【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]
本発明は、一般式
（式中R1及びR2は相異なつて、水素原子又は
メチル基、R3は水素原子又はグリシル基を示し、
アミノ基は保護されていてもよい）で表わされる
新規なアミノ配糖体に関する。
式の化合物は例えば、一般式
（式中R3′は水素原子又はアシル基を示し、R1
及びR2は前記の意味を有し、アミノ基は保護さ
れていてもよい）で表わされる化合物に酸を作用
させてメチルエーテルを開裂し、R3が水素原子
の場合は所望により、基−NH−CH3をアシル化
し、そして／又は保護基を脱離することによつて
製造することができる。
式の化合物のうち、R1がメチル基及びR2が
水素原子である化合物は、サツカロポリスポラ属
に属するKC−6606株の代謝産物として生産され
るKA−6606物質群の１種（KA−6606及び同
）である（特開昭55−111497号明細書参照）。
R1が水素原子及びR2がメチル基である化合物は、
ストレプトミセス属に属するKC−7038株の代謝
産物として生産されるKA−7038物質群の１種
（KA−7038、同及び同）である（特開昭
54−141701号及び同55−162795号各明細書参照）。
上記抗生物質（）はいずれも優れた抗菌活性
を有するが、そのメチルエーテル基を開裂したデ
−Ｏ−メチル化合物（）は更に優れた抗菌活性
を示し、医薬として有用である（特開昭55−
55198号及び同53−95943号各明細書参照）。
本発明の化合物を製造するに際しては、まず式
の化合物又はその保護された化合物に溶媒の存
在もしくは不在下に酸を作用させる。これによつ
てメチルエーテルの開裂及びメチルアミノ基に結
合したグリシル基などのアシル基の脱離が起こ
り、R3が水素原子である式の化合物が生成す
る。
酸としては、臭化水素酸、塩酸、沃化水素酸、
弗化水素酸、硫酸、燐酸等の鉱酸類、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等
の強酸性有機酸、三塩化硼素、三臭化硼素等のル
イス酸などが用いられる。ルイス酸を用いる場合
には無水条件下で反応を行い、その他の場合は水
溶液中で反応を行うことが好ましい。無水溶媒と
しては例えばジクロルメタンが用いられる。
反応は室温ないし200℃の温度で通常は１〜30
時間で終了する。生成物は通常のカラムクロマト
グラフ法により、例えば陽イオン交換樹脂などを
用いて分離精製することができる。
こうして得られるR3が水素原子である式の
化合物の４位のメチルアミノ基をアシル化するこ
とにより、R3がアシル基である式の化合物が
得られる。アシル基としては、例えばグリシル
基、アラニル基、バリル基等のアミノ酸から誘導
されるものが好ましい。これらのアミノ基は、例
えば低級アルキル基、カルバモイル基、ホルミル
基などで置換されていてもよい。
アシル化を実施するに際しては、化合物
（R3＝Ｈ）に存在する１位、2′位及び6′位の３個
のアミノ基を保護したのち、所望のアシル基を形
成する置換カルボン酸又はその反応性誘導体を作
用させ、次いで必要に応じ他のアミノ基の保護基
を脱離して遊離化することが好ましい。
アミノ基の保護基としては、通常のペプチド合
成に用いられるものを使用できる。例えば炭酸モ
ノベンジルエステルの置換フエニルエステル、Ｎ
−オキシスクシンイミドエステル、Ｎ−オキシフ
タルイミドエステルなどの活性エステルを用いる
と、１位、2′位及び6′位のアミノ基のみがベンジ
ルオキシカルボニル基で保護される。この際金属
化合物例えば酢酸ニツケル、酢酸コバルト、酢酸
銅などを存在させることが好ましい。置換ベンジ
ルオキシカルボニル基、三級ブトキシカルボニル
基等の保護基を用いることもできる。４位のメチ
ルアミノ基が同時に保護された場合は、例えばこ
の生成物にアルカリを作用させて４位のメチルア
ミノ基に隣接する水酸基との間で環状カルバメー
トを形成させ、次いでこれを加水分解することに
より、４位のメチルアミノ基のみを遊離させるこ
とができる。
こうして得られた１位、2′位及び6′位のアミノ
基が保護された式の化合物（R3＝Ｈ）のメチ
ルアミノ基にアシル基を導入するには、通常のペ
プチド合成法を適用することができ、例えばアミ
ノ基の保護されたアミノ酸又は他の置換カルボン
酸又はその反応性酸誘導体を用いてアシル化す
る。反応性酸誘導体としては、酸ハロゲン化物、
活性エステル、例えばフエニルエステル、シアノ
メチルエステル、Ｎ−オキシスクシンイミドエス
テル、Ｎ−オキシフタルイミドエステルなど、酸
アジド、酸無水物、混合酸無水物及びその他のペ
プチド合成において用いられるものを利用でき
る。アミノ酸のアミノ保護基としては前記の保護
基と同様のものが用いられ、同一のものを用いる
