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JPH0154710B2 - - Google Patents
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JPH0154710B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0154710B2
JPH0154710B2 JP60114397A JP11439785A JPH0154710B2 JP H0154710 B2 JPH0154710 B2 JP H0154710B2 JP 60114397 A JP60114397 A JP 60114397A JP 11439785 A JP11439785 A JP 11439785A JP H0154710 B2 JPH0154710 B2 JP H0154710B2
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JP
Japan
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hologram
resin
layer
transfer foil
resin layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP60114397A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61273568A (en
Inventor
Takahiro Fujio
Kazuhisa Hoshino
Hidekazu Watabiki
Sadaichi Nishio
Toshiaki Kondo
Tsutomu Asano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd, Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
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Publication of JPS61273568A publication Critical patent/JPS61273568A/en
Publication of JPH0154710B2 publication Critical patent/JPH0154710B2/ja
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    • G02OPTICS
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    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
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    • G03H2250/12Special arrangement of layers

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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〈産業上の利用分野〉 出版・印刷業においては、書籍・雑誌の表紙、
挿し絵として、あるいはギフト、ノベルテイとし
て、そして有価証券・クレジツドカード・IDカ
ードの偽造防止としてログラムが利用されてい
る。又、広告・デイスプレイの分野でも虹色に光
るその装飾性、立体感による意外性からホログラ
ムが利用されている。 本発明は該ホログラムに関し、さらに詳細に
は、表面レリーフ型ホログラムをエンボス成形技
術によつて成型し、被転写体にホログラムを転写
することを目的としたホログラム転写箔に関する
ものある。 〈従来の技術〉 従来ホログラムを複製・実装する方法は、基材
上に塗布された樹脂層に対して、表面レリーフ型
ホログラムが形成されているスタンパを用いて、
エンボス成形を行ない、樹脂上に表面レリーフ型
ホログラムを形成し、その表面にアルミニウム蒸
着を施し、感熱接着剤を塗布し、ホツトスタンプ
により被転写体に転写するものであり、これにホ
ログラム転写箔が用いられていた。この方法は光
学的方法によらず機械的にホログラムを複製する
ため低コストで大量生産に適しており、シール形
式とは異なる転写方式であるため、ホログラムの
厚みをほとんど感じさせない形で実装が行なえ
る。 〈発明が解決しようとしている問題点〉 ホログラム転写箔では、まず第一段階でホログ
ラムのエンボス成形が行なわれ、次に第二段階で
ホツトスタンプによる転写が行なわれるため、エ
ンボス成型時の基材と樹脂との密着性と転写を行
なう際の剥離性といつた一見矛盾した性能が要求
される。従来の転写箔では、エンボス成形は可能
であるが、転写性が極めて悪いとか、転写時の剥
