JPH0153293B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0153293B2 JPH0153293B2 JP56080901A JP8090181A JPH0153293B2 JP H0153293 B2 JPH0153293 B2 JP H0153293B2 JP 56080901 A JP56080901 A JP 56080901A JP 8090181 A JP8090181 A JP 8090181A JP H0153293 B2 JPH0153293 B2 JP H0153293B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- seal rolls
- eccentric bearing
- seal
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C37/00—Component parts, details, accessories or auxiliary operations, not covered by group B29C33/00 or B29C35/00
- B29C37/0089—Sealing devices placed between articles and treatment installations during moulding or shaping, e.g. sealing off the entrance or exit of ovens or irradiation rooms, connections between rooms at different pressures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラスチツク成形品、たとえば、塩化
ビニール系樹脂フイルムを連続的に真空状態でプ
ラズマ処理する真空連続処理装置に関するもの
で、上述のプラスチツク成形品とはプラスチツク
フイルム、プラスチツクシートあるいはプラスチ
ツク被覆電線などを指す。
ビニール系樹脂フイルムを連続的に真空状態でプ
ラズマ処理する真空連続処理装置に関するもの
で、上述のプラスチツク成形品とはプラスチツク
フイルム、プラスチツクシートあるいはプラスチ
ツク被覆電線などを指す。
最近、真空処理室の前後に予備真空室を配置
し、段階的に真空圧力を下げて被処理物を連続的
に表面処理する装置が開発されている。
し、段階的に真空圧力を下げて被処理物を連続的
に表面処理する装置が開発されている。
この種の装置においては、対接する一対のシー
ルロール間に間隙を設け、この間隙に被処理物を
連続的に通して表面処理をしている。
ルロール間に間隙を設け、この間隙に被処理物を
連続的に通して表面処理をしている。
この場合、被処理物を挿入するシールロール間
の間隙が小さ過ぎると、最初の被処理物を挿入
時、被処理物がシールロール間にひつかかつてし
まい、スムーズに挿入することができなかつた。
の間隙が小さ過ぎると、最初の被処理物を挿入
時、被処理物がシールロール間にひつかかつてし
まい、スムーズに挿入することができなかつた。
また、シールロール間の間隙を大きくすると、
漏洩する空気量が増加し、予備真空室内を所定の
真空度に維持することが困難であつた。
漏洩する空気量が増加し、予備真空室内を所定の
真空度に維持することが困難であつた。
さらに、この装置ではシールロール間の間隙を
調節することができないため、被処理物の厚さが
変つた場合には最適なニツプ圧を得ることが困難
であり、特に、設定された間隙より薄い被処理物
を搬送する場合には予備真空室の真空が洩れ、予
備真空室を適度な真空度に保つことができなかつ
た。
調節することができないため、被処理物の厚さが
変つた場合には最適なニツプ圧を得ることが困難
であり、特に、設定された間隙より薄い被処理物
を搬送する場合には予備真空室の真空が洩れ、予
備真空室を適度な真空度に保つことができなかつ
た。
なお、この種の装置として関連するものには例
えば特開昭54−95672号が挙げられる。
えば特開昭54−95672号が挙げられる。
本発明は上記の点に鑑み、最初の被処理物挿入
を容易にし、またシールロール間のニツプ圧を調
整可能にするとともに、肉厚の変つた被処理物で
も適度な真空度を保つことができる真空連続処理
装置を提供することを目的とするものである。
を容易にし、またシールロール間のニツプ圧を調
整可能にするとともに、肉厚の変つた被処理物で
も適度な真空度を保つことができる真空連続処理
装置を提供することを目的とするものである。
本発明は、真空処理室と該真空処理室の前後に
配置した予備真空室とを具え、該予備真空室を、
上下一対のシールロールを被処理物の搬送方向に
複数組配置することにより形成し、前記真空処理
室で被処理物を連続的に処理する真空連続処理装
置において、前記一対のシールロールのうち少な
くとも一方のシールロールを偏心軸受で支持し、
この偏心軸受にこれを回動させて対接するシール
ロール間のギヤツプおよびニツプ圧を調整する偏