ことが好ましい。
こうして得られたアミノ基が保護された式の
化合物から所望によりアミノ基の保護基を脱離す
るには、例えば接触還元法を用いることが好まし
い。触媒としては、例えばパラジウム、白金、ラ
ネーニツケル、ロジウム、ルテニウム、ニツケル
などが用いられる。
更に希望ならば、上記方法で得られたR3がア
シル基である化合物のアシル基を還元することに
よつて、R3が置換アルキル基である化合物を製
造することもできる。還元反応はアミノ基の保護
基の脱離反応を行う前に行うことが好ましく、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリ
ウム、ジボランなどの還元剤を用いる還元方法を
利用できる。
目的物質である式の化合物の単離精製は常法
により行われるが、カラムクロマトグラフイを利
用することが好ましい。吸着剤としては、例えば
CM−セフアデツクス、アンバーライトIRC−50、
アンバーライトIRC−84、アンバーライトCG−
50、カルボキシメチルセルロースなどの陽イオン
交換樹脂を用いることが好ましい。展開は、アル
カリ性水溶液、例えばアンモニア水溶液、義酸ア
ンモニウム水溶液などを展開溶媒として用い、濃
度勾配法又は濃度段階法により行うことができ
る。溶出液より活性画分を集め、凍結乾燥する
と、化合物の純品を得ることができる。
目的化合物は精製操作により酸付加塩の形で
も得られるが、遊離塩基型の化合物を常法に従
つて酸付加塩に導くことができる。そのための酸
としては、例えば硫酸、塩酸、臭化水素酸、沃化
水素酸、燐酸、炭酸、硝酸等の無機酸又は酢酸、
フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル酸、コ
ハク酸等の有機酸が用いられる。
本発明方法により得られる式の化合物はいず
れも優れた抗菌活性を示し、抗菌性物質として医
薬、動物薬などとして有用であり、また種々の誘
導体を合成するための出発物質としても有用であ
る。その代表例として、５−デ−Ｏ−メチル−４
−Ｎ−グリシル−KA−6606（化合物Ａ）及び
５−デ−Ｏ−メチル−KA−7038（化合物Ｂ）
の抗菌スペクトルを次表に示す。
The present invention is based on the general formula (In the formula, R 1 and R 2 are different and represent a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a hydrogen atom or a glycyl group,
The present invention relates to a novel amino glycoside represented by (the amino group may be protected). For example, a compound of formula (In the formula, R 3 ' represents a hydrogen atom or an acyl group, and R 1
and R 2 have the above-mentioned meanings, and the amino group may be protected) is treated with an acid to cleave the methyl ether, and if R 3 is a hydrogen atom, the group - It can be produced by acylating NH- CH3 and/or removing the protecting group. Among the compounds of the formula, the compound in which R 1 is a methyl group and R 2 is a hydrogen atom is one of the KA-6606 substance group (KA -6606 and the same) (see the specification of JP-A-55-111497).
Compounds in which R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a methyl group are:
It is one of the KA-7038 substance group (KA-7038, KA-7038 and KA-7038) produced as a metabolite of the KC-7038 strain belonging to the genus Streptomyces.
