JPH0154766B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0154766B2 JPH0154766B2 JP56213249A JP21324981A JPH0154766B2 JP H0154766 B2 JPH0154766 B2 JP H0154766B2 JP 56213249 A JP56213249 A JP 56213249A JP 21324981 A JP21324981 A JP 21324981A JP H0154766 B2 JPH0154766 B2 JP H0154766B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording
- film
- head
- medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高透磁率磁性膜を磁極とする磁気記録
再生ヘツドに関し、特に記録と再生とに係る磁極
が異なる磁気記録再生ヘツドに関する。
再生ヘツドに関し、特に記録と再生とに係る磁極
が異なる磁気記録再生ヘツドに関する。
高密度磁気記録を行う為に、従来のNi―Zn等
の焼結フエライトを磁性コアに用いた磁気ヘツド
に代つてパーマロイその他の高透磁率磁性薄膜を
磁極とする磁気ヘツドが用いられてきている。媒
体についても、従来のFe2O3の針状結晶粉等の樹
脂結合材と共に塗布した媒体に代つてCo―Crそ
の他の合金磁性薄膜をスパツタ、或は蒸着、メツ
キにより基板上に形成したものが用いられる様に
なつてきつつある。これらヘツドと媒体の組み合
せによる磁気記録装置に関して説明する。第１図
は、その一例で媒体１０１を挾んで両側にヘツド
が分離したものである。
の焼結フエライトを磁性コアに用いた磁気ヘツド
に代つてパーマロイその他の高透磁率磁性薄膜を
磁極とする磁気ヘツドが用いられてきている。媒
体についても、従来のFe2O3の針状結晶粉等の樹
脂結合材と共に塗布した媒体に代つてCo―Crそ
の他の合金磁性薄膜をスパツタ、或は蒸着、メツ
キにより基板上に形成したものが用いられる様に
なつてきつつある。これらヘツドと媒体の組み合
せによる磁気記録装置に関して説明する。第１図
は、その一例で媒体１０１を挾んで両側にヘツド
が分離したものである。
第１図は記録トラツク方向の断面図であり、磁
気記録媒体１０１は、記録又は再生の過程で、ヘ
ツドに対し例えばタ印１０６の方向に移動する。
磁気ヘツドは１０２及び１０４より構成され、両
者は媒体１０１を挾む様にして対向している。１
０２の中心付近には、媒体１０１の面にほぼ垂直
になる様に高透磁率磁性薄膜（例えば１ミクロン
前後の厚みのパーマロイ膜）１０３が、基板１０
２上にメツキ又はスパツター等のプロセスで形成
され、サンドイツチされた構造をしている。１０
４は透磁率の比較的高い材料（例えばNi―Znフ
エライト等）で構成された磁性コアでありコア１
０４の周囲には、記録再生用コイル１０５が巻き
つけられている。記録時にはコイル１０５を流す
記録電流によつて生ずる磁界が矢印１０７の如く
媒体１０１を通過し、殊に磁性薄膜１０３と媒体
１０１との接触部分に磁界が集中する事によつて
その部分を磁化記録する。
気記録媒体１０１は、記録又は再生の過程で、ヘ
ツドに対し例えばタ印１０６の方向に移動する。
磁気ヘツドは１０２及び１０４より構成され、両
者は媒体１０１を挾む様にして対向している。１
０２の中心付近には、媒体１０１の面にほぼ垂直
になる様に高透磁率磁性薄膜（例えば１ミクロン
前後の厚みのパーマロイ膜）１０３が、基板１０
２上にメツキ又はスパツター等のプロセスで形成
され、サンドイツチされた構造をしている。１０
４は透磁率の比較的高い材料（例えばNi―Znフ
エライト等）で構成された磁性コアでありコア１
０４の周囲には、記録再生用コイル１０５が巻き
つけられている。記録時にはコイル１０５を流す
記録電流によつて生ずる磁界が矢印１０７の如く
媒体１０１を通過し、殊に磁性薄膜１０３と媒体
１０１との接触部分に磁界が集中する事によつて
その部分を磁化記録する。
再生時には、同じく薄膜１０３が媒体１０１に