離性は良いが、エンボス時に樹脂が基材からはが
れやすいという問題があつた。又、エンボス転写
とも一応行なえる転写箔の中にも樹脂の耐熱温度
を上げたためホログラムの成形性が悪く再生像が
暗くなつてしまうものもある。 ホツトスタンプを行なうため、基材の厚みに制
限があり、20〜30μm程度の薄い基材を使用せざ
るを得ずエンボス成形時にプレスムラが生じやす
く、外観上の品質が低下するという問題がある。 また、反射型ホログラムとして使用するために
行なうアルミニウム蒸着によつて樹脂が白化して
しまつたりアルミニウムと樹脂との密着力が弱い
などの問題もあつた。又、ホツトスタンプのため
の感熱接着剤により樹脂がダメージを受けてしま
うという問題もあつた。更にホツトスタンプの際
の熱で樹脂が変質してしまう問題、転写の際にフ
クレが生じたり、バリが多いなどの問題があつ
た。 〈問題を解決するための手段〉 本発明は以上の事情に鑑み、種々検討の結果得
られたものである。 すなわち、本発明は基材フイルムの片面に設け
た樹脂層表面に、表面レリーフ型ホログラムスタ
ンパにて、加熱、加圧によるホログラムを形成し
た後、蒸着による金属反射層及び感熱接着剤層を
順次、重ねてなる転写箔において、当該樹脂構成
が、基材フイルム側から剥離ニス層、ホログラム
形成樹脂層の2層構成から成り、かつホログラム
形成樹脂層として、共重合成分として少なくとも
3〜15重量%の酢酸ビニル成分と1〜6重量%の
酸価を有する化合物とを含有し、重合度が400〜
800の範囲である塩化ビニル樹脂を用いることに
より、エンボス時の成形性及び転写性に優れたホ
ログラム用転写箔が得られることを見出した。 以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。
第1図から第3図は、本発明に述べるホログラム
転写箔が、表面レリーフ型スタンパにてエンボス
される時の状態をわかり易く図示したものであ
る。すなわち第1図に於て1は基材フイルムを示
し、2は剥離ニス層、3はホログラム形成樹脂層
を示し、1〜3が本発明のホログラム転写箔の基
礎部分の構成である。4は表面レリーフ型ホログ
ラムスタンパを示し、プレス上部定盤5に固定さ
れる。プレス上部定盤にはエンボスに必要な加熱
機構が内蔵されている。6はプレス下部定盤を示
し、プレス定盤5,6により一定時間加熱、加圧
され、ホログラムスタンパのレリーフ模様がホロ
グラム形成層にエンボスされる。第2図はこのよ
うにしてエンボスされた後のホログラム転写箔の
基礎部分を示したもので樹脂層7は3のホログラ
ム形成樹脂層にホログラムがエンボスされた後の
状態を示す。さらに第3図は本発明のホログラム
転写箔の全体像を示す概念断面図で8はホログラ
ムをエンボス成形後の樹脂層7上に施こされた蒸
着金属反射層を示し、9は前記蒸着金属反射層8
の上に設けられた感熱接着剤層を示す。 本発明に述べる基材フイルム1としては耐熱性
を有した、ポリエステルフイルム、ポリプロピレ
ンフイルム、ポリカーボネートフイルム、セロフ
アンなどの使用が可能で、厚さ10〜100μm程度の
ものが好ましい。中でもポリエステルフイルム
は、耐熱性、物理的強度、平滑性、フイツシユア
イが少ないなどの点で最も良好な結果が得られ
る。 本発明に述べる剥離ニス層2は、ホログラム形
成樹脂層3がより効果的に被転写体に転移するた
めに設けられたもので、生産の効率をアツプする
ために不可欠なものであり、熱可塑性アクリル樹
脂、塩化ゴム系樹脂及び該樹脂と併用し得る樹脂
としてニトロセルロース、アセチルセルロース、
アセテートブチレート、ポリスチレン、塩化ビニ
ル、塩酢ビ系樹脂などが使用できる。さらにはメ
ラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹脂、尿
素樹脂、アクリル樹脂などの熱硬化型樹脂の単独
または混合系での使用も可能であり、シリコーン
樹脂、パラフインワツクス、反応型フツ素樹脂な
どの使用も可能である。 本発明に述べるホログラム形成樹脂層3に適す
る樹脂としては、ある種の塩化ビニル樹脂を使用
することにより極めて良結果が得られる。すなわ
ち、かかるホログラム形成樹脂層として、共重合
成分として少なくとも3〜15重量%の酢酸ビニル
成分と1〜6重量%の酸価を有する化合物とを含
有し、重合度が400〜800の範囲である塩化ビニル
樹脂を用いることで、エンボス成形性が良好でプ
レスむらが生じ難く、明るい再生像が得られ、そ
の上、エンボス成形時の基材への密着性が良く、
金属反射層との接着性も良好でかつ被転写体へ転
写する際の剥離性が極めて良いことを発見した。 中でも酸価を有する化合物としてマレイン酸を
使用することにより、アルミニウムなどの金属反
射層との接着性が特に良好な結果を得ることがで
きる。 このようなホログラム形成樹脂層を塗工する方
法として、塗料化した樹脂をロールコート、ブレ
ードコートなどの方法により塗布、乾燥させて
0.5〜5μmの膜厚を形成させればよい。 こうして得られたホログラム形成樹脂層は、剥