心軸受駆動手段を設けたものである。
配置した予備真空室とを具え、該予備真空室を、
上下一対のシールロールを被処理物の搬送方向に
複数組配置することにより形成し、前記真空処理
室で被処理物を連続的に処理する真空連続処理装
置において、前記一対のシールロールのうち少な
くとも一方のシールロールを偏心軸受で支持し、
この偏心軸受にこれを回動させて対接するシール
ロール間のギヤツプおよびニツプ圧を調整する偏
心軸受駆動手段を設けたものである。
偏心軸受の一方向に回転させるとシールロール
間のギヤツプが形成されて被処理物の挿入が容易
となり、又、被処理物を処理するために連続的に
被処理物を搬送するときに必要なシールロール間
の機密保持は前記偏心軸受を前記回転方向とは逆
の方向に回転させることによつてニツプ圧を最適
なものとすることができる。
間のギヤツプが形成されて被処理物の挿入が容易
となり、又、被処理物を処理するために連続的に
被処理物を搬送するときに必要なシールロール間
の機密保持は前記偏心軸受を前記回転方向とは逆
の方向に回転させることによつてニツプ圧を最適
なものとすることができる。
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチツ
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、２は真空処理室１
の前方側に複数個配置される予備真空室、３は真
空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室１内はこれに接続する真空
ポンプ４により10-2トール程度の真空圧力に保持
するように排気管５を介して真空排出される。前
記予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポン
プ６により前記真空処理室１内の真空圧力より若
干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力
に保持するように排気管７を介して真空排気され
る。
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、２は真空処理室１
の前方側に複数個配置される予備真空室、３は真
空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室１内はこれに接続する真空
ポンプ４により10-2トール程度の真空圧力に保持
するように排気管５を介して真空排出される。前
記予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポン
プ６により前記真空処理室１内の真空圧力より若
干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力
に保持するように排気管７を介して真空排気され
る。
処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフトおよび無段変速機１２，１３，１４，１
５を介して真空処理室１、予備真空室２，３、巻
取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室１、予備
真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回転
速度は前記無段変速機１２，１３，１４，１５に
より適宜調整される。
の予備真空室２を経て真空処理室１へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０は
駆動用モータで、この駆動用モータ１０はライン
シヤフトおよび無段変速機１２，１３，１４，１
５を介して真空処理室１、予備真空室２，３、巻
取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室１、予備
真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回転
速度は前記無段変速機１２，１３，１４，１５に
より適宜調整される。
前方および後方の予備真空室２，３は第３図お
よび第４図に示すようにそれぞれ一対の上下シー
ルロール１６，１７およびハウジング１８などか
ら構成されており、以下にその詳細を説明する。
よび第４図に示すようにそれぞれ一対の上下シー
ルロール１６，１７およびハウジング１８などか
ら構成されており、以下にその詳細を説明する。
第３図および第４図において、一方の上シール
ロール１６は両端側がハウジング１８にラジアル
軸受１９および偏心軸受カートリツジ２０を介し
て、他方の下シールロール１７はラジアル軸受１
９および軸受カートリツジ２１を介してそれぞれ
回転自在に支持されており、一方の上シールロー
ル１６は上下方向にも移動可能に支持されてい
る。一方の上シールロール１６は金属例えば鉄と
この鉄の表面全周に固着される弾性体例えば、シ
リコンゴム、ウレタンゴムあるいはニトリルゴム
などのゴムより成つており、他方の下シールロー