54-141701 and 55-162795). All of the above antibiotics () have excellent antibacterial activity, but the de-O-methyl compound (), which is obtained by cleaving the methyl ether group, shows even more excellent antibacterial activity and is useful as a medicine (Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-2010) −
55198 and 53-95943). In producing the compound of the present invention, the compound of the formula or its protected compound is first treated with an acid in the presence or absence of a solvent. This causes cleavage of the methyl ether and elimination of the acyl group such as the glycyl group bonded to the methylamino group, producing a compound of the formula in which R 3 is a hydrogen atom. Examples of acids include hydrobromic acid, hydrochloric acid, hydroiodic acid,
Mineral acids such as hydrofluoric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, strong acidic organic acids such as p-toluenesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, and Lewis acids such as boron trichloride and boron tribromide are used. When a Lewis acid is used, it is preferable to carry out the reaction under anhydrous conditions, and in other cases, it is preferable to carry out the reaction in an aqueous solution. For example, dichloromethane is used as the anhydrous solvent. The reaction takes place at room temperature to 200°C, usually for 1 to 30°C.
Finish in time. The product can be separated and purified by conventional column chromatography using, for example, a cation exchange resin. By acylating the methylamino group at the 4-position of the thus obtained compound of the formula in which R 3 is a hydrogen atom, a compound of the formula in which R 3 is an acyl group is obtained. The acyl group is preferably one derived from an amino acid such as a glycyl group, an alanyl group, or a valyl group. These amino groups may be substituted with, for example, a lower alkyl group, a carbamoyl group, a formyl group, or the like. When carrying out acylation, after protecting the three amino groups at the 1-position, 2'-position and 6'-position present in the compound (R 3 = H), substituted carboxylic acid or It is preferable to allow the reactive derivative to act, and then, if necessary, remove other protecting groups for the amino group to liberate it. As the protecting group for the amino group, those used in ordinary peptide synthesis can be used. For example, substituted phenyl esters of carbonic acid monobenzyl esters, N
When active esters such as -oxysuccinimide ester and N-oxyphthalimide ester are used, only the amino groups at the 1-, 2'- and 6'-positions are protected with benzyloxycarbonyl groups. At this time, it is preferable to include a metal compound such as nickel acetate, cobalt acetate, copper acetate, or the like. Protective groups such as substituted benzyloxycarbonyl group and tertiary butoxycarbonyl group can also be used. If the methylamino group at position 4 is protected at the same time, for example, this product is treated with an alkali to form a cyclic carbamate between the methylamino group at position 4 and the hydroxyl group adjacent to it, and this is then hydrolyzed. By doing so, only the methylamino group at the 4-position can be released. To introduce an acyl group into the methylamino group of the thus obtained compound with the formula in which the amino groups at the 1-, 2'-, and 6'-positions are protected (R 3 = H), ordinary peptide synthesis methods are applied. For example, the amino group can be acylated using a protected amino acid or other substituted carboxylic acid or a reactive acid derivative thereof. As reactive acid derivatives, acid halides,
