JPH0213663B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0213663B2 JPH0213663B2 JP57177647A JP17764782A JPH0213663B2 JP H0213663 B2 JPH0213663 B2 JP H0213663B2 JP 57177647 A JP57177647 A JP 57177647A JP 17764782 A JP17764782 A JP 17764782A JP H0213663 B2 JPH0213663 B2 JP H0213663B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- lower alkyl
- homopiperazinyl
- piperazinyl
- ethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
本発明は、一般式［］
［式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
は隣接する窒素原子と共に、１−ピロリジニル
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、１−（４−
低級アルキル）ピペラジニル基、ホモピペラジニ
ル基、１−（４−低級アルキル）ホモピペラジニ
ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、１−
イミダゾリジニル基、１−イミダゾリル基、１−
ピラゾリル基、１−インドリル基および２−イソ
インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
リジルオキシエチル基、または
水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
は隣接する窒素原子と共に、１−ピロリジニル
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、１−（４−
低級アルキル）ピペラジニル基、ホモピペラジニ
ル基、１−（４−低級アルキル）ホモピペラジニ
ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、１−
イミダゾリジニル基、１−イミダゾリル基、１−
ピラゾリル基、１−インドリル基および２−イソ
インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
リジルオキシエチル基、または
【式】基
（R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Ｂは
直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、１
−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
基、１−（４−低級アルキル）ピペラジニル基、
ホモピペラジニル基、１−（４−低級アルキル）
ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
リニル基、１−イミダゾリジニル基、１−イミダ
ゾリル基、１−ピラゾリル基、１−インドリル基
および２−イソインドリニル基からなる群より選
ばれる複素環基を形成していてもよい）、Ａは直
鎖状または分岐状のアルキレン基を示す］ で表される３−アミノ−３−カルバモイルオキシ
アルキルアクリル酸誘導体およびその製造法に関
する。 本発明化合物（）は本発明者らに係る特許出
願、特願昭56−003250（特開昭57−118565）並び
に特願昭56−060677明細書に記載の２−カルバモ
イルオキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン
誘導体を製造する際の有用な中間体である。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体はジヒドロピリジン環の２
位と６位の置換基が非対称構造を有し、強力なカ
ルシウム拮抗作用、血管拡張作用並びに血圧降下
作用を有し、循環器系疾病の治療に有用な医薬品
である。 非対称１，４−ジヒドロピリジン誘導体を合成
するにあたり合成中間体として４−置換アセト酢
酸エステル、４−置換−２−イリデンアセト酢酸
エステルまたは４，４−ジアルコキシ−３−アミ
ノクロトン酸エステルなどを使用する方法がこれ
までに記載されている（特開昭52−5777、特開昭
53−79873）。 しかし、非対称１，４−ジヒドロピリジン誘導
体の合成中間体として考えられる３−アミノ−３
−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸エステ
ルはこれまでに合成した例はなく文献未載化合物
である。 本発明者らは鋭意研究の結果、２−カルバモイ
ルオキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン誘
導体の合成中間体である３−アミノ−３−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体の新規な
合成法を発見し本発明を完成した。 本発明化合物（）の３−アミノ−３−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体に含まれ
る具体例を次に述べる。 R1およびR2は同一または異なつていて、水素
原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二級および第三級ブチルなどの低
級アルキル基；β−クロロエチル、β−ブロモエ
チル、β−クロロプロピル、γ−クロロプロピ
ル、ω−クロロブチル、β，β−ジクロロエチ
ル、β，β，β−トリクロロエチルおよびトリフ
ルオロメチルなどのハロアルキル基；β−ヒドロ
キシエチル、β−ヒドロキシプロピル、γ−ヒド
ロキシプロピルおよびω−ヒドロキシブチルなど
のヒドロキシ低級アルキル基；シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
およびシクロヘプチルなどのシクロアルキル基；
ビニル、アリル、３−ブテニルおよびイソプロペ
ニルなどの低級アルケニル基；ベンジル、α−メ
チルベンジルおよびフエネチルなどのアラルキル
基；フエニル、およびナフチルなどのアリール
基；またはピリジルまたは１−ピロリジニル；ピ
ペリジノ；ピペラジニル；１−（４−メチル）ピ
ペラジニル、１−（４−エチル）ピペラジニル、
１−（４−プロピル）ピペラジニル、１−（４−ブ
チル）ピペラジニルなどの１−（４−低級アルキ
ル）ピペラジニル；ホモピペラジニル；１−（４
−メチル）ホモピペラジニル、１−（４−エチル）
ホモピペラジニル、１−（４−プロピル）ホモピ
ペラジニル、１−（４−ブチル）ホモピペラジニ
ルなどの１−（４−低級アルキル）ホモピペラジ
ニル；モルホリノ；ホモモルホリニル；１−イミ
ダゾリジニル；１−イミダゾリル；１−ピラゾリ
ル；１−インドリルおよび２−イソインドリニル
の群から選ばれる複素環基などの複素環基などで
ある。 Ａとしてはメチレン、メチルメチレン、エチル
メチレン、ジメチルメチレン、メチルエチルメチ
レン、メチルイソブチルメチレン、エチレンチ、
メチルエチレン、エチルエチレン、トリメチレン
およびテトラメチレンなどのアルキレン基が挙げ
られる。 R3の低級アルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三級ブチル、ペンチルおよびヘキシルなどが、
ハロアルキル基としてはβ−クロロエチル、β−
ブロモエチル、β−クロロプロピル、γ−クロロ
プロピル、ω−クロロブチル、β，β−ジクロロ
エチル、β，β，β−トリクロロエチルおよびト
リフルオロメチルなどが、低級アルケニル基とし
てはビニル、アリル、３−ブテニルおよびイソプ
ロペニルなどが、低級アルキニル基としてはプロ
パルギルおよび２−ブテニルなどが、アラルキル
基としてはベンジル、α−メチルベンジルおよび
フエネチルなどが、アリール基としてはフエニ
ル、およびナフチルなどが、複素環基としては、
ピリジルおよびキノリルなどが、低級アルコキシ
低級アルキル基としてはβ−メトキシエチル、β
−エトキシエチル、β−プロポキシエチル、β−
イソプロポキシエチル、β−ブトキシエチル、β
−イソブトキシエチル、β−第三級ブトキシエチ
ル、β−メトキシプロピル、β−エトキシプロピ
ル、β−プロポキシプロピル、β−イソプロポキ
シプロピル、β−ブトキシプロピル、γ−メトキ
シプロピル、γ−エトキシプロピル、γ−プロポ
キシプロピル、γ−ブトキシプロピルおよびω−
プロポキシブチルなどが、低級アルケニルオキシ
低級アルキル基としてはβ−ビニルオキシエチ
ル、β−アリルオキシエチル、β−（３−ブテニ
ルオキシ）エチル、β−イソプロペニルオキシエ
チルおよびβ−アリルオキシプロピルなどが、ア
ラルキシオキシ低級アルキル基としてはβ−ベン
ジルオキシエチル、β−フエネチルオキシエチル
およびβ−（α−メチルベンジルオキシ）エチル
などが、アリールオキシ低級アルキル基としては
β−フエノキシエチル、β−フエノキシプロピル
およびω−フエノキシブチルなどが、複素環オキ
シ低級アルキル基としては、β−（β−ピリジル
オキシ）エチルなどが、または
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Ｂは
直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、１
−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
基、１−（４−低級アルキル）ピペラジニル基、
ホモピペラジニル基、１−（４−低級アルキル）
ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
リニル基、１−イミダゾリジニル基、１−イミダ
ゾリル基、１−ピラゾリル基、１−インドリル基
および２−イソインドリニル基からなる群より選
ばれる複素環基を形成していてもよい）、Ａは直
鎖状または分岐状のアルキレン基を示す］ で表される３−アミノ−３−カルバモイルオキシ
アルキルアクリル酸誘導体およびその製造法に関
する。 本発明化合物（）は本発明者らに係る特許出
願、特願昭56−003250（特開昭57−118565）並び
に特願昭56−060677明細書に記載の２−カルバモ
イルオキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン
誘導体を製造する際の有用な中間体である。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体はジヒドロピリジン環の２
位と６位の置換基が非対称構造を有し、強力なカ
ルシウム拮抗作用、血管拡張作用並びに血圧降下
作用を有し、循環器系疾病の治療に有用な医薬品
である。 非対称１，４−ジヒドロピリジン誘導体を合成
するにあたり合成中間体として４−置換アセト酢
酸エステル、４−置換−２−イリデンアセト酢酸
エステルまたは４，４−ジアルコキシ−３−アミ
ノクロトン酸エステルなどを使用する方法がこれ
までに記載されている（特開昭52−5777、特開昭
53−79873）。 しかし、非対称１，４−ジヒドロピリジン誘導
体の合成中間体として考えられる３−アミノ−３
−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸エステ
ルはこれまでに合成した例はなく文献未載化合物
である。 本発明者らは鋭意研究の結果、２−カルバモイ
ルオキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン誘
導体の合成中間体である３−アミノ−３−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体の新規な
合成法を発見し本発明を完成した。 本発明化合物（）の３−アミノ−３−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体に含まれ
る具体例を次に述べる。 R1およびR2は同一または異なつていて、水素
原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二級および第三級ブチルなどの低
級アルキル基；β−クロロエチル、β−ブロモエ
チル、β−クロロプロピル、γ−クロロプロピ
ル、ω−クロロブチル、β，β−ジクロロエチ
ル、β，β，β−トリクロロエチルおよびトリフ
ルオロメチルなどのハロアルキル基；β−ヒドロ
キシエチル、β−ヒドロキシプロピル、γ−ヒド
ロキシプロピルおよびω−ヒドロキシブチルなど
のヒドロキシ低級アルキル基；シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
およびシクロヘプチルなどのシクロアルキル基；
ビニル、アリル、３−ブテニルおよびイソプロペ
ニルなどの低級アルケニル基；ベンジル、α−メ
チルベンジルおよびフエネチルなどのアラルキル
基；フエニル、およびナフチルなどのアリール
基；またはピリジルまたは１−ピロリジニル；ピ
ペリジノ；ピペラジニル；１−（４−メチル）ピ
ペラジニル、１−（４−エチル）ピペラジニル、
１−（４−プロピル）ピペラジニル、１−（４−ブ
チル）ピペラジニルなどの１−（４−低級アルキ
ル）ピペラジニル；ホモピペラジニル；１−（４
−メチル）ホモピペラジニル、１−（４−エチル）
ホモピペラジニル、１−（４−プロピル）ホモピ
ペラジニル、１−（４−ブチル）ホモピペラジニ
ルなどの１−（４−低級アルキル）ホモピペラジ
ニル；モルホリノ；ホモモルホリニル；１−イミ
ダゾリジニル；１−イミダゾリル；１−ピラゾリ
ル；１−インドリルおよび２−イソインドリニル
の群から選ばれる複素環基などの複素環基などで
ある。 Ａとしてはメチレン、メチルメチレン、エチル
メチレン、ジメチルメチレン、メチルエチルメチ
レン、メチルイソブチルメチレン、エチレンチ、
メチルエチレン、エチルエチレン、トリメチレン
およびテトラメチレンなどのアルキレン基が挙げ
られる。 R3の低級アルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三級ブチル、ペンチルおよびヘキシルなどが、
ハロアルキル基としてはβ−クロロエチル、β−
ブロモエチル、β−クロロプロピル、γ−クロロ
プロピル、ω−クロロブチル、β，β−ジクロロ
エチル、β，β，β−トリクロロエチルおよびト
リフルオロメチルなどが、低級アルケニル基とし
てはビニル、アリル、３−ブテニルおよびイソプ
ロペニルなどが、低級アルキニル基としてはプロ
パルギルおよび２−ブテニルなどが、アラルキル
基としてはベンジル、α−メチルベンジルおよび
フエネチルなどが、アリール基としてはフエニ
ル、およびナフチルなどが、複素環基としては、
ピリジルおよびキノリルなどが、低級アルコキシ
低級アルキル基としてはβ−メトキシエチル、β
−エトキシエチル、β−プロポキシエチル、β−
イソプロポキシエチル、β−ブトキシエチル、β
−イソブトキシエチル、β−第三級ブトキシエチ
ル、β−メトキシプロピル、β−エトキシプロピ
ル、β−プロポキシプロピル、β−イソプロポキ
シプロピル、β−ブトキシプロピル、γ−メトキ
シプロピル、γ−エトキシプロピル、γ−プロポ
キシプロピル、γ−ブトキシプロピルおよびω−
プロポキシブチルなどが、低級アルケニルオキシ
低級アルキル基としてはβ−ビニルオキシエチ
ル、β−アリルオキシエチル、β−（３−ブテニ
ルオキシ）エチル、β−イソプロペニルオキシエ
チルおよびβ−アリルオキシプロピルなどが、ア
ラルキシオキシ低級アルキル基としてはβ−ベン
ジルオキシエチル、β−フエネチルオキシエチル
およびβ−（α−メチルベンジルオキシ）エチル
などが、アリールオキシ低級アルキル基としては
β−フエノキシエチル、β−フエノキシプロピル
およびω−フエノキシブチルなどが、複素環オキ
シ低級アルキル基としては、β−（β−ピリジル
オキシ）エチルなどが、または
【式】で
示される基としてはβ−ジメチルアミノエチル、
β−ジエチルアミノエチル、β−メチルエチルア
ミノエチル、β−ジメチルアミノプロピル、γ−
ジメチルアミノプロピル、ω−ジメチルアミノブ
チル、β−Ｎ−メチルベンジルアミノエチル、β
−Ｎ−メチルベンジルアミノプロピル、β−Ｎ−
メチルベンジルアミノブチル、γ−Ｎ−メチルベ
ンジルアミノプロピル、ω−Ｎ−メチルベンジル
アミノブチル、β−ピペリジノエチル、β−（４
−メチルピペラジニル）エチル、β−（４−エチ
ルピペラジニル）エチル、β−（４−プロピルピ
ペラジニル）エチル、β−（４−メチルホモピペ
ラジニル）エチル、β−モルホリノエチル、γ−
モルホリノプロピル、ω−モルホリノブチル、β
−ホモモルホリニルエチル、β−（１−ピロリジ
ニル）エチル、β−（１−イミダゾリジル）エチ
ル、β−（１−イミダゾリニル）エチル、β−（１
−ピラゾリル）エチル、β−（１−インドリル）
エチル、β−（２−イソインドリニル）エチルお
よびβ−（Ｎ−メチルアニリノ）エチルなどがそ
れぞれに挙げられる。 R1ないしR5のアラルキル基、アリール基、ア
ラルキルオキシ基、アラルキルオキシアルキル基
およびアリールオキシアルキル基に含まれる芳香
環は１乃至３の置換基で置換されていてもよく、
置換基としてはフツ素、塩素、臭素およびヨウ素
などのハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基；水酸
基；ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびジイ
ソプロピルアミノなどの二置換アミノ基；メトキ
シ、エトキシ、プロポキシおよびブトキシなどの
低級アルコキシ基；メチル、エチル、プロピルお
よびブチルなどの低級アルキル基およびトリフル
オロメチル基などが挙げられる。 本発明は一般式［］ ［式中、R1、R2、R3およびＡは前記の意味を有
する］で表されるアセチレン化合物とアンモニア
またはその塩とを反応させることを特徴とする一
般式［］ ［式中、R1、R2、R3およびＡは前記の意味を有
する］で表される３−アミノ−３−カルバモイル
オキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造
に関する。 本発明に使用する原料物質（）は文献未載の
新規化合物であり、次に示す方法(イ)、(ロ)または(ハ)
に従つて製造することができる。 (イ) 一般式［］ HO−Ａ−Ｃ≡CCOOR3 ［］ ［式中、R3およびＡは前記の意味を有する］
で表される化合物と一般式；R6NCO〔式中、
R6はクロロスルホニル基、ジクロロホスホリ
ル基、トリクロロアセチル基、水素原子低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、低級アルケニル
基、アラルキル基またはアリール基を示す〕で
表されるイソシアナートもしくは反応条件下で
該イソシアナートを生成する化合物とを反応さ
せ、次いで所望によつて加水分解するか、 または式：R1 R2NCOCl 〔式中、R1およびR2は前記の意味を有する〕で
表わされるカルバミン酸クロライドとを反応させ
て原料物質（）を合成することができる。 (ロ) 一般式（）で表される化合物をホスゲンま
たはトリクロロメチルクロロホルメートと反応
させて一般式［］ ClCOO−Ａ−Ｃ≡CCOOR3 ［］ ［式中、R3およびＡは前記の意味を有する］
で表されるクロロギ酸エステル誘導体とし、こ
れに 一般式：R1 R2NH 〔式中、R1およびR2は前記意味を有する〕で表
されるアミン化合物を反応させて原料物質（）
を合成することができる。 (ハ) 一般式（） HO−Ａ−Ｃ≡CH （） 〔式中、Ａは前記意味を有する〕で表される化
合物をホスゲンまたはトリクロロメチルクロロ
ホルメートとを反応させて一般式（） ClCOO−Ａ−Ｃ≡CH （） 〔式中、Ａは前記意味を有する〕で示されるク
ロロぎ酸エステル誘導体とし、これに式
β−ジエチルアミノエチル、β−メチルエチルア
ミノエチル、β−ジメチルアミノプロピル、γ−
ジメチルアミノプロピル、ω−ジメチルアミノブ
チル、β−Ｎ−メチルベンジルアミノエチル、β
−Ｎ−メチルベンジルアミノプロピル、β−Ｎ−
メチルベンジルアミノブチル、γ−Ｎ−メチルベ
ンジルアミノプロピル、ω−Ｎ−メチルベンジル
アミノブチル、β−ピペリジノエチル、β−（４
−メチルピペラジニル）エチル、β−（４−エチ
ルピペラジニル）エチル、β−（４−プロピルピ
ペラジニル）エチル、β−（４−メチルホモピペ
ラジニル）エチル、β−モルホリノエチル、γ−
モルホリノプロピル、ω−モルホリノブチル、β
−ホモモルホリニルエチル、β−（１−ピロリジ
ニル）エチル、β−（１−イミダゾリジル）エチ
ル、β−（１−イミダゾリニル）エチル、β−（１
−ピラゾリル）エチル、β−（１−インドリル）
エチル、β−（２−イソインドリニル）エチルお
よびβ−（Ｎ−メチルアニリノ）エチルなどがそ
れぞれに挙げられる。 R1ないしR5のアラルキル基、アリール基、ア
ラルキルオキシ基、アラルキルオキシアルキル基