接触する部分の媒体上の記録磁化によつて薄膜１
０３とコア１０４の中に矢印１０７の如く発生す
る磁界の変化をコイル１０５が検出する。
接触する部分の媒体上の記録磁化によつて薄膜１
０３とコア１０４の中に矢印１０７の如く発生す
る磁界の変化をコイル１０５が検出する。
ここで、第２図により、記録の際に、媒体面上
に生ずる記録磁界の分布を説明する。第２図Ａ
は、一般的なリング型ヘツドの場合についてであ
る（リングヘツドの構造の説明は略す。）。２０１
は磁性コア、２０２はコア間のギヤツプ部であ
る。２０３は媒体である。第２図Ａは、ヘツドと
媒体の断面図、同図Ｂは、平面図である。同図Ｂ
において、斜線部はヘツドが媒体に接触する領域
を示す。又、ｙ方向は、ヘツドに対する媒体の移
動方向を示し、ｘ方向は媒体の巾方向を示す。さ
らに、同図Ｃ，Ｄは媒体面上の記録磁界分布を示
す。即ち、Ｃに示す分布２０７は、媒体面上のｙ
方向の分布であり、Ｄに示す分布２０６は、媒体
面のｘ方向の分布である。又、２０８はヘツド２
０１の幅であり、２０９は実効記録トラツク幅で
あり、２１０は、消去幅である。ここで、実効記
録トラツク幅とは、再生に有効な記録磁化分布が
存在するトラツク幅である。消去幅とは、新たに
記録する前に記録されていた記録磁化分布が消さ
れるべきトラツク幅を示す。
に生ずる記録磁界の分布を説明する。第２図Ａ
は、一般的なリング型ヘツドの場合についてであ
る（リングヘツドの構造の説明は略す。）。２０１
は磁性コア、２０２はコア間のギヤツプ部であ
る。２０３は媒体である。第２図Ａは、ヘツドと
媒体の断面図、同図Ｂは、平面図である。同図Ｂ
において、斜線部はヘツドが媒体に接触する領域
を示す。又、ｙ方向は、ヘツドに対する媒体の移
動方向を示し、ｘ方向は媒体の巾方向を示す。さ
らに、同図Ｃ，Ｄは媒体面上の記録磁界分布を示
す。即ち、Ｃに示す分布２０７は、媒体面上のｙ
方向の分布であり、Ｄに示す分布２０６は、媒体
面のｘ方向の分布である。又、２０８はヘツド２
０１の幅であり、２０９は実効記録トラツク幅で
あり、２１０は、消去幅である。ここで、実効記
録トラツク幅とは、再生に有効な記録磁化分布が
存在するトラツク幅である。消去幅とは、新たに
記録する前に記録されていた記録磁化分布が消さ
れるべきトラツク幅を示す。
次に、第３図は、磁性薄膜磁極による記録磁界
分布について示している。同図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
は、第２図と同様に各々断面図、平面図、ｘ方向
の記録磁界分布、ｙ方向の記録磁界分布である。
ここで、第２図と第３図について、それぞれの実
用的な記録条件の元での磁界分布の差を説明す
る。
分布について示している。同図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
は、第２図と同様に各々断面図、平面図、ｘ方向
の記録磁界分布、ｙ方向の記録磁界分布である。
ここで、第２図と第３図について、それぞれの実
用的な記録条件の元での磁界分布の差を説明す
る。
以下の説明は、磁界の数値解析によるシミユレ
ーシヨンによつて得られた結果であり、又実測デ
ータとの対応もよく得られているものである。
ーシヨンによつて得られた結果であり、又実測デ
ータとの対応もよく得られているものである。
これらの傾向は一般に当該技術者間には周知の
事として説明するものである。第２図においてト
ラツク幅方向の分布２０７は比較的なだらかな勾
配を持ち、その結果、ヘツド幅２０８に対して実
効記録トラツク幅２０９はかなり広く、しかも消
去幅２１０は更に広くなる。通常のヘツドの場合
２０９は２０８に対し数ミクロン広く、２１０は
２０８に対し十〜二十ミクロン程度広い。これに
対し、第３図におけるトラツク幅方向の分布２１
６は、極めて急峻であり磁極２１１の幅２１７と
同等程度の実効記録幅２１８となる。トラツク方
向即ちｙ方向の分布は第２図と第３図の間では大
きな差はない２０６と２１５。次に、磁気記録再
生装置において、装置の機械的な誤差或は温度、
湿度等の影響によつて生ずる記録トラツク位置と
再生トラツク位置の変動について第４図に示す。
記録トラツク位置とは、磁気記録ヘツドによつて
