JPH0148360B2 - - Google Patents
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- JPH0148360B2 JPH0148360B2 JP58162937A JP16293783A JPH0148360B2 JP H0148360 B2 JPH0148360 B2 JP H0148360B2 JP 58162937 A JP58162937 A JP 58162937A JP 16293783 A JP16293783 A JP 16293783A JP H0148360 B2 JPH0148360 B2 JP H0148360B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/005—Apparatus specially adapted for electrolytic conversion coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
本発明は金属板の電解処理に於て電極の安定性
を著しく向上させうる、電解処理方法及び装置に
関するものである。アルミニウム、鉄などの金属
の表面に電解を応用する方法は例えば鍍金処理、
電解粗面化処理、電解エツチング処理、陽極酸化
処理、電解着色などあつて広汎に実用化されてお
り、利用される電源は要求される品質や反応効率
向上の目的から直流、商用交流、重畳波形電流そ
の他サイリスター制御による特殊波形や矩形波交
番電流等がある。たとえば特公昭56−19280号公
報ではアルミ板の電解処理に於て陽極時電圧が陰
極時電圧より大なるよう印加した交番波形電流を
用いることによりオフセツト印刷版支持体として
優れた粗面化処理が可能になるという記載があ
る。特殊な交番波形電流を用いる時電極の選定が
安定性の点から重要である。一般に電極材料とし
ては白金、タンタル、鉄、鉛、黒鉛等が利用され
るが黒鉛電極は比較的化学的に安定であり製造コ
ストが安価であるため広く利用されている。本発
明の目的は黒鉛材料の特質を生かし非対称交番波
形電流を使用する電解処理に於ても充分に安定性
が確保出来る電解処理方法及び装置を提供するこ
とである。 第１図は従来の黒鉛電極を利用した、金属ウエ
ブの連続電解処理システムの一具体例を示す。金
属ウエブ１はガイドロール２より電解セル３に導
びかれ電解セル３内を水平に搬送されガイドロー
ル４によりセル外に移送される。電解セル３はイ
ンシユレーター５，６により２つの室に分割され
それぞれに黒鉛電極７，８が金属ウエブに対向し
て配置される。９は電解液であり循環タンク１０
にストツクされポンプ１１により電解槽３に内に
設置された電解液供給口１２に送液される。黒鉛
電極７，８と金属ウエブとの間を電解液が満たし
排出口１３を経て循環タンク１０にもどる。１４
は電源であり電極７，８に接続し、電圧印加す
る。電解液９としては硫酸、塩酸、硝酸等が使用
される。このようにすることにより金属ウエブ１
に連続的に電解処理を実施することが出来る。電
源１４には第２図に示すように(1)直流波形、(2)商
用交流、(3)(4)波形制御された交番電流、(5)(6)波形
制御された矩形波交番電流等が利用される。交番
波形においては一般的には順側電流値Inと逆側電
流値Irとの大きさは等しくない。黒鉛電極は一般
的にカソード極としては極めて安定的に作用する
ことが出来るがアノード極として作用する時電解
条件によつては、電解液中でアノード酸化により
CO2となつて消耗すると同時に黒鉛の層間が侵食
され機械的に崩壊して消耗する現象が起る。精密
な電解処理を必要とされる場合はこの現象は電極
内の電流分布に変化が生じるため電解処理が不均
一となり極めて不都合である。このため定期的に
電極を更新する必要があるため量産化の観点から
は生産性を低下させる大きな欠点となつていた。 本発明者らはこの黒鉛電極の消耗を回避するた
め鋭意研究を行つた結果、非対称交番波形電流を
用いる系において黒鉛電極の安定条件を見いだす
ことが出来た。第１図の電解セルに於て第２図(4)
の非対称波形電流（In＞Ir）を使用し順側端子を
電極７、逆側を電極８に接続し、周波数60Hz、電
流密度50A／ｄm2で１％HCl電解浴にて処理した
所、黒鉛電極７の消耗が激しく逆に黒鉛電極８は
全く安定であつた。電源の接続を逆にすると電極
も逆に８が消耗をはじめ７は消耗を停止した。即
ちこれらは非対称波形電流を使用する場合に、電
気化学的に黒鉛電極がアノード極として作用する
周期の電流値をIa、カソード極として作用する周
期の電流値をIcとすると、Ia＞Icの時黒鉛電極の
消耗が起こりIa＜Icの時に安定であることを示し
