JPH0214554B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0214554B2 JPH0214554B2 JP58179439A JP17943983A JPH0214554B2 JP H0214554 B2 JPH0214554 B2 JP H0214554B2 JP 58179439 A JP58179439 A JP 58179439A JP 17943983 A JP17943983 A JP 17943983A JP H0214554 B2 JPH0214554 B2 JP H0214554B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cryopump
- panel
- stage
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S417/00—Pumps
- Y10S417/901—Cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
クライオポンプは真空を創生するのに用いられ
る。クライオポンプは、大気ガスを文字通り「低
温凝縮」させることによつて真空を創生するもの
である。
る。クライオポンプは、大気ガスを文字通り「低
温凝縮」させることによつて真空を創生するもの
である。
典型的なクライオポンプは、2つの温度段階で
冷凍を行う極低温冷凍機を備えている。極低温冷
凍機の第1段階は、通常、50〜70゜Kの温度の範
囲で作動し、ポンプの外側クライオパネルおよび
ポンプの入口を横切つて設けられたルーバーを冷
却するために用いられる。極低温冷凍機の第2段
階は、10〜20゜Kの温度範囲で作動し、ポンプの
内側クライオパネルを冷却するのに用いられる。
冷凍を行う極低温冷凍機を備えている。極低温冷
凍機の第1段階は、通常、50〜70゜Kの温度の範
囲で作動し、ポンプの外側クライオパネルおよび
ポンプの入口を横切つて設けられたルーバーを冷
却するために用いられる。極低温冷凍機の第2段
階は、10〜20゜Kの温度範囲で作動し、ポンプの
内側クライオパネルを冷却するのに用いられる。
典型的なクライオポンプにおいては、水蒸気は
ルーバー上で凍結する。窒素、酸素、およびアル
ゴンは、倒立U字形基板の外表面上で凍結する。
水素、ヘリウムおよびネオンは、基板の内側表面
に被着させた木炭層によつて吸着される。水素、
ヘリウムおよびネオンは、20゜Kの温度ではそれ
らの平衡蒸気圧が高過ぎて裸の基板上で低温凝縮
することができないので、水素、ヘリウムおよび
ネオンを吸着するための木炭またはその他の低温
着材が設けられる。活性木炭は、表面積が大き
く、再生の際室温で極めて容易に木炭からガスが
脱着するので、低温吸着材として好ましい材料で
ある。しかし、この種の低温吸着材は、空気ガス
から防護されるようにU字形基板の内側表面上に
配設される。空気ガスを防護しないと、空気ガス
は基板の表面を被覆して小孔を塞ぎ、ポンプ作用
を不能にしてしまうという問題がある。
ルーバー上で凍結する。窒素、酸素、およびアル
ゴンは、倒立U字形基板の外表面上で凍結する。
水素、ヘリウムおよびネオンは、基板の内側表面
に被着させた木炭層によつて吸着される。水素、
ヘリウムおよびネオンは、20゜Kの温度ではそれ
らの平衡蒸気圧が高過ぎて裸の基板上で低温凝縮
することができないので、水素、ヘリウムおよび
ネオンを吸着するための木炭またはその他の低温
着材が設けられる。活性木炭は、表面積が大き
く、再生の際室温で極めて容易に木炭からガスが
脱着するので、低温吸着材として好ましい材料で
ある。しかし、この種の低温吸着材は、空気ガス
から防護されるようにU字形基板の内側表面上に
配設される。空気ガスを防護しないと、空気ガス
は基板の表面を被覆して小孔を塞ぎ、ポンプ作用
を不能にしてしまうという問題がある。
発明の目的、概要及び作用効果
本発明の目的は、水素、ヘリウムおよびネオン
の分子を低温吸着する吸着効率を増大させること
にある。
の分子を低温吸着する吸着効率を増大させること
にある。
この目的を達成するために、本発明は、抜気さ
れた環境内でガスを低温凝縮させるようになされ
た内側クライオパネルを有するクライオポンプに
おいて、該内側クライオパネルは、基板と、該基
板の一方の表面に被着された低温吸着材層と、該
基板の該一方の表面に並置させ、該表面から離隔
させて配設された無孔パネルとから成り、該基板
は、その表面積に占める開口面積が30%〜70%と