離ニス層が塗工された基材フイルムと適度に接着
し、エンボス成形時の加熱・加圧により優れた成
形性を有し、しかも表面にニツケル、金、クロム
等のメツキを施したスタンパへ接着せず、更に金
属反射層と良好な接着性を示し、しかも皮膜の切
れが良好である。更にホツトスタンプ時の金属反
射層の剥離不良や転写ムラ、バリ、フクレの発生
などのない確実な転写が可能となり、蒸着工程
や、ホツトスタンプ時の熱によつて発生する収縮
によるひび割れ、白化、ホログラム模様の破壊な
ど、外観上の品質低下もみられない。 エンボス成形は、プレス機(上部定盤5及び下
部定盤6)にて、ホログラム形成樹脂層3とスタ
ンパ4のレリーフ型ホログラム模様を重ね合わ
せ、90℃〜150℃の条件にて加熱、加圧した後、
冷却を行なうことにより樹脂層3の表面にホログ
ラム模様が形成される。 本発明に述べる金属反射層8、すなわち金属蒸
着層は表面の反射率が高い金属が好ましく、具体
的にはアルミニウム、金、銀、銅等及びこれらの
金属を含む合金を使用することができ、通常よく
知られている真空蒸着法、スパツタリング法、イ
オンプレーテイング法などの方法によつて設ける
ことができる。厚味としては100Åから10000Åの
範囲が適当である。 本発明に述べる感熱接着剤層9はポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリ酢酸ビニル、ゴム系樹脂、エチレン
―酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニ
ル共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用出来、金属
反射層及び、被転写物の材質との接着性を考慮し
任意の樹脂が選定され、適当な溶剤にてワニス化
したものを、グラビアコート法、ロールコート
法、ブレードコート法など公知の手法にて塗布形
成せしめるものであり、膜厚は1μmから20μmが
好ましい。 第4図はこうして得られたホログラム転写箔
を、紙、塩ビシート、ポリエステルシートなど任
意の被転写体10に転写する時の状態をわかり易
く図示したものである。すなわち被転写体10に
感熱接着剤層9塗工面を合わせ、基材フイルム1
側から、加熱、加圧(ホツトスタンピング)を
し、感熱接着剤層9を被転写体10に接着させた
後、基材フイルム1を剥離させて転写が完了す
る。ここで基材フイルム1を剥離させる場合に、
剥離ニス層2に使用される樹脂の種類により次の
2つのケースが考えられる。すなわち第4図イに
示すように剥離時に剥離ニス層が基材フイルム側
に接着したまま剥離するものと、ロに示すように
剥離時に剥離ニス層2がホログラム形成樹脂層3
側に接着したまま剥離する場合が考えられる。具
体的には剥離ニス層にいる樹脂として、熱可塑性
アクリル樹脂や塩化ゴム系のポリエステルフイル
ムなどの基材フイルムに接着性の良い樹脂を用い
た場合、イに示す前者の剥離状態を示し、熱硬化
型のメラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹
脂、尿素樹脂などの単独又は混合系にて使用した
場合や、シリコン樹脂、パラフインワツクス類、
反応型フツ素樹脂などを用いた場合には、ポリエ
ステルフイルムなどの基材フイルムへの接着力が
小さく、剥離時に容易に基材フイルムから剥れ、
ロに示す後者の剥離状態を示す。 いずれの場合に於いても、前述のように、剥離
ニス層2はホログラム形成樹脂層3がより効果的
に被転写体10に転移するために設けられるもの
で、その塗布量は微量でよく、特にロに示すよう
に剥離ニス層がホログラム形成樹脂層に残るよう
な構成の場合、ホログラムに悪影響を及ぼす程、
多量であることは好ましくない。 以上の様に、本発明に述べるホログラム転写箔
を用いることで、これまでのホログラム転写箔の
かかえていた問題点を解決することができた。 以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明
する。 〈実施例〉 (実施例 1) 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(a)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離性樹脂層を設けた上に、更に
下記組成(b)のワニスにて約1μmの樹脂層を設け、
60℃、72時間の養生を行つた後、プレス機にて樹
脂層とスタンパーのホログラム形成面を重ね合
せ、エンボス加工を130℃、40Kg/cm2の加熱、加
圧条件にておこない樹脂表面へホログラムを形成
させた。 次に該樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウ
ム蒸着を施し、更に下記組成(c)のワニスをロール
コーターにて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形
成させホログラム転写箔を得た。 (a) ワニス {メチルメタアクリレート系ポリオールT.