ている。本発明者らはこの安定条件に着眼し、非
対称波形を用いる場合において、両方の黒鉛電極
を安定に維持出来る新規な電解処理方法及び装置
を開発した。 すなわち、本発明は黒鉛電極を使用しかつ非対
称交番波形電流を使用する液体給電による金属ウ
エブの連続電解処理に於て金属ウエブに対向して
配置した処理部黒鉛電極の前後に給電部黒鉛電極
を配置し、更にそれらの前後に給電部補助アノー
ド電極を配置し、非対称波形のうち大なる周期の
電流値の一部を該補助アノード電極に分流させる
ことにより黒鉛電極表面で作用するアノード反応
にあずかる電流値よりもカソード反応にあずかる
電流値が大きくなるように制御することを特徴と
する電解処理方法及び装置である。 以下、本発明の内容を添付図面に従つて更に詳
細に説明する。 第３図は本発明による電解方法を利用した金属
ウエブの連続電解処理の一実施態様を示す。金属
ウエブ２１はガイドロール２２により電解セル２
３に導びかれガイドロール２４によりセル外に移
送される。電解セル２３の中央部に金属ウエブ２
１に対向して処理部黒鉛電極２５が配置されその
前後に給電部黒鉛電極２６，２７が配置されさら
にそれらの前後に給電部補助アノード電極２８，
２９が配置される。ここで「前後」とは金属ウエ
ブ２１の進行方向に沿つた位置関係を示す。補助
アノード電極２８，２９としては不溶性アノード
電極たとえば白金、鉛等を利用する。当然のこと
ながら電解液３０は循環タンク３１にストツクさ
れポンプ３２等により電解層２３内に設置された
電解液供給口３３に給液され金属ウエブと各電極
との間隙を満し、排出口３４を経て循環タンク３
１にもどる。３５，３６，３７，３８はインシユ
レータ、３９は非対称波形電源である。電源３９
から流れる順側及び逆側電流値をそれぞれIN、IR
とするとIN＞IRである。順側端子を給電部黒鉛電
極２６，２７とサイリスター又はダイオード４
０，４１を介して不溶性アノード電極２８，２９
に接続する。又逆側端子を処理部黒鉛電極２５に
接続し電圧印加する。この時IN＝IR＋α（α70）が
成立するとし又黒鉛電極２６，２７及び不溶性ア
ノード電極である補助アノード電極２８，２９に
流れる順側電流値をそれぞれIN、IN、IN、
INとする時IN＝IN、IN＝IN、かつα＜IN
＋INとなるように制御する。制御の方法とし
ては回路中に可変抵抗を入れても良いしサイリス
ターによりゲートタイムを制御することも出来る
又、金属ウエブ２１と各電極２６，２７，２８，
２９との極間隔や電極長を制御することによつて
も可能である。順側電流INは上記の４個の各電極
より金属ウエブ２１を介して処理部黒鉛電極２５
に流れ込む。一方逆側電流IRは黒鉛電極２５より
金属ウエブ２１を介して黒鉛電極２６，２７に流
れこむ。この時の電流値をそれぞれIR、IRと
する時IR＝IR＝１／２IRとなる。こうすることに よりすべての黒鉛電極の消耗を回避出来又セル内
の電極配置の左右対称形としたことによつて金属
ウエブの長手方向での電流分布が均一となり、精
密な電解処理が可能となつた。電極安定性が確保
可能な理由をさらに説明すると、黒鉛電極２５に
ついてはアノードとして作用する時の電流Ia＝
IR、カソードとして作用する時の電流Ic＝INであ
りIa＜Icが成立する又黒鉛電極２６についてはIa
＝IN＝１／２｛IN−（IN＋IN）｝、Ic＝IR＝１
／２ IRとなり一方IR＝IN−αでありかつ（IN＋IN）
＞α故IR＝１／２（IN−α）＞INとなりIa＜Icが 成立する。黒鉛電極２７についても同様である。
又補助アノード電極については不溶性アノード電
極を使用しておりかつサイリスターあるいはダイ
オードにより順側電流のみが流れ常にアノード電
極として作用するため安定性が確保出来る。本発
明の特徴は補助アノード電極を設置し非対称波形
電流の一部を分流させることによりすべての黒鉛
電極表面で作用するアノード反応にあずかる電流
値Iaよりもカソード反応に反応にあずかる電流値
Icを大きくなるよう制御することにより黒鉛電極
の消耗を回避することであり、又今１つの特徴は
電解セル内での電極配置を前後対称としたことで
長手方向での電流分布の均一化が可能となり精密
な電解処理が可能となつたのみでなく、黒鉛電極
表面での長手方向の電流アンバランスを回避出
来、黒鉛電極安定条件の制御を容易ならしめたこ
とである。又第４図は本発明の電極配置及び制御
方法をラジアル型セルに適用した電解処理装置で
ある。即ちドラムロール４２の真下に電解液給液
部３３を配設し、ドラムロール４２に沿つて走行
する金属ウエブ２１のダウンパス部とアツプパス
部に処理部黒鉛電極２５、給電部黒鉛電極２６，
２７及び補助アノード電極２８，２９からなる電
極ユニツトと処理部黒鉛電極２５′、給電部黒鉛