なるように穿設された複数の整列した孔を有し、
前記低温吸着材層は、室温でガスを脱着すること
ができるものであることを特徴とするクライオポ
ンプを提供する。
れた環境内でガスを低温凝縮させるようになされ
た内側クライオパネルを有するクライオポンプに
おいて、該内側クライオパネルは、基板と、該基
板の一方の表面に被着された低温吸着材層と、該
基板の該一方の表面に並置させ、該表面から離隔
させて配設された無孔パネルとから成り、該基板
は、その表面積に占める開口面積が30%〜70%と
なるように穿設された複数の整列した孔を有し、
前記低温吸着材層は、室温でガスを脱着すること
ができるものであることを特徴とするクライオポ
ンプを提供する。
本発明のクライオポンプによれば、基板の表面
よつて捕捉されなかつた(従つて、凝縮せしめら
れなかつた)蓄素、酸素及びアルゴンは、基板の
孔を通つて内方へ流れ、上記無孔パネル上で低温
凝縮するので温凝縮効率が高められる。
よつて捕捉されなかつた(従つて、凝縮せしめら
れなかつた)蓄素、酸素及びアルゴンは、基板の
孔を通つて内方へ流れ、上記無孔パネル上で低温
凝縮するので温凝縮効率が高められる。
更に、水素、ヘリウムおよびネオンは20゜Kの
温度ではそれらの平衡蒸気圧が高過ぎて裸の基板
上で低温凝縮することができないので、木炭等の
低温吸着材に接触させなければならないが、本発
明によれば、基板の孔を通つて内方へ流れた水
素、ヘリウム及びネオンは上記無孔パネルにぶつ
かつて該無孔パネルから跳ね返り、基板上の上記
吸着材層によつて吸着される。水素、ヘリウム及
びネオン分子の吸着材層による吸着は、基板の表
面積に対し、孔によつて固定される開口面積の割
合を30%〜70%の範囲とした場合に、特に効果的
であることが見出された。
温度ではそれらの平衡蒸気圧が高過ぎて裸の基板
上で低温凝縮することができないので、木炭等の
低温吸着材に接触させなければならないが、本発
明によれば、基板の孔を通つて内方へ流れた水
素、ヘリウム及びネオンは上記無孔パネルにぶつ
かつて該無孔パネルから跳ね返り、基板上の上記
吸着材層によつて吸着される。水素、ヘリウム及
びネオン分子の吸着材層による吸着は、基板の表
面積に対し、孔によつて固定される開口面積の割
合を30%〜70%の範囲とした場合に、特に効果的
であることが見出された。
クライオポンプの効率を高めるには、水蒸気、
窒素、酸素、アルゴン、水素、ヘリウム及びネオ
ンなどすべての大気ガスを凝縮させなければなら
ない。クライオポンプの通常の作動温度である
20゜Kの温度下で、すべてのガスを低温凝縮させ
ることが可能ではあるが、ガスが凝縮するまでに
クライオポンプ内で移動しなければならない距離
及びそのガスが接触して低温凝縮する表面の種類
は、そのガスの種類によつて異る。水素、ヘリウ
ム及びネオンは、20゜Kではそれらの平衡蒸気圧
が高いので最も凝縮しにくく、裸の基板上では凝
縮することが困難である。従つて、これらのガス
を凝縮させるには、活性炭のような低温吸着材を
設けなければならない。しかしながら、裸の基板
上で凝縮することができる他のガスも、この吸材
に接触すれば、やはり吸着材上でも凝縮するの
で、水素、ヘリウム、ネオンに関してクライオポ
ンプの効率を高めるためには、吸着材を水素、ヘ
リウム、ネオン以外の他のガスから「隔離」しな
ければならない。
窒素、酸素、アルゴン、水素、ヘリウム及びネオ
ンなどすべての大気ガスを凝縮させなければなら
ない。クライオポンプの通常の作動温度である
20゜Kの温度下で、すべてのガスを低温凝縮させ
ることが可能ではあるが、ガスが凝縮するまでに
クライオポンプ内で移動しなければならない距離
及びそのガスが接触して低温凝縮する表面の種類
は、そのガスの種類によつて異る。水素、ヘリウ
ム及びネオンは、20゜Kではそれらの平衡蒸気圧
が高いので最も凝縮しにくく、裸の基板上では凝
縮することが困難である。従つて、これらのガス
を凝縮させるには、活性炭のような低温吸着材を
設けなければならない。しかしながら、裸の基板
上で凝縮することができる他のガスも、この吸材
に接触すれば、やはり吸着材上でも凝縮するの
で、水素、ヘリウム、ネオンに関してクライオポ
ンプの効率を高めるためには、吸着材を水素、ヘ
リウム、ネオン以外の他のガスから「隔離」しな
ければならない。
本発明は、吸着材層の「隔離」を以下の手段に
よつて達成した。
よつて達成した。
(1) 大部分の窒素、酸素及びアルゴンを基板上で
低温凝縮させること、 (2) 基板の表面によつて捕捉されなかつた残りの