Active esters such as phenyl ester, cyanomethyl ester, N-oxysuccinimide ester, N-oxyphthalimide ester, acid azides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides and others used in peptide synthesis can be utilized. As the amino protecting group for the amino acid, the same ones as the above-mentioned protecting groups are used, and it is preferable to use the same ones. In order to optionally remove the protecting group for the amino group from the thus obtained compound having the formula in which the amino group is protected, it is preferable to use, for example, a catalytic reduction method. As the catalyst, for example, palladium, platinum, Raney nickel, rhodium, ruthenium, nickel, etc. are used. Furthermore, if desired, a compound in which R 3 is a substituted alkyl group can also be produced by reducing the acyl group of the compound in which R 3 is an acyl group obtained by the above method. The reduction reaction is preferably performed before the elimination reaction of the protecting group of the amino group, and a reduction method using a reducing agent such as lithium aluminum hydride, sodium borohydride, diborane, etc. can be used. Isolation and purification of the compound of the formula, which is the target substance, is carried out by conventional methods, but it is preferable to use column chromatography. As an adsorbent, for example,
CM-Sephadex, Amberlight IRC-50,
Amberlight IRC-84, Amberlight CG-
50, it is preferred to use a cation exchange resin such as carboxymethyl cellulose. The development can be carried out by a concentration gradient method or a concentration step method using an alkaline aqueous solution, such as an ammonia aqueous solution or an ammonium diate aqueous solution, as a developing solvent. By collecting the active fraction from the eluate and lyophilizing it, a pure product of the compound can be obtained. Although the target compound can also be obtained in the form of an acid addition salt through purification operations, a free base type compound can be converted into an acid addition salt by a conventional method. Examples of acids for this purpose include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, phosphoric acid, carbonic acid, and nitric acid, or acetic acid;
Organic acids such as fumaric acid, malic acid, citric acid, mandelic acid, and succinic acid are used. All of the compounds of the formula obtained by the method of the present invention exhibit excellent antibacterial activity and are useful as antibacterial substances in medicines, veterinary drugs, etc., and are also useful as starting materials for synthesizing various derivatives. As a typical example, 5-de-O-methyl-4
-N-glycyl-KA-6606 (compound A) and 5-de-O-methyl-KA-7038 (compound B)
The following table shows the antibacterial spectrum of
【表】【table】
【表】
実施例 １
(a) デ−Ｏ−メチル−KA−6606：
KA−6606の遊離塩基350mgを56％沃化水素
酸3.5mlに溶解し、封管中60℃で４時間加温する。
反応液を減圧下に濃縮乾固し、残査を水に溶解し
て濃アンモニア水で中和する。この溶液をCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）30mlを充填し
たカラムに吸着させ、0.25Nから0.35Nまでのア
ンモニア水で溶出する。目的物質を含む画分を集
めて濃縮乾固すると、デ−Ｏ−メチル−KA−
6606265mgが得られる。
元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 49.98 9.59 16.65
実測値(%) 49.65 9.44 16.61
比旋光度：〔α〕23 D＋87゜（C1，H2O）
NMR値：δD2Oppm
1.54（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz，Ｃ−ＣH3 ）
2.85（3H，ｓ，Ｎ−ＣH3 ）
5.56（1H，ｄ，Ｊ＝3.3Hz、アノメリツク
Ｈ）
(b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−Ｏ−メチル−KA−6606：
デーＯ−メチル−KA−6606163mgをメタノ
ール５mlに溶解し、酢酸ニツケル273mgを加えて
室温で30分間撹拌したのち、Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルオキシスクシンイミド454mgを加え、
同温度で２時間撹拌する。反応混合物に濃アンモ
ニア水2.5mlを加え、更に２時間撹拌する。反応
液を減圧下に濃縮乾固し、残査をクロロホルム20
mlと3N−アンモニア水に溶解して振盪する。ク
ロロホルム層を分取し、3N−アンモニア水で２
回、水で２回洗浄したのち乾燥して溶媒を留去す
る。
残査をジオキサン９mlに溶解し、Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルグリシンの２，４−ジニトロフ
エニルエステル330mg及びトリエチルアミン0.3ml
を加え、60℃で１時間加温する。反応液に濃アン
モニア水１mlを加えて１時間放置したのち、溶媒
を留去する。残査をクロロホルム20mlに溶解し、
0.5Nの水酸化ナトリウムで３回、水で２回洗浄
