JPH0149403B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0149403B2 JPH0149403B2 JP23823484A JP23823484A JPH0149403B2 JP H0149403 B2 JPH0149403 B2 JP H0149403B2 JP 23823484 A JP23823484 A JP 23823484A JP 23823484 A JP23823484 A JP 23823484A JP H0149403 B2 JPH0149403 B2 JP H0149403B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- wax
- reaction
- molecular weight
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 18
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 13
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000003797 telogen phase Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBZVMYYMRHOXSX-UHFFFAOYSA-N NN.F.F.F.F Chemical compound NN.F.F.F.F KBZVMYYMRHOXSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012431 aqueous reaction media Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- ULFHSQLFQYTZLS-UHFFFAOYSA-N difluoroamine Chemical compound FNF ULFHSQLFQYTZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017051 nitrogen difluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920013653 perfluoroalkoxyethylene Polymers 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、含フツ素ポリマーの低分子量物の製
造方法に関し、更に詳しくはポリテトラフルオロ
エチレン等の含フツ素ポリマーと含チツ素フツ素
化合物と接触反応させる低分子量化合物（ワツク
ス）の製造方法に関するものである。
造方法に関し、更に詳しくはポリテトラフルオロ
エチレン等の含フツ素ポリマーと含チツ素フツ素
化合物と接触反応させる低分子量化合物（ワツク
ス）の製造方法に関するものである。
ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）をはじ
めとする含フツ素ポリマーの低分子量物は潤滑性
能、低表面エネルギー性などに優れているため潤
滑剤や離型剤等に広く使用されている。
めとする含フツ素ポリマーの低分子量物は潤滑性
能、低表面エネルギー性などに優れているため潤
滑剤や離型剤等に広く使用されている。
（従来の技術）
なかでも低分子量のPTFEはテトラフルオロエ
チレン（TFE）ワツクスと呼ばれ種々の製法が
提案されており、TFEのテロメリゼーシヨンに
よるワツクスの製造方法は古くから知られ工業的
にも実施されている。
チレン（TFE）ワツクスと呼ばれ種々の製法が
提案されており、TFEのテロメリゼーシヨンに
よるワツクスの製造方法は古くから知られ工業的
にも実施されている。
しかしながら、これまでの多くの方法は例えば
テロゲンとなる化合物を反応媒体として使用する
ため（例えば特開昭51―41085号）温度など反応
条件の制御が困難であり、分子量などのコントロ
ール技術を必要とし、モノマーとテロゲンの分離
に問題が残る。また水性反応媒体を用いる方法も
知られているが、生成ワツクスの熱安定性の問
題、反応後のモノマーとテロマーとの分離が困難
である。
テロゲンとなる化合物を反応媒体として使用する
ため（例えば特開昭51―41085号）温度など反応
条件の制御が困難であり、分子量などのコントロ
ール技術を必要とし、モノマーとテロゲンの分離
に問題が残る。また水性反応媒体を用いる方法も
知られているが、生成ワツクスの熱安定性の問
題、反応後のモノマーとテロマーとの分離が困難