窒素、酸素及びアルゴンを無孔パネル上で低温
凝縮させること、及び、 (3) 水素、ヘリウム及びネオンを基板の孔を通し
て内方へ流し、無孔パネルから跳ね返らせた後
吸着材層に接触させて低温凝縮させること。
低温凝縮させること、 (2) 基板の表面によつて捕捉されなかつた残りの
窒素、酸素及びアルゴンを無孔パネル上で低温
凝縮させること、及び、 (3) 水素、ヘリウム及びネオンを基板の孔を通し
て内方へ流し、無孔パネルから跳ね返らせた後
吸着材層に接触させて低温凝縮させること。
即ち、水素、ヘリウム及びネオンは最も長い距
離移動させた後吸着材層上で凝縮させる。他のガ
スは、吸着材層に到達する前に基板及び無孔のパ
ネル上で凝縮してしまうので、吸着材層にまで到
達しない。従つて、吸着材層は、最も凝縮しにく
い水素、ヘリウム及びネオンの吸着だけに効果的
に利用される。
離移動させた後吸着材層上で凝縮させる。他のガ
スは、吸着材層に到達する前に基板及び無孔のパ
ネル上で凝縮してしまうので、吸着材層にまで到
達しない。従つて、吸着材層は、最も凝縮しにく
い水素、ヘリウム及びネオンの吸着だけに効果的
に利用される。
実施例の説明
第1図を参照すると、クライオポンプ12の入
口に弁(図示せず)を介して連結された真空室1
0が示されている。荒引きポンプ14は、弁付導
管16を介してクライオポンプ12に、そして弁
付導管18を介して真空室10に接続されてい
る。
口に弁(図示せず)を介して連結された真空室1
0が示されている。荒引きポンプ14は、弁付導
管16を介してクライオポンプ12に、そして弁
付導管18を介して真空室10に接続されてい
る。
第2〜4図を参照して説明すると、クライオポ
ンプ12は、上端に取付フランジ22を備えた外
側ハウジング20を有している。フランジ22
は、真空室10に慣用の態様で連結されるように
なされている。ハウジング20内には、第1段2
6と第2段28を有する極低温冷凍機24が設け
られている。冷凍機24は、圧縮機(図示せず)
に連結されるようになされたポート30を備えて
いる。冷凍機24は、ギフオード・マクマホン式
2段冷凍機であることが好ましい。そのような冷
凍機としてはいろいろな種類のものが知られてお
り、その構成部品の全部をここで説明する必要は
ない。
ンプ12は、上端に取付フランジ22を備えた外
側ハウジング20を有している。フランジ22
は、真空室10に慣用の態様で連結されるように
なされている。ハウジング20内には、第1段2
6と第2段28を有する極低温冷凍機24が設け
られている。冷凍機24は、圧縮機(図示せず)
に連結されるようになされたポート30を備えて
いる。冷凍機24は、ギフオード・マクマホン式
2段冷凍機であることが好ましい。そのような冷
凍機としてはいろいろな種類のものが知られてお
り、その構成部品の全部をここで説明する必要は
ない。
クライオポンプ12は、ハウジング20内に配
設された外側クライオパネル32を有している。
外側クライオパネル32は、垂下した熱伝導羽根
36を有するリング組立体34に連結されてい
る。羽根36および外側クライオパネル34は、
いずれも、第1段26の上端のヒート・ステーシ
ヨンに連結されている。
設された外側クライオパネル32を有している。
外側クライオパネル32は、垂下した熱伝導羽根
36を有するリング組立体34に連結されてい
る。羽根36および外側クライオパネル34は、
いずれも、第1段26の上端のヒート・ステーシ
ヨンに連結されている。
リング組立体34は、銅などの熱良導材で作ら
れたルーバー40を支持するための直径方向およ
び弦方向の支持部材を有する環状支持体38を備
えている。各ルーパー40は、逆V字形である中
央ルーバー(第3図)を除いては平面状である。
れたルーバー40を支持するための直径方向およ
び弦方向の支持部材を有する環状支持体38を備
えている。各ルーパー40は、逆V字形である中
央ルーバー(第3図)を除いては平面状である。
第2段28ヒート・ステーシヨンには内側クラ
イオパネル42を取付ける。内側クライオポンプ
42は、第5図に明示されるように、互いに平行
な第1基板44および第2基板46を備えてい
る。基板44と46は、無孔パネル48の両側に
対置させる。基板44,46は、それぞれフラン
ジ50,52を有しており、それらのフランジを
任意の好適な手段によつて無孔パネル48の上端
に固定的に連結する。好ましい実施例では、フラ
ンジ50,52にリベツト60により熱伝導性バ
ー49,51を付設し、それらのバーを第2段2