G.105℃、分子量300×13) ……9.0重量% セルロースアセテートブチレート(ブチル基37
%、TG130℃) ……1.0 〃 トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチル ……20.0 〃} (b) ワニス {塩化ビニル酢酸ビニル/マレイン酸共重合物
(平均重合度600) ……150重量% (共重合成分として酢酸ビニル10重量%、マ
レイン酸2重量%含有) トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチルケトン ……15.0 〃} 100.0 〃 (c) ワニス {塩酢ビ樹脂(塩化ビニル/酢酸ビニル=86/
14、平均重合度600〜700) ……15重量% アクリル樹脂(T.G.80℃、分子量150×103
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃} 100.0 〃 次に得られた転写箔を157g/m2のアート紙に
120℃、0.5秒、の条件にて加熱プレスすることに
より、ホログラムを転写したところ、白化、ひび
割れ、ふくれなどの不良のないホログラムを忠実
に再現した転写物が得られる。 また、樹脂層へのエンボス加工においては、ス
タンパへの接着トラブルもなく、加工性に優れた
ものであつた。 (実施例2及び比較例1〜5) 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(d)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離樹脂層を設けた上に、更に下
記(e)に示す各種、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合
樹脂を用いたワニスにて約1.5μmの樹脂層を設
け、60℃、72時間の同一条件にて養生を行つた
後、プレス機にて樹脂層とスタンパーのホログラ
ム形成面を重ね合わせ、エンボス加工を130℃、
40Kg/cm2の加熱、加圧条件にておこない樹脂表面
にホログラムを形成させた。次に実施例1同様該
樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウム蒸着を
施し、更に下記組成(f)のワニスをロールコーター
にて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形成させ各
種ホログラム転写箔を得た。 次にこうして得られた転写箔を157g/m2のア
ート紙に120℃、0.5秒の条件にて加熱プレスする
ことにより、転写適性の比較をおこなつた。その
結果、結果欄に示すごとく、酢酸ビニル成分の共
重合比(重量%)が3〜15重量%の範囲外でかつ
重合度が400〜800の範囲外にある塩化ビニル樹脂
を用いた場合、いずれもエンボス適性、転写性、
画像再現性などの点で不満足な結果を得た。ま
た、共重合成分としてマレイン酸などの酸価を有
する化合物を1〜6重量%含まない場合には、ア
ルミニウム蒸着層とかかるホログラム形成層との
密着性が悪く、不満足な結果を得た。 (d) ワニス(剥離ワニス) {アデカプレンCR―20(旭電化社製 塩化ゴム
系樹脂) ……30重量%MEK/トルエン=1/1 ……7.0 〃} 100.0 〃 (e) ワニス〜(ホログラム模様形成樹脂層) {塩化ビニル樹脂※ ……20重量% トルエン ……35 〃 メチルエチルケトン …35 〃 酢酸イソブチルケトン ……10 〃}
<Industrial Application Fields> In the publishing and printing industry, covers of books and magazines,
Logograms are used as illustrations, gifts, novelties, and to prevent counterfeiting of securities, credit cards, and ID cards. Additionally, holograms are used in the field of advertising and displays due to their iridescent decorative properties and unexpected three-dimensional effect. The present invention relates to the hologram, and more particularly to a hologram transfer foil for the purpose of molding a surface relief type hologram by embossing molding technology and transferring the hologram to an object to be transferred. <Prior art> A conventional method for replicating and mounting a hologram is to use a stamper on which a surface relief hologram is formed on a resin layer coated on a base material.
Embossing is performed to form a surface relief hologram on the resin, the surface is vapor-deposited with aluminum, heat-sensitive adhesive is applied, and the hologram is transferred to the object using a hot stamp. It was used. This method reproduces holograms mechanically rather than optically, making it suitable for mass production at low cost.Since this method uses a transfer method different from the sticker format, it can be mounted in a way where the thickness of the hologram is hardly felt. Ru. <Problems to be solved by the invention> With hologram transfer foil, the hologram is embossed in the first step, and then transferred using a hot stamp in the second step. At first glance, seemingly contradictory performances are required, such as adhesion with resin and releasability during transfer. Conventional transfer foils can be embossed, but they have problems such as extremely poor transferability, and good releasability during transfer, but the resin tends to peel off from the base material during embossing. Further, even among transfer foils that can be used for emboss transfer, there are some that have raised resin heat resistance, resulting in poor moldability of holograms and resulting in dark reproduced images. Since hot stamping is performed, there is a limit to the thickness of the base material, and a thin base material of about 20 to 30 μm must be used, which tends to cause press unevenness during embossing molding, resulting in a decrease in quality in appearance. Furthermore, there were other problems such as whitening of the resin during aluminum vapor deposition for use as a reflection hologram and weak adhesion between the aluminum and the resin. Another problem was that the resin was damaged by the heat-sensitive adhesive used for hot stamping. Furthermore, there were problems such as the resin being altered by the heat during hot stamping, blisters occurring during transfer, and many burrs. <Means for Solving the Problems> The present invention has been achieved as a result of various studies in view of the above circumstances. That is, in the present invention, a hologram is formed on the surface of a resin layer provided on one side of a base film by heating and pressurizing with a surface relief type hologram stamper, and then a metal reflective layer and a heat-sensitive adhesive layer are sequentially applied by vapor deposition. In the stacked transfer foil, the resin composition consists of a two-layer composition from the base film side, a release varnish layer and a hologram-forming resin layer, and the hologram-forming resin layer contains at least 3 to 15% by weight of a copolymer component. Contains a vinyl acetate component and a compound having an acid value of 1 to 6% by weight, and has a degree of polymerization of 400 to 400.