媒体上に記録した磁化データの場所を言い、再生
トラツク位置とは、再生ヘツドが検出対象とする
媒体上の位置を言うものとする。一点鎖線３０１
は記録トラツクの中心、ｙはヘツドに対する媒体
の移動方向を示す。テープ状の媒体においても、
デイスク状の媒体においても必ず記録トラツク３
０２に対し、再生トラツク３０３とは位置ずれを
生ずる。同一の媒体を、複数の記録再生装置の間
で共有使用する場合は、トラツクの位置ずれ量が
特に大きくなる。この結果、記録トラツク位置と
再生トラツク位置のずれに相当する部分３０４，
３０５の影響が再生信号に現れ、信号の信頼性を
劣化させる事になる。記録トラツク幅３０２の内
３０５の幅だけ無効部分となり、同時に３０４の
幅だけ再生すべからざる信号が含まれる事にな
る。従来、所謂るバルクコアを用いたリングヘツ
ドにあつては、同一のリングヘツドを記録再生に
用い、第２図２１０を消去幅とし、２０９を記録
トラツク幅とし、２０８を再生トラツク幅として
いた。この時、再生トラツク位置は記録トラツク
位置に対してｘ方向に誤差の余裕が得られてい
た。又消去幅が記録幅より大きい為、再生トラツ
ク位置は最悪の場合でも消去トラツク内にあれば
再生時の信号の信頼性は保障できた。
事として説明するものである。第２図においてト
ラツク幅方向の分布２０７は比較的なだらかな勾
配を持ち、その結果、ヘツド幅２０８に対して実
効記録トラツク幅２０９はかなり広く、しかも消
去幅２１０は更に広くなる。通常のヘツドの場合
２０９は２０８に対し数ミクロン広く、２１０は
２０８に対し十〜二十ミクロン程度広い。これに
対し、第３図におけるトラツク幅方向の分布２１
６は、極めて急峻であり磁極２１１の幅２１７と
同等程度の実効記録幅２１８となる。トラツク方
向即ちｙ方向の分布は第２図と第３図の間では大
きな差はない２０６と２１５。次に、磁気記録再
生装置において、装置の機械的な誤差或は温度、
湿度等の影響によつて生ずる記録トラツク位置と
再生トラツク位置の変動について第４図に示す。
記録トラツク位置とは、磁気記録ヘツドによつて
媒体上に記録した磁化データの場所を言い、再生
トラツク位置とは、再生ヘツドが検出対象とする
媒体上の位置を言うものとする。一点鎖線３０１
は記録トラツクの中心、ｙはヘツドに対する媒体
の移動方向を示す。テープ状の媒体においても、
デイスク状の媒体においても必ず記録トラツク３
０２に対し、再生トラツク３０３とは位置ずれを
生ずる。同一の媒体を、複数の記録再生装置の間
で共有使用する場合は、トラツクの位置ずれ量が
特に大きくなる。この結果、記録トラツク位置と
再生トラツク位置のずれに相当する部分３０４，
３０５の影響が再生信号に現れ、信号の信頼性を
劣化させる事になる。記録トラツク幅３０２の内
３０５の幅だけ無効部分となり、同時に３０４の
幅だけ再生すべからざる信号が含まれる事にな
る。従来、所謂るバルクコアを用いたリングヘツ
ドにあつては、同一のリングヘツドを記録再生に
用い、第２図２１０を消去幅とし、２０９を記録
トラツク幅とし、２０８を再生トラツク幅として
いた。この時、再生トラツク位置は記録トラツク
位置に対してｘ方向に誤差の余裕が得られてい
た。又消去幅が記録幅より大きい為、再生トラツ
ク位置は最悪の場合でも消去トラツク内にあれば
再生時の信号の信頼性は保障できた。
これら所謂るバルクコアを用いたリングヘツド
に対し、第５図に示した様な膜状の高透磁率磁性
体を磁極とするヘツドにあつては第３図に示した
如くトラツク幅方向の磁界分布が急峻となり、消
去幅或は記録幅共に磁極幅２１７にほぼ等しくな
る。従つて磁界の拡がりに伴う、再生トラツク位
置ずれ許容誤差は無いに等しい。
に対し、第５図に示した様な膜状の高透磁率磁性
体を磁極とするヘツドにあつては第３図に示した
如くトラツク幅方向の磁界分布が急峻となり、消
去幅或は記録幅共に磁極幅２１７にほぼ等しくな
る。従つて磁界の拡がりに伴う、再生トラツク位
置ずれ許容誤差は無いに等しい。
本発明は膜状の高透磁率磁極を用いたヘツドに
おいて問題となる、記録トラツクと再生トラツク
の位置ずれに関し、許容ずれ量を与えたヘツドを
供する事を目的とし、バルクリングヘツドと同等
又は、それ以上の許容ずれ量が得られるヘツドを