8のヒート・ステーシヨンに固定し、パネル48
に熱的に(熱伝導可能状態に)接触させる。
イオパネル42を取付ける。内側クライオポンプ
42は、第5図に明示されるように、互いに平行
な第1基板44および第2基板46を備えてい
る。基板44と46は、無孔パネル48の両側に
対置させる。基板44,46は、それぞれフラン
ジ50,52を有しており、それらのフランジを
任意の好適な手段によつて無孔パネル48の上端
に固定的に連結する。好ましい実施例では、フラ
ンジ50,52にリベツト60により熱伝導性バ
ー49,51を付設し、それらのバーを第2段2
8のヒート・ステーシヨンに固定し、パネル48
に熱的に(熱伝導可能状態に)接触させる。
パネル48は、第2段28の両側から180゜反対
向きに半径方向外方に延長する2つの部片として
形成するのが好ましい。基板44,46およびパ
ネル48は、スペーサ54,56によつて互いに
平行に離隔した状態に保持する。各基板44,4
6には、その全面積の、好ましくは30〜70%を占
める複数の孔58を穿設する。基板44,46の
パネル48に並置する側の表面にそれぞれ例えば
活性木炭のような低温吸着材53,55を被着す
る。
向きに半径方向外方に延長する2つの部片として
形成するのが好ましい。基板44,46およびパ
ネル48は、スペーサ54,56によつて互いに
平行に離隔した状態に保持する。各基板44,4
6には、その全面積の、好ましくは30〜70%を占
める複数の孔58を穿設する。基板44,46の
パネル48に並置する側の表面にそれぞれ例えば
活性木炭のような低温吸着材53,55を被着す
る。
第6図には、水素、ヘリウムおよびネオン分子
の捕捉確率(吸着材層53,55による吸着率)
対分開口面積のグラフが示されている。分率開口
面積とは、基板の表面積に対する孔58の合計面
積の百分率のことである。孔の直径対深さの比が
1.2である場合、グラフの曲線から分るように、
吸着材層による効果的な捕捉を達成するには開口
面積率を30%〜70%の範囲とすべきである。ここ
で「深さ」とは、各基板44,46とパネル48
との互いに並置した表面間の間隔をいう。
の捕捉確率(吸着材層53,55による吸着率)
対分開口面積のグラフが示されている。分率開口
面積とは、基板の表面積に対する孔58の合計面
積の百分率のことである。孔の直径対深さの比が
1.2である場合、グラフの曲線から分るように、
吸着材層による効果的な捕捉を達成するには開口
面積率を30%〜70%の範囲とすべきである。ここ
で「深さ」とは、各基板44,46とパネル48
との互いに並置した表面間の間隔をいう。
基板44,46および無孔パネル48は、必ず
しも図示のように平坦な部材とする必要はなく、
基板44と46を単一の逆U字形部材とし、その
内側にそれよりは小さい逆U字形の無孔パネルを
配設するようにしてもよい。あるいは、基板4
4,46は、湾曲形状、半球状またはその他の適
当な形状とすることができる。
しも図示のように平坦な部材とする必要はなく、
基板44と46を単一の逆U字形部材とし、その
内側にそれよりは小さい逆U字形の無孔パネルを
配設するようにしてもよい。あるいは、基板4
4,46は、湾曲形状、半球状またはその他の適
当な形状とすることができる。
作動の説明
真空室10は、極低温の技術分野において周知
のいろいろなプロセスに使用される。まず、クラ
イオポンプ12の入口の弁(図示せず)を閉鎖
し、導管16および18の弁を開放し、荒引きポ
ンプ14によつて真空室10およびクライオポン
プ12のハウジング20内を所望の圧力にまで抜
気させる。次いで、クライオポンプの入口の弁を
開放して、クライオポンプのハウジング20内と
真空室10とを連通させると、真空室10内に残
留している水蒸気はルーバー40に接触して凝縮
する。基板44,46の表面によつて捕捉されな
かつた窒素、酸素およびアルゴンは、孔58を通
つて内方へ流れ、パネル78上で低温凝縮する。
孔58を通つて内方へ流れた水素、ヘリウムおよ
びネオンはパネル48から跳ね返り、基板44,
46上の吸着材層53,55によつて吸着され
る。このクライオポンプの空気構成ガスに対する
吸着容量は極めて大きい。
のいろいろなプロセスに使用される。まず、クラ
イオポンプ12の入口の弁(図示せず)を閉鎖
し、導管16および18の弁を開放し、荒引きポ
ンプ14によつて真空室10およびクライオポン
プ12のハウジング20内を所望の圧力にまで抜
気させる。次いで、クライオポンプの入口の弁を
開放して、クライオポンプのハウジング20内と