電極２６′，２７′及び補助アノード電極２８′，
２９′からなる電極ユニツトとをそれぞれ配置し
たことを特徴とするラジアル型電解処理装置であ
る。 第４図において、３４，３４′は電解液３０の
オーバーフロー排出口、３６，３８，３６′，３
８′はインシユレータ、４０：４０′：４１，４
１′はサイリスタもしくはダイオードで、これら
及びその他の構成要素は第３図における場合と同
様である。 第４図に示す本発明の電解処理装置においては
金属ウエブ２１がゴム製のドラムロール４２に巻
きつけられ、金属ウエブ２１の裏面が電気的に遮
幣されているためこの部分への電流の拡散は全く
防止でき、又各電極と金属ウエブとの極間隔もテ
ンシヨン変動等をうけても精密に維持することが
出来る。 これらの効果により本発明の特徴である各電極
への電流分配の制御や、長手方向の電流の均一化
を行う場合に極めて都合が良い。又ラジアル型セ
ルの場合は金属ウエブの走行位置を安定に確保出
来るため、極間隔を極端に小さくすることが出来
る。極間隔を小さくおさえ、さらに黒鉛電極間に
挿入した絶縁材料からなるインシユレーター３
６，３６′，３８，３８′により、金属ウエブを介
さず、電解液のみを介して黒鉛電極間を流れる処
理反応に無効な電流を極端に小さくおさえること
ができる。たとえば黒鉛電極長を600mmとしイン
シユレーター長を100mmとし極間隔を10mmとして
１％HCl電解浴中で厚み0.2mm巾300mmのアルミニ
ウムウエブに電流密度30A／ｄm2にて電解研摩処
理を行う時この無効な電流は全電流の0.5％以下
におさえることが出来る。これにより黒鉛電極の
電流制御精度をさらに向上出来ると同時にセル内
での電圧ロスを減少しランニングコストの低下に
つながる。以上のようにラジアル型セルに本発明
の特徴を生した電解処理方式は極めてメリツトが
大きい。次に本発明による実施例を示す。 実施例 硝酸１％水溶液中で温度35℃でオフセツト印刷
版支持体としてアルミニウム板の連続電解粗面化
処理を第４図に示す電解処理装置にて第２図６に
示す非対称交番波形電流を使用して行つた。電極
２５，２６，２７，２５′，２６′，２７′は黒鉛
電極を使用し給電部補助アノード電極２８，２
９，２８′，２９′としては白金不溶性アノード電
極使用した。IN＝1000A、IR＝900Aにて処理速度
４ｍ／Ｍにて20時間連続電解処理した後黒鉛電極
２５，２６，２７，２５′，２６′，２７′の表面
を目視観察し消耗の状態をチエツクした。給電部
黒鉛電極２５，２５′と給電部補助アノード電極
２８，２９，２８′，２９′への分流制御は回路中
に抵抗器を入れて行つた。４本の補助アノード電
極２８，２９，２８′，２９′への分流電流の和を
βとする時βは50、100、200、300Aと変化させ
た。１本あたりは1/4βである。又周波数につい
ては30〜90Hzまで変化させたがこれに関係なく第
１表に示す如きIa、Icの大小と黒鉛電極の消耗の
状態との関係を示す結果が得られた。
を著しく向上させうる、電解処理方法及び装置に
関するものである。アルミニウム、鉄などの金属
の表面に電解を応用する方法は例えば鍍金処理、
電解粗面化処理、電解エツチング処理、陽極酸化
処理、電解着色などあつて広汎に実用化されてお
り、利用される電源は要求される品質や反応効率
向上の目的から直流、商用交流、重畳波形電流そ
の他サイリスター制御による特殊波形や矩形波交
番電流等がある。たとえば特公昭56−19280号公
報ではアルミ板の電解処理に於て陽極時電圧が陰
極時電圧より大なるよう印加した交番波形電流を
用いることによりオフセツト印刷版支持体として
優れた粗面化処理が可能になるという記載があ
る。特殊な交番波形電流を用いる時電極の選定が
安定性の点から重要である。一般に電極材料とし
ては白金、タンタル、鉄、鉛、黒鉛等が利用され
るが黒鉛電極は比較的化学的に安定であり製造コ
ストが安価であるため広く利用されている。本発
明の目的は黒鉛材料の特質を生かし非対称交番波
形電流を使用する電解処理に於ても充分に安定性
が確保出来る電解処理方法及び装置を提供するこ
とである。 第１図は従来の黒鉛電極を利用した、金属ウエ
ブの連続電解処理システムの一具体例を示す。金
属ウエブ１はガイドロール２より電解セル３に導
びかれ電解セル３内を水平に搬送されガイドロー
ル４によりセル外に移送される。電解セル３はイ
ンシユレーター５，６により２つの室に分割され
それぞれに黒鉛電極７，８が金属ウエブに対向し
て配置される。９は電解液であり循環タンク１０
にストツクされポンプ１１により電解槽３に内に
設置された電解液供給口１２に送液される。黒鉛
電極７，８と金属ウエブとの間を電解液が満たし
排出口１３を経て循環タンク１０にもどる。１４