およびアリールオキシアルキル基に含まれる芳香
環は１乃至３の置換基で置換されていてもよく、
置換基としてはフツ素、塩素、臭素およびヨウ素
などのハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基；水酸
基；ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびジイ
ソプロピルアミノなどの二置換アミノ基；メトキ
シ、エトキシ、プロポキシおよびブトキシなどの
低級アルコキシ基；メチル、エチル、プロピルお
よびブチルなどの低級アルキル基およびトリフル
オロメチル基などが挙げられる。 本発明は一般式［］ ［式中、R1、R2、R3およびＡは前記の意味を有
する］で表されるアセチレン化合物とアンモニア
またはその塩とを反応させることを特徴とする一
般式［］ ［式中、R1、R2、R3およびＡは前記の意味を有
する］で表される３−アミノ−３−カルバモイル
オキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造
に関する。 本発明に使用する原料物質（）は文献未載の
新規化合物であり、次に示す方法(イ)、(ロ)または(ハ)
に従つて製造することができる。 (イ) 一般式［］ HO−Ａ−Ｃ≡CCOOR3 ［］ ［式中、R3およびＡは前記の意味を有する］
で表される化合物と一般式；R6NCO〔式中、
R6はクロロスルホニル基、ジクロロホスホリ
ル基、トリクロロアセチル基、水素原子低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、低級アルケニル
基、アラルキル基またはアリール基を示す〕で
表されるイソシアナートもしくは反応条件下で
該イソシアナートを生成する化合物とを反応さ
せ、次いで所望によつて加水分解するか、 または式：R1 R2NCOCl 〔式中、R1およびR2は前記の意味を有する〕で
表わされるカルバミン酸クロライドとを反応させ
て原料物質（）を合成することができる。 (ロ) 一般式（）で表される化合物をホスゲンま
たはトリクロロメチルクロロホルメートと反応
させて一般式［］ ClCOO−Ａ−Ｃ≡CCOOR3 ［］ ［式中、R3およびＡは前記の意味を有する］
で表されるクロロギ酸エステル誘導体とし、こ
れに 一般式：R1 R2NH 〔式中、R1およびR2は前記意味を有する〕で表
されるアミン化合物を反応させて原料物質（）
を合成することができる。 (ハ) 一般式（） HO−Ａ−Ｃ≡CH （） 〔式中、Ａは前記意味を有する〕で表される化
合物をホスゲンまたはトリクロロメチルクロロ
ホルメートとを反応させて一般式（） ClCOO−Ａ−Ｃ≡CH （） 〔式中、Ａは前記意味を有する〕で示されるク
ロロぎ酸エステル誘導体とし、これに式
【式】［式中、R7およびR8は前記の意味
を有する］で表されるアミン化合物を反応させ
て一般式（）式 ［式中、R7、R8およびＡは前記の意味を有す
る］で表されるカルバメート誘導体とし、次い
でこれに金属化試薬を作用させて有機金属化合
物を合成し、次に式ClCOOR3［式中、R3は前記
の意味を有する］で表されるクロロホルメート
を反応させて原料物質（）を合成することが
できる。 アンモニアまたはその塩としては、例えばアン
モニア；蟻酸、酢酸、酒石酸、安息香酸、フエニ
ル酢酸等の有機酸とのアンモニウム塩；炭酸、ホ
ウ酸等の無機酸とのアンモニウム塩等が挙げられ
る。 本発明方法において原料物質（）とアンモニ
アまたはその塩との反応条件は一般に原料物質
（）１モルに対してアンモニアまたはその塩を
１乃至10モルの割合、好ましくは１〜５モルの割
合で反応させる。 反応温度は室温乃至加温条件下で実施される。 反応溶媒はメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブチルアルコール、イ
ソブチルアルコール、二級ブチルアルコール、三
級ブチルアルコールおよびアミルアルコールなど
の低級アルコール；エチレングリコール、プロピ
レングリコール、グリセロール、メチルセロソル
ブ、エチレングリコール、ジメチルエーテル、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ア
セトン、テトラヒドロフランおよびアセトニトリ
ルなどが使用される。更に反応溶媒としては上記
有機溶媒以外にベンゼン、酢酸エチル、クロロホ
ルムおよびジエチルエーテルなどの不活性有機溶
媒と水との混合溶媒も使用することができる。 反応時間は１乃至10時間、好ましくは１乃至５
時間である。 本発明の方法により製造される化合物（）は
２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジヒ
ドロピリジン誘導体を製造する際の有用な中間体
である。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体は本発明化合物（）と
式；R9−COCH2COOR3〔式中、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基、R3は前記の意味を有する〕
で示されるβ−ケトエステル化合物並びに
R10CHO〔式中、R10は置換フエニル基を示す〕で
表されるアルデヒド化合物と反応させるか、また
は上記β−ケトエステル化合物のベンジリデン化
合物と反応させて合成される。２−カルバモイル
オキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン誘導
体の合成法については、本発明者らに係る特許出
願、特願昭57−136343（特開昭59−27871）に詳し
く記載されている。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体は血管拡張作用並びに血圧
降下作用を有し、特に冠血管拡張作用が強く且つ
毒性が極めて弱いので高血圧症、心機能不全、狭
心症、心筋梗塞並びに脳血管障害などの循環器系
疾病の治療に期待される医薬品である。 次に本発明の製造法を実施例を挙げて詳しく説
明するが、本発明はこれにより特に限定されるも
のではない。 原料物質の合成例 参考例 １ ４−ヒドロキシテトロール酸メチル11.5ｇ
（0.1モル）をジクロロメタン（150ml）に溶解し、
−10〜−20℃においてクロロスルホニルイソシア
ナート9.6ml（0.11モル）を滴下する。反応液を
−10℃において30分間撹拌反応したあと冷却下水
50mlを加え混合する。 反応混合物を水層とジクロロメタン層に分離
し、水層は酢酸エチル（100ml）で２回繰返し抽
出処理し、酢酸エチル抽出液を水洗並びに芒硝で
脱水処理したあと減圧濃縮する。濃縮液と上記の
ジクロロメタン層とを混合し減圧濃縮すると結晶
が生成する。結晶を濾取、乾燥して４−カルバモ
イルテトロール酸メチル14.3ｇ（収率91％）が得
られる。 mp；113〜114℃ UV；λMeOH nax.207nｍ（ε2800） IR（KBr）、cm-1；3410、3350、3300、3220、
2250、1750、1700、1620、1440、1320、1295、
1090、1050. 1H−NMR（90MHz、DMSO−d6）、δin ppm；
3.77（ｓ、3H）4.82（ｓ、2H）、6.8（broad ｓ、
2H） 参考例 ２ ホスゲンのベンゼン溶液40ml（ホスゲン6.2ｇ、
62.5ミリモルを含有）に氷冷下４−ヒドロキシテ
トロール酸エチル6.4ｇ（50ミリモル）を速やか
に加え、氷冷下30分撹拌する。反応液を室温に戻
し一夜静置したあと減圧濃縮すると、残渣として
油状の４−（クロロカルボニルオキシ）テトロー
ル酸エチル8.1ｇを得る。 上記で得られた４−（クロロカルボニルオキシ）
テトロール酸エチル2.35ｇ（15ミリモル）のベン
ゼン溶液（30ml）に氷冷下プロピルアミンのベン
ゼン溶液12ml（プロピルアミン2.22ml、27ミリモ
ルを含有）を速やかに加え、氷冷下30分撹拌す
る。反応液を氷水に注ぎ、希塩酸によりPH２に修
正し、酢酸エチルを加えて抽出処理を行う。酢酸
エチル抽出液を脱水処理し、減圧濃縮すると、残
渣として油状のＮ−プロピルカルバモイルオキシ
テトロール酸エチル3.08ｇを得る。 IR（液状フイルム）、cm-1；2250、1785、1720、
1250. 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.95
（t3H、Ｊ＝７Hz）、1.35（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、
1.62（ｍ、2H）、3.20（ｍ、2H）、4.29（ｑ、2H）、
4.86（ｓ、2H）、8.40（broad Ｓ、1H） 参考例 ３ ホスゲンのジエチルエーテル溶液800ml（ホス
ゲン248ｇ、2.5モルを含有）に氷冷下プロパルギ
ルアルコール112.1ｇ（２モル）を速やかに加え
氷冷下２時間撹拌して反応する。反応液を室温に
戻し一夜静置してあと減圧濃縮し、残渣の油状物
質を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分47
℃／40mmHg〜44℃／34mmHgに無色油状のプロパ
ルギルクロロホルメート194ｇが得られる。 次に、ジエチルアミンのベンゼン溶液200ml
（ジエチルアミン26ml、249ミリモルを含有）に氷
冷下上記で得られたプロパルギルクロロホルメー
ト11.8ｇ（99.6ミリモル）を加え氷冷下30分間撹
拌して反応する。反応混合物を氷水中に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出処理し、ベンゼン抽出液を芒硝によ
り脱水処理したあと減圧濃縮し、残渣の油状物質
を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分71〜73
℃／８mmHgに無色油状のプロパルギルＮ，Ｎ−
ジエチルカルバメート14.7ｇが得られる。 続いて、上記で得られたプロパルギルＮ，Ｎ−
ジエチルカルバメート14.7ｇ（94.7ミリモル）の
テトラヒドロフラン溶液（60ml）に−65〜−75℃
（ドライアイス／アセトン冷浴）において1.65モ
ルブチルリチウムのヘキサン溶液57.4ml（ブチル
リチウム94.7ミリモルを含有）を滴下し、次に−
60〜−70℃においてβ−プロポキシクロロホルメ
ート16.6ｇ（99.5ミリモル）を加え−60〜−70℃
において30分間撹拌反応する。反応液を室温に戻
し、氷水中に注ぎ酢酸エチルにより抽出処理を行
う。酢酸エチル抽出液を脱水処理してあと減圧濃
