JPH0211606B2 - - Google Patents
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- JPH0211606B2 JPH0211606B2 JP56006773A JP677381A JPH0211606B2 JP H0211606 B2 JPH0211606 B2 JP H0211606B2 JP 56006773 A JP56006773 A JP 56006773A JP 677381 A JP677381 A JP 677381A JP H0211606 B2 JPH0211606 B2 JP H0211606B2
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、核融合における燃料小球のアブレー
ター殻として、基体上に平滑な被膜を形成する方
法に関する。とくにプラズマ重合により形成する
方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a smooth coating on a substrate as an ablator shell for fuel globules in nuclear fusion. In particular, it relates to a method of forming by plasma polymerization.
従来、基体上に被膜を形成する方法は、種々知
られており、プラズマ重合により形成する方法も
知られている。しかしながら、平滑な被膜を形成
することは、とくに平面でない基体、たとえば繊
維状や球状体や円柱状体その他複雑な形の基体上
に形成することは困難であり、またそれを形成す
るのにかなり長時間を要するものであつた。たと
えば、核融合では、近時、慣性閉じ込め核融合が
急速に開発され、とくにレーザー光線、電子ビー
ム、イオンビームをエネルギードライバーとして
用いる核融合反応が実現されつつある。この核融
合では、デユウトリウムとトリチウムからなる燃
料をガラスや金のプツシヤー(球殻状の容器)に
封じた小球にレーザー光線を周囲からあてて固体
燃料密度1022イオン/cm3の1万倍すなわち1026イ
オン/cm3の超高密度に圧縮して1億度の温度を達
成しようとするものである。圧縮のためには、プ
ツシヤーをレーザー光線によりプラズマ化してこ
のプラズマの衝撃力を利用する「爆発型の圧縮」
に対し、「噴出型の圧縮」が考えられている。前
者では、燃料を包むプツシヤーとなる殻を比重の
大きな物質とし、厚さを薄くして、レーザーから
のエネルギーをX線輻射や高速電子によつて短時
間に全体を一様に加熱するもので、密度より温度
の上昇が著しくなつて超高密度の圧縮がおぼつか
ない。後者では、燃料の外側をさらに低密度の物
質層で厚く覆つた燃料小球を用い、レーザー照射
を加えて、外方へ噴出するプラズマのロケツト作
用で燃料を圧縮する。実験のスケールにつれて
種々の構造の燃料小球が開発されている。一例を
挙げると、中心から真空、固体燃料(低温にして
固化されている)殻、高原子番号物質殻、低密度
物質殻、外部プツシヤー殻、アブレーター殻から
なり、外部プツシヤー殻は種々の密度の層からな
る。これらのうち、高原子番号物質殻は、熱遮断
層で大きな電荷で電子を遮断し、かつX線輻射を
吸収し、低密度物質殻は、高速電子を静電気的に
遮蔽して、アブレーター殻がレーザー照射を受け
てプラズマ化したとき、燃料殻への熱効果を低減
し、プラズマ化の圧縮効果が効果的に伝達すると
いうことである。 Conventionally, various methods of forming a film on a substrate are known, including a method of forming a film by plasma polymerization. However, it is difficult to form a smooth film, especially on non-planar substrates, such as fibrous, spherical, cylindrical, and other complex-shaped substrates, and it takes a long time to form it. It took a long time. For example, in nuclear fusion, inertial confinement fusion has been rapidly developed in recent years, and in particular, fusion reactions using laser beams, electron beams, and ion beams as energy drivers are being realized. In this nuclear fusion, a laser beam is directed from around a small sphere of fuel consisting of deutorium and tritium sealed in a glass or gold pusher (a spherical shell-like container ) . The aim is to achieve a temperature of 100 million degrees by compressing it to an ultra-high density of 10 26 ions/cm 3 . For compression, ``explosive compression'' involves converting pushers into plasma using a laser beam and using the impact force of this plasma.
In contrast, ``blowout type compression'' is being considered. In the former, the shell, which acts as a pusher that encloses the fuel, is made of a material with a high specific gravity and is thin, and the energy from the laser is used to uniformly heat the entire body in a short time using X-ray radiation or high-speed electrons. , the temperature rise is more significant than the density, making it difficult to compress ultra-high densities. The latter uses fuel globules with a thick layer of lower-density material on the outside of the fuel, applies laser irradiation, and compresses the fuel using the rocket action of the plasma that ejects outward. Fuel globules with various structures have been developed depending on the scale of the experiment. For example, it consists of a vacuum from the center, a solid fuel shell (solidified at low temperature), a high atomic number material shell, a low density material shell, an outer pusher shell, and an ablator shell, with the outer pusher shell having various densities. Consists of layers. Among these, the high atomic number material shell blocks electrons with a large charge in the heat shielding layer and absorbs X-ray radiation, and the low density material shell electrostatically shields high-speed electrons, forming an ablator shell. When it is turned into plasma by laser irradiation, the thermal effect on the fuel shell is reduced, and the compression effect of plasma formation is effectively transmitted.
