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JPH0142080B2 - - Google Patents
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JPH0142080B2 - - Google Patents

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JPH0142080B2
JPH0142080B2 JP17141782A JP17141782A JPH0142080B2 JP H0142080 B2 JPH0142080 B2 JP H0142080B2 JP 17141782 A JP17141782 A JP 17141782A JP 17141782 A JP17141782 A JP 17141782A JP H0142080 B2 JPH0142080 B2 JP H0142080B2
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write
control gate
transistor
voltage
memory
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JP17141782A
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Kanichi Harima
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Mitsubishi Electric Corp
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電界効果型トランジスタ、特に情報に
応じて、閾値電圧を変化させ、長時間情報を保持
しうるいわゆる不揮発性メモリトランジスタを使
用したメモリ装置に係るものであり、情報のメモ
リへの書き込みを確実に行なわしめることを目的
としたものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a memory device using a field effect transistor, particularly a so-called nonvolatile memory transistor that can change a threshold voltage depending on information and retain information for a long time. The purpose of this is to ensure that information is written into memory.

電界効果型トランジスタを使用した不揮発性メ
モリとしては第1図aに示すような、ドレイン2
1近傍でアバランシエ、ブレークダウン現象を生
ぜしめ、これにより発生したホツトエレクトロン
をコントロールゲート22と基板23間に形成さ
れた浮遊ゲート24に注入してその閾値電圧を変
化せしめることにより情報の書き込みを行なう
FAMOS(Floating gate Avalanche
injectionMOS)や、ゲート酸化膜を極薄にし、
トンネル現象を利用してゲート酸化膜とその上に
形成された窒化硅素膜との間のトラツプに電荷を
注入させるMNOS(Metal Nitride Oxide
Semiconductor)構造を有するものなどがある。
A non-volatile memory using a field effect transistor has a drain 2 as shown in Figure 1a.
Information is written by causing avalanche and breakdown phenomena in the vicinity of 1, and injecting hot electrons generated thereby into the floating gate 24 formed between the control gate 22 and the substrate 23 to change its threshold voltage.
FAMOS (Floating gate Avalanche
injectionMOS) and ultra-thin gate oxide film,
MNOS (Metal Nitride Oxide) uses tunneling to inject charge into the trap between the gate oxide film and the silicon nitride film formed on it.
Semiconductor) structure.

上記第1図aはFAMOS構造の断面図を示し、
また第1図bにFAMOSトランジスタの書き込み
特性の1例を示す。第1図bにおいて、縦軸はメ
モリトランジスタの閾値を、横軸は書き込みのた
めの印加パルスの累積幅を示す。この例では書き
込み前のメモリの閾値は1.5Vであるが、例えば
ドレインに15V、ゲートに25Vを印加した場合、
書き込みパルス累積幅の増加とともに閾値電圧が
上昇する。上昇する程度は初期に近い程大きく、
時間と共に飽和する傾向にある。
Figure 1a above shows a cross-sectional view of the FAMOS structure,
Further, FIG. 1b shows an example of the write characteristics of a FAMOS transistor. In FIG. 1b, the vertical axis shows the threshold value of the memory transistor, and the horizontal axis shows the cumulative width of applied pulses for writing. In this example, the memory threshold before writing is 1.5V, but if you apply 15V to the drain and 25V to the gate,
The threshold voltage increases as the write pulse cumulative width increases. The degree of increase is greater the closer to the initial stage;
It tends to saturate over time.