縮し、残渣の油状物質をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲル150ｇ使用）により精
製処理を行う。ベンゼンにより溶出する目的画分
を集め減圧濃縮すると無色油状の４−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルカルバモイルオキシテトロール酸β−プロ
ポキシエチルエステル12.65ｇを得る。 IR（液状フイルム）、cm-1；2250、1750、1710、
1430、1255、1165 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.93
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.16（ｔ、6H、Ｊ＝7.5
Hz）、1.62（ｍ、2H）、3.33（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、3.45（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、3.67（ｔ、
2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.33（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、
4.86（ｓ、2H） 本発明方法 実施例 １ ３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および酢酸アンモ
ニウム3.84ｇ（50ミリモル）をエタノール20mlに
溶解し、60℃において４時間撹拌して反応する。
反応混液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル50mlと
20％塩化ナトリウム水溶液10mlを加え抽出処理す
る。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムにより
脱水処理したあと減圧濃縮する。残渣を分取液体
クロマトグラフ装置（ウオーターズ社、システム
500A）を用いてシリカゲル（prep PAK500／
silica）カラムクロマトグラフイーにより精製処
理する。ヘキサン−酢酸エチル（５：４）により
溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると結晶状の
３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ
クロトン酸エチル0.88ｇ（収率44％）が得られ
る。 mp；60〜61℃ UV；λMeOH nax.274nm（ε14000） IR（KBr）、cm-1；3450、3350、3000、2950、
1720、1660、1620、1590、1540、1445、1370、
1280、1190、1170、1055、1040、955、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.27
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、2.83（ｄ、3H、Ｊ＝６
Hz）、4.6（ｓ、2H）、4.66（ｓ、1H）、4.75〜5.1
（ｍ、1H）、6.1〜6.8（broad、2H）． 実施例 ２〜21 実施例１に記載の方法に準拠して表−１に記載
の化合物が得られる。
て一般式（）式 ［式中、R7、R8およびＡは前記の意味を有す
る］で表されるカルバメート誘導体とし、次い
でこれに金属化試薬を作用させて有機金属化合
物を合成し、次に式ClCOOR3［式中、R3は前記
の意味を有する］で表されるクロロホルメート
を反応させて原料物質（）を合成することが
できる。 アンモニアまたはその塩としては、例えばアン
モニア；蟻酸、酢酸、酒石酸、安息香酸、フエニ
ル酢酸等の有機酸とのアンモニウム塩；炭酸、ホ
ウ酸等の無機酸とのアンモニウム塩等が挙げられ
る。 本発明方法において原料物質（）とアンモニ
アまたはその塩との反応条件は一般に原料物質
（）１モルに対してアンモニアまたはその塩を
１乃至10モルの割合、好ましくは１〜５モルの割
合で反応させる。 反応温度は室温乃至加温条件下で実施される。 反応溶媒はメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブチルアルコール、イ
ソブチルアルコール、二級ブチルアルコール、三
級ブチルアルコールおよびアミルアルコールなど
の低級アルコール；エチレングリコール、プロピ
レングリコール、グリセロール、メチルセロソル
ブ、エチレングリコール、ジメチルエーテル、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ア
セトン、テトラヒドロフランおよびアセトニトリ
ルなどが使用される。更に反応溶媒としては上記
有機溶媒以外にベンゼン、酢酸エチル、クロロホ
ルムおよびジエチルエーテルなどの不活性有機溶
媒と水との混合溶媒も使用することができる。 反応時間は１乃至10時間、好ましくは１乃至５
時間である。 本発明の方法により製造される化合物（）は
２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジヒ
ドロピリジン誘導体を製造する際の有用な中間体
である。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体は本発明化合物（）と
式；R9−COCH2COOR3〔式中、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基、R3は前記の意味を有する〕
で示されるβ−ケトエステル化合物並びに
R10CHO〔式中、R10は置換フエニル基を示す〕で
表されるアルデヒド化合物と反応させるか、また
は上記β−ケトエステル化合物のベンジリデン化
合物と反応させて合成される。２−カルバモイル
オキシアルキル−１，４−ジヒドロピリジン誘導
体の合成法については、本発明者らに係る特許出
願、特願昭57−136343（特開昭59−27871）に詳し
く記載されている。 ２−カルバモイルオキシアルキル−１，４−ジ
ヒドロピリジン誘導体は血管拡張作用並びに血圧
降下作用を有し、特に冠血管拡張作用が強く且つ
毒性が極めて弱いので高血圧症、心機能不全、狭
心症、心筋梗塞並びに脳血管障害などの循環器系
疾病の治療に期待される医薬品である。 次に本発明の製造法を実施例を挙げて詳しく説
明するが、本発明はこれにより特に限定されるも
のではない。 原料物質の合成例 参考例 １ ４−ヒドロキシテトロール酸メチル11.5ｇ
（0.1モル）をジクロロメタン（150ml）に溶解し、
−10〜−20℃においてクロロスルホニルイソシア
ナート9.6ml（0.11モル）を滴下する。反応液を
−10℃において30分間撹拌反応したあと冷却下水
50mlを加え混合する。 反応混合物を水層とジクロロメタン層に分離
し、水層は酢酸エチル（100ml）で２回繰返し抽
出処理し、酢酸エチル抽出液を水洗並びに芒硝で
脱水処理したあと減圧濃縮する。濃縮液と上記の
ジクロロメタン層とを混合し減圧濃縮すると結晶
が生成する。結晶を濾取、乾燥して４−カルバモ
イルテトロール酸メチル14.3ｇ（収率91％）が得
られる。 mp；113〜114℃ UV；λMeOH nax.207nｍ（ε2800） IR（KBr）、cm-1；3410、3350、3300、3220、
2250、1750、1700、1620、1440、1320、1295、
1090、1050. 1H−NMR（90MHz、DMSO−d6）、δin ppm；
3.77（ｓ、3H）4.82（ｓ、2H）、6.8（broad ｓ、
2H） 参考例 ２ ホスゲンのベンゼン溶液40ml（ホスゲン6.2ｇ、
62.5ミリモルを含有）に氷冷下４−ヒドロキシテ
トロール酸エチル6.4ｇ（50ミリモル）を速やか
に加え、氷冷下30分撹拌する。反応液を室温に戻
し一夜静置したあと減圧濃縮すると、残渣として
油状の４−（クロロカルボニルオキシ）テトロー
ル酸エチル8.1ｇを得る。 上記で得られた４−（クロロカルボニルオキシ）
テトロール酸エチル2.35ｇ（15ミリモル）のベン
ゼン溶液（30ml）に氷冷下プロピルアミンのベン
ゼン溶液12ml（プロピルアミン2.22ml、27ミリモ
ルを含有）を速やかに加え、氷冷下30分撹拌す
る。反応液を氷水に注ぎ、希塩酸によりPH２に修
正し、酢酸エチルを加えて抽出処理を行う。酢酸
エチル抽出液を脱水処理し、減圧濃縮すると、残
渣として油状のＮ−プロピルカルバモイルオキシ
テトロール酸エチル3.08ｇを得る。 IR（液状フイルム）、cm-1；2250、1785、1720、
1250. 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.95
（t3H、Ｊ＝７Hz）、1.35（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、
1.62（ｍ、2H）、3.20（ｍ、2H）、4.29（ｑ、2H）、
4.86（ｓ、2H）、8.40（broad Ｓ、1H） 参考例 ３ ホスゲンのジエチルエーテル溶液800ml（ホス
ゲン248ｇ、2.5モルを含有）に氷冷下プロパルギ
ルアルコール112.1ｇ（２モル）を速やかに加え
氷冷下２時間撹拌して反応する。反応液を室温に
戻し一夜静置してあと減圧濃縮し、残渣の油状物
質を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分47
℃／40mmHg〜44℃／34mmHgに無色油状のプロパ
ルギルクロロホルメート194ｇが得られる。 次に、ジエチルアミンのベンゼン溶液200ml
（ジエチルアミン26ml、249ミリモルを含有）に氷
冷下上記で得られたプロパルギルクロロホルメー
ト11.8ｇ（99.6ミリモル）を加え氷冷下30分間撹
拌して反応する。反応混合物を氷水中に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出処理し、ベンゼン抽出液を芒硝によ
り脱水処理したあと減圧濃縮し、残渣の油状物質
を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分71〜73
℃／８mmHgに無色油状のプロパルギルＮ，Ｎ−
ジエチルカルバメート14.7ｇが得られる。 続いて、上記で得られたプロパルギルＮ，Ｎ−
ジエチルカルバメート14.7ｇ（94.7ミリモル）の
テトラヒドロフラン溶液（60ml）に−65〜−75℃
（ドライアイス／アセトン冷浴）において1.65モ