真空室10とを連通させると、真空室10内に残
留している水蒸気はルーバー40に接触して凝縮
する。基板44,46の表面によつて捕捉されな
かつた窒素、酸素およびアルゴンは、孔58を通
つて内方へ流れ、パネル78上で低温凝縮する。
孔58を通つて内方へ流れた水素、ヘリウムおよ
びネオンはパネル48から跳ね返り、基板44,
46上の吸着材層53,55によつて吸着され
る。このクライオポンプの空気構成ガスに対する
吸着容量は極めて大きい。
孔58の合計面積は、ポンプ吸着速度とポンプ
吸着容量との間をとつて定める。パネル48の表
面と基板44,46の表面との深さ(間隔)は、
重要であり、孔58の径に対して小さ過ぎてはな
らない。
吸着容量との間をとつて定める。パネル48の表
面と基板44,46の表面との深さ(間隔)は、
重要であり、孔58の径に対して小さ過ぎてはな
らない。
孔58の直径対深さの比は、約1.2とするのが
好ましいが、これは、上述したようにポンプ吸着
速度とポンプ吸着容量の間の妥協であり、設計基
準に応じて変更することができる。
好ましいが、これは、上述したようにポンプ吸着
速度とポンプ吸着容量の間の妥協であり、設計基
準に応じて変更することができる。
第1図は真空室に連結させたクライオポンプの
概略図、第2図はクライオポンプの上面図、第3
図は第2図の線3−3に沿つてみた断面図、第4
図は第3図の線4−4に沿つてみた断面図、第5
図は極低温冷凍機に取付けられた内側クライオパ
ネルの透視図、第6図は孔の直径対深さの比を
1.2とした場合の捕捉確率対分率開口面積のグラ
フである。 10:真空室、12:クライオポンプ、20:
ハウジング、24:極低温冷凍機、26:第1
段、28:第2段、32:外側クライオパネル、
40:ルーバー、42:内側クライオパネル、4
4,46:基板、48:無孔パネル、53,5
5:低温吸着材、58:孔。
概略図、第2図はクライオポンプの上面図、第3
図は第2図の線3−3に沿つてみた断面図、第4
図は第3図の線4−4に沿つてみた断面図、第5
図は極低温冷凍機に取付けられた内側クライオパ
ネルの透視図、第6図は孔の直径対深さの比を
1.2とした場合の捕捉確率対分率開口面積のグラ
フである。 10:真空室、12:クライオポンプ、20:
ハウジング、24:極低温冷凍機、26:第1
段、28:第2段、32:外側クライオパネル、
40:ルーバー、42:内側クライオパネル、4
4,46:基板、48:無孔パネル、53,5
5:低温吸着材、58:孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 抜気された環境内でガスを低温凝縮させるよ
うになされた内側クライオパネルを有するクライ
オポンプにおいて、該内側クライオパネルは、基
板と、該基板の一方の表面に被着された低温吸着
材層と、該基板の該一方の表面に並置させ、該表
面から離隔させて配設された無孔パネルとから成
り、該基板は、その表面積に占める開口面積が30
%〜70%となるように穿設された複数の整列した
孔を有し、前記低温吸着材層は、室温でガスを脱
着することができるものであることを特徴とする
クライオポンプ。 2 1対の前記基板が前記無孔パネルの両側に配
設されている特許請求の範囲第1項記載のクライ
オポンプ。 3 前記基板は極低温冷凍機の第2段に連結され
ており、前記無孔パネルは該第2段の両側から
180゜反対方向に延長している特許請求の範囲第2
項記載のクライオポンプ。 4 前記各基板は、その上端を熱良導性帯片によ
つて前記無孔パネルの上端に連結されている特許
請求の範囲第2項記載のクライオポンプ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/426,518 US4466252A (en) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | Cryopump |
| US426518 | 1995-06-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59131779A JPS59131779A (ja) | 1984-07-28 |
| JPH0214554B2 true JPH0214554B2 (ja) | 1990-04-09 |
Family