ここに使用するアブレーター殻(低原子番号物
質殻)は、これまでプラズマ重合によりテトラフ
ルオロエチレンまたはトランス―2―ブテンの重
合体被膜として形成する方法が知られている。こ
のアブレーター殻は、均一にプラズマ化される必
要があるため、約50〜100μmの一様な厚さで表
面の平滑度が0.1μmのものが要求される。この要
求に応じるため、前記重合被覆の形成には、その
形成速度を1μm/hr以下としなければならない
とされている。被膜形成速度が大きい方法として
は、パリレンを熱重合して約5μm/hrの速度で
前記要求に応ずる被膜を形成する方法が知られて
いる。しかし100℃以上の加熱は禁じられるので、
熱重合は好ましくない。 The ablator shell (low atomic number material shell) used here has been formed by plasma polymerization as a polymer film of tetrafluoroethylene or trans-2-butene. Since this ablator shell needs to be uniformly converted into plasma, it is required to have a uniform thickness of about 50 to 100 μm and a surface smoothness of 0.1 μm. In order to meet this requirement, it is said that the formation rate of the polymer coating must be 1 μm/hr or less. As a method with a high film formation rate, a method is known in which parylene is thermally polymerized to form a film meeting the above requirements at a rate of about 5 μm/hr. However, heating above 100℃ is prohibited, so
Thermal polymerization is not preferred.
本発明の目的は、前記要求に応ずる平滑で一様
な厚さの比較的厚い被膜をプラズマ重合により、
従来より大きな形成速度で形成する方法を提供す
ることにある。 The object of the present invention is to produce a relatively thick film with a smooth and uniform thickness that meets the above requirements by plasma polymerization.
It is an object of the present invention to provide a method of forming at a higher forming speed than conventional methods.
前記目的は、基体上でアルキル(メタ)アクリ
レートまたはフルオロアルキル(メタ)アクリレ
ートをプラズマ重合することにより達成される。
本明細書において(メタ)アクリレートとは、メ
タクリレートまたはアクリレートをいう。 The object is achieved by plasma polymerization of alkyl (meth)acrylates or fluoroalkyl (meth)acrylates on a substrate.
As used herein, (meth)acrylate refers to methacrylate or acrylate.
これによりきわめて平滑で厚さの一様な比較的
厚い被膜を短時間で基体上に形成することができ
る。具体的には、0.1μmの平滑度を有する厚さの
一様な30〜100μmの被膜を6μm/hrで形成する
ことができる。 As a result, a relatively thick coating that is extremely smooth and has a uniform thickness can be formed on the substrate in a short time. Specifically, a film having a uniform thickness of 30 to 100 μm and a smoothness of 0.1 μm can be formed at a rate of 6 μm/hr.
本発明において用いるアルキル(メタ)アクリ
レートは、炭素数1〜20個の直鎖状、分岐鎖状ま
たは環状のアルキル基と(メタ)アクリレート基
とが結合したものがよい。好ましくはアルキル基
の炭素数が1〜12個、もつとも好ましくはアルキ
ル基の炭素数が1〜6個のものである。本発明に
おいて用いるアルキル(メタ)アクリレートを例
示すれば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸n―ブチル、アクリル酸イソブチ
ル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸n―オクチ
ル、アクリル酸2―クロル―エチル、アクリル酸
フエニル、α―クロルアクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸ブチル、α―エチルアクリル酸エチルなどであ
る。 The alkyl (meth)acrylate used in the present invention is preferably one in which a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a (meth)acrylate group are bonded. Preferably, the alkyl group has 1 to 12 carbon atoms, and most preferably, the alkyl group has 1 to 6 carbon atoms. Examples of alkyl (meth)acrylates used in the present invention include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, dodecyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-chloro-ethyl acrylate, These include phenyl acrylate, methyl α-chloroacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and ethyl α-ethyl acrylate.