ルブチルリチウムのヘキサン溶液57.4ml（ブチル
リチウム94.7ミリモルを含有）を滴下し、次に−
60〜−70℃においてβ−プロポキシクロロホルメ
ート16.6ｇ（99.5ミリモル）を加え−60〜−70℃
において30分間撹拌反応する。反応液を室温に戻
し、氷水中に注ぎ酢酸エチルにより抽出処理を行
う。酢酸エチル抽出液を脱水処理してあと減圧濃
縮し、残渣の油状物質をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲル150ｇ使用）により精
製処理を行う。ベンゼンにより溶出する目的画分
を集め減圧濃縮すると無色油状の４−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルカルバモイルオキシテトロール酸β−プロ
ポキシエチルエステル12.65ｇを得る。 IR（液状フイルム）、cm-1；2250、1750、1710、
1430、1255、1165 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.93
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.16（ｔ、6H、Ｊ＝7.5
Hz）、1.62（ｍ、2H）、3.33（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、3.45（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、3.67（ｔ、
2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.33（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、
4.86（ｓ、2H） 本発明方法 実施例 １ ３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および酢酸アンモ
ニウム3.84ｇ（50ミリモル）をエタノール20mlに
溶解し、60℃において４時間撹拌して反応する。
反応混液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル50mlと
20％塩化ナトリウム水溶液10mlを加え抽出処理す
る。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムにより
脱水処理したあと減圧濃縮する。残渣を分取液体
クロマトグラフ装置（ウオーターズ社、システム
500A）を用いてシリカゲル（prep PAK500／
silica）カラムクロマトグラフイーにより精製処
理する。ヘキサン−酢酸エチル（５：４）により
溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると結晶状の
３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ
クロトン酸エチル0.88ｇ（収率44％）が得られ
る。 mp；60〜61℃ UV；λMeOH nax.274nm（ε14000） IR（KBr）、cm-1；3450、3350、3000、2950、
1720、1660、1620、1590、1540、1445、1370、
1280、1190、1170、1055、1040、955、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.27
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、2.83（ｄ、3H、Ｊ＝６
Hz）、4.6（ｓ、2H）、4.66（ｓ、1H）、4.75〜5.1
（ｍ、1H）、6.1〜6.8（broad、2H）． 実施例 ２〜21 実施例１に記載の方法に準拠して表−１に記載
の化合物が得られる。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 22
３−アミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイ
ルオキシクロトン酸β−プロポキシエチルエス
テルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシテト
ロール酸β−プロポキシエステル12.5ｇ（43.8ミ
リモル）をイソプロピルアルコール180mlに溶解
し、これに28％アンモニヤ水11mlを加え、60℃に
おいて１時間撹拌して反応する。反応液を減圧濃
縮し、残渣に酢酸エチルで抽出処理する。酢酸エ
チル抽出液を脱水処理のあと減圧濃縮し、残渣を
分取液状クロマトグラフ装置（ウオーターズ社、
システム500A）を用いシリカゲル（prep
PAK500／silica）カラムクロマトグラフイーに
より精製する。ヘキサン−酢酸エチル（２：１）
により溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると無
色油状の３−アミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルカル
バモイルオキシクロトン酸β−プロポキシエチル
エステル8.6ｇ（収率65％）が得られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ（ε13500） IR（液状フイルム）、cm-1；3450、3350、2980、
1695、1625、1575、1480、1430、1380、1365、
1275、1160、1120、1095、1070、1005、790、
765 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.92
（ｔ、3H、Ｊ＝８Hz）、1.15（ｔ、6H、Ｊ＝7.5
Hz）、1.62（ｍ、2H）、3.32（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、3.45（ｔ、2H、Ｊ＝８Hz）、3.65（ｔ、2H、
Ｊ＝4.5Hz）、4.25（ｔ、2H、Ｊ＝4.5Hz）、4.62
（ｓ、2H）、4.71（ｓ、1H）、6.0〜7.0（broad
ｓ、2H） 実施例 23〜34 実施例22に記載の方法に準拠して表−２に記載
の化合物が得られる。
ルオキシクロトン酸β−プロポキシエチルエス
テルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシテト
ロール酸β−プロポキシエステル12.5ｇ（43.8ミ
リモル）をイソプロピルアルコール180mlに溶解
し、これに28％アンモニヤ水11mlを加え、60℃に
おいて１時間撹拌して反応する。反応液を減圧濃
縮し、残渣に酢酸エチルで抽出処理する。酢酸エ
チル抽出液を脱水処理のあと減圧濃縮し、残渣を
分取液状クロマトグラフ装置（ウオーターズ社、
システム500A）を用いシリカゲル（prep
PAK500／silica）カラムクロマトグラフイーに
より精製する。ヘキサン−酢酸エチル（２：１）
により溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると無
色油状の３−アミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルカル
バモイルオキシクロトン酸β−プロポキシエチル
エステル8.6ｇ（収率65％）が得られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ（ε13500） IR（液状フイルム）、cm-1；3450、3350、2980、
1695、1625、1575、1480、1430、1380、1365、
1275、1160、1120、1095、1070、1005、790、
765 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；0.92
（ｔ、3H、Ｊ＝８Hz）、1.15（ｔ、6H、Ｊ＝7.5
Hz）、1.62（ｍ、2H）、3.32（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、3.45（ｔ、2H、Ｊ＝８Hz）、3.65（ｔ、2H、
Ｊ＝4.5Hz）、4.25（ｔ、2H、Ｊ＝4.5Hz）、4.62
（ｓ、2H）、4.71（ｓ、1H）、6.0〜7.0（broad
ｓ、2H） 実施例 23〜34 実施例22に記載の方法に準拠して表−２に記載
の化合物が得られる。
【表】
【表】
【表】
実施例 35
４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および重炭酸アン
モニウム3.95ｇ（50ミリモル）をメチルセロソル
ブ20mlに溶解し60℃において４時間反応する。以
下実施例１と同様により処理して結晶状の３−ア
ミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシクロト
ン酸エチル0.8ｇ（収率40％）が得られる。 mp；60〜61℃ IR（KBr）、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例１で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 36 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および安息香酸ア
ンモニウム1.73ｇ（12.5ミリモル）をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し60℃において１時間撹拌
して反応する。 以下実施例１と同様の方法により処理して結晶
状の３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオ
キシクロトン酸エチル1.1ｇ（収率55％）が得ら
れる。 mp；60〜61℃ IR（KBr）、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例１で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 37 ３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シ−２−ペンテン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペン
チン酸エチル3.6ｇ（18ミリモル）および酢酸ア