ID=23691121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58179439A Granted JPS59131779A (ja) | 1982-09-29 | 1983-09-29 | クライオポンプ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4466252A (ja) |
| JP (1) | JPS59131779A (ja) |
| CA (1) | CA1192756A (ja) |
| FR (1) | FR2533637B1 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60161702A (ja) * | 1984-01-27 | 1985-08-23 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 真空用冷却トラツプ |
| US4555907A (en) * | 1984-05-18 | 1985-12-03 | Helix Technology Corporation | Cryopump with improved second stage array |
| JPH0227170A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | クライオポンプ |
| US5187939A (en) * | 1991-06-03 | 1993-02-23 | Hughes Aircraft Company | Rapid cooldown dewar |
| RU2140568C1 (ru) * | 1998-07-29 | 1999-10-27 | Центральный аэрогидродинамический институт им.проф.Н.Е.Жуковского | Криогенный конденсационный насос |
| US6155059A (en) * | 1999-01-13 | 2000-12-05 | Helix Technology Corporation | High capacity cryopump |
| US20050274128A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-15 | Genesis | Cryopump with enhanced hydrogen pumping |
| US7313922B2 (en) * | 2004-09-24 | 2008-01-01 | Brooks Automation, Inc. | High conductance cryopump for type III gas pumping |
| JP6084119B2 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-02-22 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
| JP6913049B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2021-08-04 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
| GB2596831A (en) | 2020-07-08 | 2022-01-12 | Edwards Vacuum Llc | Cryopump |
| GB2596832A (en) | 2020-07-08 | 2022-01-12 | Edwards Vacuum Llc | Cryopump |
| GB2600479A (en) * | 2020-11-02 | 2022-05-04 | Edwards Vacuum Llc | Cryopumps and inlet flow restrictors for cryopumps |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3390536A (en) * | 1967-02-01 | 1968-07-02 | Gca Corp | Cryogenic pumping apparatus |
| US3490247A (en) * | 1968-01-24 | 1970-01-20 | Perkin Elmer Corp | Sorption pump roughing system |