It has been found that by using a vinyl chloride resin having a molecular weight of 800, a hologram transfer foil with excellent moldability and transferability during embossing can be obtained. Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.
FIGS. 1 to 3 clearly illustrate the state in which the hologram transfer foil according to the present invention is embossed with a surface relief type stamper. That is, in FIG. 1, 1 represents a base film, 2 represents a release varnish layer, 3 represents a hologram forming resin layer, and 1 to 3 are the basic components of the hologram transfer foil of the present invention. Reference numeral 4 indicates a surface relief type hologram stamper, which is fixed to the press upper surface plate 5. The upper surface plate of the press has a built-in heating mechanism necessary for embossing. Reference numeral 6 indicates a press lower platen, which is heated and pressurized for a certain period of time by the press plates 5 and 6, so that the relief pattern of the hologram stamper is embossed on the hologram forming layer. FIG. 2 shows the basic part of the hologram transfer foil after being embossed in this manner, and the resin layer 7 shows the state after a hologram has been embossed on the hologram forming resin layer 3. Furthermore, FIG. 3 is a conceptual cross-sectional view showing the overall image of the hologram transfer foil of the present invention, where 8 shows the vapor deposited metal reflective layer applied on the resin layer 7 after the hologram has been embossed, and 9 shows the vapor deposited metal reflective layer. layer 8
2 shows a heat-sensitive adhesive layer provided on top of the heat-sensitive adhesive layer. As the base film 1 described in the present invention, heat-resistant polyester film, polypropylene film, polycarbonate film, cellophane, etc. can be used, and those having a thickness of about 10 to 100 μm are preferable. Among them, polyester film gives the best results in terms of heat resistance, physical strength, smoothness, and little stickiness. The release varnish layer 2 described in the present invention is provided to more effectively transfer the hologram-forming resin layer 3 to the transfer target, and is essential for increasing production efficiency. Acrylic resins, chlorinated rubber resins, and resins that can be used in combination with these resins include nitrocellulose, acetylcellulose,
Acetate butyrate, polystyrene, vinyl chloride, salt-vinyl acetate resin, etc. can be used. Furthermore, thermosetting resins such as melamine resins, alkyd resins, epoxy resins, urea resins, and acrylic resins can be used alone or in combination, and silicone resins, paraffin waxes, reactive fluororesins, etc. can also be used. is also possible. As a resin suitable for the hologram forming resin layer 3 described in the present invention, extremely good results can be obtained by using a certain type of vinyl chloride resin. That is, the hologram-forming resin layer contains at least 3 to 15% by weight of a vinyl acetate component and a compound having an acid value of 1 to 6% by weight as copolymerization components, and the degree of polymerization is in the range of 400 to 800. By using vinyl chloride resin, it has good embossing moldability, is less likely to cause uneven pressing, and a bright reproduced image can be obtained.In addition, it has good adhesion to the base material during embossing molding.
It was discovered that the adhesion to the metal reflective layer was good and the peelability when transferring to a transfer object was extremely good. Among them, by using maleic acid as a compound having an acid value, particularly good results can be obtained in adhesion to a metal reflective layer such as aluminum. The method for coating such a hologram-forming resin layer is to apply resin in the form of paint using a method such as roll coating or blade coating, and then dry it.
A film thickness of 0.5 to 5 μm may be formed. The thus obtained hologram-forming resin layer adheres appropriately to the base film coated with the release varnish layer, has excellent moldability when heated and pressurized during embossing molding, and has a surface coated with nickel and gold. It does not adhere to stampers plated with chrome, etc., and also exhibits good adhesion to metal reflective layers, and the film cuts well. Furthermore, it enables reliable transfer without peeling defects, uneven transfer, burrs, or blisters of the metal reflective layer during hot stamping, and eliminates cracks, whitening, and other problems caused by shrinkage caused by the heat during the vapor deposition process and hot stamping. There is no visible deterioration in quality, such as destruction of the hologram pattern. In the embossing process, the relief hologram pattern of the hologram forming resin layer 3 and the stamper 4 are superimposed using a press machine (upper surface plate 5 and lower surface plate 6), and heated and pressurized at a temperature of 90°C to 150°C. After that,
By cooling, a hologram pattern is formed on the surface of the resin layer 3. The metal reflective layer 8 described in the present invention, that is, the metal vapor deposition layer, is preferably a metal with a high surface reflectance, and specifically, aluminum, gold, silver, copper, etc., and alloys containing these metals can be used. It can be provided by commonly known methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion plating. The appropriate thickness is in the range of 100 Å to 10,000 Å. The heat-sensitive adhesive layer 9 described in the present invention is made of polyester resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, polyamide resin, polyvinyl acetate, rubber resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, etc. A plastic resin can be used, and any resin is selected taking into account its adhesion to the metal reflective layer and the material to be transferred, and the resin is varnished with an appropriate solvent and then applied to the gravure coating method, roll coating method, or blade coating method. The film is formed by coating using a known method such as a coating method, and the film thickness is preferably 1 μm to 20 μm. FIG. 4 clearly shows the state in which the hologram transfer foil obtained in this way is transferred to an arbitrary transfer material 10 such as paper, a vinyl chloride sheet, a polyester sheet, etc. That is, the coated surface of the heat-sensitive adhesive layer 9 is aligned with the transfer target 10, and the base film 1 is
After applying heat and pressure (hot stamping) from the side to adhere the heat-sensitive adhesive layer 9 to the transfer target 10, the base film 1 is peeled off to complete the transfer. When peeling the base film 1 here,
The following two cases are possible depending on the type of resin used for the release varnish layer 2. In other words, as shown in FIG. 4A, the release varnish layer is peeled off while remaining adhered to the base film side during peeling, and as shown in FIG.
