトの正確な性質を変化させることが可能で
ある。好ましくは弾性体中央部ブロツクBは脂肪
族共役ジオレフインの重合体であり、一方非弾性
体状ブロツクAはアルケニル芳香族炭化水素、好
ましくはビニル置換芳香族炭化水素そして更によ
り好ましくはビニル単環性芳香族炭化水素を重合
させることにより形成されるものである。ブロツ
ク共重合体はここに参照として包含されている米
国特許第3265765号および対応する英国特許第
1000090号各明細書に開示されている。この共重
合体の特に好ましい種類のものはポリイソプレン
またはポリブタジエンの中央部分により接続され
ているポリスチレン末端基を有するブロツク共重
合体、例えばポリスチレン−ポリイソプレン−ポ
リスチレンまたはポリスチレン−ポリブタジエン
−ポリスチレンを包含するがそのポリジエンブロ
ツクはブロツク共重合体の70〜90重量%である。
本発明に有用なその他の典型的ブロツク共重合体
はポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン
およびポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチ
レンブロツク共重合体で米国特許第3431323号お
よび同第3333024号明細書の教示に従つて水素化
されたものである。この水素化ブロツク共重合体
は改善された熱抵抗性および酸化抵抗性のその他
の利点を有している。しかしながら水素化ブロツ
ク共重合体中でいくらかの残存不飽和のあること
が望ましい。その理由はその場合には活性線放射
への露光時の溶媒溶解性の減少のためには非常に
わずかな濃度の単量体しか光感受性組成物中に必
要とされないからである。本発明に有用な更にそ
の他の典型的ブロツク共重合体は末端ブロツクが
ポリアルキルスチレンのもの例えばポリ(α−メ
チルスチレン)−ポリイソプレン−ポリ(α−メ
チルスチレン)、および複数個の重合体ブロツク
よりなるもの例えばポリイソプレン−ポリスチレ
ン−ポリブタジエン−ポリスチレン−ポリイソプ
レンである。 ブロツク共重合体に対する数平均分子量は
Arro Laboratories社製造のゲルセロフアン
600W膜および溶媒としてトルエンを使用して29
℃において膜浸透により測定することができる。
非弾性体状重合体ブロツクおよび弾性体状重合体
ブロツクに対するnは好ましくは次のようにし
て測定される。 A 第1ブロツク(ポリスチレン)の分子量は、
重合直後に除去された末端停止された試料のゲ
ル透過クロマトグラフイー(GPC)により測
定することができる。クロマトグラフは市場的
に入手可能なポリスチレン分子量標準を使用し
て較正される。 B 第2ブロツク(ポリイソプレンまたはポリブ
タジエン)のnは次の方法で測定することが
できる。 (1) 適当に較正したGPCによつて、その重合
後末端停止されそして直ちに除去されたポリ
スチレン−ポリイソプレン(またはポリブタ
ジエン)の2−ブロツク(di−block)重合
体試料のnを測定し、そして (2) この値から前記(A)で測定された第1ブロツ
クのnを減ずること。 C 第3ブロツク(ポリスチレン)のnは同様
の一般法で測定することができる。 (1) 適当に較正したGPCによつて、ポリスチ
レン−ポリイソプレン(またはポリブタジエ
ン)−ポリスチレンの3ブロツク重合体の試
料のnを測定しそして (2) この値から前記(B)で得られた2−ブロツク
重合体のnを減ずる。 これらのブロツク共重合体はシエル・ケミカ
ル・コンパニーにより製造されそして「クラトン
(Kraton) 」の商品名で発売されている。 有用なブタジエン/アクリロニトリル共重合体
は約20000〜約75000の範囲好ましくは約25000〜
約50000の範囲の数平均分子量(n)を有する
高分子量ブタジエン/アクリロニトリル共重合体
(a)である。本明細書記載の重合体に対するnは
ブタジエン標準を使用してゲル透過クロマトグラ
フイーにより測定することができる。重合体のア
クリロニトリル含量は約10〜約50重量%、好まし
くは約15〜約40%で変動する。場合によりこの共
重合体はまた0〜15重量%のカルボキシル含量を
有している。この共重合体がカルボキシル基を含
有している場合には、このカルボキシル含量は好
ましくは重量基準で約1〜約15%の範囲、最も好
ましくは約2〜約10%の範囲である。共重合体は
組成物の全重量基準で約55〜90重量%の量そして
好ましくは約60〜約75重量%の量で存在する。特
にフレキソグラフイープレート用の光感受性エレ
メントに充分な可撓性と物理的一体性とを与える
ためには少くとも約55重量%の共重合体が必要で
ある。 カルボキシル含量単量体例えばアクリルまたは
メタクリル酸またはカルボキシル含有単量体に変
換可能な単量体例えばマレイン酸無水物またはメ
チルメタクリレートを重合過程に添加することに
よつて高分子量共重合体中にカルボキシル基を包
含させることができる。そのような重合体はいく
つかの供給源から、例えばハイカ− の商品名で
B.F.Goodrich Chemical社から市場的に入手可
能である。 本発明の光感受性組成物の他の本質的成分は少
くとも1個の末端エチレン基を含有する非気体状
エチレン性不飽和化合物(b)である。この化合物は
遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合により高分子
重合体を形成しうるものでありかつ前記高分子量
重合体(a)と相容性であるべきである。前記A−B
−Aタイプブロツク共重合体と相容性のエチレン
性不飽和化合物は、ここに参照として包含されて
いる英国特許第1366769号明細書中に開示されて
いる。これら単量体の多くのものが以下に具体的
に開示されている。適当なエチレン性不飽和化合
物の群としてはアルコールの不飽和エステル、特
にα−メチレンカルボン酸および置換α−メチレ
ンカルボン酸のそのようなエステル、より特別に
はアルキレンポリオールおよびポリアルキレンポ
リオールのそのようなエステル、そして最も特別
には2〜15個の炭素原子のアルキレンポリオール
または1〜10個のエーテル結合のポリアルキレン
エーテルポリオールまたはグリコールから製造さ
れるアルキレンポリオールジおよびトリアクリレ
ートおよびポリアルキレンポリオールジおよびト
リアクリレートがあげられる。 次の具体的化合物はこの群のその他の例であ
る。エチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、グリセロールジ
アクリレート、グリセロールトリアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−プロ
パンジオールジメタクリレート、1,2,4−ブ
タントリオールトリメタクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、1,4−
ベンゼンジオールジメタクリレート、1,2−ベ
ンゼンジメタノールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、1,3−プロパンジ
オールジアクリレート、1,3−ペンタンジオー
ルジメタクリレート、p−α,α−ジメチルベン
ジルフエニルアクリレート、第三級ブチルアクリ
レート、N,N−ジエチルアミノエチルアクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、ヘキサ
メチレングリコールジアクリレート、デカメチレ
ングリコールジアクリレート、2,2−ジメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、2,2−ジ(p−ヒド
ロキシ−フエニル)プロパンジアクリレート、
2,2−ジ(p−ヒドロキシフエニル)プロパン
ジメタクリレート、ポリオキシエチル−2,2−
ジ(p−ヒドロキシフエニル)プロパントリアク
リレート(分子量462)、1,4−ブタンジオール
ジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
メタクリレート、2,2,4−トリメチル−1,
3−ペンタンジオールジメタクリレート、1−フ
エニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールアクリレートフタレート、ポリオキシエ
チルトリメチロールプロパントリアクリレート、
芳香族ポリヒドロキシ化合物例えばビスフエノー
ルノボラツクおよび同様の化合物例えばここに参
照として包含されている米国特許第3661576号明
細書記載のものから導かれたジエポキシポリエー
テルのジアクリレートおよびジメタクリレートエ
ステル、分子量200〜500のポリエチレングリコー
ルのビスアクリレートおよびメタクリレートその
他。 適当なエチレン性不飽和化合物のその他の群と
しては、ここに参照として包含されている米国特
許第2927022号明細書に開示の化合物例えば複数
個の特に末端結合として存在する付加重合性エチ
レン結合を有するもの、そして特にそのような結
合の少くとも1個、そして好ましくはほとんどが
炭素−炭素二重結合および炭素−ヘテロ原子(例
えば窒素、酸素および硫黄)二重結合を含む二重
結合炭素に共役しているものがあげられる。好ま
しいものはエチレン性不飽和基特にビニリデン基
がエステルまたはアミド構造と共役している場合
のそのような物質である。特定のそのような化合
物の例としては不飽和アミド、特にα−メチレン
カルボン酸と特にα−ω−ジアミンおよび酸素中
断ω−ジアミンとの不飽和アミド、例えばメチレ
ンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリル
アミド、エチレンビスメタクリルアミド、1,6
−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレ
ントリアミントリスメタクリルアミド、ビス(メ
タクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレート、N−(β−ヒ
ドロキシエチル)−β−(メタクリルアミド)エチ
ルアクリレート、およびN,N−ビス(β−メタ
クリルオキシエチル)アクリルアミド、ビニルエ
ステル例えばジビニルサクシネート、ジビニルア
ジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフ
タレート、ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホ
ネートおよびジビニルブタン−1,4−ジスルホ
ネート、ジアリルフマレートその他があげられ
る。 使用しうるその他のエチレン性不飽和化合物と
しては、スチレンおよびその誘導体、1,4−ジ
イソプロペニルベンゼン、1,3,5−トリイソ
プロペニルベンゼン、イタコン酸無水物のヒドロ
キシエチルアクリレートの付加物(1:1)、イ
タコン酸無水物の末端アミノ基含有の液体ブタジ
エン/アクリロニトリル重合体との付加物、およ
びイタコン酸無水物とジエポキシポリエーテルの
ジアクリレートおよびジメタクリレートエステル
との米国特許第3661576号明細書記載の付加物、
末端および懸垂ビニル基を含有するポリブタジエ
ンおよびブタジエン/アクリロニトリル共重合
体、および不飽和アルデヒド例えばソルブアルデ
ヒド(2,4−ヘキサジエナール)があげられ
る。 水溶性であるかまたはカルボキシルまたはその
他のアルカリ反応性基を含有しているエチレン性
不飽和化合物は水性塩基現像系が使用される場合
に特に適当である。更に米国特許第3043805号お
よび同第2929710号各明細書記載の重合可能なエ
チレン性不飽和重合体および同様の物質は単独で
かまたはその他の物質と混合して使用することが
できる。例えば米国特許第3380831号明細書記載
のもののようなエチレンオキシドおよびポリヒド
ロキシ化合物の付加物(アダクト)のアクリルお
よびメタクルエステルもまた有用である。米国特
許第3418295号および同第3448089号各明細書に開
示の光交叉結合性重合体もまた使用できる。これ
らすべての特許明細書はここに参照として包含さ
れている。 使用されるブロツク共重合体の使用される付加
重合性エチレン性不飽和化合物に対する重量比は
99:1〜約1:1である。 ブタジエン/アクリロニトリル共重合体を含有
する光感受性組成物中に存在させる不飽和化合物
の量は組成物の全重量基準で約2〜約40重量%の
範囲にあるべきである。最適結果を得るために特
定の量は使用される特定の重合体により変動す
る。好ましくは不飽和化合物の量は約5〜約25%
の範囲にある。 エチレン性不飽和化合物は好ましくは常圧下で
約100℃以上の沸点を有している。最も好ましい
エチレン性不飽和化合物はトリエチレングリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサメチレングリコールジメタ
クリレートおよびヘキサメチレングリコールジア
クリレートである。 本発明の光感受性組成物は前記のような薄い層
の形態の場合には活性線照射を実質的には散乱し
ない。実質的に透明な混合物すなわち非放射散乱
性混合物を確実ならしめるためには、重合体結合
剤成分は使用される比率においてエチレン性不飽
和化合物と相容性であるべきであり、そして好ま
しくはそれに可溶性であるべきである。 「相容性」とは2種またはそれ以上の成分が活
性線放射の有意量の散乱を全く生ぜしめることな
しに相互に分散状態に留まる能力を意味してい
る。相容性は往々にして成分の相対比により限定
され、そして非相容性は光感受性組成物中のくも
り(ヘイズ)の形成により証明される。印刷レリ
ーフの製造においては露光前または露光間のいく
らかのわずかなくもりはそのような組成物で許容
されうる。しかしながら微細なデイテール(詳
細)が所望される場合には、くもりは完全に除外
されるべきである。従つてエチレン性不飽和化合
物または使用される任意のその他の成分の量は望
ましくない光散乱またはくもりを生成させない濃
度に限定される。 本発明の光感受性組成物の別の本質的成分は有
機放射感受性遊離ラジカル生成系(c)である。実際
的には不飽和化合物の重合を開始させそして重合
を過度に停止しないすべての有機放射感受性遊離
ラジカル生成系を本発明の光感受性組成物中に使
用できる。「有機」なる表現は、本明細書中では、
炭素、および酸素、水素、窒素硫黄およびハロゲ
ンの1種または数種を含有するがしかし金属を含
有しない化合物を意味して使用されている。プロ
セス透明画は通常の活性線放射源から生ずる熱を
伝達しそして光感受性組成物は通常高温を生成さ
せるような条件下に製造されるのであるから、遊
離ラジカル生成性化合物は85℃以下そしてより好
ましくは185℃以下では熱的に不活性であるのが
好ましい。それらは比較的短時間の露光において
吸収される放射量の影響下に所望の重合または交
叉結合を開始させるに必要な程度に組成物中に分
散性であるべきである。これら開始剤は溶媒不含
光感受性組成物の全重量基準で約0.001〜約10重
量%そして好ましくは約0.1〜約5重量%の量で
有用である。 遊離ラジカル生成系は約2000〜約800Åの範囲
内の放射を吸収しそしてこれは約2500〜約8000
Å、そして好ましくは約2500〜約5000Åの範囲内
に少くとも約50の分子吸光係数を有する活性線放
射吸収バンドを有する少くとも1種の成分を含有
している。「活性線放射吸収バンド」なる表現は
不飽和物質の重合または交叉結合を開始させるに
必要な遊離ラジカルを生成させるべく活性な放射
バンドを意味している。 遊離ラジカル生成系は放射により活性化された
場合に遊離ラジカルを直接生成する1種またはそ
れ以上の化合物を包含しうる。それはまたその一
つが放射により活性化された増感剤によりそうす
るようにされた後で遊離ラジカルを生成するもの
であるような複数種の化合物を包含しうる。 多数のそのような遊離ラジカル生成性化合物を
本発明の実施に使用でき、そしてこれらとしては
芳香族ケトン例えばベンゾフエノン、ミヒラーの
ケトン、〔4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフエノン〕、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフエノン、4−アクリルオキシ−4′−ジメ
チルアミノベンゾフエノン、4−アクリルオキシ
−4′−ジエチルアミノベンゾフエノン、4−メト
キシ−4′−ジメチルアミノベンゾフエノン、2−
フエニル−2,2−ジメトキシアセトフエノン
(2,2−ジメトキシ−1,2−ジフエニルエタ
ン)、2−エチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、2−第3級ブチルアントラキノン、1,
2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアン
トラキノン、2,3−ジクロロナフトキノン、ベ
ンジルジメチルアセタールおよびその他の芳香族
ケトン、ベンゾイン、ベンゾインエーテル例えば
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテルおよびベンゾ
インフエニルエーテル、メチルベンゾイン、エチ
ルベンゾインおよびその他のベンゾイン、および
2,4.5−トリアリールイミダゾリル二量体例え
ば2−(o−クロロフエニル)−4,5−ジフエニ
ルイミダゾリル二量体、2−(o−クロロフエニ
ル−4,5−ジ(m−メトキシフエニル)イミダ
ゾリル二量体、2−(o−フルオロフエニル)−
4,5−ジフエニルイミダゾリル二量体、2−
(o−メトキシフエニル)−4,5−ジフエニルイ
ミダゾリル二量体、2−(p−メトキシフエニル)
−4,5−ジフエニルイミダゾリル二量体、2,
4−ジ(p−メトキシフエニル)−5−フエニル
イミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシ
フエニル)−4,5−ジフエニルイミダゾリル二
量体、2−(p−メチルメルカプトフエニル)−
4,5−ジフエニルイミダゾリル二量体その他の
米国特許第3479185号および同第3784557号各明細
書および英国特許第997396号および同第1047569
号各明細書に開示のものがあげられる。これら特
許明細書はここに参照として包含されている。 イミダゾリル二量体は遊離ラジカル生成性エレ
クトロンドナー、例えば2−メルカプトベンゾキ
サゾール、ロイコクリスタルバイオレツトまたは
トリス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニ
ル)メタンと共に使用することができる。ミヒラ
ーのケトンのような増感剤を添加することができ
る。種々のエネルギー伝達染料例えばローズベン
ガルおよびエオジンYもまた使用できる。適当な
開始剤のその他の例はここに参照として包含され
ている米国特許第2760863号明細書中に開示され
ている。 光感受性組成物はまた、少量の、例えば全溶媒
不含光感受性組成物の重量基準で0.001〜2.0%の
熱付加重合阻害剤を含有しうる。適当なかかる重
合阻害剤としては、ハイドロキノンおよびアルキ
ルおよびアリール置換ハイドロキノン、2,6−
ジ第3級ブチル−4−メチルフエノール、p−メ
トキシフエノール、第3級ブチルピロカテコー
ル、ピロガロール、β−ナフトール、2,6−ジ
第3級ブチル−p−クレゾール、フエノチアジ