| DE2620880C2 (de) * | 1976-05-11 | 1984-07-12 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Kryopumpe |
| JPS5420008A (en) * | 1977-07-18 | 1979-02-15 | Ube Ind Ltd | Lubricant composition |
| US4325220A (en) * | 1979-02-28 | 1982-04-20 | United Technologies Corporation | Cryoadsorption pumps having panels with zeolite plates |
-
1982
- 1982-09-29 US US06/426,518 patent/US4466252A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-06-13 CA CA000430258A patent/CA1192756A/en not_active Expired
- 1983-07-20 FR FR8312019A patent/FR2533637B1/fr not_active Expired
- 1983-09-29 JP JP58179439A patent/JPS59131779A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59131779A (ja) | 1984-07-28 |
| US4466252A (en) | 1984-08-21 |
| CA1192756A (en) | 1985-09-03 |
| FR2533637A1 (fr) | 1984-03-30 |
| FR2533637B1 (fr) | 1986-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5855118A (en) | Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same | |
| JPH0214554B2 (ja) | ||
| WO1997035652A9 (en) | Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same | |
| US6122920A (en) | High specific surface area aerogel cryoadsorber for vacuum pumping applications | |
| KR20130140090A (ko) | 흡착식 냉동기로부터 이질 가스를 제거하기 위한 진공 용기 | |
| JP4084418B2 (ja) | 第一群気体用絞りサイクル・クライオポンプ・システム | |
| JPS6035190A (ja) | クライオポンプ | |
| US4966016A (en) | Cryopump with multiple refrigerators | |
| WO1992014057A1 (en) | Cryopump with improved second stage passageway | |
| JPH0261629B2 (ja) | ||
| TW202235748A (zh) | 低溫泵 | |
| US6330801B1 (en) | Method and system for increasing cryopump capacity | |
| JP7339950B2 (ja) | クライオポンプ | |
| JP3062706B2 (ja) | 低温トラップ付クライオポンプ | |
| JPS58131381A (ja) | クライオポンプ及びクライオポンプ用冷凍機 | |
| US4736591A (en) | Cryopumps | |
| JP4751405B2 (ja) | クライオポンプ | |
| US4896511A (en) | Optimally staged cryopump | |
| JP3052096B2 (ja) | クライオポンプ | |
| WO2019163760A1 (ja) | クライオポンプ | |
| JPS6248974A (ja) | クライオポンプ | |
| JPH0451669B2 (ja) | ||
| TW202523976A (zh) | 低溫泵 | |
| JPH01121573A (ja) | クライオポンプ | |
| JPH09209932A (ja) | 真空排気装置 |