ところでFAMOS型のメモリの記憶保持は、フ
ローテイングゲートに注入した電子をそこに留め
ることにより成されるため、十分な記憶保持時間
を得るためには、フローテイングゲートに十分な
量の電荷を注入して十分に閾値電圧を変化させて
おく必要がある。そのため第1図bの例の場合、
読み出し時に5Vがコントロールゲートに印加さ
れるとすると、書き込みには少なくとも閾値電圧
が5Vになるプログラムパルス幅(5ms)以上が
必要である。また通常メモリ装置にはライトベリ
フアイトというモードがある。これはアドレスを
設定した後書き込みを実施し、このあとアドレス
を変更せずに書き込まれたかどうかを読み出しで
チエツクするときに使用されるモードである。そ
して書き込み及び読み出しチエツクは、書き込み
器と呼ばれるものを用いるのが普通であり、書き
込みパルス印加後、読み出しチエツクを行ない、
書き込まれるまで自動的に書き込みパルスを印加
する。
By the way, memory retention in FAMOS memory is achieved by keeping electrons injected into the floating gate there, so in order to obtain sufficient memory retention time, a sufficient amount of charge must be injected into the floating gate. It is necessary to change the threshold voltage sufficiently. Therefore, in the case of the example shown in Figure 1b,
Assuming that 5V is applied to the control gate during reading, writing requires at least a program pulse width (5 ms) that will bring the threshold voltage to 5V. Furthermore, memory devices usually have a mode called write verification. This is the mode used when writing is performed after setting an address, and then checking by reading whether writing has been performed without changing the address. Writing and reading checks usually use something called a writer, and after applying a write pulse, a read check is performed.
Automatically applies write pulses until written.

次に前述したライトベリフアイモードを用いた
書き込みのアルゴリズムの例を第2図に示す。図
において41はアドレスを設定するステツプ、4
2は書き込みパルスを印加するステツプ、43は
書き込まれた否か、即ち読み出し結果がOKか否
かを判定するステツプ、44は最終アドレスか否
かを判定するステツプ、45はアドレスをインク
リメントするステツプ、46は書き込みが完了し
たと判定するステツプである。
Next, FIG. 2 shows an example of a write algorithm using the write verify mode described above. In the figure, 41 is a step for setting an address;
2 is a step for applying a write pulse; 43 is a step for determining whether writing has been performed, that is, whether the read result is OK; 44 is a step for determining whether it is the final address; 45 is a step for incrementing the address. 46 is a step for determining that writing has been completed.

ここで1回の書き込みパルスを1msとすると、
5回のパルス印加で閾値は5Vに達し、一応書き
込まれたと判定される。しかし、前述したように
実際に使うリードモードでの読み出し時のコント
ロールゲート電圧が5Vだとすると、マージンが
全くなく少しの減衰に対しても情報が消えたと判
定されてしまう。
Here, if one write pulse is 1ms,
The threshold value reaches 5V after 5 pulses are applied, and it is determined that the data has been written. However, as mentioned above, if the control gate voltage during reading in the read mode actually used is 5V, there is no margin at all, and even a small amount of attenuation will cause it to be determined that information has disappeared.

そこで従来、このアルゴリズムを生かして十分
にマージンをもつた判定を行なう方法がある。こ
のアルゴリズムを第4図に示す。これはステツプ
43においてライトベリフアイ時の読み出しの時
のみコントロールゲート電圧を5V以上(例えば
7V)に設定することである。こうすれば10msに
累積パルス幅がなるまでパルス印加が続けられ、
書き込み完了時には閾値は7Vまで上昇し、通常
のリードモードでの読み出しだけの時のコントロ
ールゲート電圧5Vに対してマージンをもたせる
ことが可能である。
Therefore, conventionally, there is a method of making use of this algorithm to make a determination with a sufficient margin. This algorithm is shown in FIG. This is done in step 43 by setting the control gate voltage to 5V or higher (for example, when reading during write verification).
7V). In this way, pulse application will continue until the cumulative pulse width reaches 10ms,
When writing is completed, the threshold value rises to 7V, making it possible to provide a margin with respect to the control gate voltage of 5V when only reading in normal read mode.

このようなライトベリフアイモードの読み出し
の時だけコントロールゲート電圧を高く設定する
ことは、第3図のようにコントロールゲートをト
ランジスタ2による抵抗を介して回路動作用電源
5に接続し、この回路動作用電源5の電圧を上昇
せしめることによつて可能である。
Setting the control gate voltage high only when reading in such a write verify mode is achieved by connecting the control gate to the circuit operation power supply 5 through the resistor formed by the transistor 2, as shown in FIG. This is possible by increasing the voltage of the power supply 5.