ン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、およびここに参照として包含されている米国
特許第4168982号明細書記載のニトロソ二量体阻
害剤系があげられる。その他の有用な阻害剤とし
てはp−トルキノン、クロラニルおよびチアジン
染料例えばチオニンブルーG(C.I.52025)、メチ
レンブルーB(C.I.52015)およびトルイジンブル
ー(C.I.52040)があげられる。そのような組成
物は阻害剤を除去することなく光重合または光交
叉結合させることができる。好ましい阻害剤は
2,6−ジ第3ブチル−4−メチルフエノールお
よびp−メトキシフエノールである。 印刷レリーフの酸素およびオゾン耐性はその光
感受性組成物中に適当量の相容性ある周知の酸化
防止剤および/またはオゾン化防止剤を包含させ
ることによつて改善することができる。本発明に
有用な酸化防止剤としてはアルキル化フエノー
ル、例えば2,6−ジ第3級ブチル−4−メチル
フエノール、アルキル化ビスフエノール例えば
2,2−メチレンビス−(4−メチル−6−第3
級ブチルフエノール)、1,3.5−トリメチル−
2,4,6−トリス(3,5−ジ第3級ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジ第3級ブチルアニリノ)
−4,6−ビス−(n−オクチルチオ)−1,3,
5−トリアジン、重合トリメチルジヒドロキノン
およびジラウリルチオプロピオネートがあげられ
る。 本発明に有用なアゾン化防止剤としては微晶性
ワツクスおよびパラフインワツクス、ジブチルチ
オ尿素、1,1,3,3−テトラメチル−2−チ
オ尿素、アンチオゾナントAFD(ナフトン社製
品)、ノルボルネン例えばジ−5−ノルボルネン
−2−メチルアジペート、ジ−5−ノルボルネン
−2−メチルテレフタレート、オゾンプロテクタ
−80(ライヒホールド・ケミカルズ社製品)、N−
フエニル−2−ナフチルアミン、不飽和植物油例
えば菜種油、亜麻仁油、サフラワー油、重合体お
よび樹脂例えばエチレン/ビニルアセテート共重
合体樹脂、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン
化ポリエチレン、塩素化エチレン/メタクリル酸
共重合体、ポリウレタン、ポリペンタジエン、ポ
リブタジエン、フルフラール誘導樹脂、エチレ
ン/プロピレン/ジエンゴム、ロジンのジエチレ
ングリコールエステル、およびα−メチルスチレ
ン/ビニルトルエン共重合体があげられる。製造
された印刷レリーフのオゾン耐性はまた使用前の
その高温でのやきなましによつても改善すること
ができる。 所望によりこの光感受性組成物にはまた光感受
性組成物の露光に対して使用される波長において
本質的に透明でそして活性線放射を散乱しない非
混和性の重合体状または非重合体状有機または無
機充填剤または補強剤例えばポリスチレン、親有
機性シリカ、ベントナイト、シリカ、粉末ガラ
ス、コロイドカーボンならびに種々のタイプの染
料および顔料を含有させることができる。そのよ
うな物質は弾性体状組成物の所望の性質に応じて
変動する量で使用される。充填剤は弾性体層の強
度を改善させ、タツク(粘着性)を減少しそして
更に着色剤として有用である。 この光感受性層は好ましくは結合剤のガラス転
移温度を低下させそして選択的現像を容易ならし
めるために相容性に可塑剤を含有している。この
可塑剤は重合体結合剤と相容性の一般的可塑剤の
いずれかでありうる。一般的可塑剤の中にはジア
ルキルフタレート、アルキルホスフエート、ポリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコールエ
ステルおよびポリエチレングリコールエーテルが
あげられる。その他の有用な可塑剤としてはオレ
イン酸、ラウリン酸その他があげられる。ポリエ
ステル例えばポリエチレンセバケートその他は好
ましい可塑剤である。可塑剤は一般に光感受性組
成物の全固体分重量基準で1〜15重量%量で存在
する。 本発明の光感受性組成物は任意の適当な方法で
各成分すなわち(a)重合体結合剤、(b)相容性エチレ
ン性不飽和化合物、および(c)遊離ラジカル生成系
を混合することにより製造できる。例えば流動性
組成物は任意の順序でこれらの成分およびその他
の所望の添加剤そして所望により溶媒例えば塩素
化炭化水素例えばメチレンクロリド、クロロホル
ム、メチルクロロホルム、クロロベンゼン、トリ
クロロエチレン、テトラクロロエチレンおよびク
ロロトルエン、ケトン例えばメチルエチルケト
ン、ジエチルケトンおよびメチルイソブチルケト
ン、芳香族炭化水素例えばベンゼン、トルエンお
よびキシレン、およびテトラヒドロフランの助け
を借りて混合することにより製造できる。前記溶
媒は希釈剤としてアセトン、低分子量アルコール
例えばメチル、エチルおよびプロピルアルコール
およびエステル例えばメチル、エチルおよびブチ
ルアセテートを含有しうる。溶媒は後に混合物ま
たは押出された層を加熱することによつて除去で
きる。 これら組成物の製造においては通常のミル処
理、混合および溶液技術を使用することができ
る。特定の技術はそれぞれの成分の性質の差によ
り変動する。均質の実質的に放射を散乱しない組
成物を任意の所望の方法でシートに成形する。例
えば溶媒流延(キヤスチング)、熱圧縮成形、カ
レンダー処理または押出成形が所望の厚さの層の
製造に対して適当な方法である。 本発明の光感受性エレメントは光感受性組成物
を溶媒流延または押出成形、カレンダー処理また
は高温におけるプレスによつて適当な成形ホイー
ル、ベルトまたはプラテン上の層または自己支持
性シートの形態とすることによつて製造できる。
層またはシートは前記の可撓性支持体の表面に積
層させることができる。あるいはまたこれは以下
に記載のように接着剤ブレンドによつて接着させ
ることができる。溶液が使用される場合には接着
剤含有支持体上にコーテイングを生成させること
ができる。 この光感受性層の厚さはレリーフ画像中に所望
される厚さの直接の函数でありそしてこれは再生
される主題およびレリーフの最終的使用に依存す
る。例えば厚いソフトレリーフはフレキソグラフ
イー印刷において有用でありそして薄い硬質レリ
ーフは平版印刷に有用である。一般に重合性層の
厚さは約0.250インチ以下である。例えばそれは
約0.0005〜約0.250インチ(0.00127〜0.635cm)に
変動しそしてこの厚さ範囲内の層が大部分の印刷
プレートに対して使用される。 光感受性層ブタジエン/アクリロニトリル印刷
プレートと可撓性支持体との間には好ましくは接
着剤ブレンドの層を位置させるがこれは次の4種
の重合体群から選択された少くとも2種の重合体
を包含している。 (1) モル比約6:2:1:3のエチレングリコー
ル、テレフタル酸、イソフタル酸およびアゼラ
イン酸の縮合重合体のポリエステル樹脂、
19000のn、および37000のwを有してい
る。 (2) メチルエチルケトン中で15重量%固体分およ
び12rpmで#3ブルツクフイールドスピンドル
を使用した場合に、100〜1200センチポアズの
ブルツクフイールド粘度および54〜63℃の範囲
の接着剤活性化温度を有する結晶性熱可塑性樹
脂のポリエーテルポリウレタン樹脂。このポリ
エーテルポリウレタンは15%の降伏点伸長、
615%の破断点伸長、600psi(42.18Kg/cm2)の
400%伸長モジユラス、約49℃の結晶性消失
(decrystallization)温度を有している。 (3) ポリアミド樹脂、半透明の明るいコハク色、
ボール−リング軟化点132〜145℃、210℃での
溶融粘度40〜60ポアズ、299℃以上の発火点、
1日の水吸収%は0.7、7日では1.6、降伏点引
張り強度460psi(32.34Kg/cm2)、破断点引張り
強度450psi(31.64Kg/cm2)および伸長560%。
(降伏点引張り強度、破断点引張り強度および
伸長は24℃でASTM法D−1708により測定さ
れる)。 (4) ポリアミド樹脂。半透明の明るいコハク色。
ボールアンドリング軟化点150〜160℃、218℃
の粘度28〜38ポアズ、1日の水吸収%1.5、7
日では2.8。
The present invention relates to a method for surface treatment of photosensitive flexographic printing plates. More specifically,
The present invention relates to the surface treatment of flexographic printing plates whose photosensitive layer contains a polymer of conjugated diolefin hydrocarbons. Even more particularly, the present invention relates to the surface treatment of photosensitive elastic layers containing polymers of conjugated diolefin hydrocarbons with bromine. Light-sensitive flexographic printing plates are becoming more important in the printing industry. Particularly useful compositions for the production of such flexographic printing plates include an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, a photoinitiator, and a block copolymer such as styrene as a polymeric binder.
Mention may be made of compositions containing either butadiene-styrene and styrene-isoprene-styrene polymers or butadiene/acrylonitrile polymers optionally containing carboxyl groups.
The former compositions used industrially are particularly useful for alcohol or alcohol-acetate based inks. The latter commercially new compositions are particularly useful in hydrocarbon-based inks. The flexographic printing plates, like those made from other natural or synthetic conjugated diolefin hydrocarbon polymers, generally require treatment to reduce the tackiness of the relief printing surface after imagewise exposure and development. Both chlorine and bromine treatments are known for reducing layer tack. Bromine treatment has been found to be effective with respect to flexographic printing plates and particularly those containing optionally carboxyl-containing butadiene/acrylonitrile polymers. Generally, bromination solutions require the handling of acid, acid vapor, and/or free elemental bromine in liquid or gaseous state at some point in their manufacture. For operator safety, it is desirable to exclude handling of such aggressive and dangerous reagents. It is an object of the present invention to provide a process for processing flexographic printing plates that excludes the use of a separate acid or free bromine component. Another object is to provide such a method that can be operated over a pH range from near neutral to acidic conditions. Yet another object is that the dry solid component of the processing solution is stable, readily available and, when combined, a stable material that can be stored dry and subsequently mixed with water and then used as a brominating agent. The object of the present invention is to provide a method by which a mixture can be produced. According to the present invention, a layer of a photosensitive elastomeric composition comprising a conjugated diolefin hydrocarbon and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group is exposed to actinic radiation; An improvement is provided in the method of modifying the surface of a relief flexographic printing plate where the relief is produced by liquid developing the unexposed areas thereof, and the improvement is then developed after drying. The surface is subjected to either (1) post-exposure to a source of actinic radiation, and (2) contact with an aqueous treatment solution of alkali monopersulfate and bromide salt for a period of approximately 15 seconds to 40 minutes. It is a matter of implementation. The photosensitive elastic compositions used in the method of the present invention include polymers of conjugated diolefin hydrocarbons, non-gaseous ethylenically unsaturated compounds, organic radiation-sensitive free radical-generating photoinitiators (or systems) and as discussed below. Includes other additives. This composition can be used in layered form. Alternatively, the layer can be adhered to a flexible support or a temporary support can be used.
Other structures may have a cover sheet and a polymer layer on each side of the photosensitive layer. Useful flexible supports include plastic film and metal sheets, open or closed self-ohmic compression moldable rubber layers, or combinations of plastic film foam and rubber layers. When a combination support is used, the plastic film is generally adjacent to the photosensitive layer. Polyamide coated films such as polyesters such as polyethylene terephthalate provide suitable temporary supports. Examples of such supports include polymeric film supports such as polyethylene terephthalate, flame treated polyethylene terephthalate, electron discharge treated polyethylene terephthalate, polyimide (e.g. the films disclosed in U.S. Pat. No. 3,179,634, which is hereby incorporated by reference). etc.) and thin metal supports such as, but not limited to, aluminum, tinned steel (brushed or polished). Polymeric supports typically range from 0.001 inch
It has a thickness in the 0.007 inch (0.025-0.18 mm) range. The metal support generally has a thickness in the range of 0.010 to 0.0115 inches (0.25 to 0.29 mm) for aluminum and 0.008 to 0.010 inches (0.20 to 0.25 mm) for tinned steel. .