供するものである。以下本発明になるヘツドに関
し、実施例に基いて説明する。
おいて問題となる、記録トラツクと再生トラツク
の位置ずれに関し、許容ずれ量を与えたヘツドを
供する事を目的とし、バルクリングヘツドと同等
又は、それ以上の許容ずれ量が得られるヘツドを
供するものである。以下本発明になるヘツドに関
し、実施例に基いて説明する。
第５図は本発明になるヘツド例についてその断
面図を示してある。４０４は磁気記録媒体で、ヘ
ツドに対しｙ方向に移動するものとする。Ｃはト
ラツク方向の断面図、Ｄはトラツク幅方向の断面
図である。４０１と４０２は膜状の高透磁率磁性
膜である。４０７は上側ヘツド基板である。４０
６は媒体下側に設けた磁性コアでバルクフエライ
ト等で形成される。Ｄに示す如く、磁性膜４０１
の媒体対向部分の幅は、磁性膜４０２の媒体対向
部分の幅より大きく、又それぞれの膜幅方向の中
心は一致している。磁性膜４０１と４０２の端面
は、媒体を挾んで対向する磁性コア４０６の端面
内において該磁性コア４０６と対向している。磁
性コア４０６には記録用コイル４０５が巻いてあ
り、磁性膜４０２には、再生用コイル４０３が巻
いてある。磁性膜４０１は、媒体に対するヘツド
の移動方向に対して磁性膜４０２の後側に配され
ている。記録時に、コイル４０５に記録電流を流
すと、磁束は、磁性膜４０１と４０２の先端で媒
体に対向する端面部にそれぞれ集中し、該磁束集
中部分の媒体が記録磁化される。ヘツド移動方向
の後部に磁性膜４０１がある事から、最終的に媒
体上に残る記録磁化は磁性膜４０１の先端部で磁
化記録されたデータだけとなる。再生時には、磁
性膜４０１，４０２の中を、それぞれの膜端面が
対向する媒体上の磁化に基く磁束が通る。検出コ
イルは磁性膜４０２に巻いておく事により、検出
再生は磁性膜４０２の膜端面が対向する媒体部分
について行なう。磁性膜４０２の媒体対向面付近
での幅を、磁性膜４０１の媒体対向面付近での幅
に対し、該ヘツドを使用する磁気記録装置におけ
るヘツド媒体間設定誤差を許容できる様に予め狭
めておき、再生トラツク位置が記録トラツク位置
の中にある様にする。例えば磁性膜４０１による
記録トラツク幅を第２図２１０に一致させ、磁性
膜４０２による再生トラツク幅を２０８に一致さ
せる。この結果本発明になるヘツドの、再生トラ
ツク位置ずれ許容誤差は従来リングヘツド第３図
と同等になる。
面図を示してある。４０４は磁気記録媒体で、ヘ
ツドに対しｙ方向に移動するものとする。Ｃはト
ラツク方向の断面図、Ｄはトラツク幅方向の断面
図である。４０１と４０２は膜状の高透磁率磁性
膜である。４０７は上側ヘツド基板である。４０
６は媒体下側に設けた磁性コアでバルクフエライ
ト等で形成される。Ｄに示す如く、磁性膜４０１
の媒体対向部分の幅は、磁性膜４０２の媒体対向
部分の幅より大きく、又それぞれの膜幅方向の中
心は一致している。磁性膜４０１と４０２の端面
は、媒体を挾んで対向する磁性コア４０６の端面
内において該磁性コア４０６と対向している。磁
性コア４０６には記録用コイル４０５が巻いてあ
り、磁性膜４０２には、再生用コイル４０３が巻
いてある。磁性膜４０１は、媒体に対するヘツド
の移動方向に対して磁性膜４０２の後側に配され
ている。記録時に、コイル４０５に記録電流を流
すと、磁束は、磁性膜４０１と４０２の先端で媒
体に対向する端面部にそれぞれ集中し、該磁束集
中部分の媒体が記録磁化される。ヘツド移動方向
の後部に磁性膜４０１がある事から、最終的に媒
体上に残る記録磁化は磁性膜４０１の先端部で磁
化記録されたデータだけとなる。再生時には、磁
性膜４０１，４０２の中を、それぞれの膜端面が
対向する媒体上の磁化に基く磁束が通る。検出コ
イルは磁性膜４０２に巻いておく事により、検出
再生は磁性膜４０２の膜端面が対向する媒体部分
について行なう。磁性膜４０２の媒体対向面付近
での幅を、磁性膜４０１の媒体対向面付近での幅
に対し、該ヘツドを使用する磁気記録装置におけ
るヘツド媒体間設定誤差を許容できる様に予め狭
めておき、再生トラツク位置が記録トラツク位置
の中にある様にする。例えば磁性膜４０１による
記録トラツク幅を第２図２１０に一致させ、磁性
膜４０２による再生トラツク幅を２０８に一致さ