本発明において用いるフルオロアルキル(メ
タ)アクリレートは、炭素数1〜20個の直鎖状、
分岐鎖状または環状のアルキル基において、結合
手を有する炭素に結合する水素を除く水素が一部
または全部フツ素により置換されたアルキル基と
(メタ)アクリレート基とが結合したものがよい。
好ましくはフルオロアルキル基の炭素数が1〜12
個、もつとも好ましくはフルオロアルキル基の炭
素数が1〜6個のものである。本発明において用
いるフルオロアルキル(メタ)アクリレートを例
示すれば、式:
RfR2OCOOR1=CH2
(式中、Rfは炭素数1〜15個の直鎖状または
分岐鎖状のパーフルオロアルキル基またはこれの
フツ素原子1個以上が水素原子によつて置換され
かつ少なくともフツ素原子1個を有する基、R1
は水素原子またはメチル基およびR2は2価の炭
化水素残基を示す)
で示されるものがよい。Rf基は、炭素原子数が
1〜15個好ましくは1〜10個であり、フツ素原子
数が少なくとも1個、好ましくは、Rf基の炭素
原子数とR2基の炭素原子数の和の少なくとも
1/2である。R2基は、アクリレート基または
メタクリレート基とRf基とを連結するためのも
のであり、その炭素原子数は、1〜10個なかんづ
く1〜5個が好ましいが、臨界的なものではな
い。 The fluoroalkyl (meth)acrylate used in the present invention is a straight chain having 1 to 20 carbon atoms,
In the branched or cyclic alkyl group, a (meth)acrylate group is preferably bonded to an alkyl group in which hydrogens other than the hydrogen bonded to the carbon having a bond are partially or completely substituted with fluorine.
Preferably the number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is 1 to 12
The fluoroalkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms. To illustrate the fluoroalkyl (meth)acrylate used in the present invention, the formula: R f R 2 OCOOR 1 = CH 2 (wherein, R f is a linear or branched perfluorocarbon having 1 to 15 carbon atoms). an alkyl group or a group in which one or more fluorine atoms thereof are replaced by a hydrogen atom and has at least one fluorine atom, R 1
is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a divalent hydrocarbon residue). The R f group has 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and has at least 1 fluorine atom, preferably equal to the number of carbon atoms in the R f group and the number of carbon atoms in the R 2 group. at least 1/2 of the sum. The R 2 group is for connecting the acrylate group or methacrylate group and the R f group, and the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 10, preferably 1 to 5, but is not critical.
本発明において用いられるフルオロアルキル
(メタ)アクリレートをさらに具体的に例示する
と、
CH2=C(CH3)COOCH2(CF2)2H
CH2=C(CH3)COOC(CH3)2(CF2)2H
CH2=C(CH3)COOCH2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOCH2CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOCH(CH3)
CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOCH(C2H5)
CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOCH(C3H7)
CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOC(CH3)2CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOC(CH3)(C2H5)
CF2CHFCF3
CH2=C(CH3)COOCH2(CF2CF2)oH
nは2〜5
CH2=C(CH3)COOC(CH3)2(CF2CF2)oH
nは2〜5
CH2=C(CH3)COOC(CH3)2CF2CH
(CF3)2
CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2CF2)oCF
(CF3)2
nは1〜5
CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)oF
nは1〜10
である。 More specific examples of the fluoroalkyl (meth)acrylate used in the present invention include CH 2 =C(CH 3 )COOCH 2 (CF 2 ) 2 H CH 2 =C(CH 3 )COOC(CH 3 ) 2 ( CF 2 ) 2 H CH 2 =C(CH 3 )COOCH 2 CHFCF 3 CH 2 =C(CH 3 )COOCH 2 CF 2 CHFCF 3 CH 2 =C(CH 3 )COOCH(CH 3 )
CF 2 CHFCF 3 CH 2 =C(CH 3 )COOCH(C 2 H 5 )
CF 2 CHFCF 3 CH 2 =C(CH 3 )COOCH(C 3 H 7 )
CF 2 CHFCF 3 CH 2 = C (CH 3 ) COOC (CH 3 ) 2 CF 2 CHFCF 3 CH 2 = C (CH 3 ) COOC (CH 3 ) (C 2 H 5 )
CF 2 CHFCF 3 CH 2 = C(CH 3 ) COOCH 2 (CF 2 CF 2 ) o H n is 2 to 5 CH 2 = C(CH 3 )COOC(CH 3 ) 2 (CF 2 CF 2 ) o H n is 2 ~ 5 CH2 =C( CH3 )COOC( CH3 ) 2CF2CH
(CF 3 ) 2 CH 2 =C(CH 3 ) COOCH 2 CH 2 (CF 2 CF 2 ) o CF
( CF3 ) 2n is 1-5 CH2 =C( CH3 ) COOCH2CH2 ( CF2 ) oFn is 1-10.