Examples of foam supports include open or closed cell foams such as polyvinyl chloride, polyurethane,
Examples include ethylene polydiene rubber, neoprene, and others. Examples of compression moldable rubbers include styrene/isoprene block copolymers, butadiene/acrylonitrile copolymers, natural rubber, and others. The photosensitive compositions disclosed herein are developable in their unexposed state in an aqueous, semi-aqueous basic or solvent solution due to the particular polymer binder present in the photosensitive composition. be. Photosensitive layer is 0.0005~0.250 inch (approximately 0.013~6.35mm)
or larger thickness range. One essential component of the photosensitive elastomer composition is an elastomer polymeric binder. Suitable binders include natural or synthetic polymers of conjugated diolefin hydrocarbons. Examples of binders are 1,2
- polybutadiene, 1,4-polybutadiene, butadiene/acrylonitrile, butadiene/styrene, block copolymers of the A-B-A type, such as styrene-butadiene-styrene block copolymers, styrene-isoprene-styrene block copolymers, etc. Examples include copolymers of binders. Block copolymers can be of linear, radial or sequential type. Preferred binders are styrene-isoprene-styrene or styrene-butadiene-styrene block copolymers, and butadiene/acrylonitrile copolymers optionally with carboxyl content. The linear block copolymers useful in the present invention have the general formula A-B-A, where A is independently an inelastic material having a number average molecular weight (n) of 2,000 to 100,000 and a glass transition temperature of 25°C or higher. and B is an elastomeric polymer block having an average molecular weight between about 25,000 and 1,000,000 and a glass transition temperature of about 10° C. or less. ing. Inelastic polymer block A with elastic polymer block B between them
taken together to form unit A-B-A represents a particularly suitable copolymer for use in combination with the photopolymerizable component in the compositions of this invention. This unit can constitute the entire general formula of the copolymer. It may be attached to other polymer chains, or it may be a repeat. Of course, the precision of the unit can be improved within the scope of the invention, for example by using this different inelastic terminal block A, or by creating block or graft polymer substitutions in blocks A and B. It is possible to change the properties of Preferably, the elastomer central block B is a polymer of aliphatic conjugated diolefin, while the inelastic body block A is an alkenyl aromatic hydrocarbon, preferably a vinyl substituted aromatic hydrocarbon, and even more preferably a vinyl monocyclic hydrocarbon. It is formed by polymerizing aromatic hydrocarbons. Block copolymers are described in US Pat. No. 3,265,765 and corresponding British Patent No.
No. 1000090 disclosed in each specification. Particularly preferred classes of copolymers include block copolymers having polystyrene end groups connected by a central portion of polyisoprene or polybutadiene, such as polystyrene-polyisoprene-polystyrene or polystyrene-polybutadiene-polystyrene. The polydiene block is 70-90% by weight of the block copolymer.
Other typical block copolymers useful in the present invention are polystyrene-polybutadiene-polystyrene and polystyrene-polyisoprene-polystyrene block copolymers which are hydrogenated according to the teachings of U.S. Pat. Nos. 3,431,323 and 3,333,024. It is what was done. This hydrogenated block copolymer has the additional advantage of improved heat resistance and oxidation resistance. However, it is desirable to have some residual unsaturation in the hydrogenated block copolymer. The reason for this is that only very small concentrations of monomer are then required in the photosensitive composition to reduce the solvent solubility upon exposure to actinic radiation. Still other typical block copolymers useful in this invention are those in which the end blocks are polyalkylstyrenes, such as poly(α-methylstyrene)-polyisoprene-poly(α-methylstyrene), and those having multiple polymer blocks. For example, polyisoprene-polystyrene-polybutadiene-polystyrene-polyisoprene. The number average molecular weight for block copolymers is
Gelserophane manufactured by Arro Laboratories
29 using 600W membrane and toluene as solvent
It can be measured by membrane permeation at °C.
For inelastic polymer blocks and elastomeric polymer blocks, n is preferably determined as follows. A The molecular weight of the first block (polystyrene) is
It can be determined by gel permeation chromatography (GPC) of end-stopped samples removed immediately after polymerization. The chromatograph is calibrated using commercially available polystyrene molecular weight standards. B The n of the second block (polyisoprene or polybutadiene) can be measured by the following method. (1) Measure n of a polystyrene-polyisoprene (or polybutadiene) di-block polymer sample end-capped and immediately removed after its polymerization by appropriately calibrated GPC, and (2) Subtract n of the first block measured in (A) above from this value. C The n of the third block (polystyrene) can be measured using the same general method. (1) Measure n of a sample of a polystyrene-polyisoprene (or polybutadiene)-polystyrene three-block polymer by appropriately calibrated GPC, and (2) From this value, the 2 obtained in (B) above is determined. -Reducing n of the block polymer. These block copolymers are manufactured by Shell Chemical Company and sold under the trade name "Kraton." Useful butadiene/acrylonitrile copolymers range from about 20,000 to about 75,000, preferably from about 25,000 to about 75,000.
High molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a number average molecular weight (n) in the range of about 50,000
(a). n for the polymers described herein can be determined by gel permeation chromatography using a butadiene standard. The acrylonitrile content of the polymer varies from about 10 to about 50% by weight, preferably from about 15 to about 40%. Optionally, the copolymer also has a carboxyl content of 0 to 15% by weight. If the copolymer contains carboxyl groups, the carboxyl content preferably ranges from about 1 to about 15% by weight, most preferably from about 2 to about 10%. The copolymer is present in an amount of about 55 to 90% and preferably about 60 to about 75% by weight, based on the total weight of the composition. At least about 55% by weight copolymer is required to provide sufficient flexibility and physical integrity to the photosensitive element, particularly for flexographic plates. Carboxyl groups are introduced into the high molecular weight copolymer by adding to the polymerization process a carboxyl-containing monomer such as acrylic or methacrylic acid or a monomer convertible to a carboxyl-containing monomer such as maleic anhydride or methyl methacrylate. can be included. Such polymers are available from several sources, e.g. under the trade name Hyker.
It is commercially available from BFGoodrich Chemical. Another essential component of the photosensitive compositions of the invention is a non-gaseous ethylenically unsaturated compound (b) containing at least one terminal ethylene group. The compound should be capable of forming a high molecular weight polymer by free radical initiated chain extension addition polymerization and be compatible with the high molecular weight polymer (a). Said A-B
Ethylenically unsaturated compounds compatible with -A type block copolymers are disclosed in GB 1366769, which is incorporated herein by reference. Many of these monomers are specifically disclosed below. A group of suitable ethylenically unsaturated compounds includes unsaturated esters of alcohols, in particular such esters of α-methylenecarboxylic acids and substituted α-methylenecarboxylic acids, more particularly such esters of alkylene polyols and polyalkylene polyols. esters, and most especially alkylene polyol di- and triacrylates and polyalkylene polyol di- and triacrylates prepared from alkylene polyols of 2 to 15 carbon atoms or polyalkylene ether polyols or glycols of 1 to 10 ether linkages. can be given. The following specific compounds are other examples of this group. Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, glycerol triacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol dimethacrylate, 1,2,4-butanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,4-
Benzenediol dimethacrylate, 1,2-benzenedimethanol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,3-pentanediol dimethacrylate, p-α,α-dimethyl Benzyl phenyl acrylate, tertiary butyl acrylate, N,N-diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, hexamethylene glycol diacrylate, decamethylene glycol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 2,2-di(p-hydroxy-phenyl)propane diacrylate,
2,2-di(p-hydroxyphenyl)propane dimethacrylate, polyoxyethyl-2,2-
Di(p-hydroxyphenyl)propane triacrylate (molecular weight 462), 1,4-butanediol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,
3-pentanediol dimethacrylate, 1-phenylethylene-1,2-dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethylene glycol acrylate phthalate, polyoxyethyltrimethylolpropane triacrylate,
Diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers derived from aromatic polyhydroxy compounds such as bisphenol novolaks and similar compounds such as those described in U.S. Pat. No. 3,661,576, incorporated herein by reference, molecular weight 200-500 polyethylene glycol bisacrylates and methacrylates and more. Other groups of suitable ethylenically unsaturated compounds include, for example, the compounds disclosed in U.S. Pat. No. 2,927,022, which is incorporated herein by reference; and in particular at least one and preferably most of such bonds are conjugated to double bonded carbons, including carbon-carbon double bonds and carbon-heteroatom (e.g. nitrogen, oxygen and sulfur) double bonds. I can give you what I have. Preferred are such materials when ethylenically unsaturated groups, especially vinylidene groups, are conjugated with ester or amide structures. Examples of certain such compounds include unsaturated amides, especially unsaturated amides of α-methylenecarboxylic acid and especially α-ω-diamines and oxygen-interrupted ω-diamines, such as methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylene. Bismethacrylamide, 1,6
-hexamethylenebisacrylamide, diethylenetriamine trismethacrylamide, bis(methacrylamidopropoxy)ethane, β-methacrylamidoethyl methacrylate, N-(β-hydroxyethyl)-β-(methacrylamido)ethyl acrylate, and N,N-bis (β-methacryloxyethyl)acrylamide, vinyl esters such as divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate, divinyl terephthalate, divinylbenzene-1,3-disulfonate and divinylbutane-1,4-disulfonate, diallyl fumarate, etc. can give. Other ethylenically unsaturated compounds that may be used include styrene and its derivatives, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,3,5-triisopropenylbenzene, adducts of itaconic anhydride with hydroxyethyl acrylate ( 1:1), adducts of itaconic anhydride with liquid butadiene/acrylonitrile polymers containing terminal amino groups, and U.S. Pat. No. 3,661,576 of itaconic anhydride with diacrylate and dimethacrylate esters of diepoxy polyethers. Additives mentioned in the specification,
Mention may be made of polybutadiene and butadiene/acrylonitrile copolymers containing terminal and pendant vinyl groups, and unsaturated aldehydes such as sorbaldehyde (2,4-hexadienal). Ethylenically unsaturated compounds that are water-soluble or contain carboxyl or other alkali-reactive groups are particularly suitable when aqueous base development systems are used. Additionally, the polymerizable ethylenically unsaturated polymers and similar materials described in US Pat. Nos. 3,043,805 and 2,929,710 can be used alone or in admixture with other materials. Acrylic and methacryl esters of ethylene oxide and polyhydroxy compound adducts, such as those described in US Pat. No. 3,380,831, are also useful. Optical crosslinking polymers disclosed in US Pat. Nos. 3,418,295 and 3,448,089 can also be used. All of these patent specifications are incorporated herein by reference. The weight ratio of the block copolymer used to the addition polymerizable ethylenically unsaturated compound used is
99:1 to about 1:1. The amount of unsaturated compound present in the photosensitive composition containing the butadiene/acrylonitrile copolymer should range from about 2 to about 40 percent by weight, based on the total weight of the composition. Specific amounts will vary depending on the particular polymer used to obtain optimal results. Preferably the amount of unsaturated compounds is about 5% to about 25%
within the range of The ethylenically unsaturated compound preferably has a boiling point of about 100° C. or higher at normal pressure. The most preferred ethylenically unsaturated compounds are triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, hexamethylene glycol dimethacrylate and hexamethylene glycol diacrylate. The photosensitive composition of the present invention does not substantially scatter actinic radiation when in the form of a thin layer as described above. To ensure a substantially transparent mixture, i.e. a non-radiative scattering mixture, the polymeric binder component should be compatible with the ethylenically unsaturated compound in the proportions used, and preferably be compatible with the ethylenically unsaturated compound. Should be soluble. "Compatibility" refers to the ability of two or more components to remain dispersed with each other without causing any significant scattering of actinic radiation. Compatibility is often limited by the relative proportions of the components, and incompatibility is evidenced by the formation of haze in the photosensitive composition. Some slight haze before or between exposures can be tolerated with such compositions in the production of printed reliefs. However, if fine detail is desired, haze should be completely excluded. The amount of ethylenically unsaturated compound or any other ingredient used is therefore limited to a concentration that does not produce undesirable light scattering or clouding. Another essential component of the photosensitive compositions of the invention is an organic radiation-sensitive free radical-generating system (c). Practically any organic radiation-sensitive free radical-generating system that initiates and does not unduly terminate the polymerization of unsaturated compounds can be used in the photosensitive compositions of the present invention. In this specification, the expression "organic" means:
It is used to refer to compounds containing carbon and one or more of oxygen, hydrogen, nitrogen sulfur and halogens, but no metals. Because process transparencies transfer heat generated from conventional sources of actinic radiation, and since photosensitive compositions are typically produced under conditions that produce high temperatures, free radical-generating compounds must be present at temperatures below 85°C and above. Preferably, it is thermally inactive at temperatures below 185°C. They should be dispersible in the composition to the extent necessary to initiate the desired polymerization or cross-linking under the influence of the amount of radiation absorbed in relatively short exposures. These initiators are useful in amounts of from about 0.001 to about 10% by weight, and preferably from about 0.1 to about 5% by weight, based on the total weight of the solvent-free photosensitive composition. Free radical generating systems absorb radiation in the range of about 2000 to about 800 Å, which is about 2500 to about 8000 Å.