It is conceivable that the film may peel off while remaining adhered to the side. Specifically, when a resin with good adhesion to the base film, such as thermoplastic acrylic resin or chlorinated rubber-based polyester film, is used as the resin in the release varnish layer, the former release state shown in A is shown, and the heat When used alone or in combination with hardening melamine resins, alkyd resins, epoxy resins, urea resins, silicone resins, paraffin waxes, etc.
When using reactive fluororesin, the adhesion to the base film such as polyester film is low, and it easily peels off from the base film when peeled.
The peeling state of the latter is shown in (b). In either case, as described above, the release varnish layer 2 is provided to more effectively transfer the hologram-forming resin layer 3 to the transfer target 10, and the amount of application thereof may be small; In particular, in the case of a structure in which the peeling varnish layer remains on the hologram forming resin layer as shown in (B), the hologram is adversely affected.
A large amount is not preferable. As described above, by using the hologram transfer foil described in the present invention, it was possible to solve the problems that conventional hologram transfer foils had. The present invention will be explained in more detail below using examples. <Example> (Example 1) A varnish with the following composition (a) was applied to the surface of a 25 μm thick polyester film using a roll coater, and a peelable resin layer of approximately 0.5 μm was provided, and the following Apply a resin layer of approximately 1 μm using varnish of composition (b),
After curing at 60℃ for 72 hours, the resin layer and the hologram forming surface of the stamper are placed on top of each other using a press machine, and embossing is performed on the resin surface at 130℃ under heating and pressure conditions of 40Kg/ cm2. A hologram was formed. Next, aluminum was vapor-deposited to a thickness of about 500 Å on the surface of the resin layer, and a varnish having the following composition (c) was applied using a roll coater to form a heat-sensitive adhesive layer of about 3 μm to obtain a hologram transfer foil. (a) Varnish {methyl methacrylate polyol T.
G.105℃, molecular weight 300× 13 )...9.0% by weight Cellulose acetate butyrate (butyl group 37
%, TG130℃) …1.0 Toluene …35.0 Methyl ethyl ketone …35.0 Isobutyl acetate …20.0 (b) Varnish {vinyl chloride vinyl acetate/maleic acid copolymer (average degree of polymerization 600) …150 Weight% (Contains 10% by weight of vinyl acetate and 2% by weight of maleic acid as copolymerization components) Toluene...35.0 Methyl ethyl ketone...35.0 Isobutyl acetate...15.0 100.0 (c) Varnish {salt vinyl acetate resin ( Vinyl chloride/vinyl acetate = 86/
14, Average degree of polymerization 600-700) ...15% by weight Acrylic resin (TG 80℃, molecular weight 150×10 3 )
……10 〃 MEK ……38 〃Toluene ……37 〃} 100.0 〃 Next, transfer the obtained transfer foil to 157 g/ m2 art paper.
When the hologram is transferred by hot pressing at 120°C for 0.5 seconds, a transfer product that faithfully reproduces the hologram is obtained without defects such as whitening, cracks, and blisters. Further, in embossing the resin layer, there was no problem of adhesion to the stamper, and the processability was excellent. (Example 2 and Comparative Examples 1 to 5) A varnish having the following composition (d) was applied to the surface of a 25 μm thick polyester film using a roll coater, and a release resin layer of about 0.5 μm was provided, and then A resin layer of approximately 1.5 μm was applied using the various types of vinyl chloride/vinyl acetate copolymer resin shown in (e) below, and after curing under the same conditions at 60°C for 72 hours, it was placed in a press. The resin layer and the hologram forming surface of the stamper were overlapped and embossing was performed at 130℃.