せる。この結果本発明になるヘツドの、再生トラ
ツク位置ずれ許容誤差は従来リングヘツド第３図
と同等になる。
薄膜４０１の記録トラツク幅と薄膜４０２の再
生トラツク幅との比、即ち実効的に薄膜４０１と
４０２の媒体対向部分での幅の比を、第２図２１
０と２０８の比よりも大きく取る事によつて、従
来リングヘツドよりも、許容ずれ量を大きくする
事ができる。
生トラツク幅との比、即ち実効的に薄膜４０１と
４０２の媒体対向部分での幅の比を、第２図２１
０と２０８の比よりも大きく取る事によつて、従
来リングヘツドよりも、許容ずれ量を大きくする
事ができる。
本発明になる磁気ヘツドの構造と効果について
基本的な原理は以上の通りであり、高密度記録に
おいて必要となる高透磁率磁性膜を用いたヘツド
においても、再生トラツク位置ずれ許容誤差を、
記録再生装置の形態、仕様に合せて適当に設定で
きる事が最大の特徴となる。勿論、応用ヘツドの
形態としては様々あるが、基本的に、記録用薄膜
磁極幅に対して再生用薄膜磁極幅を小さくしたヘ
ツドを本発明に帰属するものとする。
基本的な原理は以上の通りであり、高密度記録に
おいて必要となる高透磁率磁性膜を用いたヘツド
においても、再生トラツク位置ずれ許容誤差を、
記録再生装置の形態、仕様に合せて適当に設定で
きる事が最大の特徴となる。勿論、応用ヘツドの
形態としては様々あるが、基本的に、記録用薄膜
磁極幅に対して再生用薄膜磁極幅を小さくしたヘ
ツドを本発明に帰属するものとする。
ここで本発明になる別のヘツド例を示す。第６
図において、媒体５０１を上下両側から挾む様に
上側ヘツド５０２と下側ヘツド５０３が対向して
いる。上側ヘツド５０２には薄膜磁極４０１と４
０２が既述の如く形成され、４０２には再生コイ
ル４０３が巻いてある。更に、上側ヘツド５０２
は、媒体対向面とは反対側において、磁性薄膜４
０１，４０２と接する若しくは近接し、媒体対向
内面側でこれらと離反した磁気コア５０４があ
る。下側ヘツドにおいても、磁気コア４０６に対
し、媒体対向面側で離反し、反対側で近接する磁
気コア５０５がある。磁性薄膜４０１，４０２と
コア４０６，５０４，５０５は、記録時、及び再
生時において磁気的な閉回路を構成し、記録、及
び再生の効率を向上する。同時に、外部磁界に対
しても、再生信号のＳ／Ｎ比を保護する。コア４
０６と５０５は一体で構成する事もできる。第７
図は更に別のヘツド例があり、下側ヘツドには空
芯の記録用コイル６０１がある。記録時にコイル
６０１が発生する磁界は、薄膜４０１と４０２の
先端に集中し、媒体を記録磁化する事から、多少
の記録効率を落としても、ヘツド構造を簡単にし
て製造し易くした例である。第８図は更に、下側
ヘツドを不要にしたヘツドの構造例である。磁性
薄膜４０１，４０２を芯とする様に記録用コイル
７０１が巻いてある。再生用コイルは、既述のヘ
ツドと同様に、薄膜４０２に対してのみ巻かれて
いる。第９図は、第８図のヘツド構造について、
磁性薄膜４０１，４０２のみならず、コイルにつ
いても薄膜によつて実際に形成したものであり、
ヘツドのトラツク方向断面図を示してある。８０
１は媒体である。８０５は磁気コアで、Ni―Zn
フエライト焼結体を用いている。記録用コイル７
０１に相当するコイル８０４を、コア８０５を基
板としてその上に、うず巻き状にアルミニウムの
薄膜で形成してある。うず巻き状のパターンは、
アルミニウム薄膜蒸着後、ホトリゾグラフイプロ
セスでエツチングにより形成する。更に、絶縁層
の形成と、エツチング工程とを重ねて、順次高透
磁率磁性膜４０１、絶縁層、コイル７０２の下側
部分導体パターン８０３、絶縁層、磁性薄膜４０
２、絶縁層、コイル７０２の上側導体パターン８
０６を形成する。８０３と８０６は磁性層４０２
の無い部分で結合され、４０２を囲うコイル構造
を形成する。又、磁性膜４０１と４０２は、コイ
ル８０４の中心付近で、磁気コア８０５と近接す
る。全層の膜を形成して後、保護層８０７を形成
してヘツド構造ができ上る。このままの形状で、
該薄膜形成部分を後端とする磁気デイスク用浮上
ヘツドスライダーの加工をする事ができる。更に
又、保護層の上にスライダ材をはり合せば第７図
の様なフロツピーデイスク用或はテープ用ヘツド
の形状に加工する事ができる。第１０図は更に別