Å, and preferably has an actinic radiation absorption band with a molecular extinction coefficient of at least about 50 in the range of about 2500 to about 5000 Å. The expression "actinic radiation absorption band" refers to a radiation band active to generate the free radicals necessary to initiate polymerization or cross-linking of unsaturated materials. A free radical generating system may include one or more compounds that directly generate free radicals when activated by radiation. It may also include multiple compounds, one of which generates free radicals after being made to do so by a radiation-activated sensitizer. A large number of such free radical-generating compounds can be used in the practice of this invention, and include aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone, [4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone], 4,4 ′-bis(diethylamino)
Benzophenone, 4-acryloxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-acryloxy-4'-diethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2-
Phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane), 2-ethylanthraquinone, phenanthraquinone, 2-tertiary butylanthraquinone, 1,
2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone, benzyl dimethyl acetal and other aromatic ketones, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin butyl ether and benzoin phenyl ether, Methylbenzoin, ethylbenzoin and other benzoins, and 2,4.5-triarylimidazolyl dimers such as 2-(o-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(o-chlorophenyl-4, 5-di(m-methoxyphenyl)imidazolyl dimer, 2-(o-fluorophenyl)-
4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-
(o-methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methoxyphenyl)
-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,
4-di(p-methoxyphenyl)-5-phenylimidazolyl dimer, 2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2-(p-methylmercapto phenyl)−
4,5-Diphenylimidazolyl dimer and other US Patent Nos. 3479185 and 3784557, and British Patent Nos. 997396 and 1047569
Disclosed in each specification of the issue. These patent specifications are incorporated herein by reference. The imidazolyl dimer can be used with free radical-generating electron donors such as 2-mercaptobenzoxazole, leuco crystal violet or tris(4-diethylamino-2-methylphenyl)methane. Sensitizers such as Michler's ketones can be added. Various energy transfer dyes such as Rose Bengal and Eosin Y can also be used. Other examples of suitable initiators are disclosed in US Pat. No. 2,760,863, which is incorporated herein by reference. The photosensitive composition may also contain a small amount of a thermal addition polymerization inhibitor, for example from 0.001 to 2.0%, based on the weight of the total solvent-free photosensitive composition. Suitable such polymerization inhibitors include hydroquinone and alkyl and aryl substituted hydroquinones, 2,6-
Di-tert-butyl-4-methylphenol, p-methoxyphenol, tertiary-butylpyrocatechol, pyrogallol, β-naphthol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, phenothiazine, pyridine, nitrobenzene, di Nitrobenzene and the nitrosodimer inhibitor system described in US Pat. No. 4,168,982, incorporated herein by reference. Other useful inhibitors include p-toluquinone, chloranil and thiazine dyes such as thionine blue G (CI52025), methylene blue B (CI52015) and toluidine blue (CI52040). Such compositions can be photopolymerized or photocrosslinked without removing the inhibitor. Preferred inhibitors are 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and p-methoxyphenol. The oxygen and ozone resistance of printed reliefs can be improved by including in the photosensitive composition appropriate amounts of compatible, well-known antioxidants and/or antiozonants. Antioxidants useful in this invention include alkylated phenols such as 2,6-ditertiary-butyl-4-methylphenol, alkylated bisphenols such as 2,2-methylenebis-(4-methyl-6-tertiary-butylphenol),
butylphenol), 1,3.5-trimethyl-
2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-
4-hydroxybenzyl)benzene, 2-(4-
Hydroxy-3,5-ditertiary-butylanilino)
-4,6-bis-(n-octylthio)-1,3,
Mention may be made of 5-triazine, polymerized trimethyldihydroquinone and dilaurylthiopropionate. Azonation inhibitors useful in the present invention include microcrystalline wax and paraffin wax, dibutylthiourea, 1,1,3,3-tetramethyl-2-thiourea, antiozonant AFD (product of Nafton), norbornene. For example, di-5-norbornene-2-methyl adipate, di-5-norbornene-2-methyl terephthalate, Ozone Protector 80 (product of Reichhold Chemicals), N-
Phenyl-2-naphthylamine, unsaturated vegetable oils such as rapeseed oil, linseed oil, safflower oil, polymers and resins such as ethylene/vinyl acetate copolymer resins, chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated ethylene/methacrylic acid copolymers Polyurethanes, polyurethanes, polypentadiene, polybutadiene, furfural-derived resins, ethylene/propylene/diene rubbers, diethylene glycol esters of rosin, and alpha-methylstyrene/vinyltoluene copolymers. The ozone resistance of the printed relief produced can also be improved by annealing it at high temperatures before use. Optionally, the photosensitive composition also includes an immiscible polymeric or non-polymeric organic or Inorganic fillers or reinforcing agents such as polystyrene, organophilic silica, bentonite, silica, powdered glass, colloidal carbon and various types of dyes and pigments can be included. Such materials are used in varying amounts depending on the desired properties of the elastomeric composition. Fillers improve the strength of the elastomer layer, reduce tack, and are also useful as colorants. The photosensitive layer preferably contains a compatible plasticizer to lower the glass transition temperature of the binder and to facilitate selective development. The plasticizer can be any common plasticizer that is compatible with the polymeric binder. Some common plasticizers include dialkyl phthalates, alkyl phosphates, polyethylene glycols, polyethylene glycol esters and polyethylene glycol ethers. Other useful plasticizers include oleic acid, lauric acid, and others. Polyesters such as polyethylene sebacate and others are preferred plasticizers. Plasticizers are generally present in an amount of 1 to 15% by weight, based on the total solids weight of the photosensitive composition. The photosensitive compositions of the present invention can be prepared by combining the components (a) the polymeric binder, (b) the compatible ethylenically unsaturated compound, and (c) the free radical generating system in any suitable manner. Can be manufactured. For example, the flowable composition may contain, in any order, these components and other desired additives and optionally solvents such as chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, methyl chloroform, chlorobenzene, trichloroethylene, tetrachloroethylene and chlorotoluene, ketones such as methyl ethyl ketone. , diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and tetrahydrofuran. The solvent may contain as diluent acetone, low molecular weight alcohols such as methyl, ethyl and propyl alcohol and esters such as methyl, ethyl and butyl acetate. The solvent can later be removed by heating the mixture or extruded layer. Conventional milling, mixing and solution techniques can be used in the manufacture of these compositions. Specific techniques will vary due to differences in the properties of each component. The homogeneous, substantially non-radiation scattering composition is formed into a sheet in any desired manner. For example, solvent casting, hot compression molding, calendering or extrusion are suitable methods for producing layers of the desired thickness. The photosensitive elements of the present invention are prepared by forming a photosensitive composition into a layer or self-supporting sheet on a suitable forming wheel, belt or platen by solvent casting or extrusion, calendering or pressing at elevated temperatures. It can be manufactured by folding.
Layers or sheets can be laminated to the surface of the flexible support. Alternatively, it can be adhered by an adhesive blend as described below. If a solution is used, a coating can be produced on the adhesive-containing support. The thickness of this photosensitive layer is a direct function of the thickness desired in the relief image and this depends on the subject matter to be reproduced and the final use of the relief. For example, thick soft relief is useful in flexographic printing and thin hard relief is useful in lithographic printing. Generally, the thickness of the polymerizable layer is about 0.250 inch or less. For example, it varies from about 0.0005 to about 0.250 inches (0.00127 to 0.635 cm) and layers within this thickness range are used for most printing plates. Between the photosensitive layer butadiene/acrylonitrile printing plate and the flexible support is preferably a layer of an adhesive blend comprising at least two polymers selected from the following four polymer groups: Includes merging. (1) a polyester resin of a condensation polymer of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid in a molar ratio of about 6:2:1:3;
It has an n of 19,000 and a w of 37,000. (2) Have a Bruckfield viscosity of 100 to 1200 centipoise and an adhesive activation temperature in the range of 54 to 63 °C when using a #3 Bruckfield spindle at 15% solids by weight and 12 rpm in methyl ethyl ketone. Crystalline thermoplastic polyether polyurethane resin. This polyether polyurethane has a yield point elongation of 15%,
615% elongation at break, 600psi (42.18Kg/cm 2 )
It has a 400% elongation modulus and a decrystallization temperature of about 49°C. (3) Polyamide resin, translucent light amber color;
Ball-ring softening point 132-145℃, melt viscosity 40-60 poise at 210℃, ignition point above 299℃,
% water absorption at 1 day is 0.7, at 7 days is 1.6, tensile strength at yield 460 psi (32.34 Kg/cm 2 ), tensile strength at break 450 psi (31.64 Kg/cm 2 ) and elongation 560%.
(Tensile strength at yield, tensile strength at break and elongation are measured by ASTM method D-1708 at 24°C). (4) Polyamide resin. Translucent bright amber color.
Ball and ring softening point 150~160℃, 218℃
Viscosity of 28-38 poise, daily water absorption% 1.5, 7
2.8 in days.

【表】 (降伏点引張り強度、破断点引張り強度および伸
長はASTM法D−1708によつて記載の温度で測
定)。 樹脂の数平均分子量(n)はゲル透過クロマ
トグラフイー(GPC)によつて既知の標準例え
ばブタジエンを使用して当業者には既知のように
して測定することができる。樹脂の重量平均分子
量(w)は当業者には既知のようにして既知の
標準試料例えばポリスチレン、ポリメタクリル
酸、ポリメチルメタクリレートその他を使用して
光散乱技術を使用して測定することができる。 接着剤組成物中の樹脂の全重量基準で(1)0〜78
重量%、(2)0〜78重量%、(3)0〜94重量%そして
(4)0〜97重量%の範囲で特定の重合体を接着剤ブ
レンド中に存在させることができる。4種、3種
および2種の樹脂成分を含有する好ましい接着剤
ブレンドが以下に記載されているが、ここに%は
全樹脂成分の重量基準である。 4成分接着剤ブレンドに対する%範囲は以下の
とおりである。 (1) 25〜31%、好ましくは25%、 (2) 25〜31%、好ましくは25%、 (3) 25〜19%、好ましくは25%、そして (4) 25〜19%、好ましくは25%。 2種の3成分接着剤ブレンドAおよびBに対す
る%範囲は以下のとおりである。 A(1) 1〜78%、好ましくは1〜65%、 (2) 1〜78%、好ましくは1〜65%、そして (3) 1〜94%、好ましくは1〜90%。 B(1) 1〜63%、好ましくは1〜45%、 (3) 1〜93%、好ましくは1〜85%、そして (4) 1〜97%、好ましくは1〜90%。 5種の2成分接着剤ブレンドC〜Gに対する%
範囲は以下のとおりである。Cの接着剤ブレンド
は特に好ましい。 C(1) 7〜77%、好ましくは15〜50%、最も好ま
しくは30%および (3) 93〜23%、好ましくは85〜50%、最も好ま
しくは70%。 D(1) 3〜60%、より好ましくは5〜30%、およ
び (4) 97〜40%、より好ましくは95〜70%。 E(1) 23〜77%より好ましくは35〜45%および (2) 77〜23%、より好ましくは65〜55%。 F(2) 10〜16%、好ましくは25〜30%および (4) 90〜40%、好ましくは75〜70%。 G(2) 7〜72%、好ましくは15〜50%、および (3) 93〜28%、好ましくは85〜50%。 本発明の接着剤ブレンドは少くとも3ポンド/