A hologram was formed on the resin surface under heating and pressure conditions of 40 kg/cm 2 . Next, as in Example 1, aluminum was vapor-deposited to a thickness of about 500 Å on the surface of the resin layer, and a varnish with the following composition (f) was applied using a roll coater to form a heat-sensitive adhesive layer of about 3 μm, and various holograms were transferred. Got the foil. Next, the thus obtained transfer foil was heat-pressed onto 157 g/m 2 art paper at 120° C. for 0.5 seconds to compare transfer suitability. As a result, as shown in the results column, when using a vinyl chloride resin in which the copolymerization ratio (wt%) of the vinyl acetate component was outside the range of 3 to 15 wt% and the degree of polymerization was outside the range of 400 to 800, Both have embossability, transferability,
Unsatisfactory results were obtained in terms of image reproducibility, etc. Furthermore, when 1 to 6% by weight of a compound having an acid value such as maleic acid was not included as a copolymerization component, the adhesion between the aluminum vapor deposited layer and the hologram forming layer was poor, resulting in unsatisfactory results. (d) Varnish (release varnish) {Adekaprene CR-20 (chlorinated rubber resin manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) ...30% by weight MEK/toluene = 1/1 ...7.0 〃} 100.0 〃 (e) Varnish ~ (hologram pattern) Forming resin layer) {Vinyl chloride resin* ...20% by weight Toluene ...35 〃 Methyl ethyl ketone ...35 〃 Acetate isobutyl ketone ...10 〃}

【表】 (f) ワニス(感熱接着剤層) {塩酢ビ樹脂(塩化ビニル/酢酸ビニル=86/
14、平均重合度600〜700) ……15重量% アクリル樹脂(T.G.80℃、分子量150×103
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃} 100.0 〃
[Table] (f) Varnish (thermal adhesive layer) {Salt vinyl acetate resin (vinyl chloride/vinyl acetate = 86/
14, Average degree of polymerization 600-700) ...15% by weight Acrylic resin (TG 80℃, molecular weight 150×10 3 )
……10 〃 MEK ……38 〃Toluene ……37 〃} 100.0 〃

【表】 (注) ○は良好、×は不良を示し、◎は総合的
に良好であることを示す。
〈発明の効果〉 本発明によるホログラム用転写箔は剥離層を設
けかつホログラム成形層である樹脂層3として、
共重合成分として少なくとも3〜15重量%の酢酸
ビニル成分と1〜6重量%の酸化を有する化合物
とを含有し、重合度が400〜800の範囲である塩化
ビニル樹脂を用いたことにより、表面レリーフホ
ログラムを転写箔としてエンボス成形方式で歩留
りよく生産できる様になり、成形性の向上により
明るい再生像が得られ、金属蒸着特性、ホツトス
タンプによる転写性などの向上が実現した。 このことから、本発明はホログラム転写箔の品
質向上、加工性の向上、経済性の向上に効果があ
るものであり、書籍、本の表紙、挿絵、ギフト、
ノベルテイパツケージなどへのホログラム転写箔
の使用が容易となり、偽造防止など本発明は産業
上有効なものであるといえる。
[Table] (Note) ○ indicates good quality, × indicates poor quality, and ◎ indicates overall good quality.
<Effects of the Invention> The hologram transfer foil according to the present invention is provided with a release layer and as a resin layer 3 which is a hologram forming layer,
By using a vinyl chloride resin containing as a copolymerization component at least 3 to 15% by weight of a vinyl acetate component and 1 to 6% by weight of an oxidized compound and having a degree of polymerization in the range of 400 to 800, the surface It has become possible to produce high-yield relief holograms using the emboss molding method as transfer foil, and improved moldability has resulted in brighter reproduced images, as well as improved metal deposition characteristics and transferability with hot stamping. From this, the present invention is effective in improving the quality, processability, and economic efficiency of hologram transfer foils, and is effective in improving the quality, processability, and economic efficiency of hologram transfer foils, and can be used for books, book covers, illustrations, gifts,
It can be said that the present invention is industrially effective, as it facilitates the use of hologram transfer foil in novelty packages and the like, and prevents counterfeiting.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は本発明の実施例を示すもので第1,2,
3図はホログラム転写箔が、表面レリーフ型スタ
ンパにてエンボスされる状態を示す断面で表わし
た説明図であり、第4図は剥離ニス層による剥離
状態を示す断面図で表わした説明図である。 1…基材フイルム、2…剥離ノス層、3…ホロ
グラム形成樹脂層、4…表面レリーフ型ホログラ
ムスタンパ、5…プレス機上部定盤、6…プレス
機下部定盤、7…ホログラムエンボス後の樹脂
層、8…金属反射層、9…感熱接着剤層、10…
被転写体。
The drawings show embodiments of the present invention.