のヘツド構造を示す。第５図４０１に相当する磁
性膜９０１と４０２に相当する磁性膜９０２とが
あり、記録用コイル９０３は、磁性膜９０１のみ
に巻いてある。記録時に磁性膜９０２は励磁され
ず、従つて、磁性膜９０１に接する媒体面のみが
磁化される事になる。又、記録用磁性膜９０３の
膜厚を媒体対向近傍で図の如く薄くする事によ
り、記録磁界を大きくし、効率を向上できる。再
生側磁性膜については単一膜厚で構わない。記録
再生の基本的な原理は第５図の場合に準ずるもの
である。
図において、媒体５０１を上下両側から挾む様に
上側ヘツド５０２と下側ヘツド５０３が対向して
いる。上側ヘツド５０２には薄膜磁極４０１と４
０２が既述の如く形成され、４０２には再生コイ
ル４０３が巻いてある。更に、上側ヘツド５０２
は、媒体対向面とは反対側において、磁性薄膜４
０１，４０２と接する若しくは近接し、媒体対向
内面側でこれらと離反した磁気コア５０４があ
る。下側ヘツドにおいても、磁気コア４０６に対
し、媒体対向面側で離反し、反対側で近接する磁
気コア５０５がある。磁性薄膜４０１，４０２と
コア４０６，５０４，５０５は、記録時、及び再
生時において磁気的な閉回路を構成し、記録、及
び再生の効率を向上する。同時に、外部磁界に対
しても、再生信号のＳ／Ｎ比を保護する。コア４
０６と５０５は一体で構成する事もできる。第７
図は更に別のヘツド例があり、下側ヘツドには空
芯の記録用コイル６０１がある。記録時にコイル
６０１が発生する磁界は、薄膜４０１と４０２の
先端に集中し、媒体を記録磁化する事から、多少
の記録効率を落としても、ヘツド構造を簡単にし
て製造し易くした例である。第８図は更に、下側
ヘツドを不要にしたヘツドの構造例である。磁性
薄膜４０１，４０２を芯とする様に記録用コイル
７０１が巻いてある。再生用コイルは、既述のヘ
ツドと同様に、薄膜４０２に対してのみ巻かれて
いる。第９図は、第８図のヘツド構造について、
磁性薄膜４０１，４０２のみならず、コイルにつ
いても薄膜によつて実際に形成したものであり、
ヘツドのトラツク方向断面図を示してある。８０
１は媒体である。８０５は磁気コアで、Ni―Zn
フエライト焼結体を用いている。記録用コイル７
０１に相当するコイル８０４を、コア８０５を基
板としてその上に、うず巻き状にアルミニウムの
薄膜で形成してある。うず巻き状のパターンは、
アルミニウム薄膜蒸着後、ホトリゾグラフイプロ
セスでエツチングにより形成する。更に、絶縁層
の形成と、エツチング工程とを重ねて、順次高透
磁率磁性膜４０１、絶縁層、コイル７０２の下側
部分導体パターン８０３、絶縁層、磁性薄膜４０
２、絶縁層、コイル７０２の上側導体パターン８
０６を形成する。８０３と８０６は磁性層４０２
の無い部分で結合され、４０２を囲うコイル構造
を形成する。又、磁性膜４０１と４０２は、コイ
ル８０４の中心付近で、磁気コア８０５と近接す
る。全層の膜を形成して後、保護層８０７を形成
してヘツド構造ができ上る。このままの形状で、
該薄膜形成部分を後端とする磁気デイスク用浮上
ヘツドスライダーの加工をする事ができる。更に
又、保護層の上にスライダ材をはり合せば第７図
の様なフロツピーデイスク用或はテープ用ヘツド
の形状に加工する事ができる。第１０図は更に別
のヘツド構造を示す。第５図４０１に相当する磁
性膜９０１と４０２に相当する磁性膜９０２とが
あり、記録用コイル９０３は、磁性膜９０１のみ
に巻いてある。記録時に磁性膜９０２は励磁され
ず、従つて、磁性膜９０１に接する媒体面のみが
磁化される事になる。又、記録用磁性膜９０３の
膜厚を媒体対向近傍で図の如く薄くする事によ
り、記録磁界を大きくし、効率を向上できる。再
生側磁性膜については単一膜厚で構わない。記録
再生の基本的な原理は第５図の場合に準ずるもの
である。
第１図は、本発明が係る磁気ヘツドに関する構
造と原理を示した図である。第２図はリング型ヘ
ツドの磁界分布、第３図は本発明が係る薄膜磁極
の磁界分布を示す。第４図は媒体上での磁気ヘツ
ドの記録トラツク位置と再生トラツク位置のずれ
量を示す。第５，６，７，８，９図は本発明にな
る磁気ヘツドの実施例である。第１０図は、第９
図の具体的な構造について実施例の断面形状を示