次に第3図を用いてライトベリフアイモード時
のみ上記コントロールゲートの電圧を高く設定す
る方法について説明する。トランジスタ1,2,
3には通常デプレツシヨン型トランジスタが用い
られる。トランジスタ1はチヤネル長がトランジ
スタ2に比べて十分に長く、従つて抵抗分として
みた場合トランジスタ1≫トランジスタ2と設定
されている。トランジスタ3は書き込み、読み出
しの切り換え用トランジスタである。4はメモリ
トランジスタアレイで、そのメモリコントロール
ゲートは共通になつている。
Next, using FIG. 3, a method of setting the voltage of the control gate to be high only in the write verify mode will be explained. Transistors 1, 2,
3, a depletion type transistor is usually used. Transistor 1 has a sufficiently longer channel length than transistor 2, and therefore, when viewed as a resistance component, transistor 1≫transistor 2 is established. The transistor 3 is a transistor for switching between writing and reading. 4 is a memory transistor array, the memory control gate of which is common.

次に動作について説明すると、書き込み時は、
書き込み用電源6に高電圧(例えば25V)が印加
され、トランジスタ3に書き込み信号(Low入
力)が印加される。そしてこの場合、行デコーダ
出力7がLowの時はトランジスタ3はONのまま
で遮断効果はなく、メモリトランジスタアレイ4
のコントロールゲートにはグランドに近いレベル
が、またHighの時は、トランジスタ3の遮断効
果によつて書き込み用電源6に近いレベルの電圧
が出力される。またリードモードの読み出し時に
は、上記メモリコントロールゲートは書き込み用
電源6か回路動作用電源5の電圧に設定され、そ
のため該メモリコントロールゲートの電位は5V
近傍になる。そしてライトベリフアイ時の読み出
しは、通常書き込み用電源6の電圧が印加された
ままトランジスタ3にHighレベルが印加されて
行なわれるが、この時はトランジスタ1の抵抗が
大きく、従つてメモリコントロールゲートの電位
は行デコーダ出力7がHighでも回路動作用電源
5の電圧近傍(5V近傍)に留まる。従つてもし、
回路動作用電源5の電圧を高く設定すればライト
ベリフアイ時の読み出しのメモリコントロールゲ
ート電圧を高くできる。
Next, to explain the operation, when writing,
A high voltage (for example, 25V) is applied to the write power supply 6, and a write signal (Low input) is applied to the transistor 3. In this case, when the row decoder output 7 is Low, the transistor 3 remains ON and has no blocking effect, and the memory transistor array 4
A voltage close to ground is output to the control gate of , and when it is High, a voltage close to the write power supply 6 is output due to the blocking effect of the transistor 3. Further, when reading in read mode, the memory control gate is set to the voltage of the write power supply 6 or the circuit operation power supply 5, so the potential of the memory control gate is 5V.
Become a neighborhood. Reading during write verification is normally performed by applying a high level to transistor 3 while the voltage of write power supply 6 is applied, but at this time, the resistance of transistor 1 is large, and therefore the memory control gate is Even if the row decoder output 7 is High, the potential remains near the voltage of the circuit operation power supply 5 (near 5V). If you follow me,
By setting the voltage of the circuit operating power supply 5 high, the memory control gate voltage for reading during write verification can be increased.

但し、この従来の方法には欠点が存在する。第
1の欠点はライトベリフアイ時の読み出しに回路
動作用電源電圧を上げねばならないことであり、
これはリードモード時の回路動作用電源電圧と異
なる値をとることになり、これは書き込み器を作
るうえに、大きな負荷となる。さらにもう1つの
欠点は、回路動作用電源電圧を上げてもメモリ装
置内の周辺回路(例えば入力バツフア、デコー
ダ、センスアンプ、データ出力バツフアなど)が
十分に動作できる必要が生じる点である。近年の
メモリ装置は要求されるスピードなども厳しく、
製造方法などに様々な工夫が成されており、耐圧
などといつたところで困難さが伴なう可能性が多
分に出てくる。
However, there are drawbacks to this conventional method. The first drawback is that the power supply voltage for circuit operation must be increased for reading during write verification.
This takes a value different from the power supply voltage for circuit operation in the read mode, and this becomes a heavy load when creating a writer. Yet another drawback is that peripheral circuits within the memory device (for example, input buffers, decoders, sense amplifiers, data output buffers, etc.) must be able to operate sufficiently even if the power supply voltage for circuit operation is increased. In recent years, memory devices have strict requirements such as speed.
Various improvements have been made to manufacturing methods, and there is a high possibility that difficulties will arise when it comes to pressure resistance.