したのち乾燥して溶媒を留去する。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイに付し、クロロホル
ム−メタノール（50：１）で溶出する。目的物質
を含む画分を集めて濃縮すると、無色固体の１，
2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシル−
デ−Ｏ−メチル−KA−6606288mgが得られる。
元素分析値：C48H57N5O13として
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 63.22 6.30 7.68
実測値(%) 63.43 6.21 7.44
比旋光度：〔α〕23 D＋32゜（C1，CHCl3）
NMR値：δCDCl3ppm
2.92（3H，ｓ，Ｎ−ＣH3 ）
1.21（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz，CH−ＣH3 ）
(c) デ−Ｏ−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606：
１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−Ｏ−メチル−KA−6606288mgを酢
酸４mlに溶解し、パラジウム黒50mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水400
mlで希釈した後、アンモニア水で中和し、CM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.35Nのアンモニア水の間で濃度勾
配法により展開する。目的物質を含む画分を集め
て凍結乾燥すると、無色固体のデ−Ｏ−メチル−
４−Ｎ−グリシル−KA−6606105mgが得られ
る。
元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 48.84 8.97 17.80
実測値(%) 48.55 8.83 17.48
比旋光度：〔α〕23 D＋115゜（C1，H2O）
NMR値：δD2Oppm
1.52（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz，Ｃ−ＣH3 ）
3.62（3H，ｓ，Ｎ−ＣH3 ）
5.40（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz、アノメリツク
Ｈ）
実施例 ２
(a) デーＯ−メチル−KA−6606：
KA−6606100mgを48％臭化水素酸５mlに溶
解し、37℃で10日間静置する。反応液を37℃以下
で濃縮乾固し、残査を水50mlに溶解してアンモニ
ア水で中和後、CM−セフアデツクスＣ−25
（NH4 +型）のカラムに付し、0.05N及び0.5Nのア
ンモニア水で濃度勾配法によつて展開する。目的
物質を含む部分を濃縮すると、デ−Ｏ−メチル−
KA−660619mgが得られる。
この生成物の性質は、実施例1aで得られたデ
−Ｏ−メチル−KA−6606の性質とすべて一致
した。
(b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−Ｏ−メチル−KA−6606：
デーＯ−メチル−KA−660619mgをメタノー
ル0.8mlに溶解し、ベンジルｐ−ニトロフエニル
カルボネート90mgを加えて室温で一夜撹拌する。
反応混合物に30％メチルアミン−エタノール溶液
0.1mlを加え、更に１時間撹拌したのち反応液を
濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解し、水洗
して乾燥する。これをジオキサン１mlに溶解し、
トリエチルアミン0.05ml及びＮ−ヒドロキシスク
シンイミジル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグ
リシン35mgを加えて80℃で５時間加温する。反応
液を濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解して
不溶物を過したのちクロロホルム層を水洗乾燥
し、溶媒を留去する。残査をシリカゲルプレパラ
テイブ・クロマトグラフイ（クロロホルム−メタ
ノール15：１）により分離精製すると、無色固体
として１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−Ｏ−メチル−KA−660623mgが
得られる。
この生成物の性質は実施例1bで得られた化合
物の性質と一致した。
(c) デ−Ｏ−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606：
１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−Ｏ−メチル−KA−660623mgを酢酸
0.5mlに溶解し、パラジウム黒10mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水50ml
で希釈したのち、アンモニア水で中和してCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.4Nのアンモニア水の間で濃度勾配
法により展開する。目的物質を含む画分を集めて
凍結乾燥すると、無色固体としてデ−Ｏ−メチル
−４−Ｎ−グリシル−KA−6606７mgが得られ
る。
この生成物の性質は実施例1cで得られた化合物
のそれと一致した。
実施例 ３
デ−Ｏ−メチル−KA−7038：
KA−7038の遊離塩基302mgを用い、実施例
1aと同様にして反応させ、精製すると、無色粉
末のデ−Ｏ−メチル−KA−7038220mgが得ら
れる。
元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 49.98 9.59 16.65
実測値(%) 49.71 9.73 16.33
比旋光度：〔α〕25 D＋40゜（C0.5，H2O）
NMR値：δD2Oppm
2.80（3H，ｓ，Ｎ−ＣH3 ）
2.84（3H，ｓ，Ｎ−ＣH3 ）
5.53（1H，ｄ，Ｊ＝3.3Hz、アノメリツク
Ｈ）
実施例 ４
(a) テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−デ−Ｏ−メチル−KA−7038：
デ−Ｏ−メチル−KA−7038190mgを用い、
実施例1bと同様にして反応させ、精製すると、
無色固体の１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニルグリシル−デ−Ｏ−メチル−KA−7038、
すなわちテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−デ−Ｏ−メチル−KA−7038350mgが得
られる。
元素分析値：C48H57N5O13として
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 3.22 6.30 7.68
実測値(%) 63.01 6.49 7.42
比旋光度：〔α〕25 D＋55゜（C1，CHCl3）
NMR値：δCDCL3ppm
2.92（6H，ｓ，２×Ｎ−ＣH3 ）
(b) デーＯ−メチル−KA−7038：
テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
デ−Ｏ−メチル−KA−7038320mgを用い、実
施例2cと同様に処理すると、無色固体のデ−Ｏ−
メチル−KA−7038112mgが得られる。
元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして
Ｃ Ｈ Ｎ
計算値(%) 48.84 8.97 17.80
実測値(%) 48.54 8.69 17.98
比旋光度：〔α〕25 D＋126゜（C1，H2O）
NMR値：δD2Oppm
2.83（3H，ｓ，6′−Ｎ−ＣH3 ）
3.63（3H，ｓ，４−Ｎ−ＣH3 ）
5.42（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz、アノメリツク
Ｈ） [Table] Example 1 (a) De-O-methyl-KA-6606: 350 mg of the free base of KA-6606 was dissolved in 3.5 ml of 56% hydriodic acid and heated at 60°C for 4 hours in a sealed tube. .