している。 １０３，２１１，４０１，４０２……高透磁率
磁性膜、１０１，４０４，５０１……磁気記録媒
体、４０５，６０１，７０１，８０４……記録用
コイル、４０３，７０２，８０３，８０６……再
生用コイル、２０８，２１７……ヘツド幅、２０
９，２１８……記録幅、２１０……消去幅。
造と原理を示した図である。第２図はリング型ヘ
ツドの磁界分布、第３図は本発明が係る薄膜磁極
の磁界分布を示す。第４図は媒体上での磁気ヘツ
ドの記録トラツク位置と再生トラツク位置のずれ
量を示す。第５，６，７，８，９図は本発明にな
る磁気ヘツドの実施例である。第１０図は、第９
図の具体的な構造について実施例の断面形状を示
している。 １０３，２１１，４０１，４０２……高透磁率
磁性膜、１０１，４０４，５０１……磁気記録媒
体、４０５，６０１，７０１，８０４……記録用
コイル、４０３，７０２，８０３，８０６……再
生用コイル、２０８，２１７……ヘツド幅、２０
９，２１８……記録幅、２１０……消去幅。
Claims (1)
- １ 磁気記録媒体に対向する面付近で前記媒体面
に略直角となる面を持ち各々独立して間隔をもつ
て配置される第１と第２の膜状高透磁率磁性層
と、前記第１の膜状高透磁率磁性層に巻回される
第１のコイルと、前記第１と第２の膜状高透磁率
磁性層に対し同一極性の磁界を発生する第２コイ
ルからなり、前記第１膜状高透磁率磁性層の幅を
前記第２膜状高透磁率磁性層の幅より小さくする
とともに各々の中心部をほぼ対向して配置し、記
録時には前記第２コイルにより発生される同一極
性の記録磁界によつて前記第１と前記第２の膜状
高透磁率磁性層を同時に励磁するとともに前記第
２膜状高透磁率磁性層を後端として前記記録媒体
を記録磁化し、再生時には前記記録媒体から前記
第１膜状高透磁率磁性層に漏れ込む磁束を前記第
１コイルにより検出することを特徴とする磁気ヘ
ツド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324981A JPS58115615A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
| US06/446,119 US4575777A (en) | 1981-12-08 | 1982-12-02 | Magnetic recording and reproducing head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324981A JPS58115615A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115615A JPS58115615A (ja) | 1983-07-09 |
| JPH0154766B2 true JPH0154766B2 (ja) | 1989-11-21 |
Family
ID=16635971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21324981A Granted JPS58115615A (ja) | 1981-12-08 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115615A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6226612A (ja) * | 1985-07-27 | 1987-02-04 | Sony Corp | 複合型単磁極磁気ヘツド |
| US4642709A (en) * | 1985-10-16 | 1987-02-10 | International Business Machines Corporation | Twin track vertical magnetic recording servo control method |