また、好ましいアルキル(メタ)アクリレート
またはフルオロアルキル(メタ)アクリレート
は、沸点が大気圧で400℃以下または40Torrで70
℃以下のものである。 In addition, preferred alkyl (meth)acrylates or fluoroalkyl (meth)acrylates have a boiling point of 400°C or less at atmospheric pressure or 70°C at 40 Torr.
℃ or below.
しかして、基体上でアルキル(メタ)アクリレ
ートまたはフルオロアルキル(メタ)アクリレー
トをプラズマ重合するには、アルキル(メタ)ア
クリレートまたはフルオロアルキル(メタ)アク
リレートと不活性気体との低圧混合気体の気流中
に基体を置いてその周囲でグロー放電するか、ま
たはグロー放電により励起された不活性気体とア
ルキル(メタ)アクリレートまたはフルオロアル
キル(メタ)アクリレートとの低圧混合気体の気
流中に基体をおく(アフターグロー法)かするこ
とにより行なう。 Therefore, in order to plasma-polymerize alkyl (meth)acrylate or fluoroalkyl (meth)acrylate on a substrate, a low-pressure gas mixture of alkyl (meth)acrylate or fluoroalkyl (meth)acrylate and an inert gas is polymerized. Either place the substrate and generate a glow discharge around it, or place the substrate in a gas flow of a low-pressure gas mixture of an inert gas and alkyl (meth)acrylate or fluoroalkyl (meth)acrylate excited by glow discharge (afterglow). law).
不活性ガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノンを使用することがで
き、好ましくは、アルゴンおよびクリプトンであ
る。 The inert gas can be helium, neon, argon, krypton, xenon, preferably argon and krypton.
グロー放電を行なうには、反応管内に2枚の平
行平板電極を置いてまたは反応管外に誘導コイル
を置いて高周波電圧または高周波電流をかけて行
なう。いずれの放電を行なうにしても、また放電
域内に基体を置くかアフターグロー法で行なうに
しても、温度0〜200℃、圧力10〜10-4Torr、好
ましくは1〜10-2Torrで行ない、不活性ガスの
流量は、0.1〜100cm3STP/minで、アルキルアク
リレートなどのモノマーの流量は不活性ガス流量
の0.5〜50%の割合で、とくに1〜20%の割合で
供給するのが好ましい。またグロー放電は、0.1
〜100MHzの高周波電界下1〜500Wの放電電力で
行なうのが好ましい。 Glow discharge is performed by placing two parallel plate electrodes inside the reaction tube or by placing an induction coil outside the reaction tube and applying a high frequency voltage or current. No matter which type of discharge is performed, whether by placing a substrate in the discharge area or using the afterglow method, it should be performed at a temperature of 0 to 200°C and a pressure of 10 to 10 -4 Torr, preferably 1 to 10 -2 Torr. , the flow rate of the inert gas is 0.1 to 100 cm 3 STP/min, and the flow rate of monomers such as alkyl acrylate is 0.5 to 50% of the inert gas flow rate, and it is particularly recommended to supply it at a rate of 1 to 20%. preferable. Also, the glow discharge is 0.1
It is preferable to carry out the discharge under a high frequency electric field of ~100 MHz with a discharge power of 1~500 W.
基体は、その形状は球状、平板、繊維状などを
問わず、その材質は金属、ガラス、樹脂など固体
であればよい。 The shape of the substrate may be spherical, flat, fibrous, etc., and the material may be solid such as metal, glass, or resin.
プラズマ重合装置については、反応管は管壁に
重合体が形成されないようにするため加熱するこ
とも好ましく、電極は後述の実施例で示すように
冷却するのが好ましい。 For plasma polymerization apparatus, the reaction tube is also preferably heated to prevent polymer formation on the tube wall, and the electrodes are preferably cooled as shown in the Examples below.