The reaction solution was concentrated to dryness under reduced pressure, and the residue was dissolved in water and neutralized with concentrated aqueous ammonia. This solution is CM−
It is adsorbed on a column packed with 30 ml of Cephadex C-25 (NH 4 + type) and eluted with aqueous ammonia ranging from 0.25N to 0.35N. Fractions containing the target substance are collected and concentrated to dryness, resulting in de-O-methyl-KA-
6606265 mg is obtained. Elemental analysis value: C 14 H 30 N 4 O 4・H 2 O Calculated value (%) 49.98 9.59 16.65 Actual value (%) 49.65 9.44 16.61 Specific optical rotation: [α] 23 D +87° (C1, H 2 O) NMR value: δ D2O ppm 1.54 (3H, d, J = 6.5Hz, C-C H 3 ) 2.85 (3H, s, N-C H 3 ) 5.56 (1H, d, J = 3.3Hz, Anomeric H) (b) 1,2',6'-Tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-de-O-methyl-KA-6606: De-O-methyl-KA-6606163mg was dissolved in 5 ml of methanol, 273 mg of nickel acetate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Then, 454 mg of N-benzyloxycarbonyloxysuccinimide was added.
Stir at the same temperature for 2 hours. Add 2.5 ml of concentrated aqueous ammonia to the reaction mixture and stir for an additional 2 hours. The reaction solution was concentrated to dryness under reduced pressure, and the residue was dissolved in chloroform 20
ml of 3N-ammonia water and shake. Separate the chloroform layer and dilute with 3N aqueous ammonia.
After washing twice with water and drying, the solvent was distilled off. Dissolve the residue in 9 ml of dioxane and add 330 mg of 2,4-dinitrophenyl ester of N-benzyloxycarbonylglycine and 0.3 ml of triethylamine.
Add and heat at 60℃ for 1 hour. After adding 1 ml of concentrated aqueous ammonia to the reaction solution and allowing it to stand for 1 hour, the solvent was distilled off. Dissolve the residue in 20ml of chloroform,
After washing three times with 0.5N sodium hydroxide and twice with water, drying and distilling off the solvent. The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform-methanol (50:1). When fractions containing the target substance are collected and concentrated, a colorless solid of 1,
2',6'-Tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-
288 mg of De-O-methyl-KA-660 is obtained. Elemental analysis value: C 48 H 57 N 5 O 13 Calculated value (%) 63.22 6.30 7.68 Actual value (%) 63.43 6.21 7.44 Specific rotation: [α] 23 D +32° (C1, CHCl 3 ) NMR Value: δ CDCl3 ppm 2.92 (3H, s, N-C H 3 ) 1.21 (3H, d, J=6Hz, CH-C H 3 ) (c) De-O-methyl-4-N-glycyl-KA-
6606: Dissolve 288 mg of 1,2',6'-tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-de-O-methyl-KA-6606 in 4 ml of acetic acid and add 50 mg of palladium black. Catalytic reduction at room temperature. Filter the reaction solution and add 400% water to the solution.
ml, neutralized with aqueous ammonia, and diluted with CM-
It was applied to a column of Sephadex C-25 (NH 4 + type) and developed by the concentration gradient method between 0.05N and 0.35N aqueous ammonia. Fractions containing the target substance are collected and lyophilized to form a colorless solid, De-O-methyl-
105 mg of 4-N-glycyl-KA-6606 is obtained. Elemental analysis value: C 16 H 33 N 5 O 5・H 2 O Calculated value (%) 48.84 8.97 17.80 Actual value (%) 48.55 8.83 17.48 Specific rotation: [α] 23 D +115° (C1, H 2 O) NMR value: δ D2O ppm 1.52 (3H, d, J = 6.5 Hz, C-C H 3 ) 3.62 (3H, s, N-C H 3 ) 5.40 (1H, d, J = 3 Hz, anomeric H) Example 2 (a) DeO-methyl-KA-6606: 100 mg of KA-6606 was dissolved in 5 ml of 48% hydrobromic acid and allowed to stand at 37°C for 10 days. The reaction solution was concentrated to dryness at below 37°C, the residue was dissolved in 50 ml of water, and after neutralization with aqueous ammonia, CM-Sephadex C-25
(NH 4 + type) column and developed using a concentration gradient method with 0.05N and 0.5N aqueous ammonia. When the part containing the target substance is concentrated, de-O-methyl-
KA-660619mg is obtained. The properties of this product were all consistent with those of de-O-methyl-KA-6606 obtained in Example 1a. (b) 1,2',6'-Tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-de-O-methyl-KA-6606: 19 mg of de-O-methyl-KA-660 in methanol 0.8 ml, add 90 mg of benzyl p-nitrophenyl carbonate, and stir overnight at room temperature.