ル１７は鉄のみから成つている。２２はケース２
３に固定されたリツプル部材で、このリツプル部
材２２は上下シールロール１６，１７の外周面の
一部と軸方向に沿つて連続的に対接されており、
例えばウレタンゴムなど耐摩耗性の大なるものを
使用する。
ロール１６は両端側がハウジング１８にラジアル
軸受１９および偏心軸受カートリツジ２０を介し
て、他方の下シールロール１７はラジアル軸受１
９および軸受カートリツジ２１を介してそれぞれ
回転自在に支持されており、一方の上シールロー
ル１６は上下方向にも移動可能に支持されてい
る。一方の上シールロール１６は金属例えば鉄と
この鉄の表面全周に固着される弾性体例えば、シ
リコンゴム、ウレタンゴムあるいはニトリルゴム
などのゴムより成つており、他方の下シールロー
ル１７は鉄のみから成つている。２２はケース２
３に固定されたリツプル部材で、このリツプル部
材２２は上下シールロール１６，１７の外周面の
一部と軸方向に沿つて連続的に対接されており、
例えばウレタンゴムなど耐摩耗性の大なるものを
使用する。
第５図は上ロール１６を偏心軸受カートリツジ
２０により上下方向へ移動させるための説明図で
ある。第５図において、偏心軸受カートリツジ２
０の中心位置Ａは、上シールロール１６の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられてお
り、この偏心軸受カートリツジ２０は中心位置Ａ
を回転中心にアーム２４を介してエアシリンダ２
５の操作により図示矢印Ｄ，Ｅ方向へ回動する。
このとき、上シールロール１６は上方向または下
方向へ、すなわち、下シールロール１７に対して
離れる方向または下シールロール１７から押付け
る方向へ移動する。
２０により上下方向へ移動させるための説明図で
ある。第５図において、偏心軸受カートリツジ２
０の中心位置Ａは、上シールロール１６の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられてお
り、この偏心軸受カートリツジ２０は中心位置Ａ
を回転中心にアーム２４を介してエアシリンダ２
５の操作により図示矢印Ｄ，Ｅ方向へ回動する。
このとき、上シールロール１６は上方向または下
方向へ、すなわち、下シールロール１７に対して
離れる方向または下シールロール１７から押付け
る方向へ移動する。
次に本発明の動作を説明する。
まず、被処理物Ｆの上下シールロール間への挿
入時、一対の上下シールロール１６，１７間にギ
ヤツプを設けるため、エアシリンダ２５の操作に
よりアーム２４を介して偏心軸受カートリツジ２
０を図示矢印Ｅ方向に回動させる。
入時、一対の上下シールロール１６，１７間にギ
ヤツプを設けるため、エアシリンダ２５の操作に
よりアーム２４を介して偏心軸受カートリツジ２
０を図示矢印Ｅ方向に回動させる。
このようにすれば、上下シールロール１６，１
７間に所望のギヤツプが設けられるため、被処理
物Ｆの上下シールロール１６，１７間への挿入が
容易となる。
７間に所望のギヤツプが設けられるため、被処理
物Ｆの上下シールロール１６，１７間への挿入が
容易となる。
次に、被処理物Ｆをシールロール１６，１７間
を連続的に搬送するときには、真空を保持するた
めにシールロール１６，１７間のニツプ圧を最適
にする必要がある。このシールロール１６，１７
間のニツプ圧を調整するには、エアシリンダ２５
の操作によりアーム２４を介して偏心軸受カート
リツジ２０を図示矢印Ｄ方向に回動させる。
を連続的に搬送するときには、真空を保持するた
めにシールロール１６，１７間のニツプ圧を最適
にする必要がある。このシールロール１６，１７
間のニツプ圧を調整するには、エアシリンダ２５
の操作によりアーム２４を介して偏心軸受カート
リツジ２０を図示矢印Ｄ方向に回動させる。
このようにエアシリンダ２５を操作すれば、上
シールロール１６は下シールロール１７に対して
押付ける方向へ移動するため、上下シールロール
１６，１７間のニツプ圧の調整を任意に変えるこ
とができる。このとき、ニツプ圧の調整はエアシ
リンダ２５の圧力を変えることにより容易に行な
うことができる。
シールロール１６は下シールロール１７に対して
押付ける方向へ移動するため、上下シールロール
１６，１７間のニツプ圧の調整を任意に変えるこ
とができる。このとき、ニツプ圧の調整はエアシ
リンダ２５の圧力を変えることにより容易に行な
うことができる。
また、上下シールロール１６，１７が装置の運
転中に発熱し、その結果、該シールロールがロー
ル軸心より外周方向に膨張し、上下シールロール
間の間隙が狭くなり、ニツプ圧が増加することが
あるが、エアシリンダ２５はエアによるダンパ効
果があるため、該ニツプ圧を吸収し、最適のニツ
プ圧で運転することができ、被処理物に悪影響を
及ぼすことがなく、またシールロールの耐久性を
向上させることができる。
転中に発熱し、その結果、該シールロールがロー
ル軸心より外周方向に膨張し、上下シールロール
間の間隙が狭くなり、ニツプ圧が増加することが
あるが、エアシリンダ２５はエアによるダンパ効
果があるため、該ニツプ圧を吸収し、最適のニツ