である。
一方、PTFEを熱分解して低分子にする方法と
してけい素、アルミニウム、マグネシウム、黒鉛
の存在下低温での熱分解する方法（特公昭56―
25446号）。空気またはO2，SO2，NO等の劣化促
進剤の存在下熱分解する方法、更にはKNO3，
NaNO3溶融塩中で加熱分解する方法などが知ら
れているが原料PTFEが高価であるためスクラツ
プ以外には使用しにくく、均一な製品が得られ難
いこと、発生する有毒な熱分解ガスの廃棄処理が
困難であることなど解決する問題がある。
してけい素、アルミニウム、マグネシウム、黒鉛
の存在下低温での熱分解する方法（特公昭56―
25446号）。空気またはO2，SO2，NO等の劣化促
進剤の存在下熱分解する方法、更にはKNO3，
NaNO3溶融塩中で加熱分解する方法などが知ら
れているが原料PTFEが高価であるためスクラツ
プ以外には使用しにくく、均一な製品が得られ難
いこと、発生する有毒な熱分解ガスの廃棄処理が
困難であることなど解決する問題がある。
また最近開発された方法としてPTFEに放射線
（Ｘ線，γ線）を照射して分解させる方法として、
酸素および水素を添加し照射させることで少ない
放射線量で分解の効率化を図る改良方法（特公昭
56―8043号）なども知られている。しかし放射線
は一般に取扱いにくくコスト高であるため工業的
製法として採用するにはそれ相応の設備を必要と
する。
（Ｘ線，γ線）を照射して分解させる方法として、
酸素および水素を添加し照射させることで少ない
放射線量で分解の効率化を図る改良方法（特公昭
56―8043号）なども知られている。しかし放射線
は一般に取扱いにくくコスト高であるため工業的
製法として採用するにはそれ相応の設備を必要と
する。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明者らは上記従来法の欠点解消として、別
異な新規製法を種々検討した結果、含フツ素ポリ
マーを常温で安定な化合物である含チツ素フツ素
化合物と接触反応させることで高収率でコントロ
ールされた分子量分布を持つ含フツ素ポリマーの
低分子量物が得られることを見い出し本発明に到
達した。
異な新規製法を種々検討した結果、含フツ素ポリ
マーを常温で安定な化合物である含チツ素フツ素
化合物と接触反応させることで高収率でコントロ
ールされた分子量分布を持つ含フツ素ポリマーの
低分子量物が得られることを見い出し本発明に到
達した。
（問題を解決するための手段）
本発明の具体的実施方法においては、各ポリマ
ーにより反応条件は異なるが、反応温度は250〜
550℃好ましくは350〜500℃において行われる。
250℃以下では接触反応に長時間を必要とし、550
℃以上では均一な製品が得られず該温度範囲にお
いては容易に低分子量化の反応が短時間に進行
し、ワツクス状のものが得られる。
ーにより反応条件は異なるが、反応温度は250〜
550℃好ましくは350〜500℃において行われる。
250℃以下では接触反応に長時間を必要とし、550
℃以上では均一な製品が得られず該温度範囲にお
いては容易に低分子量化の反応が短時間に進行
し、ワツクス状のものが得られる。
以下本発明を詳述する。
本発明における原料の含フツ素ポリマーは
PTFE、テトラフルオロエチレン―ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体（FEP）、テトラフルオロ
エチレン―パーフルオロアルコキシエチレン共重
合体（PFA）、クロロトリフルオロエチレン
（CTFE）エチレン―テトラフルオロエチレン共
重合体（ETFE）およびポリビニリデンフルオラ
イド（PvdF）、ポリビニルフルオライド（PVF）
などの粉末、ペレツト、シート状物スクラツプあ
るいはフイラー入りのものなどいかなる形状のも
のでも使用できる。供給する含フツ素フツ素化物
としては三フツ化窒素（NF3）、二フツ化窒素
（NF2）、四フツ化ヒドラジン（N2F4）、二フツ化
ジアジン（N2F2）、フツ化アジン（N3F）等の二
元素よりなるＮ―Ｆ化合物が挙げられなかんず
く、NF3は常温では無色の安定な気体（融点−
206.8℃、沸点−129.1℃）で、高温では酸化力が
強く300℃以上で容易にＦラジカルを発生する特
異的なフツ素化剤であり、含フツ素ポリマーの主
鎖の切断および生成したポリマーの末端ラジカル
をカツプリング安定化させ反応制御を容易にする
ものである。
PTFE、テトラフルオロエチレン―ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体（FEP）、テトラフルオロ
エチレン―パーフルオロアルコキシエチレン共重