ンモニウム1.5ｇ（19.5ミリモル）をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し、60℃において２時間撹
拌して反応する。 反応混液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（50
ml）と水の混液に溶解し混合撹拌する。酢酸エチ
ル抽出液を水洗したあと硫酸マグネシウムにより
脱水処理し減圧濃縮する。残渣を分取液体クロマ
トグラフ装置（ウオーターズ社、システム500A）
を用いシリカゲル（prep PAK500／silica）カラ
ムクロマトグラフイーにより精製処理する。ヘキ
サン−酢酸エチル（２：１）により溶出する目的
画分を集め、減圧濃縮すると油状の３−アミノ−
４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペンテ
ン酸エチル２ｇ（9.3ミリモル、収率52％）が得
られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3440、3350、3000、
1710、1660、1620、1580、1445、1360、1310、
1260、1165、1140、1090、1030、955、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.25
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.43（ｄ、3H、Ｊ＝7.5
Hz）、2.8（ｄ、3H、Ｊ＝６Hz）、4.13（ｑ、2H、
Ｊ＝７Hz）、4.66（ｓ、1H）、4.7〜5.16（broad、
1H）、5.23（ｑ、1H、Ｊ＝７Hz）、5.9〜6.9
（broad、2H） 実施例 38 ３−アミノ−４−カルバモイルオキシ−４−メ
チル−２−ペンテン酸エチルの合成 ４−カルバモイルオキシ−４−メチル−２−ペ
ンチル酸エチル2.1ｇ（10.5ミリモル）を出発原
料として用いる以外は実施例37と同様の方法にり
反応並びに精製処理して結晶状の３−アミノ−４
−Ｎ−カルバモイルオキシ−４−メチル−２−ペ
ンテン酸エチル0.47ｇ（2.1ミリモル、収率20％）
が得られる。 mp；109〜111℃ UV；λMeOH nax.277nｍ IR（KBr）、cm-1；3460、3350、3280、3220、
3000、1735、1650、1630、1610、1555、1360、
1295、1200、1160、1140、1100、1025、1000、
790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.26
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、1.62（ｓ、6H）、4.15
（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.7（ｓ、1H）、5.06
（ｓ、2H）、6.3〜6.9（broad、2H） 実施例 39 ３−アミノ−５−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シ−２−ペンテン酸エチルの合成 ５−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペン
チン酸エチル3.6ｇ（18ミリモル）を出発原料と
して用いる以外は実施例37と同様の方法により反
応並びに精製処理して油状の３−アミノ−５−Ｎ
−メチルカルバモイルオキシ−２−ペンテン酸エ
チル0.48ｇ（2.2ミリモル、収率12.2％）が得られ
る。 UV；λMeOH nax.276nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3475、3360、3000、
1730、1660、1615、1430、1350、1270、1170、
1100、1040、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.32
（ｔ、3H、Ｊ＝８Hz）、3.83（ｔ、2H、Ｊ＝7.5
Hz）、4.06（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.25（ｑ、
2H、Ｊ＝８Hz）、4.83（ｓ、1H）、5.2〜5.4
（broad ｓ、2H）、6.3〜7.0（broad、2H） 実施例 40 ３−アミノ−４−カルバモイルオキシ−４−フ
エニルクロトン酸エチルの合成 ４−カルバモイルオキシ−４−フエニルテトロ
ール酸エチル4.95ｇ（20ミリモル）を出発原料と
する以外は実施例37と同様の方法により反応並び
に精製処理して油状の３−アミノ−４−カルバモ
イルオキシ−４−フエニルクロトン酸エチル1.9
ｇ（収率26.1％）が得られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3450、3350、3200、
3000、1740、1660、1630、1570、1500、1450、
1370、1320、1305、1280、1260、1200、1170、
1060、1025、965、755、695 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.34
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、4.28（ｑ、2H、Ｊ＝７
Hz）、4.83（ｓ、1H）、5.1〜5.3（broad ｓ、
2H）、6.1〜6.8（broad、2H）、7.5（broad ｓ、
5H） 実施例 41 ３−ｎ−プロピルアミノ−４−Ｎ−メチルカル
バモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.9ｇ（10ミリモル）およびｎ−プロピ
ルアミンの酢酸塩1.2ｇ（10ミリモル）をジメチ
ルホルムアミド10mlに溶解し、60〜70℃において
１時間撹拌して反応する。 反応混液を実施例37と同様の方法により抽出精
製処理して油状の３−ｎ−プロピルアミノ−４−
Ｎ−メチルカルバモイルオキシクロトン酸エチル
2.1ｇ（収率85％）が得られる。 UV；λMeOH nax.280nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3375、2990、1720、
1655、1610、1530、1250、1175、1150、1055、
1015、790 1H−NMR（90MHz、CDCl）、δin ppm；0.96
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.25（ｔ、3H、Ｊ＝８
Hz）、1.6（ｍ、2H）、2.83（ｄ、3H、Ｊ＝4.5
Hz）、3.17（ｑ、2H、Ｊ＝７Hz）、4.1（ｑ、2H、
Ｊ＝８Hz）、4.68（ｓ、2H）、4.7〜5.1（ｍ、
1H）、4.82（ｓ、1H）、（8.35（ｍ、1H） 実施例 42 ３−ベンジルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル２ｇ（10ミリモル）およびベンジ
ルアミン1.2ml（10ミリモル）をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において１時間撹拌して反応
する。反応混液を実施例37と同様の方法により抽
出精製処理して油状の３−ベンジルアミノ−４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシクロトン酸
エチル２ｇ（収率68％）が得られる。 UV；λMeOH nax.285nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3320、2950、1710、
1655、1610、1495、1450、1390、1270、1230、
1170、1140、1115、1050、790、765、730、695 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.17
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、2.82（ｓ、6H）、4.05
（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.5（ｄ、2H、Ｊ＝７
Hz）、4.6（ｓ、1H）、4.73（ｓ、2H）、7.35（ｓ、
5H）、8.7（ｔ、1H、Ｊ＝７Hz） 実施例 43 ３−ジエチルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル２ｇ（10ミリモル）およびジエチ
ルアミン1.1ml（10ミリモル）をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において1.5時間撹拌して反
応する。反応混液を実施例37と同様の方法により
抽出精製処理して油状の３−ジエチルアミノ−４
−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシクロトン
酸エチル2.4ｇ（収率88％）が得られる。 UV；λMeOH nax.294nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3000、2950、1700、
1580、1445、1380、1190、1175、1130、1050、
805、770 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.17
（ｔ、6H、Ｊ＝7.5Hz）、1.25（ｔ、3H、Ｊ＝7.5
Hz）、2.94（ｓ、6H）、3.3（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、4.13（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.83（ｓ、
1H）、5.42（ｓ、2H）
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および重炭酸アン
モニウム3.95ｇ（50ミリモル）をメチルセロソル
ブ20mlに溶解し60℃において４時間反応する。以
下実施例１と同様により処理して結晶状の３−ア
ミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシクロト
ン酸エチル0.8ｇ（収率40％）が得られる。 mp；60〜61℃ IR（KBr）、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例１で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 36 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85ｇ（10ミリモル）および安息香酸ア
ンモニウム1.73ｇ（12.5ミリモル）をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し60℃において１時間撹拌
して反応する。 以下実施例１と同様の方法により処理して結晶
状の３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオ
キシクロトン酸エチル1.1ｇ（収率55％）が得ら
れる。 mp；60〜61℃ IR（KBr）、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例１で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 37 ３−アミノ−４−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シ−２−ペンテン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペン
チン酸エチル3.6ｇ（18ミリモル）および酢酸ア
ンモニウム1.5ｇ（19.5ミリモル）をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し、60℃において２時間撹
拌して反応する。 反応混液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル（50
ml）と水の混液に溶解し混合撹拌する。酢酸エチ
ル抽出液を水洗したあと硫酸マグネシウムにより
脱水処理し減圧濃縮する。残渣を分取液体クロマ
トグラフ装置（ウオーターズ社、システム500A）
を用いシリカゲル（prep PAK500／silica）カラ
ムクロマトグラフイーにより精製処理する。ヘキ
サン−酢酸エチル（２：１）により溶出する目的
画分を集め、減圧濃縮すると油状の３−アミノ−
４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペンテ
ン酸エチル２ｇ（9.3ミリモル、収率52％）が得
られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3440、3350、3000、
1710、1660、1620、1580、1445、1360、1310、
1260、1165、1140、1090、1030、955、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.25
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.43（ｄ、3H、Ｊ＝7.5
Hz）、2.8（ｄ、3H、Ｊ＝６Hz）、4.13（ｑ、2H、
Ｊ＝７Hz）、4.66（ｓ、1H）、4.7〜5.16（broad、
1H）、5.23（ｑ、1H、Ｊ＝７Hz）、5.9〜6.9
（broad、2H） 実施例 38 ３−アミノ−４−カルバモイルオキシ−４−メ
チル−２−ペンテン酸エチルの合成 ４−カルバモイルオキシ−４−メチル−２−ペ
ンチル酸エチル2.1ｇ（10.5ミリモル）を出発原
料として用いる以外は実施例37と同様の方法にり
反応並びに精製処理して結晶状の３−アミノ−４
−Ｎ−カルバモイルオキシ−４−メチル−２−ペ
ンテン酸エチル0.47ｇ（2.1ミリモル、収率20％）
が得られる。 mp；109〜111℃ UV；λMeOH nax.277nｍ IR（KBr）、cm-1；3460、3350、3280、3220、
3000、1735、1650、1630、1610、1555、1360、
1295、1200、1160、1140、1100、1025、1000、
790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.26
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、1.62（ｓ、6H）、4.15
（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.7（ｓ、1H）、5.06
（ｓ、2H）、6.3〜6.9（broad、2H） 実施例 39 ３−アミノ−５−Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シ−２−ペンテン酸エチルの合成 ５−Ｎ−メチルカルバモイルオキシ−２−ペン
チン酸エチル3.6ｇ（18ミリモル）を出発原料と
して用いる以外は実施例37と同様の方法により反
応並びに精製処理して油状の３−アミノ−５−Ｎ
−メチルカルバモイルオキシ−２−ペンテン酸エ
チル0.48ｇ（2.2ミリモル、収率12.2％）が得られ
る。 UV；λMeOH nax.276nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3475、3360、3000、
1730、1660、1615、1430、1350、1270、1170、
1100、1040、790 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.32
（ｔ、3H、Ｊ＝８Hz）、3.83（ｔ、2H、Ｊ＝7.5
Hz）、4.06（ｔ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.25（ｑ、
2H、Ｊ＝８Hz）、4.83（ｓ、1H）、5.2〜5.4
（broad ｓ、2H）、6.3〜7.0（broad、2H） 実施例 40 ３−アミノ−４−カルバモイルオキシ−４−フ
エニルクロトン酸エチルの合成 ４−カルバモイルオキシ−４−フエニルテトロ
ール酸エチル4.95ｇ（20ミリモル）を出発原料と
する以外は実施例37と同様の方法により反応並び
に精製処理して油状の３−アミノ−４−カルバモ
イルオキシ−４−フエニルクロトン酸エチル1.9
ｇ（収率26.1％）が得られる。 UV；λMeOH nax.274nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3450、3350、3200、
3000、1740、1660、1630、1570、1500、1450、
1370、1320、1305、1280、1260、1200、1170、
1060、1025、965、755、695 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.34
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、4.28（ｑ、2H、Ｊ＝７
Hz）、4.83（ｓ、1H）、5.1〜5.3（broad ｓ、
2H）、6.1〜6.8（broad、2H）、7.5（broad ｓ、
5H） 実施例 41 ３−ｎ−プロピルアミノ−４−Ｎ−メチルカル
バモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.9ｇ（10ミリモル）およびｎ−プロピ
ルアミンの酢酸塩1.2ｇ（10ミリモル）をジメチ
ルホルムアミド10mlに溶解し、60〜70℃において
１時間撹拌して反応する。 反応混液を実施例37と同様の方法により抽出精
製処理して油状の３−ｎ−プロピルアミノ−４−
Ｎ−メチルカルバモイルオキシクロトン酸エチル
2.1ｇ（収率85％）が得られる。 UV；λMeOH nax.280nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3375、2990、1720、
1655、1610、1530、1250、1175、1150、1055、
1015、790 1H−NMR（90MHz、CDCl）、δin ppm；0.96
（ｔ、3H、Ｊ＝７Hz）、1.25（ｔ、3H、Ｊ＝８
Hz）、1.6（ｍ、2H）、2.83（ｄ、3H、Ｊ＝4.5
Hz）、3.17（ｑ、2H、Ｊ＝７Hz）、4.1（ｑ、2H、
Ｊ＝８Hz）、4.68（ｓ、2H）、4.7〜5.1（ｍ、
1H）、4.82（ｓ、1H）、（8.35（ｍ、1H） 実施例 42 ３−ベンジルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル２ｇ（10ミリモル）およびベンジ
ルアミン1.2ml（10ミリモル）をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において１時間撹拌して反応
する。反応混液を実施例37と同様の方法により抽
出精製処理して油状の３−ベンジルアミノ−４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシクロトン酸
エチル２ｇ（収率68％）が得られる。 UV；λMeOH nax.285nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3320、2950、1710、
1655、1610、1495、1450、1390、1270、1230、
1170、1140、1115、1050、790、765、730、695 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.17
（ｔ、3H、Ｊ＝7.5Hz）、2.82（ｓ、6H）、4.05
（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.5（ｄ、2H、Ｊ＝７
Hz）、4.6（ｓ、1H）、4.73（ｓ、2H）、7.35（ｓ、
5H）、8.7（ｔ、1H、Ｊ＝７Hz） 実施例 43 ３−ジエチルアミノ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 ４−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル２ｇ（10ミリモル）およびジエチ
ルアミン1.1ml（10ミリモル）をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において1.5時間撹拌して反
応する。反応混液を実施例37と同様の方法により
抽出精製処理して油状の３−ジエチルアミノ−４
−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシクロトン
酸エチル2.4ｇ（収率88％）が得られる。 UV；λMeOH nax.294nｍ IR（液状フイルム）、cm-1；3000、2950、1700、