またプラズマ重合方法として、一定時間重合し
たのち、一定時間放電をとめて不活性ガスだけま
たはモノマーとともに反応管内を流通させて、気
相での重合体の形成を防止するのが形成表面の平
滑性を保つために有効な方法である。 In addition, as a plasma polymerization method, after polymerizing for a certain period of time, the discharge is stopped for a certain period of time and only an inert gas or a monomer is allowed to flow through the reaction tube to prevent the formation of a polymer in the gas phase. This is an effective way to maintain
また塩素、シユウ素、金、タリウム、銀、銅な
どで前記モノマーの一部を置換(塩素またはシユ
ウ素のばあい)またはこれらの元素を結合した形
(金属元素のばあい、塩または錯体の形)の誘導
体として被膜にこれらの元素を入れて、核融合時
のダイアグノシスの手段とすることができる。こ
のばあいには、レーザー光線によるプラズマ化時
のx線の発生により観察することができる。ダイ
アグノシスのためには、このほか金などの金属で
は、金属蒸着をプラズマ重合間に行なうなどの手
段があり、また別途p―クロロスチレン、塩化ビ
ニル、p―クロロアクリルアニリド、ビニリデン
クロライドなどの塩素またはシユウ素を含有する
モノマーをプラズマ重合して入れることもでき
る。 In addition, some of the monomers may be replaced with chlorine, silium, gold, thallium, silver, copper, etc. (in the case of chlorine or silium), or in the form of a combination of these elements (in the case of metal elements, salts or complexes). These elements can be incorporated into the coating as derivatives of (form) as a means of diagnosis during nuclear fusion. In this case, it can be observed by the generation of x-rays when plasma is generated by a laser beam. For diagnosis, there are other methods such as performing metal vapor deposition during plasma polymerization for metals such as gold, and separately using chlorine or chlorine such as p-chlorostyrene, vinyl chloride, p-chloroacrylanilide, vinylidene chloride, etc. Monomers containing silium can also be introduced by plasma polymerization.
つぎに本発明の被膜形成方法の実施例を示す
が、本発明はそれらのみに限定されるものではな
い。 Next, examples of the film forming method of the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.
実施例 1
その主要部を図面に示すプラズマ重合装置を用
いて重合を行なつた。該装置は、一端から順にア
ルゴン供給口、モノマー供給口、内部に設置した
ポリテトラフルオロエチレン製挿入体1、内部に
設置した電極2、内部に設置したポリテトラフル
オロエチレン製挿入体3、他端に液体窒素トラツ
プを通つて真空ポンプにつながる排気口を備えつ
けたガラス管4を主要部とするものである。Example 1 Polymerization was carried out using a plasma polymerization apparatus, the main part of which is shown in the drawing. The apparatus includes, in order from one end, an argon supply port, a monomer supply port, a polytetrafluoroethylene insert 1 installed inside, an electrode 2 installed inside, a polytetrafluoroethylene insert 3 installed inside, and the other end. The main part is a glass tube 4 equipped with an exhaust port that connects to a vacuum pump through a liquid nitrogen trap.
電極は、2枚の銅製平行平板電極(長さ15.4
cm、幅6.5cm、間隔3.5cm)であり、これを前記ガ
ラス管(内径8cm)内に前記のとおり設置し、直
径200μmのガラス細管を電極間空間の長さ方向
の中心線に設置した。電極は、それぞれ極間でな
いガラス管壁とでなす空間に水を通せるようにカ
マボコ型箱をなして、水により冷却した。 The electrodes are two copper parallel plate electrodes (length 15.4
cm, width 6.5 cm, interval 3.5 cm), and was placed in the glass tube (inner diameter 8 cm) as described above, and a glass capillary tube with a diameter of 200 μm was placed on the longitudinal center line of the interelectrode space. The electrodes were each shaped like a semi-cylindrical box so that water could pass through the space formed by the glass tube wall that was not between the electrodes, and the electrodes were cooled with water.
ガラス管内を真空(0.05Torr)に引き、アル
ゴンを2.8cm3STP/minおよび約0.45Torrで流し
さらにモノマーを流しながら、つぎの条件でプラ
ズマ重合を行なつた。 The inside of the glass tube was evacuated (0.05 Torr), argon was flowed at 2.8 cm 3 STP/min and about 0.45 Torr, and the monomer was further flowed to carry out plasma polymerization under the following conditions.