合体（PFA）、クロロトリフルオロエチレン
（CTFE）エチレン―テトラフルオロエチレン共
重合体（ETFE）およびポリビニリデンフルオラ
イド（PvdF）、ポリビニルフルオライド（PVF）
などの粉末、ペレツト、シート状物スクラツプあ
るいはフイラー入りのものなどいかなる形状のも
のでも使用できる。供給する含フツ素フツ素化物
としては三フツ化窒素（NF3）、二フツ化窒素
（NF2）、四フツ化ヒドラジン（N2F4）、二フツ化
ジアジン（N2F2）、フツ化アジン（N3F）等の二
元素よりなるＮ―Ｆ化合物が挙げられなかんず
く、NF3は常温では無色の安定な気体（融点−
206.8℃、沸点−129.1℃）で、高温では酸化力が
強く300℃以上で容易にＦラジカルを発生する特
異的なフツ素化剤であり、含フツ素ポリマーの主
鎖の切断および生成したポリマーの末端ラジカル
をカツプリング安定化させ反応制御を容易にする
ものである。
これら含チツ素フツ素化合物の添加量は含フツ
素ポリマーの種類、形状にもよるが含フツ素ポリ
マーの有姿100重量部に対しＦとして0.01重量部
以上となるよう供給（存在）させればよく0.01重
量部より少ないとワツクス化が行えない。なお、
過剰に存在する場合は未反応として残存するた
め、これを回収再使用すればよいので特に問題は
おこらないが、大略10重量部程度迄の範囲で選択
するのが望ましい。
素ポリマーの種類、形状にもよるが含フツ素ポリ
マーの有姿100重量部に対しＦとして0.01重量部
以上となるよう供給（存在）させればよく0.01重
量部より少ないとワツクス化が行えない。なお、
過剰に存在する場合は未反応として残存するた
め、これを回収再使用すればよいので特に問題は
おこらないが、大略10重量部程度迄の範囲で選択
するのが望ましい。
使用する反応器は気体と固体が接触するような
形能のものであれば、いずれのものでも使用でき
るが例えば多段の反応棚を具備する強制循環式の
反応器、流動層などの気固接触が良好に行える反
応器が好ましい。ガスの圧力は高圧になればなる
ほど速やかに反応するが、常圧においても充分な
反応速度を持つている。また含チツ素フツ素化合
物は純粋なものでの使用はもちろんであるが窒
素、アルゴン、ヘリウム、四フツ化炭素等の不活
性ガスで希釈使用することもできる。
形能のものであれば、いずれのものでも使用でき
るが例えば多段の反応棚を具備する強制循環式の
反応器、流動層などの気固接触が良好に行える反
応器が好ましい。ガスの圧力は高圧になればなる
ほど速やかに反応するが、常圧においても充分な
反応速度を持つている。また含チツ素フツ素化合
物は純粋なものでの使用はもちろんであるが窒
素、アルゴン、ヘリウム、四フツ化炭素等の不活
性ガスで希釈使用することもできる。
本発明における含チツ素フツ素化合物との反応
では従来法の熱分解による多量の不飽和の猛毒ガ
ス副生に比べ、反応で副生するガスは強力なフツ
素化能を有するフツ素化剤中で反応を行うため、
極めて少なく副生ガスはN2を始めC3F8，C2F6，
CF4等安全でかつ取り扱い容易なパーフルオロカ
ーボンである。
では従来法の熱分解による多量の不飽和の猛毒ガ
ス副生に比べ、反応で副生するガスは強力なフツ
素化能を有するフツ素化剤中で反応を行うため、
極めて少なく副生ガスはN2を始めC3F8，C2F6，
CF4等安全でかつ取り扱い容易なパーフルオロカ
ーボンである。
生成する低分子量フツ化物の分子量分布は、実
施例にも示す如く反応温度と反応時間によつて数
十万オーダから数千単位のオーダーで、その温度
の高さ及び時間の長さに大略比例して分子量を小
さく自由にコントロールすることができる。即
ち、含フツ素ポリマーの粒径が小さく含チツ素フ
ツ素化合物の添加量を多くかつ高温域で行えば低
分子量のものが取得できる。なお生成物は活性な
フツ素ラジカルの存在下で分解を行つているた
め、末端はCF3化されており、極めて安定であ
る。また、カーボンの折出が全くおこらないため
極めて純白なものが取得される。
施例にも示す如く反応温度と反応時間によつて数
十万オーダから数千単位のオーダーで、その温度
の高さ及び時間の長さに大略比例して分子量を小
さく自由にコントロールすることができる。即
ち、含フツ素ポリマーの粒径が小さく含チツ素フ
ツ素化合物の添加量を多くかつ高温域で行えば低
分子量のものが取得できる。なお生成物は活性な
フツ素ラジカルの存在下で分解を行つているた
め、末端はCF3化されており、極めて安定であ
る。また、カーボンの折出が全くおこらないため
極めて純白なものが取得される。
本発明において得られたこれら生成物は容易に
微粉砕することができ通常のハンマータイプの粉
砕機使用であれば平均粒径100μ、ジエツトミル