は電源であり電極７，８に接続し、電圧印加す
る。電解液９としては硫酸、塩酸、硝酸等が使用
される。このようにすることにより金属ウエブ１
に連続的に電解処理を実施することが出来る。電
源１４には第２図に示すように(1)直流波形、(2)商
用交流、(3)(4)波形制御された交番電流、(5)(6)波形
制御された矩形波交番電流等が利用される。交番
波形においては一般的には順側電流値Inと逆側電
流値Irとの大きさは等しくない。黒鉛電極は一般
的にカソード極としては極めて安定的に作用する
ことが出来るがアノード極として作用する時電解
条件によつては、電解液中でアノード酸化により
CO2となつて消耗すると同時に黒鉛の層間が侵食
され機械的に崩壊して消耗する現象が起る。精密
な電解処理を必要とされる場合はこの現象は電極
内の電流分布に変化が生じるため電解処理が不均
一となり極めて不都合である。このため定期的に
電極を更新する必要があるため量産化の観点から
は生産性を低下させる大きな欠点となつていた。 本発明者らはこの黒鉛電極の消耗を回避するた
め鋭意研究を行つた結果、非対称交番波形電流を
用いる系において黒鉛電極の安定条件を見いだす
ことが出来た。第１図の電解セルに於て第２図(4)
の非対称波形電流（In＞Ir）を使用し順側端子を
電極７、逆側を電極８に接続し、周波数60Hz、電
流密度50A／ｄm2で１％HCl電解浴にて処理した
所、黒鉛電極７の消耗が激しく逆に黒鉛電極８は
全く安定であつた。電源の接続を逆にすると電極
も逆に８が消耗をはじめ７は消耗を停止した。即
ちこれらは非対称波形電流を使用する場合に、電
気化学的に黒鉛電極がアノード極として作用する
周期の電流値をIa、カソード極として作用する周
期の電流値をIcとすると、Ia＞Icの時黒鉛電極の
消耗が起こりIa＜Icの時に安定であることを示し
ている。本発明者らはこの安定条件に着眼し、非
対称波形を用いる場合において、両方の黒鉛電極
を安定に維持出来る新規な電解処理方法及び装置
を開発した。 すなわち、本発明は黒鉛電極を使用しかつ非対
称交番波形電流を使用する液体給電による金属ウ
エブの連続電解処理に於て金属ウエブに対向して
配置した処理部黒鉛電極の前後に給電部黒鉛電極
を配置し、更にそれらの前後に給電部補助アノー
ド電極を配置し、非対称波形のうち大なる周期の
電流値の一部を該補助アノード電極に分流させる
ことにより黒鉛電極表面で作用するアノード反応
にあずかる電流値よりもカソード反応にあずかる
電流値が大きくなるように制御することを特徴と
する電解処理方法及び装置である。 以下、本発明の内容を添付図面に従つて更に詳
細に説明する。 第３図は本発明による電解方法を利用した金属
ウエブの連続電解処理の一実施態様を示す。金属
ウエブ２１はガイドロール２２により電解セル２
３に導びかれガイドロール２４によりセル外に移
送される。電解セル２３の中央部に金属ウエブ２
１に対向して処理部黒鉛電極２５が配置されその
前後に給電部黒鉛電極２６，２７が配置されさら
にそれらの前後に給電部補助アノード電極２８，
２９が配置される。ここで「前後」とは金属ウエ
ブ２１の進行方向に沿つた位置関係を示す。補助
アノード電極２８，２９としては不溶性アノード
電極たとえば白金、鉛等を利用する。当然のこと
ながら電解液３０は循環タンク３１にストツクさ
れポンプ３２等により電解層２３内に設置された
電解液供給口３３に給液され金属ウエブと各電極
との間隙を満し、排出口３４を経て循環タンク３
１にもどる。３５，３６，３７，３８はインシユ
レータ、３９は非対称波形電源である。電源３９
から流れる順側及び逆側電流値をそれぞれIN、IR
とするとIN＞IRである。順側端子を給電部黒鉛電
極２６，２７とサイリスター又はダイオード４
０，４１を介して不溶性アノード電極２８，２９
に接続する。又逆側端子を処理部黒鉛電極２５に
接続し電圧印加する。この時IN＝IR＋α（α70）が
成立するとし又黒鉛電極２６，２７及び不溶性ア
ノード電極である補助アノード電極２８，２９に
流れる順側電流値をそれぞれIN、IN、IN、
INとする時IN＝IN、IN＝IN、かつα＜IN
＋INとなるように制御する。制御の方法とし
ては回路中に可変抵抗を入れても良いしサイリス
ターによりゲートタイムを制御することも出来る
又、金属ウエブ２１と各電極２６，２７，２８，
２９との極間隔や電極長を制御することによつて
も可能である。順側電流INは上記の４個の各電極
より金属ウエブ２１を介して処理部黒鉛電極２５
に流れ込む。一方逆側電流IRは黒鉛電極２５より
金属ウエブ２１を介して黒鉛電極２６，２７に流
れこむ。この時の電流値をそれぞれIR、IRと
する時IR＝IR＝１／２IRとなる。こうすることに よりすべての黒鉛電極の消耗を回避出来又セル内