電極温度 19℃
アルゴン流量 2.8cm3STP/min
モノマー(2,2,3,4,4,4―ヘキサフ
ル
オロブチルメタクリレート)流量
0.3cm3STP/min
ガス圧 0.5Torr
放電電力 7ワツト
放電周波数 13.56MHz
放電時間 420min
プラズマ重合後ガラス細管を取り出し、金属蒸
着(金)して電子顕微鏡で観察した結果、ガラス
細管の中央では、外径285μmの円筒状の重合体
がガラス細管を中心に形成されていた。外周の凹
凸は0.1μm以下であり、被覆速度は約6μm/hrで
あつた。Electrode temperature 19℃ Argon flow rate 2.8cm 3 STP/min Monomer (2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl methacrylate) flow rate
0.3cm 3 STP/min Gas pressure 0.5Torr Discharge power 7 Watts Discharge frequency 13.56MHz Discharge time 420min After plasma polymerization, the glass tube was taken out, metal evaporated (gold) was deposited, and observed with an electron microscope. A cylindrical polymer with a diameter of 285 μm was formed around a glass capillary. The irregularities on the outer periphery were 0.1 μm or less, and the coating speed was about 6 μm/hr.
実施例 2
実施例1と同様にして、つぎに示す基体を極間
の中央においてプラズマ重合を行なつた。Example 2 In the same manner as in Example 1, the following substrate was subjected to plasma polymerization in the center between the electrodes.
基体としては、200μmのガラス球(東京芝浦
電気株式会社製、GB705)を外径70μmのガラス
細管の先端にアラルダイトで接着したものを用い
た。ガラス球には、重合体の被膜が形成された直
径285μmの表面が平滑で凹凸が0.1μm以下の球が
形成され、ガラス細管の周囲に厚さ40μmの一様
な被膜が形成されていた。被覆速度は約6μm/
hrであつた。 The substrate used was a 200 μm glass bulb (manufactured by Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd., GB705) adhered to the tip of a glass capillary tube with an outer diameter of 70 μm using Araldite. The glass bulb was coated with a polymer coating, had a diameter of 285 μm, had a smooth surface, and had an uneven surface of 0.1 μm or less, and a uniform coating with a thickness of 40 μm was formed around the glass capillary. Coating speed is approximately 6μm/
It was hot at hr.
実施例 3
モノマーとしてメチルメタクリレートを用いた
ほかは実施例1と同様にして、プラズマ重合を行
なつた。外径275μmの円筒状の重合体がガラス
細管を中心に形成されていた。外周の凹凸は0.1μ
m以下であり、被覆速度は約5.5μm/hrであつ
た。Example 3 Plasma polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that methyl methacrylate was used as the monomer. A cylindrical polymer with an outer diameter of 275 μm was formed around a glass capillary. The unevenness of the outer periphery is 0.1μ
The coating speed was approximately 5.5 μm/hr.
図面は本発明の方法に用いるプラズマ重合装置
の主要部の概略図である。
図面の符号の説明、1,3:ポリテトラフルオ
ロエチレン製挿入体、2:電極、4:ガラス管。
The drawing is a schematic diagram of the main parts of a plasma polymerization apparatus used in the method of the present invention. Explanation of symbols in the drawings: 1, 3: polytetrafluoroethylene insert, 2: electrode, 4: glass tube.
Claims (1)
して、基体上にアルキル(メタ)アクリレートま
たはフルオロアルキル(メタ)アクリレートをプ
ラズマ重合することを特徴とする基体上にアブレ
ーター殻の平滑な被膜を形成する方法。1. A method for forming a smooth coating of an ablator shell on a substrate as an ablator shell for fuel globules in nuclear fusion, which comprises plasma polymerizing an alkyl (meth)acrylate or a fluoroalkyl (meth)acrylate on the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56006773A JPS57119906A (en) | 1981-01-19 | 1981-01-19 | Formation of smooth film on substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56006773A JPS57119906A (en) | 1981-01-19 | 1981-01-19 | Formation of smooth film on substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57119906A JPS57119906A (en) | 1982-07-26 |
| JPH0211606B2 true JPH0211606B2 (en) | 1990-03-15 |
Family
ID=11647485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56006773A Granted JPS57119906A (en) | 1981-01-19 | 1981-01-19 | Formation of smooth film on substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57119906A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5108667A (en) * | 1989-08-30 | 1992-04-28 | Revlon, Inc. | Process for the treatment of polymer cosmetic molds |
| GB9712338D0 (en) | 1997-06-14 | 1997-08-13 | Secr Defence | Surface coatings |
| US6551950B1 (en) * | 1997-06-14 | 2003-04-22 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Surface coatings |
| GB0406049D0 (en) | 2004-03-18 | 2004-04-21 | Secr Defence | Surface coatings |
| US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5676414A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Discharge-polymerized membrane and production thereof |
-
1981
- 1981-01-19 JP JP56006773A patent/JPS57119906A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57119906A (en) | 1982-07-26 |
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