で粉砕すれば平均粒径0.1〜10μ程度まで微粉砕で
きる。
微粉砕することができ通常のハンマータイプの粉
砕機使用であれば平均粒径100μ、ジエツトミル
で粉砕すれば平均粒径0.1〜10μ程度まで微粉砕で
きる。
以下実施例により本発明を更に詳述する。
実施例 １
厚み３mmのPTFEシート（焼結成形品）を５mm
角に切断したペレツト632ｇを強制的にガス撹拌
するためのフアンと加熱用ヒーターを具備した20
ニツケル製反応器に仕込み、N2ガス中で440℃
に昇温したのち、真空ポンプでN2ガスの一部を
抜き、NF38ｇを導入して反応せしめた。反応開
始時のNF3濃度は33％で圧力は常圧であつた。
角に切断したペレツト632ｇを強制的にガス撹拌
するためのフアンと加熱用ヒーターを具備した20
ニツケル製反応器に仕込み、N2ガス中で440℃
に昇温したのち、真空ポンプでN2ガスの一部を
抜き、NF38ｇを導入して反応せしめた。反応開
始時のNF3濃度は33％で圧力は常圧であつた。
２時間反応させたところ、NF3が消費されN2
と少量のCF4，C2F6，C3F6ガスが副生、626ｇの
純白溶融状態のワツクスが得られた。固形分の収
率は99％であつた。このワツクスは融点300℃で、
米国特許第3067262号で示されている融点と分子
量の関係〔分子量＝
200／685〔１／融点（〓）−１／600〕に従つて分子量
を 算出すると3700であつた。このワツクスを粗粉砕
したのち、ジエツトミルで微粉砕することによつ
て平均粒径5μｍの微粒子粉末を得た。
と少量のCF4，C2F6，C3F6ガスが副生、626ｇの
純白溶融状態のワツクスが得られた。固形分の収
率は99％であつた。このワツクスは融点300℃で、
米国特許第3067262号で示されている融点と分子
量の関係〔分子量＝
200／685〔１／融点（〓）−１／600〕に従つて分子量
を 算出すると3700であつた。このワツクスを粗粉砕
したのち、ジエツトミルで微粉砕することによつ
て平均粒径5μｍの微粒子粉末を得た。
実施例 ２
PTFEモールデングパウダー632ｇとNF324ｇ
を実施例１と同様の反応器中で16時間反応させ
た。生成した固体および気体を捕集したところ
629ｇ（収率99.5％）のワツクス状のPTFEおよ
び副生ガスとしてN2および少量のCF4，C2F6，
C3F8を得た。このワツクスを粉砕したところ平
均粒径7μｍの微粉末を得た。このワツクスの融
点は318℃であり、平均分子量は11700であつた。
を実施例１と同様の反応器中で16時間反応させ
た。生成した固体および気体を捕集したところ
629ｇ（収率99.5％）のワツクス状のPTFEおよ
び副生ガスとしてN2および少量のCF4，C2F6，
C3F8を得た。このワツクスを粉砕したところ平
均粒径7μｍの微粉末を得た。このワツクスの融
点は318℃であり、平均分子量は11700であつた。
実施例 ３
実施例２と同じPTFE50ｇとN2F41ｇを同様の
反応器中で400℃で10時間反応させた。生成した
固体および気体を捕集したところ49.5ｇ（収率99
％）のワツクス状のPTFEおよび副生ガスとして
N2およびCF4，C2F6，C3F8を得た。このワツク
スの融点は310℃であり、平均分子量は6100であ
つた。なおこのものは容易に微粉砕できるもので
あつた。
反応器中で400℃で10時間反応させた。生成した
固体および気体を捕集したところ49.5ｇ（収率99
％）のワツクス状のPTFEおよび副生ガスとして
N2およびCF4，C2F6，C3F8を得た。このワツク
スの融点は310℃であり、平均分子量は6100であ
つた。なおこのものは容易に微粉砕できるもので
あつた。
実施例 ４
厚さ３mmのFEPシートを５mm角に切断したペ
レツト620ｇとNF38ｇを同様に420℃で３時間反
応させたところ、615ｇ（収率99.2％）のワツク
スおよび副生ガスとしてN2および少量のCF4，
C2F6，C3F8を得た。ワツクスの融点は244℃で容
易に粉砕できるものであつた。
レツト620ｇとNF38ｇを同様に420℃で３時間反
応させたところ、615ｇ（収率99.2％）のワツク
スおよび副生ガスとしてN2および少量のCF4，
C2F6，C3F8を得た。ワツクスの融点は244℃で容
易に粉砕できるものであつた。
実施例 ５
PFAペレツト（３mmφ×５mm）630ｇとNF38
ｇを450℃で２時間反応させたところ、620ｇ（収
率98.4％）のワツクスと、副生ガスとしてN2お
よび少量のCF4，C2F6，C3F8を得た。ワツクスの
融点は253℃で容易に粉砕できるものであつた。
ｇを450℃で２時間反応させたところ、620ｇ（収
率98.4％）のワツクスと、副生ガスとしてN2お