インチ(53.7Kg/cm)そして一般にははるかによ
り大なる接着力例えば8ポンド/インチ(142.86
Kg/m)またはそれ以上の範囲の光感受性層支持
体の接着値を与える。これら接着値は、本発明の
エレメントが印刷プレート特にフレキソグラフイ
ー印刷プレートとして使用される場合には充分で
ある。 接着剤ブレンドは好ましくは添加剤例えばブロ
ツク形成防止剤、着色剤例えば染料その他を含有
している。有用なブロツク形成防止剤としては好
ましくはポリオレフイン粒子またはビーズである
がしかしまたその他の硬質粒子またはビーズ例え
ば二酸化珪素その他があげられる表面活性剤たる
ジオクチルナトリウムスルホサクシネートを使用
することができる。好ましきポリオレフイン物質
は実施例中に記載されている。ブロツク形成防止
剤のビーズサイズは接着剤層の厚さよりも大であ
りうる。その結果、接着剤ブレンドの層の外にビ
ーズが一部突出している。そのような構造は接着
の程度にはほとんどかまたは全く影響しないよう
である多くのタイプの着色剤または染料もまた接
着剤層中で有用である。好ましい染料はデユポン
シリングブルーBL(C.I.アシツドブルー59)であ
る。他の有用な染料としてはメチレンバイオレツ
ト(C.I.ベーシツクバイオレツト5)、「ラクソ
ル」フアストブルーMBSN(C.I.ソルベントブル
ー38)、「ポンタシル」ウールブルーBL(C.I.アシ
ツドブルー59またはC.I.50315)、「ポンタシル」
ウールブルーGL(C.I.アシツドブルー102またはC.
I.50320)、ビクトリアピユアブルーBO(C.I.ベー
シツクブルー7またはC.I.42595)、C.I.109レツド
ダイ、ローダミン3GO(C.I.ベーシツクレツド
4)、ローダミン6GDN(C.I.ベーシツクレツド1
またはC.I.45160)、フクシン染料(C.I.42510)、
カルコレツドグリーンS(C.I.44090)、およびア
ントラキノンブルー2GA(C.I.アシツドブルー58)
があげられる。 接着剤溶液は一般に次の順序で連続的に撹拌し
つつ溶媒に各成分すなわち重合体、ポリオレフイ
ンブロツク形成防止剤、着色剤を加えることによ
つて製造される。有用な溶媒としては、混合物例
えばメチレンクロリド/酢酸エチル、メチレンク
ロリド/n−ブチルアセテート、メチレンクロリ
ド/シクロヘキサノン、メチレンクロリド/メタ
ノール/セロソルブ その他がありそして好まし
くはメチレンクロリド/セロソルブ(90/10)混
合物があげられる。追加の溶媒を加えてすべての
重量損失を補償させることができる。溶媒の選択
は、コーテイングにブリスター(ふくれ)を形成
させることなくそして少量の溶媒を残留させるこ
となしに最も早い実用的乾燥速度を与えるという
必要性により支配される。溶媒はまた存在しうる
染料に対して可溶化作用を有しているべきであ
る。 次いで接着剤溶液を既知の手段によつて例えば
ドクターブレードの使用によつてかまたは市場的
に入手可能な連続ウエブコータードライヤー中で
コーテイングして可撓性支持体に適用して、約80
〜500mg/dm2好ましくは約260〜300mg/dm2
範囲の乾燥コーテイング重量を生成せしめる。最
も好ましい接着剤層のコーテイング重量は約260
mg/dm2である。一般に接着剤層は0.0008〜0.001
インチ(0.020〜0.025mm)の乾燥厚さを有してい
る。連続コーテイングにおいては、ウエブ速度は
例えば15〜150フイート/分(4.57〜45.72m/分)
に変動させることができる。乾燥温度は60〜130
℃、好ましくは80〜90℃の範囲である。 好ましい可撓性支持体は0.001〜0.007インチ
(0.025〜0.18mm)厚さの、好ましくは0.005インチ
(0.13mm)厚さの火炎処理ポリエチレンテレフタ
レートである。重合体フイルムの火炎処理は既知
である。ここに参照として包含されている米国特
許第3145242号、同第3360029号および同第
3391912号各明細書は重合体フイルムの火炎処理
のための有用な方法および装置を記載している。
燃焼性ガス混合物の燃料相当比φは1.4であり、
これは5(プロパン流速)/〔(酸素流速)+(0.21
空気流速)〕に等しい。すべての流速は標準立方
フイートまたはl/分である。ウエブ速度は175
直線フイート/分(53.34m/分)である。 乾燥された接着剤塗布支持体は直ちに光感受性
層に接着させてもよいしまたは以後の接着のため
に保存しておくことができる。接着剤コーテイン
グした支持体をプレス中で、例えば140〜160℃で
20000〜30000psi(1406〜2109Kg/cm2)の圧で約3
分までの間光感受性層に積層させ、次いでプレス
中で60℃以下まで冷却させることができる。好ま
しくはこの光感受性エレメントはカレンダー処理
により製造される。好ましくはダイを通して押出
すことにより成形されたこの光感受性層は接着剤
層に隣接する側から離れている側に0.005インチ
(0.13mm)厚さのポリエチレンテレフタレートフ
イルムを存在せしめており、そしてこのフイルム
はその後は保護カバーシートとして働く。その他
のフイルム例えばポリスチレン、ポリエチレン、
ポリプロピレンまたはその他の剥離可能な物質を
使用することができる。光感受性層とフイルムカ
バーシートとの間に薄い硬質で可撓性の溶媒可溶
性層例えば可撓性重合体フイルムまたは層例えば
ポリアミドまたはエチレン/ビニルアセテート共
重合体を存在させるのが好ましい。この可撓性重
合体フイルムは前記フイルムカバーシートの除去
後に光感受性層上に残る。可撓性重合体フイルム
はその上に重ねた像含有陰画または透明画を再使
用のために保護しまたは光感受性表面との接触ま
たは整合を改善する。以下に記載の光源を使用し
て像様露光する前に、エレメントを支持体を通し
て露光させて接着支持体に隣接する光感受性層の
予め定められた厚さを重合せしめる。光感受性層
のこの重合された部分はフロア(floor)と称さ
れる。このフロア厚さは露光時間、露光源その他
により変動する。露光は一般に1〜30分である。 本発明によれば印刷レリーフは前記エレメント
の光感受性層の選ばれた部分を例えばプロセス透
明画すなわち実質的に活性線放射に透明でそして
実質的に均一な光学濃度の部分を活性線放射に不
透明でそして実質的に均一な光学濃度の部分を有
する像含有透明画またはステンシルを通して実質
的付加重合または光交叉結合が行われるまで活性
線放射に露光させることによつて、製造すること
ができる。付加重合または交叉結合形成の間、重
合体結合剤/エチレン性不飽和化合物組成物は層
の放射露光部分では不溶状態に変換され、そして
層の未露光部分では有意の重合または交叉結合は
起こらない。層の未露光部分は重合体結合剤に対
する液体現像剤によつて除去される。プロセス透
明画はセルロースアセテートフイルムおよび配向
ポリエステルフイルムを含めて任意の適当な物質
から構成されうる。 任意の源からのそして任意のタイプの活性線放
射を光重合過程中に使用することができる。放射
は点光源から発生させたものでありうるしまたは
平行光線または発散ビームの形でありうる。像含
有透明画に比較的近いところで広域放射系を使用
することによつて透明画の透明部分を通る放射は
発散ビームとして入りそして従つて透明画の透明
部分の下にある光感受性層中の連続的に発散する
部分を照射する。これは光感受性層の底部に最大
幅を有する(すなわち台形の)重合体レリーフを
与える結果となる。その際レリーフの上側表面は
透明部分の寸法である。 活性線放射により活性化可能な遊離ラジカル生
成系は一般に紫外線範囲にその最大活性を示すの
であるから、この放射源は約2500Å〜5000Åの間
の波長範囲を有する有効量のこの放射を与えるべ
きである。適当なそのような放射源としては、太
陽光線の他にカーボンアーク、水銀蒸気アーク、
紫外線放射発生性螢光体を有する螢光ランプ、ア
ルゴングローランプ、電子フラツシユユニツト、
および写真用フラツドランプがあげられる。適当
なマスクを通しての電子加速機および電子ビーム
源もまた使用できる。これらの中で水銀蒸気ラン
プ特に太陽燈または「ブラツクライト」タイプお
よび螢光太陽燈が最も適当である。 放射露光時間は放射の強度およびスペクトルエ
ネルギー分布、その組成物からの距離および利用
可能な組成物の性質および量によつて数分の1秒
ないし数分に変動しうる。通常、光感受性組成物
から約1.5〜約60インチ(3.8〜152cm)の距離で
水銀蒸気アーク、太陽燈または高紫外線発生性螢
光管が使用される。露光温度は特に臨界的ではな
い。しかしながら大約常温またはそれよりわずか
により高い温度(すなわち約20゜〜約35℃)で操
作することが好ましい。 露光後、像を適当な現像液で洗うことによつて
現像させることができる。現像剤液体は重合体結
合剤/エチレン性不飽和化合物組成物に対して良
好な溶媒作用または膨潤作用を有し且つ非重合ま
たは非交叉結合部分の除去に要求される期間では
不溶化画像または支持体または接着剤層にはほと
んど作用を有しないものでなければならない。適
当な現像液としては有機溶媒例えば2−ブタノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリクロロ
エタン、トリクロロエチレン、メチレンクロロホ
ルム、テトラクロロエチレンおよび溶媒混合物例
えばテトラクロロエチレン/n−ブタノールその
他があげられる。高分子量ブタジエン重合体成分
がカルボキシル基を含有している場合には、適当
な現像剤としては水溶性有機溶媒を添加したもの
でありうる水性塩基があげられる。適当な具体的
現像剤混合物としては水酸化ナトリウム/イソプ
ロピルアルコール/水、炭酸ナトリウム/水、炭
酸ナトリウム/2−ブトキシエタノール/水、硼
酸ナトリウム/2−ブトキシエタノール/水、珪
酸ナトリウム/2−ブトキシエタノール/グリセ
ロール/水、炭酸ナトリウム/2−(2−ブトキ
シエトキシ)エタノール/水、および水中の16.6
容量%2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール
中の水酸化ナトリウム(0.5重量%)があげられ
るがこの前後のものが好ましい。選ばれる特定の
現像剤組合せは光感受性組成物のカルボキシル含
量および使用される結合剤の性質および量に依存
する。使用しうるその他の水性現像剤組合せはこ
こに参照として包含されている米国特許第
3796602号明細書中に記載されている。これら水
性塩基/水溶性有機溶媒組合せはある場合にはそ
れらの低コスト、不燃性および低毒性の故に好ま
しいものでありうる。 現像は約25℃で実施しうるが、しかし時には最
良の結果は溶媒が温時例えば30゜〜60℃の場合に
得られる。現像時間は1〜120分、好ましくは1
〜25分の範囲でありうる。 レリーフが形成された現像段階においては、現
像液は任意の便利な方法例えば注加、浸漬、スプ
レーまたはローラー適用によつて適用することが
できる。ブラツシングは組成物の非重合または非
交叉結合部分の除去を助ける。印刷プレートが水
性現像を受ける場合には、次いで例えば約5〜
300秒間この現像プレートに水洗を適用してプレ
ート表面から現像液の痕跡量を除去させる。「水
性現像液」の表現は水洗をも包含する。 溶媒現像後、この印刷プレートを室温ないし約
125℃の範囲の温度、好ましくは60℃で1時間乾
燥させる。水性現像後、印刷プレートを乾燥させ
ることができるが、しかし濡れているうちにこの
洗浄水性現像プレートを水性臭素含有溶液に接触
させうることが見出されている。熱風乾燥は強制
熱風ドライヤーまたはその他の適当なドライヤー
の使用によつて達成することができる。 次いでこのプレートを以下に記載のようにして
調製された水性処理溶液に接触させる。プレート
をこの水性処理溶液でフラツドさせることができ
るしまたはこの処理溶液中に浸漬させることがで
きる。後者が好ましい。15秒〜40分、より好まし
くは1分〜10分の間この処理溶液を印刷プレート
に接触させて保持することが好ましい。処理溶液
は好ましくは常温で使用されるが、しかしこれは
約35℃まで加熱しうる。この処理溶液は、アルカ
リモノパーサルフエート例えばカリウムモノパー
サルフエート三重塩(2KHSO5・KHSO4
K2SO4)およびブロミド塩例えば臭化カリウムを
水性溶液中に溶解させることによつて製造され
る。両成分は固体でありかつ水分の不存在下には
相互に非反応性なのであるから、それらを乾式混
合しそして水分プルーフ容器中で使用前に長期間
保存することができる。混合物中の乾燥成分の比
はアルカリモノパーサルフエート98〜10およびブ
ロミド塩2〜90である。カリウム塩は特に好まし
い。その理由はそれらの水分感受性が有意により
低いからである。しかしながらその他のアルカリ
塩例えばナトリウム、リチウムその他は溶解まで
相互に別々に保存される場には有用である。処理
溶液に酸を加える必要はなくこのことは利点であ
る。この処理溶液は既知の臭素または塩素処理溶
液よりも高い中性域およびそれ以上(例えば7〜
8.5またはそれ以上)のPH値を含むPH範囲で操作
可能である。全体的PH範囲は0.7〜8.5またはそれ
以上である。 この印刷プレートは、現像後前記臭素処理の前
またはその後で、活性線放射源に後露光させるこ
とができる。この後露光は好ましくは像様露光に
使用された活性線放射源に対して一般に5〜15分
間である。両方の処理の後、この印刷プレートは
使用できる状態である。 最良の様式は例7に説明されているが、ここに
処理溶液は中性(大約のPH6.8)および低いPH
(大約2.0)である。より高いPHにおいては、処理
時間は好ましくは2〜10分である。より低いPHに
おいては好ましい処理時間範囲は1〜2分であ
る。 本発明の光感受性フレキソグラフイーエレメン
トから製造された印刷レリーフはすべての印刷に
使用することができるが、しかしそれらは印刷お
よび非印刷部分の間の高さの明白な差が要求され
る印刷に適用可能であり、そして特に例えば変形
可能な印刷表面上での印刷のために弾性印刷部分
が要求されるフレキソグラフイー印刷に対して最
も適用可能である。これらの種類の印刷としては
例えばドライオフセツト印刷、印刷部分および非
印刷部分の間により大なる高さの差を要求する通
常の凸版印刷におけるように、インクがレリーフ
の扛起部分により運ばれるもの、および例えば凹
版印刷例えばラインおよび反転ハーフトーンにお
けるようにインクがレリーフの凹部により運ばれ
るものがあげられる。このプレートは多色印刷に
対して特に有用である。 得られるレリーフおよび印刷画像はエレメント
を円筒形支持体上に像様露光させた場合において
さえも小デイテールおよび全体的ジメンシヨンの
両方において原画透明画に対して忠実性を示す。
このレリーフは高い衝撃強度を有し、強靭且つ摩
耗抵抗性であり、そして広範囲のインク相容性を
有しそして、アクリロニトリル/ブタジエン結合
剤をベースとしたプレートのレリーフは、本発明
の教示により処理された場合、特にアルコールベ
ースインクのアルコール溶媒に対して改善された
溶媒耐性を有している。 次の実施例は本発明を説明するためのものであ
るがここに部および%は重量基準である。 インク/溶媒相容性試験 本明細書記載の光感受性弾性体状組成物の層を
有するフレキソグラフイー印刷プレートに関して
の印刷インクおよび溶媒の相容性および有用性を
決定するために次の操作が使用される。厚さ、シ
ヨア A硬度(ANSI/ASTM D2240−75)お
よび重量を測定した後、露光され現像された印刷
プレートを24時間特定の溶媒またはインクに含浸
させる。溶媒またはインクから除去し、そしてた
たいて乾かした後、その厚さ、シヨアA硬度およ
び重量を再測定する。インチ(mm)で表わした厚
さ変化(△T)、シヨア A硬度変化(△H)お
よび重量変化(△%W)が次の基準を満足させる
場合には、その印刷プレートはその溶媒および/
またはインクに関して相容性であるかまたは優れ
ているもの(E)と考えられる。 △T:0.003インチ(0.076mm) △H:−5シヨア A単位 △%W:3.5% 次の基準が達成された場合またはこれを越えた
場合、その印刷プレートは、その溶媒および/ま
たはインクに関して非相容性であるかまたは満足
できないもの(U)であると考えられる。 △T:0.012インチ(0.305mm) △H:−20シヨア A単位 △%W:7.0% 前記の二つの基準の中間の範囲にある場合に
は、その処理印刷プレートはその溶媒および/ま
たはインクに関して変動的または中間的有用性
(I)のものである。全体的評価は以下の実施例
中に別記されている。 タツク(粘着性)試験 本発明の露光され現像された印刷プレートの粘
着性は次のようにして試験することができる。 (1) 表面をイソプロパノールできれいにぬぐう。 (2) スコツト ブランド510トイレツトテイツシ
ユのようなテイツシユを500gの錘を使用して
30秒間プレート表面(1インチ×2インチ、
2.54cm×5.08cm)に押し付ける。 (3) テイツシユを除去しそしてその結果を記録す
る。 (A) タツクなし−粘着なし (B) わずかなタツク−粘着するがしかし表面か
ら剥離される (C) 粘着性−剥離するがしかしプレート上にい
くつかの繊維を残す (D) 非常に粘着性−粘着しそして剥離するとテ
イツシユは裂ける 当業者は指触すなわち指先で触ることによつて
非粘着性すなわち等級(A)の印刷プレート表面で同
定することができる。両方の方法が使用されてい
る。以下のすべての処理試料はタツクなしであ
る。 例 1 次の成分から接着剤溶液を製造する。 成 分 量(部) ポリアミド樹脂(3)ロツドNo.OF5237 63.1 ポリエステル樹脂(1) 27.0 ポリオレフイン 9.8 デユポンミリングブルーBLダイ(C.I.アシツ
ドブルー59) 0.1 上記のポリアミド樹脂(3)はヘンケル・アドヒシ
ブ・コンパニーの製品「マクロメルト
(Macromelt) 」6238であり、これは半透明で
明るいコハク色であり、そして132〜145℃のボー
ル・アンド・リング軟化点、210℃で40〜60ポア
ズの溶融粘度、299℃以上の発火点、1日で0.7
%、7日で1.6%の水吸収、460psiの引張り降伏
強度(32.34Kg/cm2)、450psi(31.64Kg/cm2)の引
張り破断強度および560%の伸長(引張り降伏強
度、引張り破断強度および伸長は24℃でASTM
法D−1708により測定される)を有している。 上記のポリエステル樹脂はエチレングリコー
ル、テレフタル酸、イソフタル酸およびアゼライ
ン酸(モル比6:2:1:3)の反応生成物であ
つてn19000およびw37000を有する。 上記のポリオレフインはドウラ・コモデイテイ
ーズ社の製品たる「ベストフアイン(Vestofine)
SF−616であつて、雪白色、約1600の分子量、
20℃で約0.96の密度、25℃で0.5〜1.0の針入硬度、
約118〜128℃の融点、そしてその約85%が10μま
たはそれ以下でそして15%が10〜20μの粒子サイ
ズを有している。 メチレンクロリド/セロソルブ 溶媒(90/
10)の混合物に前記成分を順序に加えて約16%固
体分の溶液を生成させる。ポリオレフインビーズ
は溶解しない。この混合物を成分添加の間および
その後に連続的に撹拌して溶液を生成させる。混
合の間のすべての重量損失をメチレンクロリドの
添加によつて補なう。 この接着剤溶液を連続ウエブコーター−ドライ
ヤーを使用して厚さ0.005インチ(〜0.13mm)の
ポリエチレンテレフタレートフイルム支持体の火
炎処理表面に適用して約260mg/dm2の乾燥コー
テイング重量を生成させる。ウエブ速度は45フイ
ート/分(〜13.72m/分)でありそして乾燥温
度は86℃(205〓)である。 接着剤コーテイングしたポリエチレンテレフタ
レート支持体を完成印刷プレートの厚さである
0.080インチ(2.03mm)の厚さにダム形成したス
チールプラテン中に接着剤側を上にして置く。接
着剤コーテイングした支持体およびプラテンをプ
レス上に置き、そして0.005インチ(0.13mm)厚
さのポリエチレンテレフタレート支持体上の光感
受性組成物の押出しシート〔0.090インチ(約
2.29mm)厚さ〕をその上に支持体側を上にして置
き、そしてこれをスチールプレートで覆う。 ポリアミド層を担持するこのカバーシートはポ
リエチレンテレフタレートフイルムを押出しダイ
コーターを用いて下記の溶液で被覆することによ
り製造される。 成 分 量(%) メチレンクロリド 81.0 メタノール 2.0 N−メチルピロリドン 10.0 ポリアミド樹脂 7.0 上記のポリアミド樹脂はヘンケル・アドヒシ
ブ・カンパニーの製品「マクロメルト
(Macromelt )」6900であり、これは実質上無
色であり、266〜302〓の環球軟化点、347〓にお
いて5〜15g/10分の溶融指数、570〓の発火点、
1日では0.2%そして7日では0.5%の水吸収、
1200psiの引張り降伏点および3500psiの引張り破
壊点(これらはASTM D−1708の操作により24
℃において測定)を有するものである。 光重合性組成物の押出しシートは次の成分をブ
レンドしそしてそのブレンドを170℃でダイを通
して押出すことにより製造される。
TABLE (Tensile strength at yield, tensile strength at break and elongation determined by ASTM method D-1708 at the stated temperatures). The number average molecular weight (n) of the resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) using known standards such as butadiene, as is known to those skilled in the art. The weight average molecular weight (w) of a resin can be determined using light scattering techniques using known standards such as polystyrene, polymethacrylic acid, polymethyl methacrylate, etc., as is known to those skilled in the art. Based on the total weight of resin in the adhesive composition (1) 0 to 78
% by weight, (2) 0-78% by weight, (3) 0-94% by weight, and
(4) Certain polymers can be present in the adhesive blend in the range of 0 to 97% by weight. Preferred adhesive blends containing four, three and two resin components are described below, where percentages are based on the weight of total resin components. The percentage ranges for the four-component adhesive blend are as follows: (1) 25-31%, preferably 25%, (2) 25-31%, preferably 25%, (3) 25-19%, preferably 25%, and (4) 25-19%, preferably twenty five%. The percentage ranges for the two three-component adhesive blends A and B are as follows: A(1) 1-78%, preferably 1-65%, (2) 1-78%, preferably 1-65%, and (3) 1-94%, preferably 1-90%. B(1) 1-63%, preferably 1-45%, (3) 1-93%, preferably 1-85%, and (4) 1-97%, preferably 1-90%. % of 5 two-component adhesive blends C-G
The range is as follows. Adhesive blends of C are particularly preferred. C(1) 7-77%, preferably 15-50%, most preferably 30% and (3) 93-23%, preferably 85-50%, most preferably 70%. D(1) 3-60%, more preferably 5-30%, and (4) 97-40%, more preferably 95-70%. E(1) 23-77%, more preferably 35-45% and (2) 77-23%, more preferably 65-55%. F(2) 10-16%, preferably 25-30% and (4) 90-40%, preferably 75-70%. G(2) 7-72%, preferably 15-50%, and (3) 93-28%, preferably 85-50%. The adhesive blend of the present invention has at least 3 lbs.