本発明はライトベリフアイモード検出回路と、
該回路の出力によりコントロールゲート電圧を上
昇させるコントロール電圧上昇回路とを設けるこ
とにより、上記欠点を補いながら確実に閾値電圧
が変動するまでマージンをもつた書き込みを行な
える半導体メモリ装置を提供するためになされた
ものである。
The present invention includes a write verify eye mode detection circuit,
To provide a semiconductor memory device which is capable of reliably writing with a margin until the threshold voltage fluctuates while compensating for the above drawbacks by providing a control voltage raising circuit which raises the control gate voltage by the output of the circuit. It has been done.

本発明の理解を容易にするため従来のメモリ装
置と対比させながら説明する。第5図a,bは従
来のメモリ装置のブロツク図、デコーダ及びメモ
リ部の回路図である。
In order to facilitate understanding of the present invention, the present invention will be explained in comparison with a conventional memory device. FIGS. 5a and 5b are a block diagram of a conventional memory device and a circuit diagram of a decoder and a memory section.

図において、25は行アドレス入力、26は行
アドレス信号を入力とする行アドレス入力バツフ
ア、27は行デコーダ、27aは行デコーダ出
力、28は列アドレス入力、29は列アドレス信
号を入力とする列アドレス入力バツフア、30は
列デコーダ、30aは列デコーダ出力、31はセ
ンスアンプ、32,33は出力、入力バツフア、
34はデータ入出力である。
In the figure, 25 is a row address input, 26 is a row address input buffer that receives a row address signal, 27 is a row decoder, 27a is a row decoder output, 28 is a column address input, and 29 is a column that receives a column address signal as an input. Address input buffer, 30 is a column decoder, 30a is a column decoder output, 31 is a sense amplifier, 32, 33 are outputs, input buffers,
34 is a data input/output.

まず、選択された行デコーダ出力27aがメモ
リトランジスタ4のコントロールゲートに入力さ
れ、これにより該トランジスタ4の閾値に応じて
該トランジスタ4がON,OFFする。次に選択さ
れた列デコーダ出力30aが上記メモリトランジ
スタ4のドレインの電位をセンスアンプ31に伝
えることにより読み出しが行なわれる。
First, the selected row decoder output 27a is input to the control gate of the memory transistor 4, which turns the transistor 4 ON or OFF according to the threshold value of the transistor 4. Next, the selected column decoder output 30a transmits the drain potential of the memory transistor 4 to the sense amplifier 31, thereby performing reading.

本発明の一実施例を第6図に示す。同図aはブ
ロツク図、同図bは具体的な回路の一例である。
ブロツク図においては、従来のものに比してライ
トベリフアイモード検出回路8と、これに連動し
たコントロールゲート電圧上昇回路12とが付加
されている。本実施例の回路では、ライトベリフ
アイモードであることを上記検出回路8で検出
し、この検出信号と、書き込み時の書き込み用高
電圧とを利用し、ベリフアイ時の読み出しの時だ
け回路動作用電源はそのままでメモリのコントロ
ールゲート電圧だけを自動的に上昇せしめるもの
である。
An embodiment of the present invention is shown in FIG. Figure a is a block diagram, and figure b is an example of a specific circuit.
In the block diagram, a write verification mode detection circuit 8 and a control gate voltage increase circuit 12 linked thereto are added compared to the conventional one. In the circuit of this embodiment, the detection circuit 8 detects that the write verification mode is in effect, and uses this detection signal and a high voltage for writing during writing to perform circuit operation only during reading during verification. It automatically increases only the control gate voltage of the memory while leaving the power supply unchanged.