Add 30% methylamine-ethanol solution to the reaction mixture.
After adding 0.1 ml and stirring for an additional hour, the reaction solution was concentrated to dryness, and the residue was dissolved in chloroform, washed with water, and dried. Dissolve this in 1 ml of dioxane,
Add 0.05 ml of triethylamine and 35 mg of N-hydroxysuccinimidyl-N-benzyloxycarbonylglycine and heat at 80°C for 5 hours. The reaction solution is concentrated to dryness, the residue is dissolved in chloroform to remove insoluble matter, the chloroform layer is washed with water and dried, and the solvent is distilled off. The residue was separated and purified by silica gel preparative chromatography (chloroform-methanol 15:1) to yield 1,2',6'-tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonyl as a colorless solid. 623 mg of glycyl-de-O-methyl-KA-660 is obtained. The properties of this product were consistent with those of the compound obtained in Example 1b. (c) De-O-methyl-4-N-glycyl-KA-
6606: 1,2',6'-Tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-de-O-methyl-KA-660623 mg in acetic acid
Dissolve in 0.5 ml, add 10 mg of palladium black, and perform catalytic reduction at room temperature. Filter the reaction solution and add 50ml of water.
After diluting with CM-
It was applied to a column of Sephadex C-25 (NH 4 + type) and developed by the concentration gradient method between 0.05N and 0.4N aqueous ammonia. Fractions containing the target substance are collected and lyophilized to obtain 66067 mg of De-O-methyl-4-N-glycyl-KA-6 as a colorless solid. The properties of this product were consistent with those of the compound obtained in Example 1c. Example 3 De-O-methyl-KA-7038: Example 3 using 302 mg of the free base of KA-7038.
After reaction and purification in the same manner as in 1a, 220 mg of De-O-methyl-KA-7038 is obtained as a colorless powder. Elemental analysis value: C 14 H 30 N 4 O 4・H 2 O Calculated value (%) 49.98 9.59 16.65 Actual value (%) 49.71 9.73 16.33 Specific optical rotation: [α] 25 D +40° (C0. 5, H 2 O) NMR value: δ D2O ppm 2.80 (3H, s, N-C H 3 ) 2.84 (3H, s, N-C H 3 ) 5.53 (1H, d, J = 3.3 Hz, anomeric H) Example 4 (a) Tetrakis-N-benzyloxycarbonyl-de-O-methyl-KA-7038: Using 190 mg of de-O-methyl-KA-7038,
When reacted and purified in the same manner as in Example 1b,
Colorless solid 1,2',6'-tris-N-benzyloxycarbonyl-4-N-benzyloxycarbonylglycyl-de-O-methyl-KA-7038,
That is, 350 mg of tetrakis-N-benzyloxycarbonyl-de-O-methyl-KA-7038 is obtained. Elemental analysis value: C 48 H 57 N 5 O 13 Calculated value (%) 3.22 6.30 7.68 Actual value (%) 63.01 6.49 7.42 Specific rotation: [α] 25 D +55° (C1, CHCl 3 ) NMR Value: δ CDCL3 ppm 2.92 (6H, s, 2×N-C H 3 ) (b) DeO-methyl-KA-7038: Tetrakis-N-benzyloxycarbonyl-
When 320 mg of De-O-methyl-KA-7038 was treated in the same manner as in Example 2c, a colorless solid De-O-
112 mg of methyl-KA-7038 is obtained. Elemental analysis value: C 16 H 33 N 5 O 5・H 2 O Calculated value (%) 48.84 8.97 17.80 Actual value (%) 48.54 8.69 17.98 Specific rotation: [α] 25 D +126° (C1, H 2 O) NMR value: δ D2O ppm 2.83 (3H, s, 6'-N-C H 3 ) 3.63 (3H, s, 4-N-C H 3 ) 5.42 (1H, d, J=3Hz, anomeric H)