の電極配置の左右対称形としたことによつて金属
ウエブの長手方向での電流分布が均一となり、精
密な電解処理が可能となつた。電極安定性が確保
可能な理由をさらに説明すると、黒鉛電極２５に
ついてはアノードとして作用する時の電流Ia＝
IR、カソードとして作用する時の電流Ic＝INであ
りIa＜Icが成立する又黒鉛電極２６についてはIa
＝IN＝１／２｛IN−（IN＋IN）｝、Ic＝IR＝１
／２ IRとなり一方IR＝IN−αでありかつ（IN＋IN）
＞α故IR＝１／２（IN−α）＞INとなりIa＜Icが 成立する。黒鉛電極２７についても同様である。
又補助アノード電極については不溶性アノード電
極を使用しておりかつサイリスターあるいはダイ
オードにより順側電流のみが流れ常にアノード電
極として作用するため安定性が確保出来る。本発
明の特徴は補助アノード電極を設置し非対称波形
電流の一部を分流させることによりすべての黒鉛
電極表面で作用するアノード反応にあずかる電流
値Iaよりもカソード反応に反応にあずかる電流値
Icを大きくなるよう制御することにより黒鉛電極
の消耗を回避することであり、又今１つの特徴は
電解セル内での電極配置を前後対称としたことで
長手方向での電流分布の均一化が可能となり精密
な電解処理が可能となつたのみでなく、黒鉛電極
表面での長手方向の電流アンバランスを回避出
来、黒鉛電極安定条件の制御を容易ならしめたこ
とである。又第４図は本発明の電極配置及び制御
方法をラジアル型セルに適用した電解処理装置で
ある。即ちドラムロール４２の真下に電解液給液
部３３を配設し、ドラムロール４２に沿つて走行
する金属ウエブ２１のダウンパス部とアツプパス
部に処理部黒鉛電極２５、給電部黒鉛電極２６，
２７及び補助アノード電極２８，２９からなる電
極ユニツトと処理部黒鉛電極２５′、給電部黒鉛
電極２６′，２７′及び補助アノード電極２８′，
２９′からなる電極ユニツトとをそれぞれ配置し
たことを特徴とするラジアル型電解処理装置であ
る。 第４図において、３４，３４′は電解液３０の
オーバーフロー排出口、３６，３８，３６′，３
８′はインシユレータ、４０：４０′：４１，４
１′はサイリスタもしくはダイオードで、これら
及びその他の構成要素は第３図における場合と同
様である。 第４図に示す本発明の電解処理装置においては
金属ウエブ２１がゴム製のドラムロール４２に巻
きつけられ、金属ウエブ２１の裏面が電気的に遮
幣されているためこの部分への電流の拡散は全く
防止でき、又各電極と金属ウエブとの極間隔もテ
ンシヨン変動等をうけても精密に維持することが
出来る。 これらの効果により本発明の特徴である各電極
への電流分配の制御や、長手方向の電流の均一化
を行う場合に極めて都合が良い。又ラジアル型セ
ルの場合は金属ウエブの走行位置を安定に確保出
来るため、極間隔を極端に小さくすることが出来
る。極間隔を小さくおさえ、さらに黒鉛電極間に
挿入した絶縁材料からなるインシユレーター３
６，３６′，３８，３８′により、金属ウエブを介
さず、電解液のみを介して黒鉛電極間を流れる処
理反応に無効な電流を極端に小さくおさえること
ができる。たとえば黒鉛電極長を600mmとしイン
シユレーター長を100mmとし極間隔を10mmとして
１％HCl電解浴中で厚み0.2mm巾300mmのアルミニ
ウムウエブに電流密度30A／ｄm2にて電解研摩処
理を行う時この無効な電流は全電流の0.5％以下
におさえることが出来る。これにより黒鉛電極の
電流制御精度をさらに向上出来ると同時にセル内
での電圧ロスを減少しランニングコストの低下に
つながる。以上のようにラジアル型セルに本発明
の特徴を生した電解処理方式は極めてメリツトが
大きい。次に本発明による実施例を示す。 実施例 硝酸１％水溶液中で温度35℃でオフセツト印刷
版支持体としてアルミニウム板の連続電解粗面化
処理を第４図に示す電解処理装置にて第２図６に
示す非対称交番波形電流を使用して行つた。電極
２５，２６，２７，２５′，２６′，２７′は黒鉛
電極を使用し給電部補助アノード電極２８，２
９，２８′，２９′としては白金不溶性アノード電
極使用した。IN＝1000A、IR＝900Aにて処理速度
４ｍ／Ｍにて20時間連続電解処理した後黒鉛電極
２５，２６，２７，２５′，２６′，２７′の表面
を目視観察し消耗の状態をチエツクした。給電部
黒鉛電極２５，２５′と給電部補助アノード電極
２８，２９，２８′，２９′への分流制御は回路中
に抵抗器を入れて行つた。４本の補助アノード電
極２８，２９，２８′，２９′への分流電流の和を
βとする時βは50、100、200、300Aと変化させ
た。１本あたりは1/4βである。又周波数につい
ては30〜90Hzまで変化させたがこれに関係なく第