| DE69117323T2 (de) | 1990-04-16 | 1996-07-11 | Hitachi Ltd | Dünnfilm-Magnetkopf mit schmaler Spurbreite und dessen Herstellungsverfahren |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613514A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Olympus Optical Co Ltd | Magnetic head |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP21324981A patent/JPS58115615A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58115615A (ja) | 1983-07-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5142768A (en) | Method for making magnetic head with enhanced poletip | |
| EP0012913A1 (en) | A method of making a thin film magnetic head and a head so made | |
| US5394285A (en) | Multi-track longitudinal, metal-in-gap head | |
| US5729413A (en) | Two-gap magnetic read/write head | |
| EP0111755B1 (en) | Dual element magnetic transducer | |
| US5423116A (en) | Method of manufacturing a multi-track longitudinal, metal-in-gap head | |
| JPH04351706A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッド | |
| US4286299A (en) | Magnetic head assembly for recording or reproducing vertically magnetized records | |
| US20040141255A1 (en) | Magnetic head device and recording/reproducing apparatus using the same | |
| JPH0154766B2 (ja) | ||
| JPS62172515A (ja) | ベリ−ドサ−ボ方式用薄膜磁気ヘツド | |
| JP4081937B2 (ja) | 回転型磁気ヘッド装置の製造方法 | |
| Bain | Recording heads: write heads for high-density magnetic tape | |
| JPS5835719A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP3000905B2 (ja) | 誘導型・ｍｒ型複合磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0234083B2 (ja) | ||
| JP2509073Y2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6131418Y2 (ja) | ||
| JPS6364610A (ja) | ベリ−ドサ−ボ方式用磁気ヘツド | |
| JPH07153022A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0234081B2 (ja) | Jikihetsudo | |
| JPH0447366B2 (ja) | ||
| JPS61202388A (ja) | ベリ−ドサ−ボ方式用磁気２重層デイスク | |
| JP2000182214A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6364611A (ja) | ベリ−ドサ−ボ方式用薄膜磁気ヘツド |