第6図bに上記実施例の具体的な回路の1例を
示す。ブロツク8はライトベリフアイモード検出
回路で、実際は書き込み用電源6が高電圧(例え
ば25V)になつた時だけ端子10にHighレベル
が出力される回路になるよう各トランジスタの寸
法が決定されている。端子9は本来書き込み、又
は読み出し切り換え信号がありそれぞれ、Low
又はHighレベルになつている。
FIG. 6b shows one example of a specific circuit of the above embodiment. Block 8 is a write verification mode detection circuit, and the dimensions of each transistor are determined so that the circuit outputs a high level to terminal 10 only when the write power supply 6 becomes high voltage (for example, 25V). . Terminal 9 originally has a write or read switching signal, and each is Low.
Or it has reached a high level.

ライトベリフアイモードの読み出しは、書き込
み用電源6に高電圧が印加された状態での読み出
しであるから、端子10にはHighレベルが出て
おり、このHighレベルによりトランジスタ11
がON状態となり、端子9のレベルが下がる。こ
こで端子10の出力レベル,トランジスタ11の
寸法をうまく設定すれば端子9は本来のHighレ
ベルと異つた中間レベルをとることが可能にな
る。第3図の説明で行なつたように、リードモー
ドの読み出し時は、トランジスタ3への入力(こ
の場合は端子9への入力がHighであるためトラ
ンジスタ1の抵抗≫トランジスタ2の抵抗の効果
により、メモリのコントロールゲートには回路動
作用電源電圧に近い値が出力されていたが、ライ
トベリフアイモードではトランジスタ3への入力
が中間レベルをとることとなり、メモリのコント
ロールゲートには書き込み用、回路動作用電源
6,5の中間値(例えば7V)を出力することが
可能になる。
Since reading in the write verification mode is performed while a high voltage is applied to the write power supply 6, a high level is output to the terminal 10, and this high level causes the transistor 11 to
becomes ON, and the level of terminal 9 decreases. If the output level of the terminal 10 and the dimensions of the transistor 11 are properly set, the terminal 9 can take an intermediate level different from the original High level. As explained in the explanation of Fig. 3, when reading in the read mode, the input to transistor 3 (in this case, the input to terminal 9 is High, so the resistance of transistor 1 >> the effect of the resistance of transistor 2) , a value close to the power supply voltage for circuit operation was output to the control gate of the memory, but in write verification mode, the input to transistor 3 takes an intermediate level, and the control gate of the memory has a value close to the power supply voltage for circuit operation. It becomes possible to output an intermediate value (for example, 7V) between the operating power supplies 6 and 5.

なお、上記実施例では浮遊ゲート型メモリトラ
ンジスタを用いた例をもつて説明したが、書き込
み、消去によつて閾値を変動させる不揮発性メモ
リトランジスタを用いたメモリ装置全般に使用が
可能であることはいうまでもない。
In the above embodiment, an example using a floating gate type memory transistor was explained, but it is possible to use it in general memory devices using non-volatile memory transistors whose threshold values are changed by writing and erasing. Needless to say.