１表に示す如きIa、Icの大小と黒鉛電極の消耗の
状態との関係を示す結果が得られた。
【表】
又上記条件のNo.３、No.４についてはオフセツト
印刷版支持体として優れた粗面化表面を得ること
が出来た。 本発明によれば、上述の如く電極の消耗を極め
て低くおさえることが出来るので、効率の良い連
続電解処理が可能となり工程が安定する上、保守
点検作業の省略、コストダウン等副次的な効果が
期待できる。 本発明は実施例に限定されず広範囲な応用が可
能となる。
印刷版支持体として優れた粗面化表面を得ること
が出来た。 本発明によれば、上述の如く電極の消耗を極め
て低くおさえることが出来るので、効率の良い連
続電解処理が可能となり工程が安定する上、保守
点検作業の省略、コストダウン等副次的な効果が
期待できる。 本発明は実施例に限定されず広範囲な応用が可
能となる。
第１図は従来の連続電解処理装置の一例を示す
模式的説明図であり、第２図は電流波形を示す図
である。第３図は本発明方法を利用した連続電解
処理装置の一例を示す模式的説明図であり、第４
図は本発明に係る電解処理装置の一実施例を示す
模式的説明図である。 １，２１……金属ウエブ、３，２３……電解セ
ル、９，３０……電解液、５，６，３５，３６，
３７，３８，３６′，３８′……インシユレータ、
７，８……黒鉛電極、２５，２５′……処理部黒
鉛電極、２６，２７，２６′，２７′……給電部黒
鉛電極、２８，２９，２８′，２９′……補助アノ
ード電極としての不溶性アノード電極、４０，４
１，４０′，４１′……タイオード、１４，３９…
…電源。
模式的説明図であり、第２図は電流波形を示す図
である。第３図は本発明方法を利用した連続電解
処理装置の一例を示す模式的説明図であり、第４
図は本発明に係る電解処理装置の一実施例を示す
模式的説明図である。 １，２１……金属ウエブ、３，２３……電解セ
ル、９，３０……電解液、５，６，３５，３６，
３７，３８，３６′，３８′……インシユレータ、
７，８……黒鉛電極、２５，２５′……処理部黒
鉛電極、２６，２７，２６′，２７′……給電部黒
鉛電極、２８，２９，２８′，２９′……補助アノ
ード電極としての不溶性アノード電極、４０，４
１，４０′，４１′……タイオード、１４，３９…
…電源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 黒鉛電極を使用しかつ非対称交番波形電流を
使用する液体給電による金属ウエブの連続電解処
理に於て金属ウエブに対向して配置した処理部黒
鉛電極の前後に給電部黒鉛電極を配置しさらにそ
れらの前後に給電部補助アノード電極を配置した
電解処理装置であつて、真下に電解液給液部を配
設し処理部黒鉛電極、給電部黒鉛電極及び補助ア
ノード電極からなる電極ユニツトを金属ウエブの
ダウンパス部及びアツプパス部にそれぞれ配置し
たことを特徴とするラジアル型電解処理装置。 ２ 該処理部黒鉛電極と該給電部黒鉛電極との間
に絶縁材からなる長さ100mm以上のインシユレー
ターを配置しかつ金属ウエブと各電極及びインシ
ユレーターとの間隙を10mm以下としたことを特徴
とする特許請求範囲第１項記載の電解処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162937A JPS6056099A (ja) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | 電解処理装置 |
| US06/647,517 US4597837A (en) | 1983-09-05 | 1984-09-05 | Method and apparatus for electrolytic treatment |
| EP84110580A EP0134580B1 (en) | 1983-09-05 | 1984-09-05 | Method and apparatus for electrolytic treatment |
| DE8484110580T DE3477589D1 (en) | 1983-09-05 | 1984-09-05 | Method and apparatus for electrolytic treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162937A JPS6056099A (ja) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | 電解処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6056099A JPS6056099A (ja) | 1985-04-01 |
| JPH0148360B2 true JPH0148360B2 (ja) | 1989-10-18 |
Family
ID=15764075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58162937A Granted JPS6056099A (ja) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | 電解処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4597837A (ja) |
| EP (1) | EP0134580B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6056099A (ja) |
| DE (1) | DE3477589D1 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5167790A (en) * | 1985-09-27 | 1992-12-01 | Washington University | Field-inversion gel electrophoresis |
| JPH0637716B2 (ja) * | 1987-08-21 | 1994-05-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 電解処理方法 |
| JPH07423B2 (ja) * | 1987-11-27 | 1995-01-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| DE3901807A1 (de) * | 1989-01-21 | 1990-07-26 | Roland Schnettler | Vorrichtung zum elektrolytischen abscheiden von metallen auf einer oder beiden seiten von baendern |
| EP0999295A3 (de) * | 1998-10-23 | 2006-05-17 | SMS Demag AG | Anordnung zur elektrogalvanischen Metallbeschichtung von Bändern |
| US6146515A (en) * | 1998-12-16 | 2000-11-14 | Tecnu, Inc. | Power supply and method for producing non-periodic complex waveforms |
| JP2001011694A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理方法 |
| DE19951325C2 (de) * | 1999-10-20 | 2003-06-26 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen Strukturen auf Oberflächen von elektrisch isolierendem Folienmaterial sowie Anwendungen des Verfahrens |
| DE19951324C2 (de) * | 1999-10-20 | 2003-07-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch leitfähigen Oberflächen von gegeneinander vereinzelten Platten- und Folienmaterialstücken sowie Anwendung des Verfahrens |
| RU2213811C1 (ru) * | 2000-07-28 | 2003-10-10 | Рябков Данила Витальевич | Усовершенствованный процесс и аппарат для очистки и/или покрытия металлических поверхностей с использованием технологии электроплазмы |
| JP4038041B2 (ja) * | 2001-12-05 | 2008-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 電解処理装置 |