(53.7 Kg/cm) and typically much greater adhesion force e.g. 8 lb/in (142.86 Kg/cm)
give adhesion values of the photosensitive layer support in the range Kg/m) or higher. These adhesion values are sufficient if the elements of the invention are used as printing plates, especially flexographic printing plates. The adhesive blend preferably contains additives such as antiblocking agents, colorants such as dyes, and the like. Useful anti-blocking agents are preferably polyolefin particles or beads, but also other hard particles or beads such as silicon dioxide, etc. The surfactant dioctyl sodium sulfosuccinate can be used. Preferred polyolefin materials are described in the Examples. The bead size of the antiblocking agent can be larger than the thickness of the adhesive layer. As a result, some of the beads protrude outside the layer of adhesive blend. Many types of colorants or dyes are also useful in the adhesive layer such that such structures are likely to have little or no effect on the degree of adhesion. A preferred dye is Dupont Schilling Blue BL (CI Acid Blue 59). Other useful dyes include methylene violet (CI Basic Violet 5), ``Laxol'' Fast Blue MBSN (CI Solvent Blue 38), ``Pontasil'' Wool Blue BL (CI Acid Blue 59 or CI 50315), ``Pontasil''
Wool Blue GL (CI Acid Blue 102 or C.
I.50320), Victoria Pure Blue BO (CI Basic Blue 7 or CI42595), CI109 Red Die, Rhodamine 3GO (CI Basic Cred 4), Rhodamine 6GDN (CI Basic Cred 1)
or CI45160), fuchsin dye (CI42510),
Calcolet Green S (CI44090), and Anthraquinone Blue 2GA (CI Acid Blue 58)
can be given. The adhesive solution is generally prepared by adding the components, polymer, polyolefin blocking agent, and colorant, to a solvent with continuous stirring in the following order. Useful solvents include mixtures such as methylene chloride/ethyl acetate, methylene chloride/n-butyl acetate, methylene chloride/cyclohexanone, methylene chloride/methanol/cellosolve, etc. and preferably methylene chloride/cellosolve (90/10) mixtures. can give. Additional solvent can be added to compensate for any weight loss. Solvent selection is governed by the need to provide the fastest practical drying rate without forming blisters in the coating and without leaving small amounts of solvent behind. The solvent should also have a solubilizing effect on the dyes that may be present. The adhesive solution is then applied to the flexible support by known means, such as by use of a doctor blade or by coating in a commercially available continuous web coater dryer, to give a coating of about 80%
A dry coating weight in the range of ~500 mg/ dm2 , preferably about 260-300 mg/ dm2 is produced. The most preferred adhesive layer coating weight is approximately 260
mg/ dm2 . Generally adhesive layer is 0.0008~0.001
It has a dry thickness of inches (0.020-0.025mm). For continuous coating, web speeds may range from 15 to 150 ft/min (4.57 to 45.72 m/min), for example.
can be varied to. Drying temperature is 60-130
℃, preferably in the range of 80 to 90℃. A preferred flexible support is flame treated polyethylene terephthalate 0.001 to 0.007 inches (0.025 to 0.18 mm) thick, preferably 0.005 inches (0.13 mm) thick. Flame treatment of polymeric films is known. No. 3,145,242, US Pat. No. 3,360,029, and US Pat. No. 3,360,029, incorporated herein by reference.
No. 3,391,912 describes useful methods and apparatus for flame treatment of polymeric films.
The fuel equivalent ratio φ of the combustible gas mixture is 1.4,
This is 5 (propane flow rate) / [(oxygen flow rate) + (0.21
air velocity)]. All flow rates are standard cubic feet or l/min. Web speed is 175
linear feet per minute (53.34 m/min). The dried adhesive-coated support may be immediately adhered to the photosensitive layer or may be saved for subsequent adhesion. The adhesive-coated support is heated in a press at e.g. 140-160°C.
Approximately 3 at a pressure of 20000~30000psi (1406~2109Kg/ cm2 )
It can be laminated to the photosensitive layer for up to minutes and then cooled in a press to below 60°C. Preferably, the photosensitive element is produced by calendering. The photosensitive layer, preferably formed by extrusion through a die, has a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film on the side remote from the side adjacent to the adhesive layer; then acts as a protective cover sheet. Other films such as polystyrene, polyethylene,
Polypropylene or other releasable materials can be used. Preferably, between the photosensitive layer and the film cover sheet there is a thin, rigid, flexible, solvent-soluble layer, such as a flexible polymeric film or layer, such as polyamide or ethylene/vinyl acetate copolymer. This flexible polymeric film remains on the photosensitive layer after removal of the film cover sheet. The flexible polymeric film protects the image-containing negative or transparency overlaid thereon for reuse or improves contact or registration with the light-sensitive surface. The element is exposed through the support to polymerize a predetermined thickness of the photosensitive layer adjacent to the adhesive support prior to imagewise exposure using the light source described below. This polymerized portion of the photosensitive layer is referred to as the floor. This floor thickness varies depending on exposure time, exposure source, etc. Exposure is generally 1 to 30 minutes. According to the present invention, the printed relief makes selected portions of the photosensitive layer of said element e.g. process transparent, i.e. substantially transparent to actinic radiation, and portions of substantially uniform optical density opaque to actinic radiation. and by exposure to actinic radiation through an image-containing transparency or stencil having areas of substantially uniform optical density until substantial addition polymerization or optical cross-linking occurs. During addition polymerization or cross-linking formation, the polymeric binder/ethylenically unsaturated compound composition is converted to an insoluble state in the radiation-exposed portions of the layer, and no significant polymerization or cross-linking occurs in the unexposed portions of the layer. . The unexposed portions of the layer are removed by a liquid developer to the polymeric binder. Process transparencies may be constructed from any suitable material, including cellulose acetate film and oriented polyester film. Actinic radiation from any source and of any type can be used during the photopolymerization process. The radiation may originate from a point source or may be in the form of parallel or diverging beams. By using a broad-field radiation system relatively close to the image-containing transparency, the radiation passing through the transparent portion of the transparency enters as a diverging beam and is therefore continuous in the light-sensitive layer underlying the transparent portion of the transparency. Irradiate the areas that diverge. This results in a polymer relief with the widest width (ie trapezoidal) at the bottom of the photosensitive layer. The upper surface of the relief is then the dimension of the transparent part. Since free radical generating systems that can be activated by actinic radiation generally exhibit their maximum activity in the ultraviolet range, this radiation source should provide an effective amount of this radiation having a wavelength range between about 2500 Å and 5000 Å. be. Suitable such radiation sources include, in addition to sunlight, carbon arcs, mercury vapor arcs,
Fluorescent lamps with ultraviolet radiation emitting phosphors, argon glow lamps, electronic flash units,
and photographic flat lamps. Electron accelerators and electron beam sources through appropriate masks can also be used. Among these, mercury vapor lamps, especially the sunlamp or "blacklight" type, and fluorescent sunlamps are most suitable. Radiation exposure times can vary from fractions of a second to minutes depending on the intensity and spectral energy distribution of the radiation, its distance from the composition and the nature and amount of composition available. Typically, a mercury vapor arc, a solar lamp, or a high ultraviolet emitting fluorescent tube is used at a distance of about 1.5 to about 60 inches (3.8 to 152 cm) from the photosensitive composition. The exposure temperature is not particularly critical. However, it is preferred to operate at about room temperature or slightly above (i.e., from about 20 DEG to about 35 DEG C.). After exposure, the image can be developed by washing with a suitable developer. The developer liquid has good solvent or swelling action on the polymeric binder/ethylenically unsaturated compound composition and does not insolubilize the image or support for the period of time required to remove unpolymerized or non-crosslinked portions. Or it must have little effect on the adhesive layer. Suitable developers include organic solvents such as 2-butanone, benzene, toluene, xylene, trichloroethane, trichloroethylene, methylene chloroform, tetrachloroethylene and solvent mixtures such as tetrachloroethylene/n-butanol and others. When the high molecular weight butadiene polymer component contains carboxyl groups, suitable developers include aqueous bases, which may be supplemented with water-soluble organic solvents. Specific suitable developer mixtures include sodium hydroxide/isopropyl alcohol/water, sodium carbonate/water, sodium carbonate/2-butoxyethanol/water, sodium borate/2-butoxyethanol/water, sodium silicate/2-butoxyethanol. /glycerol/water, sodium carbonate/2-(2-butoxyethoxy)ethanol/water, and 16.6 in water.
Examples include sodium hydroxide (0.5% by weight) in 2-(2-butoxyethoxy)ethanol by volume, but those around this range are preferred. The particular developer combination selected will depend on the carboxyl content of the photosensitive composition and the nature and amount of binder used. Other aqueous developer combinations that may be used are described in U.S. Pat.
It is described in the specification of No. 3796602. These aqueous base/water-soluble organic solvent combinations may be preferred in some cases because of their low cost, nonflammability, and low toxicity. Development may be carried out at about 25°C, but sometimes the best results are obtained when the solvent is at a temperature of, for example, 30° to 60°C. Development time is 1 to 120 minutes, preferably 1
It can range from ~25 minutes. In the development step where the relief has been formed, the developer can be applied by any convenient method such as pouring, dipping, spraying or roller application. Brushing helps remove non-polymerized or non-crosslinked portions of the composition. If the printing plate is subjected to aqueous development, then e.g.
A water wash is applied to the developer plate for 300 seconds to remove traces of developer from the plate surface. The expression "aqueous developer" also includes washing with water. After solvent development, the printing plate is kept at room temperature to approx.
Drying for 1 hour at a temperature in the range of 125°C, preferably 60°C. After aqueous development, the printing plate can be dried, but it has been found that the washed aqueous developer plate can be contacted with an aqueous bromine-containing solution while still wet. Hot air drying can be accomplished through the use of a forced hot air dryer or other suitable dryer. The plate is then contacted with an aqueous treatment solution prepared as described below. The plate can be flooded or immersed in the aqueous treatment solution. The latter is preferred. Preferably, the processing solution is held in contact with the printing plate for a period of 15 seconds to 40 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes. The processing solution is preferably used at ambient temperature, but it can be heated up to about 35°C. This treatment solution consists of an alkali monopersulfate such as potassium monopersulfate triple salt (2KHSO 5 KHSO 4
K 2 SO 4 ) and bromide salts such as potassium bromide in an aqueous solution. Since both components are solid and non-reactive with each other in the absence of moisture, they can be dry mixed and stored in moisture-proof containers for long periods of time before use. The ratio of dry components in the mixture is 98-10 parts alkali monopersulfate and 2-90 parts bromide salt. Potassium salts are particularly preferred. The reason is that their moisture sensitivity is significantly lower. However, other alkali salts such as sodium, lithium, etc. are useful where they are stored separately from each other until dissolution. There is no need to add acid to the processing solution, which is an advantage. This treatment solution is in the higher neutral range and higher than known bromine or chlorine treatment solutions (e.g.
Operable over a PH range including PH values of 8.5 or higher). The overall PH range is 0.7-8.5 or higher. The printing plate can be post-exposed to a source of actinic radiation after development, before or after said bromine treatment. This post-exposure is preferably generally 5 to 15 minutes for the actinic radiation source used for the imagewise exposure. After both treatments, the printing plate is ready for use. The best mode is described in Example 7, where the processing solution is neutral (approximately PH 6.8) and low PH.
(approximately 2.0). At higher PH, the treatment time is preferably 2-10 minutes. At lower PH the preferred treatment time range is 1-2 minutes. Printed reliefs produced from the photosensitive flexographic elements of the invention can be used in all printings, but they are suitable for printings where a clear difference in height between printed and non-printed parts is required. It is applicable and most applicable in particular to flexographic printing where elastic printing parts are required, for example for printing on deformable printing surfaces. These types of printing include, for example, dry offset printing, where the ink is carried by raised parts of the relief, as in conventional letterpress printing, which requires a greater height difference between printed and non-printed areas. , and intaglio printing in which the ink is carried by depressions in the relief, such as in line and inverted halftones. This plate is particularly useful for multicolor printing. The resulting relief and printed images exhibit fidelity to the original transparency in both small detail and overall dimension even when the element is imagewise exposed on a cylindrical support.
This relief has high impact strength, is tough and abrasion resistant, and has a wide range of ink compatibility, and the relief of plates based on acrylonitrile/butadiene binders can be treated according to the teachings of the present invention. When used, it has improved solvent resistance, especially for alcohol solvents in alcohol-based inks. The following examples are illustrative of the invention, in which parts and percentages are by weight. Ink/Solvent Compatibility Testing The following operations were performed to determine the compatibility and usefulness of printing inks and solvents for flexographic printing plates having layers of the photosensitive elastomeric compositions described herein. used. After measuring the thickness, Shore A hardness (ANSI/ASTM D2240-75) and weight, the exposed and developed printing plate is soaked in a specific solvent or ink for 24 hours. After removal from solvent or ink and pat dry, remeasure its thickness, Shore A hardness and weight. If the thickness change (△T), shore A hardness change (△H) and weight change (△%W) in inches (mm) satisfy the following criteria, the printing plate is
Or it is considered to be compatible or excellent with respect to ink (E). △T: 0.003 inch (0.076 mm) △H: -5 shore A unit △%W: 3.5% The printing plate is certified with respect to its solvents and/or inks if the following criteria are met or exceeded: considered to be incompatible or unsatisfactory (U). △T: 0.012 inches (0.305 mm) △H: -20 shore A units △%W: 7.0% If in the range intermediate between the above two criteria, the treated printing plate will be treated with respect to its solvent and/or ink. of variable or intermediate utility (I). The overall evaluation is provided separately in the Examples below. Tack Test The tack of exposed and developed printing plates of the present invention can be tested as follows. (1) Wipe the surface clean with isopropanol. (2) Use a toilet such as Scotto Brand 510 toilet toilet with a 500g weight.
Plate surface (1 inch x 2 inch,
2.54cm x 5.08cm). (3) Remove stains and record the results. (A) No tack - no tack (B) slight tack - sticks but peels off from the surface (C) tack - peels off but leaves some fibers on the plate (D) very tacky - Sticking and tearing of the tissue when peeled off. A person skilled in the art can identify non-stick or grade (A) printing plate surfaces by touch or touch with a fingertip. Both methods have been used. All treated samples below are untacked. Example 1 An adhesive solution is prepared from the following ingredients. Component amount (parts) Polyamide resin (3) Rod No.OF5237 63.1 Polyester resin (1) 27.0 Polyolefin 9.8 Dupont Milling Blue BL dye (CI acid blue 59) 0.1 The above polyamide resin (3) is a product of Henkel Adhesive Company. "Macromelt" 6238, which is translucent, light amber in color, and has a ball-and-ring softening point of 132-145°C, a melt viscosity of 40-60 poise at 210°C, over 299°C The ignition point of 0.7 per day
%, 1.6% water absorption in 7 days, tensile yield strength of 460psi (32.34Kg/ cm2 ), tensile strength at break of 450psi (31.64Kg/ cm2 ) and elongation of 560% (tensile yield strength, tensile strength at break and ASTM extension at 24°C
(measured by method D-1708). The above polyester resin is a reaction product of ethylene glycol, terephthalic acid, isophthalic acid and azelaic acid (molar ratio 6:2:1:3) and has n19000 and w37000. The polyolefin mentioned above is Vestofine, a product of Doula Commodities.
SF-616, snow white, molecular weight about 1600,
Density of about 0.96 at 20℃, penetration hardness of 0.5-1.0 at 25℃,
It has a melting point of about 118-128°C, and about 85% of it has a particle size of 10μ or less and 15% of it has a particle size of 10-20μ. Methylene chloride/cellosolve solvent (90/
10) Add the above ingredients in order to the mixture to form a solution of about 16% solids. Polyolefin beads do not dissolve. The mixture is continuously stirred during and after addition of the ingredients to form a solution. Any weight loss during mixing is compensated by the addition of methylene chloride. This adhesive solution is applied to the flame treated surface of a 0.005 inch (~0.13 mm) thick polyethylene terephthalate film support using a continuous web coater-dryer to produce a dry coating weight of about 260 mg/dm 2 . The web speed is 45 ft/min (~13.72 m/min) and the drying temperature is 86°C (205°C). The adhesive coated polyethylene terephthalate support is the thickness of the finished printing plate.
Place adhesive side up in a dammed steel platen to 0.080 inch (2.03 mm) thickness. Place the adhesive coated support and platen on a press and extrude a sheet of the photosensitive composition on a 0.005 inch (0.13 mm) thick polyethylene terephthalate support [0.090 inch (approx.
2.29 mm) thick] on top of it, support side up, and cover this with a steel plate. This cover sheet carrying a polyamide layer is produced by coating a polyethylene terephthalate film with the solution described below using an extrusion die coater. Ingredients (%) Methylene chloride 81.0 Methanol 2.0 N-methylpyrrolidone 10.0 Polyamide resin 7.0 The above polyamide resin is Henkel Adhesive Company's product "Macromelt" 6900, which is virtually colorless. Ring and ball softening point of 266-302〓, melting index of 5-15g/10 min at 347〓, ignition point of 570〓,
Water absorption of 0.2% in 1 day and 0.5% in 7 days,
Tensile yield point of 1200 psi and tensile failure point of 3500 psi (these are 24
(measured at °C). Extruded sheets of photopolymerizable compositions are made by blending the following ingredients and extruding the blend through a die at 170°C.

【表】 上記のポリエチレンセバケートはパラプレツク
ス G−30低分子量ポリエステル樹脂(Rohm&
Haas社製品)である。 温度を上昇させそして圧力を徐々に適用する。
これは光重合性シートをプラテンのダムで囲まれ
た部分全体に拡げる。シートが均一に分散した
後、温度を160℃に上昇させ、そして20000〜
30000psi(1406〜2109Kg/cm2)範囲の圧力を適用
しそしてそこに3分間保持する。プレスプラテン
に水を流すことによつてこの集成体をプレス中で
60℃以下に冷却する。形成された積層エレメント
をプレスから除去しそして支持体例を上にして以
下に記載の露光ユニツト中に置く。支持体を通し
て4分間大気圧下に空気中で全体的露光をこのエ
レメントに与えて接着した支持体に隣接する光重
合性層を前以つて定められた厚さを重合させる。
このエレメントの重合部分は「フロア」と称され
る。 次いでこのエレメントをシルバニアBL−VHO
螢光ランプを付した「シレル(Cyrel) 」3040
エクスポージヤユニツト(デユポン社商品名)中
に置く。光重合性表面を像含有透明画(陰画)で
覆い、そしてこのエレメントを15分間真空下に露
光させる。露光の持続時間は光重合体シートの厚
さ、重合フロアの厚さおよび使用される像含有透
明画のタイプの函数である。 露光後、透明画を除去しそしてこの露光エレメ
ントを回転ドラム−ブラツシユタイプ「シレル
」3040プロセツサー中に置く。パークロロエチ
レン(75容量%)/n−ブタノール(25容量%)
溶媒で15分間洗うことによつてエレメントの非重
合部分をプロセツサーで除去する。0.035インチ
(0.89mm)レリーフ画像が得られる。現像エレメ
ント(印刷プレート)を強制熱風ドライヤー中か
またはその他の適当なドライヤー中に置きそして
60℃で1時間乾燥させる。乾燥プレートを前記像
様露光に対して使用されたと同一の露光源を使用
して空気中で10分間、後露光させる。このプレー
トは56〜60の範囲のシヨア A2硬度を有してい
る。 この乾燥印刷プレートを以下の表1に記載のよ
うにして室温でモノパーサルフエート−ブロミド
処理溶液または塩素溶液のどちらかに浸す。露
光、現像および乾燥された印刷プレートの種種の
溶媒混合物および/またはその他の一般的印刷イ
ンク成分に対するプレート厚さ、硬度および重量
%の変化を測定する。表1に記載の値は前記イン
ク/溶媒相容性試験を使用して測定される。各試
料に対して評価が記載されている。
[Table] The above polyethylene sebacate is Paraplex G-30 low molecular weight polyester resin (Rohm &
Haas product). Increase temperature and apply pressure gradually.
This spreads the photopolymerizable sheet over the dammed portion of the platen. After the sheet is evenly distributed, increase the temperature to 160℃, and then 20000~
A pressure in the range of 30000 psi (1406-2109 Kg/cm 2 ) is applied and held there for 3 minutes. This assemblage is pressed during pressing by running water through the press platen.
Cool to below 60℃. The formed laminated element is removed from the press and placed, support example side up, in the exposure unit described below. A general exposure of the element in air at atmospheric pressure for 4 minutes through the support is applied to polymerize the photopolymerizable layer adjacent to the adhered support to a predetermined thickness.
This overlapping portion of the element is referred to as the "floor." Next, add this element to Sylvania BL-VHO.
"Cyrel" 3040 with fluorescent lamp
Place it in the exposure unit (DuPont product name). The photopolymerizable surface is covered with an image-containing transparency (negative) and the element is exposed under vacuum for 15 minutes. The duration of exposure is a function of the thickness of the photopolymer sheet, the thickness of the polymeric floor, and the type of image-containing transparency used. After exposure, the transparency is removed and the exposed element is placed in a rotating drum-brush type "Shillel" 3040 processor. Perchlorethylene (75% by volume)/n-butanol (25% by volume)
The unpolymerized portion of the element is removed in the processor by washing with solvent for 15 minutes. A 0.035 inch (0.89 mm) relief image is obtained. Place the developer element (printing plate) in a forced hot air dryer or other suitable dryer and
Dry at 60℃ for 1 hour. The dried plate is post-exposed for 10 minutes in air using the same exposure source used for the imagewise exposure. This plate has a shore A2 hardness in the range 56-60. The dry printing plate is immersed in either the monopersulfate-bromide treatment solution or the chlorine solution at room temperature as described in Table 1 below. The changes in plate thickness, hardness and weight percent for various solvent mixtures and/or other common printing ink components of exposed, developed and dried printing plates are measured. The values listed in Table 1 are determined using the ink/solvent compatibility test described above. An evaluation is listed for each sample.

【表】【table】

【表】 表1に記載の結果から、臭素処理は塩素溶液で
処理された印刷プレートに比べて改善された印刷
プレートを与えることが示される。臭素処理後に
生ずる中間的および満足できない評価は当業者に
よつて有用であることが知られている通常の溶媒
濃度範囲の外にある溶媒または溶媒混合物に対し
て観察される。 例 2 未露光像部分を水中16.6容量%2−(2−ブト
キシエトキシ)エタノール中0.5重量%水酸化ナ
トリウムで15分洗うことによりプロセツサー中で
除去し次いで2分間水洗することを除いた例1記
載の臭素および塩素処理光感受性フレキソグラフ
イー印刷プレートのインク/溶媒相容性を本例に
おいて比較する。以下の表2には例1記載の番号
で同定されている種々の溶媒混合物および/また
はその他の一般的印刷インク成分が△T、△H、
△%Wに関して比較されており、そして評価は各
例に対して記載されている。
TABLE The results listed in Table 1 show that bromine treatment provides improved printing plates compared to printing plates treated with chlorine solutions. Intermediate and unsatisfactory ratings resulting after bromine treatment are observed for solvents or solvent mixtures that are outside the normal solvent concentration range known to be useful by those skilled in the art. Example 2 As described in Example 1 except that the unexposed image areas were removed in the processor by washing with 16.6% by volume in water and 0.5% by weight sodium hydroxide in 2-(2-butoxyethoxy)ethanol for 15 minutes followed by a 2-minute water wash. The ink/solvent compatibility of bromine- and chlorine-treated light-sensitive flexographic printing plates is compared in this example. Table 2 below lists various solvent mixtures and/or other common printing ink components identified by the numbers given in Example 1, including ΔT, ΔH,
Comparisons are made with respect to Δ%W and ratings are listed for each example.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 び(h)はクロロクス 処理さ
れなかつた対照試料である。
表2に記載の結果から、塩素処理はインク溶媒
に関しては実質的に効果を有しないことが認めら
れる。臭素処理によつて改善された結果が達成さ
れる。その溶媒混合物が既知の有用な濃度範囲外
にあるが故に試料5〜8は満足できない結果を示
す。 例 3 本例は後露光および水性処理段階の相互交換性
を説明する。 3種のタイプの光感受性フレキソグラフイー印
刷プレートを製造する。「プレートA」と称され
る第1のプレートは例2に記載のように製造され
る。「プレートB」と称される第2のプレートは
例1に記載のようにして製造される。「プレート
C」と称される第3のプレートは例えばシレル
フレキソグラフイー印刷プレート0.112インチ
(〜2.85mm)厚さのスチレン−イソプレン−スチ
レンブロツク共重合体を含有しているフレキソグ
ラフイー印刷プレートである。 プレートA、BおよびCをシルバニアBL−
VHO螢光ランプを付したシレル 3040エクスポ
ージヤユニツト(デユポン社の登録商品名)中に
支持体側を上にして置きそして空気中で大気圧下
に240秒間露光させる。次いでこのプレートを例
1記載のようにして10分間像様露光させ(プレー
トCはカバーシート除去)そして次いでパークロ
ロエチレン(75容量%)/n−ブタノール(25容
量%)溶媒の16分洗浄(プレートBおよびC)ま
たは水中16容量%2−(2−ブトキシ−エトキシ)
エタノール中の0.5重量%水酸化ナトリウムの15
分洗浄(プレートA)を行う。各現像プレートを
例1記載のようにして例1記載の2分水性処理の
後かまたはその前に後露光させる。各プレートを
記載の溶媒(溶媒の名称に関しては例1参照)中
に24時間浸し、そして乾燥プレートの△%Wを測
定する。この結果は表3に示されている。ここに
「前」は後露光の前の水性処理を示す。
[Table] (h) is a control sample that was not treated with Clorox.
From the results listed in Table 2, it can be seen that chlorine treatment has virtually no effect on the ink solvent. Improved results are achieved by bromine treatment. Samples 5-8 show unsatisfactory results because their solvent mixtures are outside the known useful concentration range. Example 3 This example illustrates the interchangeability of post-exposure and aqueous processing steps. Three types of photosensitive flexographic printing plates are manufactured. The first plate, designated "Plate A", is manufactured as described in Example 2. A second plate, designated "Plate B", is manufactured as described in Example 1. The third plate, designated "Plate C", is for example Schiller
Flexographic Printing Plate A flexographic printing plate containing a 0.112 inch (~2.85 mm) thick styrene-isoprene-styrene block copolymer. Plates A, B and C in Sylvania BL-
It is placed support side up in a Schiller 3040 exposure unit (registered trade name of DuPont) equipped with a VHO fluorescent lamp and exposed in air at atmospheric pressure for 240 seconds. The plate was then imagewise exposed for 10 minutes as described in Example 1 (cover sheet removed for plate C) and then washed for 16 minutes in perchloroethylene (75% by volume)/n-butanol (25% by volume) solvent ( Plates B and C) or 16% by volume 2-(2-butoxy-ethoxy) in water
15 of 0.5 wt% sodium hydroxide in ethanol
Perform a minute wash (plate A). Each developer plate is post-exposed as described in Example 1, either after or before the bipartite aqueous treatment described in Example 1. Each plate is soaked for 24 hours in the indicated solvent (see Example 1 for solvent name) and the Δ%W of the dried plate is determined. The results are shown in Table 3. "Pre" here refers to aqueous processing before post-exposure.