1580、1445、1380、1190、1175、1130、1050、
805、770 1H−NMR（90MHz、CDCl3）、δin ppm；1.17
（ｔ、6H、Ｊ＝7.5Hz）、1.25（ｔ、3H、Ｊ＝7.5
Hz）、2.94（ｓ、6H）、3.3（ｑ、4H、Ｊ＝7.5
Hz）、4.13（ｑ、2H、Ｊ＝7.5Hz）、4.83（ｓ、
1H）、5.42（ｓ、2H）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式［］ ［式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
は隣接する窒素原子と共に、１−ピロリジニル
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、１−（４−
低級アルキル）ピペラジニル基、ホモピペラジニ
ル基、１−（４−低級アルキル）ホモピペラジニ
ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、１−
イミダゾリジニル基、１−イミダゾリル基、１−
ピラゾリル基、１−インドリル基および２−イソ
インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
リジルオキシエチル基、または【式】基 （R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Ｂは
直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、１
−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
基、１−（４−低級アルキル）ピペラジニル基、
ホモピペラジニル基、１−（４−低級アルキル）
ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
リニル基、１−イミダゾリジニル基、１−イミダ
ゾリル基、１−ピラゾリル基、１−インドリル基
および２−イソインドリニル基からなる群より選
ばれる複素環基を形成していてもよい）、Ａは直
鎖状または分岐状のアルキレン基を示す］で表さ
れる３−アミノ−３−カルバモイルオキシアルキ
ルアクリル酸誘導体。 ２ 一般式［］ ［式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
は隣接する窒素原子と共に、１−ピロリジニル
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、１−（４−
低級アルキル）ピペラジニル基、ホモピペラジニ
ル基、１−（４−低級アルキル）ホモピペラジニ
ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、１−
イミダゾリジニル基、１−イミダゾリル基、１−
ピラゾリル基、１−インドリル基および２−イソ
インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
リジルオキシエチル基、または【式】基 （R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Ｂは
直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、１
−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
基、１−（４−低級アルキル）ピペラジニル基、
ホモピペラジニル基、１−（４−低級アルキル）
ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
リニル基、１−イミダゾリジニル基、１−イミダ
ゾリル基、１−ピラゾリル基、１−インドリル基
および２−イソインドリニル基からなる群より選
ばれる複素環基を形成していてもよい）、Ａは直
鎖状または分岐状のアルキレン基を示す］で表さ
れる化合物とアンモニアまたはその塩とを反応さ
せることを特徴とする、 一般式［］ ［式中、R1、R2、R3およびＡは前記の意味を有
する］で表される３−アミノ−３−カルバモイル
オキシアルキルアクリル酸誘導体の製造法。
Priority Applications (15)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57177647A JPS5967257A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | ３−アミノ−３−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造法 |
| HU855047A HU197881B (en) | 1982-08-06 | 1983-07-28 | Process for producing new carbamoyl-oxy-alkyl-carboxy-lic acid derivatives |
| HU832661A HU192166B (en) | 1982-08-06 | 1983-07-28 | Process for producing 2-carbamoyl-oxy-alkyl-1,4-dihydro-pyridine derivatives |
| KR1019830003579A KR910000235B1 (ko) | 1982-08-06 | 1983-07-30 | 2-카르바모일옥시알킬-1,4-디히드로피리딘 유도체의 제조방법 |
| DE8383107707T DE3372758D1 (en) | 1982-08-06 | 1983-08-04 | Process for preparing 2-carbamoyloxyalkyl-1,4-dihydropyridine derivatives and intermediates useful for the process |
| AT83107707T ATE28634T1 (de) | 1982-08-06 | 1983-08-04 | Verfahren zur herstellung von 2-carbamoyloxyalkyl-1,4-dihydropyridin-derivate und zwischenprodukte fuer ihre herstellung. |
| EP83107707A EP0101023B1 (en) | 1982-08-06 | 1983-08-04 | Process for preparing 2-carbamoyloxyalkyl-1,4-dihydropyridine derivatives and intermediates useful for the process |
| CA000434005A CA1215978A (en) | 1982-08-06 | 1983-08-05 | Process for preparing 2-carbamoyloxyalkyl-1,4- dihydropyridine derivatives and intermediates useful for the process |
| US06/863,984 US4914227A (en) | 1982-08-06 | 1986-05-16 | Certain intermediate 3-carbamoyloxyalkyl propiolic acid derivatives |
| US06/865,654 US4739106A (en) | 1982-08-06 | 1986-05-16 | 3-amino-3-carbamoyloxyalkylacrylic acid intermediates to dihydropyridines |
| CA000510426A CA1228352A (en) | 1982-08-06 | 1986-05-30 | 3-carbamoyloxyalkylpropiolic acid derivatives |
| CA000510533A CA1240991A (en) | 1982-08-06 | 1986-05-30 | 3-amino-3-carbamoyloxyalkylacrylic acid derivatives |
| US07/230,418 US4958024A (en) | 1982-08-06 | 1988-08-10 | Process for preparing 2-carbamoyloxyalkyl-1,4-dihydropyridine derivatives |
| KR1019900019394A KR910005750B1 (ko) | 1982-08-06 | 1990-11-28 | 3-아미노-3-카르바모일옥시알킬 아크릴산 유도체의 제조방법 |
| KR1019900019393A KR910005749B1 (ko) | 1982-08-06 | 1990-11-28 | 3-카르바모일옥시알킬 프로피올산 유도체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57177647A JPS5967257A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | ３−アミノ−３−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5967257A JPS5967257A (ja) | 1984-04-16 |
| JPH0213663B2 true JPH0213663B2 (ja) | 1990-04-04 |
Family
ID=16034644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57177647A Granted JPS5967257A (ja) | 1982-08-06 | 1982-10-12 | ３−アミノ−３−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5967257A (ja) |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57177647A patent/JPS5967257A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5967257A (ja) | 1984-04-16 |
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