プ圧で運転することができ、被処理物に悪影響を
及ぼすことがなく、またシールロールの耐久性を
向上させることができる。
本発明によれば、初期被処理物挿入時には被処
理物の挿入を容易にすることができ、被処理物の
搬送時にはシールロール間のニツプ圧を任意に調
整することができるので、常にシールロール間隙
を最適の状態に保持することができるとともに、
各種厚さの被処理物に対応することができる。し
たがつて、被処理物の搬送を円滑に行なうことが
できるばかりでなく気体の洩れ量が少なくなり、
予備真空室内を常に適度な真空度に維持すること
ができる。
理物の挿入を容易にすることができ、被処理物の
搬送時にはシールロール間のニツプ圧を任意に調
整することができるので、常にシールロール間隙
を最適の状態に保持することができるとともに、
各種厚さの被処理物に対応することができる。し
たがつて、被処理物の搬送を円滑に行なうことが
できるばかりでなく気体の洩れ量が少なくなり、
予備真空室内を常に適度な真空度に維持すること
ができる。
第１図は本発明装置の一実施例を示す概略縦断
面図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は本
発明装置における予備真空室のシール手段を説明
するための断面図、第４図は第３図の４―４線断
面図、第５図は本発明装置における上シールロー
ルを偏心軸受カートリツジにより上下方向へ移動
させるための説明図である。 １…真空処理室、２，３…予備真空室、１６…
上シールロール、１７…下シールロール、２０…
偏心軸受カートリツジ、２５…シリンダ。
面図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は本
発明装置における予備真空室のシール手段を説明
するための断面図、第４図は第３図の４―４線断
面図、第５図は本発明装置における上シールロー
ルを偏心軸受カートリツジにより上下方向へ移動
させるための説明図である。 １…真空処理室、２，３…予備真空室、１６…
上シールロール、１７…下シールロール、２０…
偏心軸受カートリツジ、２５…シリンダ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空処理室と該真空処理室の前後に配置した
予備真空室とを具え、該予備真空室を、上下一対
のシールロールを被処理物の搬送方向に複数組配
置することにより形成し、前記真空処理室で被処
理物を連続的に処理する真空連続処理装置におい
て、前記一対のシールロールのうち少なくとも一
方のシールロールを偏心軸受で支持し、この偏心
軸受にこれを回動させて対接するシールロール間
のギヤツプおよびニツプ圧を調整する偏心軸受駆
動手段を設けたことを特徴とする真空連続処理装
置。 ２ 駆動手段はシリンダによつて操作するもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8090181A JPS57195747A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8090181A JPS57195747A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57195747A JPS57195747A (en) | 1982-12-01 |
| JPH0153293B2 true JPH0153293B2 (ja) | 1989-11-13 |
Family
ID=13731264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8090181A Granted JPS57195747A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57195747A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011100257A1 (de) * | 2011-05-03 | 2013-01-03 | Maschinenbau Scholz Gmbh & Co Kg | Variable Dichtung für CV-Rohr |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385741A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-28 | Nippon Steel Corp | Continuous evaporation plating method of steel band |
-
1981
- 1981-05-29 JP JP8090181A patent/JPS57195747A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57195747A (en) | 1982-12-01 |
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