【表】 表3に示した結果から、2個の一連の実験によ
り得られる結果の間には有意の差はない。 例 4 本例は本発明の溶液および塩素溶液による水性
処理時間の変動の効果を説明する。 光重合性エレメントを例3(プレートA、Bお
よびC)に記載のようにして製造するがただし次
の変動を加える。 バツク露光は150秒とする。 像様露光はカバーシートを保持したままで全体
的に10分間(像含有透明画なし)とする。 水性現像は15分とする。 強制熱風乾燥は30分とする。 本発明の水性処理は0(対照)、2および8分
(1と表示)とする。 塩素処理時間(2と表示)は0.5および2分と
する。 インク溶媒相容性試験によつて記載の処理時間
(分)に対する各エレメントのプレート厚さ、硬
度および重量%の変化を測定する。その結果は表
4に示されている。溶媒/混合物の番号は例1に
記載したものと同一である。プレート厚さ(△
T)における変化に対する値はmmで表わされてい
る。
[Table] From the results shown in Table 3, there is no significant difference between the results obtained by the two series of experiments. Example 4 This example illustrates the effect of varying aqueous treatment times with solutions of the invention and chlorine solutions. Photopolymerizable elements are prepared as described in Example 3 (plates A, B and C) with the following variations. Back exposure is 150 seconds. Imagewise exposure is for a total of 10 minutes (no image-containing transparencies) with the cover sheet in place. Aqueous development takes 15 minutes. Forced hot air drying is for 30 minutes. The aqueous treatments of the invention are 0 (control), 2 and 8 minutes (labeled 1). Chlorination times (labeled 2) are 0.5 and 2 minutes. The change in plate thickness, hardness, and weight percent of each element is determined over the stated processing time (minutes) by an ink solvent compatibility test. The results are shown in Table 4. Solvent/mixture numbers are the same as described in Example 1. Plate thickness (△
The values for the change in T) are expressed in mm.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 表4に記載の結果から、塩素処理(2)に対しては
0.5分から2.0分、そして本発明の処理(1)によれば
2分から8分の処理時間の上昇に関してはプレー
ト評価に有意の変化は存在しない。 例 5 本例は水性処理溶液の製造に使用されるカリウ
ムモノパーサルフエート三重塩と臭化カリウムと
の混合物の安定性を説明する。 20.0gの2KHSO5・KHSO4・K2SO4および2.0g
の臭化カリウム乾燥粉末を一緒に混合しそして9
ケ月間空気および湿気を遮断したプラスチツクび
ん中に保存する。保存した場合、粉末の様子に明
白な変化は観察されない。この期間の終りに
11.0gのこの混合物を100mlの水を溶解させそして
この溶液(PH1.7)を使用してそれぞれ例2およ
び例3に記載の印刷プレートAおよび印刷プレー
トCを処理する。印刷プレートの評価はEであ
る。処理溶液の製造においてカリウム塩を一緒に
保存することなしに水に加えて本例をくりかえ
す。これら印刷プレートはEと評価される。 本例の結果から本発明の処理溶液の製造に使用
される乾燥粉末混合物を長期間保存した場合、プ
レート評価はその使用直前に個々に塩成分を混合
する場合に比べて変化しない。 例 6 本例は塩素処理に比した場合の本発明の水性処
理溶液を使用して得られる改善を説明している。 光感受性フレキソグラフイー印刷プレートを例
1記載のようにして製造する。下記の表5には例
1記載の数字で同定される種々の溶媒混合物およ
び/またはその他の一般的インク成分がその△
T、△Hおよび△%Wについて比較されている。
評価は各例に対して記載されている。
[Table] From the results listed in Table 4, for chlorine treatment (2)
There is no significant change in plate evaluation for increasing treatment times from 0.5 minutes to 2.0 minutes and according to process (1) of the invention from 2 minutes to 8 minutes. Example 5 This example illustrates the stability of a mixture of potassium monopersulfate triple salt and potassium bromide used in the preparation of an aqueous processing solution. 20.0g of 2KHSO 5・KHSO 4・K 2 SO 4 and 2.0g
of potassium bromide dry powder and 9
Store in a plastic bottle protected from air and moisture for several months. No obvious changes in the appearance of the powder are observed upon storage. at the end of this period
11.0 g of this mixture are dissolved in 100 ml of water and this solution (PH 1.7) is used to treat printing plate A and printing plate C as described in example 2 and example 3, respectively. The printing plate is rated E. The example is repeated by adding the potassium salt to the water without storing it together in the preparation of the treatment solution. These printing plates are rated E. The results of this example show that when the dry powder mixture used to prepare the processing solution of the invention is stored for an extended period of time, the plate rating does not change compared to when the salt components are mixed individually just before their use. Example 6 This example illustrates the improvement obtained using the aqueous treatment solution of the present invention as compared to chlorination. A photosensitive flexographic printing plate is prepared as described in Example 1. Table 5 below lists various solvent mixtures and/or other common ink components identified by the numbers in Example 1.
T, ΔH and Δ%W are compared.
Ratings are listed for each example.

【表】【table】

【表】 例 7 本例はいくつかの溶媒または溶媒混合物中にお
ける本発明による好ましい水性処理溶液(一つは
PH約6.8であり、そして他方はPH約2.0である)の
使用を説明する。 光感受性フレキソグラフイー印刷プレートは例
2(プレートA)、例1(プレートB)および例3
(プレートC)に記載されているものである。例
3に記載の方法を使用してこれら印刷プレートを
露光および現像する。後露光は例1記載のように
して水性処理の前に行われ、そして水性処理は2
分である。好ましい処理溶液を使用してプレート
A、BおよびCを処理し、そして次いでそのプレ
ートを例1記載の数字で同定される溶媒または溶
媒混合物中で試験する。測定された厚さ、硬度お
よび重量%変化および各処理プレートの評価は以
下の表6に記載されている。 処理溶液A(PH1.8±0.2) この溶液は次のようにして製造される。1の
水中に完全に撹拌しつつ100gの2KHSO5
KHSO4・K2SO4を加える。次いで5gのKBrを加
え次いで完全に撹拌する。処理溶液Aは1〜2分
の処理時間において特に有用である。 処理溶液B(PH6.6±0.2) この溶液は次のようにして製造される。1の
水中に10gの2KHSO5・KHSO4・K2SO4を完全に
撹拌しつつ加える。次いで10gのKBrを加え次い
で完全に撹拌する。処理溶液Bは2〜10分の処理
時間で特に有用である。
EXAMPLE 7 This example shows preferred aqueous processing solutions according to the invention in several solvents or solvent mixtures (one of which is
PH is approximately 6.8, and the other is PH approximately 2.0). Photosensitive flexographic printing plates are Example 2 (Plate A), Example 1 (Plate B) and Example 3.
(Plate C). The printing plates are exposed and developed using the method described in Example 3. The post-exposure is carried out before the aqueous processing as described in Example 1, and the aqueous processing is carried out as described in Example 1.
It's a minute. The preferred treatment solution is used to treat plates A, B and C, and the plates are then tested in the solvent or solvent mixture identified by the numbers in Example 1. The measured thickness, hardness and weight percent changes and ratings for each treated plate are listed in Table 6 below. Treatment solution A (PH1.8±0.2) This solution is produced as follows. 100g of 2KHSO 5 .
Add KHSO 4・K 2 SO 4 . Then add 5 g of KBr and stir thoroughly. Processing Solution A is particularly useful for processing times of 1-2 minutes. Treatment solution B (PH6.6±0.2) This solution is produced as follows. Add 10g of 2KHSO 5 / KHSO 4 / K 2 SO 4 to the water in Step 1 while stirring thoroughly. Then add 10 g of KBr and stir thoroughly. Processing Solution B is particularly useful with processing times of 2 to 10 minutes.

【表】【table】

【表】 表6に記載の結果から、3個のタイプのプレー
トに関して使用される処理溶液のPHを約2.0から
約6.8に変化させた場合にプレート評価は有意に
は変化しないことが示される。 例 8 水性アルカリ性現像および水洗後に印刷プレー
トを例1記載の処理溶液に浸す以外は例2に記載
のようにして光感受性印刷プレートを製造する。
次いでこの印刷プレートを乾燥させ、そして例1
記載のように後露光させる。溶媒として2−プロ
パノールを使用した場合にこの印刷プレートはE
と評価される。
TABLE The results set forth in Table 6 show that plate evaluation does not change significantly when changing the PH of the processing solution used for the three types of plates from about 2.0 to about 6.8. Example 8 A photosensitive printing plate is prepared as described in Example 2, except that after aqueous alkaline development and water washing the printing plate is immersed in the processing solution described in Example 1.
The printing plate was then dried and Example 1
Post-expose as described. When using 2-propanol as the solvent, this printing plate
It is evaluated as.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 共役ジオレフイン炭化水素重合体、および少
くとも1個の末端エチレン基を含有する、非気体
状エチレン性不飽和化合物を包含する光感受性弾
性体状組成物の層を活性線放射に像様露光させ、
その未露光部分を液体現像することによりレリー
フを製造するにあたり、乾燥後に現像された表面
にいずれかの順序で、 (1) 活性線放射源への後露光および (2) 約15秒〜40分間のアルカリモノパーサルフエ
ートおよび臭化物塩の水性処理溶液との接触 を実施することを特徴とする、レリーフフレクソ
グラフイー印刷プレートの表面を修正する方法。 2 印刷プレートを水性処理溶液に浸す前記特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3 共役ジオレフイン炭化水素重合体がブタジエ
ン/アクリロニトリル、ブタジエン/アクリロニ
トリル/アクリル酸、ブタジエン/スチレン、ス
チレン−ブタジエン−スチレンブロツク共重合体
およびスチレン−イソプレン−スチレンブロツク
共重合体から選ばれた重合体である、前記特許請
求の範囲第1または2項のいずれか一つに記載の
方法。 4 フレキソグラフイー印刷プレートが、 (A) 可撓性支持体および (B) 組成物の全重量基準で (a) 20000〜75000の数平均分子量、10〜50重量
%のアクリロニトリル含量および0〜15重量
%のカルボキシル含量を有する高分子量ブタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体55〜90重
量%、 (b) 少くとも1個の末端エチレン基を含有する
遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合により高
度重合体を形成できしかも(a)の重合体と相容
性の非気体状エチレン性不飽和化合物2〜40
重量%、 (c) 不飽和化合物の重合を開始させる活性線放
射により活性化可能な有機放射感受性遊離ラ
ジカル生成系0.001〜10重量%および、 (d) 相容性可塑剤0〜15重量% を包含する光感受性弾性体状組成物の層、お
よび 場合により層(A)および(B)の間に接着剤組成物の
層 を包含する光感受性弾性体状エレメントを像様露
光させそしてこれを液体現像させることによつて
製造される、前記特許請求の範囲第1または2項
のいずれか一つに記載の方法。 5 (A) シート支持体、 (B)(1) 25℃以上のガラス転移温度および2000〜
100000の数平均分子量を有する少くとも2種
の熱可塑性非弾性体状重合体ブロツク、およ
び前記熱可塑性非弾性体状重合体ブロツクの
間の、10℃以下のガラス転移温度および約
25000〜1000000の数平均分子量を有する弾性
体状重合体ブロツクを含有する少くとも1種
の溶媒可溶性熱可塑性弾性体状ブロツク共重
合体少くとも30重量%、 (2) 少くとも1個の末端エチレン性基を含有す
る付加重合性エチレン性不飽和化合物少くと
も1重量%、および (3) 活性線放射により活性化可能な重合開始剤
の重合作用量 を包含する前記支持体上にコーテイングされ
た光感受性弾性体状組成物の層 可撓性カバーシート、および前記カバーシート
と前記層の表面との間に挿入された可撓性の重
合体フイルム を包含する光感受性弾性体状エレメントの像様露
光および液体現像によつてレリーフフレキソグラ
フイー印刷プレートが製造される、前記特許請求
の範囲第1または2項のいずれか一つに記載の方
法。 6 処理溶液が大約中性であり、そして本質的に
5〜20重量部のアルカリモノパーサルフエート、
5〜20重量部のアルカリブロミドおよび1000重量
部の水よりなつている、前記特許請求の範囲第4
または5項のいずれか一つに記載の方法。 7 処理溶液が酸性であり、そして本質的に50〜
100重量部のアルカリモノパーサルフエート、5
重量部のアルカリブロミドおよび1000重量部の水
よりなつている、前記特許請求の範囲第4または
5項のいずれか一つに記載の方法。 8 処理溶液がアルカリモノパーサルフエート
塩、ブロミド塩乾燥混合物および水を一緒にする
ことにより製造される、前記特許請求の範囲第1
項記載の方法。 9 モノパーサルフエート塩およびブロミド塩が
2KHSO5・KHSO4・K2SO4および臭化カリウム
である、前記特許請求の範囲第8項記載の方法。 10 混合物中の乾燥成分の比がアルカリモノパ
ーサルフエート98〜10および塩2〜90である、前
記特許請求の範囲第8項記載の方法。 11 処理溶液が大約0.7〜8.5のPHである、前記
特許請求の範囲第9項記載の方法。
[Scope of Claims] 1. A layer of a photosensitive elastomeric composition comprising a conjugated diolefin hydrocarbon polymer and a non-gaseous ethylenically unsaturated compound containing at least one terminal ethylene group is exposed to actinic radiation. imagewise exposed to radiation;
To produce a relief by liquid developing its unexposed areas, after drying the developed surface is subjected to either (1) post-exposure to a source of actinic radiation and (2) approximately 15 seconds to 40 minutes. A method for modifying the surface of a relief flexographic printing plate, characterized in that contact with an aqueous treatment solution of an alkali monopersulfate and bromide salt of 2. A method according to claim 1, wherein the printing plate is immersed in an aqueous processing solution. 3. The conjugated diolefin hydrocarbon polymer is a polymer selected from butadiene/acrylonitrile, butadiene/acrylonitrile/acrylic acid, butadiene/styrene, styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene-isoprene-styrene block copolymer. , a method according to any one of claims 1 or 2. 4. The flexographic printing plate comprises (a) a number average molecular weight of from 20,000 to 75,000, an acrylonitrile content of from 10 to 50% by weight, and an acrylonitrile content of from 0 to 15, based on the total weight of (A) the flexible support and (B) the composition. (b) a high molecular weight butadiene/acrylonitrile copolymer having a carboxyl content of 55 to 90% by weight; (b) containing at least one terminal ethylene group; 2 to 40 non-gaseous ethylenically unsaturated compounds compatible with the polymer of (a)
(c) 0.001-10% by weight of an organic radiation-sensitive free radical-generating system activatable by actinic radiation to initiate polymerization of unsaturated compounds; and (d) 0-15% by weight of a compatible plasticizer. imagewise exposing the photosensitive elastomeric element comprising a layer of a photosensitive elastomeric composition and optionally a layer of an adhesive composition between layers (A) and (B) and applying it to a liquid. 3. A method according to claim 1, wherein the method is produced by developing. 5 (A) Sheet support, (B)(1) Glass transition temperature of 25°C or higher and 2000~
at least two thermoplastic non-elastic polymer blocks having a number average molecular weight of 100,000, and a glass transition temperature between said thermoplastic non-elastic polymer blocks of less than or equal to 10°C;
at least 30% by weight of at least one solvent-soluble thermoplastic elastomeric block copolymer containing an elastomeric polymer block having a number average molecular weight of 25,000 to 1,000,000; (2) at least one terminal ethylene at least 1% by weight of an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing functional groups; and (3) a polymerizing amount of a polymerization initiator activatable by actinic radiation. Imagewise exposure of a photosensitive elastomeric element comprising a layer of a sensitive elastomer composition, a flexible cover sheet, and a flexible polymeric film interposed between said cover sheet and the surface of said layer. 3. A method according to claim 1, wherein the relief flexographic printing plate is produced by and liquid development. 6 the processing solution is approximately neutral and contains essentially 5 to 20 parts by weight of an alkali monopersulfate;
Claim 4 consisting of 5 to 20 parts by weight of alkali bromide and 1000 parts by weight of water.
or the method described in any one of Section 5. 7 The processing solution is acidic and essentially
100 parts by weight of alkali monopersulfate, 5
6. A process as claimed in claim 4 or 5, comprising parts by weight of alkali bromide and 1000 parts by weight of water. 8. Claim 1, wherein the treatment solution is prepared by combining alkali monopersulfate salt, bromide salt dry mixture and water.
The method described in section. 9 Monopersulfate salt and bromide salt are
9. The method of claim 8, wherein 2KHSO 5 .KHSO 4 .K 2 SO 4 and potassium bromide. 10. The method of claim 8, wherein the ratio of dry ingredients in the mixture is from 98 to 10 of the alkali monopersulfate and from 2 to 90 of the salt. 11. The method of claim 9, wherein the treatment solution has a pH of about 0.7 to 8.5.
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