Fig. 3 is an explanatory cross-sectional diagram showing a state in which the hologram transfer foil is embossed with a surface relief type stamper, and Fig. 4 is an explanatory diagram in a cross-sectional view showing a state in which the hologram transfer foil is peeled off by a release varnish layer. . 1... Base film, 2... Peeling layer, 3... Hologram forming resin layer, 4... Surface relief type hologram stamper, 5... Upper surface plate of press machine, 6... Lower surface plate of press machine, 7... Resin after hologram embossing Layer, 8... Metal reflective layer, 9... Heat-sensitive adhesive layer, 10...
Transferee.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基材フイルムの片面に設けた樹脂層表面に、
表面レリーフ型ホログラムスタンパにて、加熱・
加圧によりホログラムを形成した後、蒸着による
金属反射層及び感熱接着剤層を順次、重ねてなる
転写箔において、該樹脂層構成が、基材フイルム
側から剥離ニス層、ホログラム形成樹脂層の2層
構成から成り、かつホログラム形成樹脂層が、共
重合成分として少なくとも3〜15重量%の酢酸ビ
ニル成分と1〜6重量%の酸価を有する化合物と
を含有し、重合度が400〜800の範囲である塩化ビ
ニル樹脂であることを特徴とするホログラム転写
箔。 2 酸価を有する化合物がマレイン酸であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のホロ
グラム転写箔。 3 剥離ニス層に用いる樹脂が、、熱可塑性アク
リル樹脂又は塩化ゴム樹脂のいずれか一種及びこ
れらの混合物であることを特徴とする特許請求の
範囲第1,2項に記載のホログラム転写箔。 4 剥離ニス層に用いる樹脂が、熱硬化型樹脂で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1,2項
に記載のホログラム転写箔。 5 基材フイルムがポリエステルフイルムである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1,2,3,
4項に記載のホログラム転写箔。
[Claims] 1. On the surface of the resin layer provided on one side of the base film,
Heating and
In a transfer foil in which a hologram is formed by pressure, and then a metal reflective layer by vapor deposition and a heat-sensitive adhesive layer are stacked one after another, the resin layer structure consists of two layers: a release varnish layer and a hologram-forming resin layer from the base film side. The hologram-forming resin layer contains a vinyl acetate component of at least 3 to 15% by weight and a compound having an acid value of 1 to 6% by weight as copolymerization components, and has a degree of polymerization of 400 to 800. A hologram transfer foil characterized by being made of vinyl chloride resin. 2. The hologram transfer foil according to claim 1, wherein the compound having an acid value is maleic acid. 3. The hologram transfer foil according to claims 1 and 2, wherein the resin used for the release varnish layer is one of a thermoplastic acrylic resin and a chlorinated rubber resin, and a mixture thereof. 4. The hologram transfer foil according to claims 1 and 2, wherein the resin used for the release varnish layer is a thermosetting resin. 5. Claims 1, 2, 3, and 3, characterized in that the base film is a polyester film.
The hologram transfer foil according to item 4.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021181986A1 (en) 2020-03-13 2021-09-16 Ricoh Company, Ltd. Anti-pathogen structure, method for producing anti-pathogen structure, apparatus for producing anti-pathogen structure, and liquid composition

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63192078A (en) * 1987-02-04 1988-08-09 Fujitsu Ltd Production of surface relief type hologram
JP2623590B2 (en) * 1987-08-06 1997-06-25 大日本インキ化学工業株式会社 Metallized transfer film and method for producing the same
JP2623591B2 (en) * 1987-08-06 1997-06-25 大日本インキ化学工業株式会社 Metallized transfer sheet and method for producing the same
JP3463252B2 (en) * 1994-04-28 2003-11-05 武内プレス工業株式会社 Hot stamp printing method for metal products
GB9509487D0 (en) 1995-05-10 1995-07-05 Ici Plc Micro relief element & preparation thereof

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5988780A (en) * 1982-11-08 1984-05-22 アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− Making of optical refraction recording body and optical refraction pattern
JPS59178661U (en) * 1983-05-13 1984-11-29 大日本印刷株式会社 hologram products

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021181986A1 (en) 2020-03-13 2021-09-16 Ricoh Company, Ltd. Anti-pathogen structure, method for producing anti-pathogen structure, apparatus for producing anti-pathogen structure, and liquid composition

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