よび少量のCF4，C2F6，C3F8を得た。ワツクスの
融点は253℃で容易に粉砕できるものであつた。
実施例 ６
CTFEパイプ（10φ）を10mmの長さに切断した
ものを500ｇとNF3ガス８ｇを400℃で２時間反応
させたところ、450ｇ（収率90％）のワツクスお
よび副生ガスとしてN2と少量のCF4，C2F6，
CF3Clを得た。ワツクスの融点は240℃で容易に
粉砕できるものであつた。
ものを500ｇとNF3ガス８ｇを400℃で２時間反応
させたところ、450ｇ（収率90％）のワツクスお
よび副生ガスとしてN2と少量のCF4，C2F6，
CF3Clを得た。ワツクスの融点は240℃で容易に
粉砕できるものであつた。
Claims (1)
- １ 含フツ素ポリマーを250〜550℃において、含
チツ素フツ素化合物と接触反応させることを特徴
とする含フツ素樹脂の低分子量物の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23823484A JPS61118331A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 含フツ素樹脂の低分子量物の製造方法 |
| IT22683/85A IT1191635B (it) | 1984-11-14 | 1985-10-31 | Procedimento di conversione di un polimero elevato contenente fluoro in un polimeto a peso molecolare inferiore |
| US06/797,463 US4711949A (en) | 1984-11-14 | 1985-11-13 | Method of converting fluorine-containing high polymer into lower molecular weight polymer |
| FR8516773A FR2573081B1 (fr) | 1984-11-14 | 1985-11-13 | Procede de conversion d'un haut polymere contenant du fluor en un polymere d'un poids moleculaire inferieur |
| GB08528009A GB2167072B (en) | 1984-11-14 | 1985-11-13 | Method of converting fluorine-containing high polymer into lower molecular weight polymer |
| DE19853540280 DE3540280A1 (de) | 1984-11-14 | 1985-11-13 | Verfahren zur umwandlung von fluorhaltigen hochpolymeren in polymere mit niedrigerem molekulargewicht |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23823484A JPS61118331A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 含フツ素樹脂の低分子量物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61118331A JPS61118331A (ja) | 1986-06-05 |
| JPH0149403B2 true JPH0149403B2 (ja) | 1989-10-24 |
Family
ID=17027137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23823484A Granted JPS61118331A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 含フツ素樹脂の低分子量物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61118331A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1263702B1 (en) * | 2000-02-10 | 2009-08-26 | South African Nuclear Energy Corporation Limited | Treatment of fluorocarbon feedstocks |