| DE102009041068A1 (de) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | GM Global Technology Operations, Inc., Detroit | Vorrichtung sowie Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer Schicht auf einen Gegenstand |
| CN102337577B (zh) * | 2010-07-22 | 2014-03-12 | 富葵精密组件(深圳)有限公司 | 电镀装置 |
| CN111379010B (zh) * | 2020-04-10 | 2021-06-04 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 石墨电极板、电解腐蚀装置和方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2901412A (en) * | 1955-12-09 | 1959-08-25 | Reynolds Metals Co | Apparatus for anodizing aluminum surfaces |
| US2951025A (en) * | 1957-06-13 | 1960-08-30 | Reynolds Metals Co | Apparatus for anodizing aluminum |
| GB1548689A (en) * | 1975-11-06 | 1979-07-18 | Nippon Light Metal Res Labor | Process for electrograining aluminum substrates for lithographic printing |
| US4214961A (en) * | 1979-03-01 | 1980-07-29 | Swiss Aluminium Ltd. | Method and apparatus for continuous electrochemical treatment of a metal web |
| JPS55158298A (en) * | 1979-05-30 | 1980-12-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of support for lithographic plate |
| JPS5629699A (en) * | 1979-08-15 | 1981-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Surface roughening method by electrolysis |
| US4297184A (en) * | 1980-02-19 | 1981-10-27 | United Chemi-Con, Inc. | Method of etching aluminum |
| US4315806A (en) * | 1980-09-19 | 1982-02-16 | Sprague Electric Company | Intermittent AC etching of aluminum foil |
| US4622512A (en) * | 1985-02-11 | 1986-11-11 | Analog Devices, Inc. | Band-gap reference circuit for use with CMOS IC chips |
-
1983
- 1983-09-05 JP JP58162937A patent/JPS6056099A/ja active Granted
-
1984
- 1984-09-05 US US06/647,517 patent/US4597837A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-09-05 DE DE8484110580T patent/DE3477589D1/de not_active Expired
- 1984-09-05 EP EP84110580A patent/EP0134580B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3477589D1 (en) | 1989-05-11 |
| US4597837A (en) | 1986-07-01 |
| JPS6056099A (ja) | 1985-04-01 |
| EP0134580B1 (en) | 1989-04-05 |
| EP0134580A1 (en) | 1985-03-20 |
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