以上のように、本発明に係る半導体メモリ装置
によれば、メモリ装置内にライトベリフアイモー
ド検出回路と、この出力で連動するコントロール
ゲート電圧上昇回路とを設けたので、回路動作用
電源電圧を変化させることなくライトベリフアイ
時の読み出しの時のメモリコントロールゲート電
位をリードモード時の読み出し時のメモリコント
ロールゲート電位より高く設定することができ、
自動的にマージンをもつた書き込みの出来るメモ
リ装置を実現することができる効果がある。
As described above, according to the semiconductor memory device according to the present invention, since the write verify mode detection circuit and the control gate voltage increase circuit linked with the output of the write verify mode detection circuit are provided in the memory device, the power supply voltage for circuit operation can be changed. The memory control gate potential for reading during write verification can be set higher than the memory control gate potential for reading during read mode without changing the voltage.
This has the effect of realizing a memory device that can automatically write with a margin.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図aは浮遊ゲート型メモリトランジスタの
断面図、第1図bは上記浮遊ゲート型メモリトラ
ンジスタの書き込み特性の1例を示す特性図、第
2図はメモリの書き込みに使用されるアルゴリズ
ムの1例を示す図、第3図は従来のメモリ装置の
メモリコントロールについての説明図、第4図は
書き込み動作を確実に行なわしめるためのアルゴ
リズムの1例を示す図、第5図aは従来の半導体
メモリ装置のブロツク図、第5図bはその回路
図、第6図aは本発明の一実施例による半導体メ
モリ装置のブロツク図、第6図bは上記実施例の
回路図である。 4…不揮発性メモリトランジスタ、8…ライト
ベリフアイモード検出回路、12…コントロール
ゲート電圧上昇回路。なお図中、同一符号は同一
又は相当部分を示す。
Figure 1a is a cross-sectional view of a floating gate type memory transistor, Figure 1b is a characteristic diagram showing an example of the write characteristics of the floating gate type memory transistor, and Figure 2 is an example of an algorithm used for memory writing. Figure 3 is an explanatory diagram of memory control of a conventional memory device, Figure 4 is a diagram illustrating an example of an algorithm for reliably performing a write operation, and Figure 5a is a diagram of a conventional semiconductor memory device. FIG. 5B is a block diagram of the memory device, FIG. 5B is a circuit diagram thereof, FIG. 6A is a block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a circuit diagram of the above embodiment. 4...Nonvolatile memory transistor, 8...Write verification mode detection circuit, 12...Control gate voltage increase circuit. In the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 書き込みによる電荷の蓄積、消去による電荷
の放出により閾値電圧を変化させ供給電源なしで
電荷の蓄積状態又は放出状態を保持し得る電界効
果型不揮発性メモリトランジスタを備え、動作モ
ードとして少なくとも、各アドレス毎に書き込
み、読み出しを連続して行なうライトベリフアイ
モードと、各アドレス毎に読み出しのみを行なう
リードモードとを有する半導体メモリ装置におい
て、ライトベリフアイモードであることを検出す
るライトベリフアイモード検出回路と、該ライト
ベリフアイモード検出回路の検出信号を受けたと
き上記不揮発性メモリトランジスタのコントロー
ルゲート電位をリードモード時の上記コントロー
ルゲート電位より高く設定するコントロールゲー
ト電圧上昇回路とを備えたことを特徴とする半導
体メモリ装置。 2 上記電界効果型不揮発性メモリトランジスタ
が、電荷の蓄積を行なう浮遊ゲートと、該浮遊ゲ
ート上に絶縁膜を介して設けられたコントロール
ゲートとを有する浮遊ゲート型メモリトランジス
タであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体メモリ装置。
[Claims] 1. A field-effect non-volatile memory transistor capable of changing the threshold voltage by accumulating charge by writing and discharging charge by erasing and maintaining a charge accumulation state or discharge state without a power supply, and operates. In a semiconductor memory device that has at least a write-verify mode in which writing and reading are performed continuously for each address and a read mode in which only reading is performed for each address, the write-verify mode is detected. a write verification mode detection circuit; and a control gate voltage raising circuit that sets the control gate potential of the nonvolatile memory transistor to be higher than the control gate potential in a read mode when receiving a detection signal from the write verification mode detection circuit. A semiconductor memory device comprising: 2. The field effect nonvolatile memory transistor is a floating gate memory transistor having a floating gate that stores charge and a control gate provided on the floating gate with an insulating film interposed therebetween. A semiconductor memory device according to claim 1.
JP57171417A 1982-09-28 1982-09-28 Semiconductor memory device Granted JPS5958861A (en)

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JP57171417A JPS5958861A (en) 1982-09-28 1982-09-28 Semiconductor memory device

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JPH0787039B2 (en) * 1987-12-28 1995-09-20 株式会社東芝 Nonvolatile semiconductor memory device
US4875188A (en) * 1988-01-12 1989-10-17 Intel Corporation Voltage margining circuit for flash eprom

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