| JP3990663B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2007-10-17 | 新日本製鐵株式会社 | 表面処理金属板、及びその製造方法、並びにこの製造方法に用いる潤滑樹脂と潤滑樹脂塗料組成物 |
| US7803889B2 (en) | 2003-02-28 | 2010-09-28 | Daikin Industries, Ltd. | Granulated powder of low-molecular polytetrafluoro-ethylene and powder of low-molecular polytetrafluoro-ethylene and processes for producing both |
-
1984
- 1984-11-14 JP JP23823484A patent/JPS61118331A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61118331A (ja) | 1986-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2156722C (en) | Fluorine-containing polymers and preparation and use thereof | |
| Ebnesajjad et al. | Fluoropolymer additives | |
| EP1942118B1 (en) | Fluororesin with low fluorine-containing emulsifier residual and method for producing same | |
| CN102089335B (zh) | 生产含氟聚合物的方法 | |
| CN113166304B (zh) | 含有氟磺酰基的含氟聚合物的制造方法、含有盐型磺酸基的含氟聚合物的制造方法及含有酸型磺酸基的含氟聚合物的制造方法 | |
| JPH0149404B2 (ja) | ||
| JPH03504735A (ja) | 含ふつ素重合体の安定化方法 | |
| JP4010300B2 (ja) | フルオロモノマーの製造方法 | |
| JPH0667859B2 (ja) | 含フツ素樹脂の低分子量物の製造方法 | |
| US5118788A (en) | Process for preparing polytetrafluoroethylene powder | |
| US4711949A (en) | Method of converting fluorine-containing high polymer into lower molecular weight polymer | |
| EP3112397A1 (en) | Treatment method for fluororesin pellets | |
| JPH0149403B2 (ja) | ||
| US4094826A (en) | Fluorinated graft cation exchange copolymers | |
| EP2143738A1 (en) | Method for manufacturing fluoropolymers | |
| US3391119A (en) | Nonconjugated perhalofluoro-beta-keto-omega-alkenses and their polymers | |
| US20040171776A1 (en) | Process for manufacturing PVDF | |
| JP2541171B2 (ja) | パ―フルオロポリマ―の安定化法 | |
| JPH10212261A (ja) | 含水素フツ素界面活性剤及びその重合における使用 | |
| JP3278127B2 (ja) | 低分子量含フッ素樹脂の連続製造方法 | |
| JP3624730B2 (ja) | 改質ふっ素樹脂 | |
| JP3903547B2 (ja) | 配向ふっ素樹脂成形体及びその製造方法 | |
| JP3405437B2 (ja) | 低分子量含フッ素樹脂の連続製造方法 | |
| JPH09309919A (ja) | フッ素化重合体の製造方法 | |
| Romack | Polymerization of fluoro-olefins in liquid and supercritical carbon dioxide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |