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JPH0224379B2 - - Google Patents
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JPH0224379B2 - - Google Patents

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JPH0224379B2
JPH0224379B2 JP59028437A JP2843784A JPH0224379B2 JP H0224379 B2 JPH0224379 B2 JP H0224379B2 JP 59028437 A JP59028437 A JP 59028437A JP 2843784 A JP2843784 A JP 2843784A JP H0224379 B2 JPH0224379 B2 JP H0224379B2
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JP
Japan
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ring
holding
wafer
wafer ring
base
Prior art date
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JP59028437A
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Japanese (ja)
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Hisaya Suzuki
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Toshiba Mechatronics Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Seiki Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Seiki Co Ltd filed Critical Toshiba Seiki Co Ltd
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Publication of JPH0224379B2 publication Critical patent/JPH0224379B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0442Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10P72/50Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はペレツトボンデイング装置に関し、特
にウエハリング保持装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a pellet bonding apparatus, and more particularly to a wafer ring holding apparatus.

(従来の技術) 半導体製造工程には、基板の所定位置に半導体
ペレツトを順次載置、固着させるペレツトボンデ
イング作業があり、これには公知(例えば特公昭
58−37986)のペレツトボンデイング装置が用い
られる。
(Prior art) Semiconductor manufacturing processes involve pellet bonding operations in which semiconductor pellets are sequentially placed and fixed at predetermined positions on a substrate.
58-37986) is used.

(発明が解決しようとする課題) ところでペレツトボンデイング装置に用いられ
る半導体ペレツトは、一般に半導体ウエハを可撓
性シートに貼着し、上記半導体ウエハをスクライ
ビングしたのちダイシングを施して多数の半導体
ペレツトに分割し、さらに上記可撓性シートの周
辺をウエハリングで保持して引き伸ばし、各ペレ
ツト間に間隙を形成させることにより得られる。
そしてこのウエハリングをペレツトボンデイング
装置のリングホルダに装着させ、多数の半導体ペ
レツトを前記したシートよりコレツトと呼ばれる
吸着具で1つずつ取り出し、基板の所定位置に移
送する。
(Problem to be Solved by the Invention) Semiconductor pellets used in pellet bonding equipment are generally produced by bonding a semiconductor wafer to a flexible sheet, scribing the semiconductor wafer, and then dicing it into a large number of semiconductor pellets. The pellets are obtained by dividing the pellets, and then holding the periphery of the flexible sheet with a wafer ring and stretching it to form gaps between each pellet.
This wafer ring is mounted on a ring holder of a pellet bonding apparatus, and a large number of semiconductor pellets are taken out one by one from the sheet using a suction tool called a collect and transferred to a predetermined position on the substrate.

このようにペレツトボンデイング装置に装着さ
れる半導体ペレツトは前工程で種々の加工を必要
とし、非能率的であつた。また上記した工程でシ
ート上に規則正しく分割され、整列された半導体
ペレツトが、ウエハリングをリングホルダに装着
するまでの移送途中において、或いはウエハリン
グの装着時において、位置ずれを生じてしまうと
いつた危険性があり、この位置ずれはペレツトボ
ンデイング作業の自動化を行なう上で問題となつ
ていた。
Semiconductor pellets loaded into the pellet bonding apparatus thus require various processes in the pre-processing process, which is inefficient. In addition, it has been reported that the semiconductor pellets, which are regularly divided and aligned on the sheet in the above process, may become misaligned during transportation until the wafer ring is attached to the ring holder, or when the wafer ring is attached. This positional deviation is dangerous and has been a problem in automating pellet bonding operations.

またペレツトの大きさ等に起因して、各ペレツ
ト間に形成すべき間隙量を最適値に設定しなけれ
ばならないが、この設定を容易に行なうことがで
きなかつた。
Furthermore, due to the size of the pellets, etc., the amount of gaps to be formed between each pellet must be set to an optimum value, but this setting cannot be done easily.

本発明は上記した欠点を除去するために成され
たもので、半導体ウエハの貼着された可撓性シー
トを引き伸ばした後、そのままの状態で半導体ペ
レツトをペレツトボンデイング装置に提供するこ
とができ、また各半導体ペレツト間の間隙量調整
も簡単に行なうことの可能なペレツトボンデイン
グ装置におけるウエハリング保持装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made to eliminate the above-mentioned drawbacks, and after stretching a flexible sheet to which a semiconductor wafer is attached, it is possible to provide semiconductor pellets as they are to a pellet bonding apparatus. Another object of the present invention is to provide a wafer ring holding device in a pellet bonding apparatus that allows for easy adjustment of the gap between semiconductor pellets.

(実施例) 以下本発明の一実施例を図面を参照して説明す
る。第1図はペレツトボンデイング装置に組込ま
れるウエハリング保持装置の平面図、第2図はそ
の右正面の一部断面図を各々示している。図にお
いて1は図示を省略したXYテーブル上に載置さ
れた基台、2はブラケツトで、このブラケツト2
は長孔3を介して基台1にボルト4等により固定
されている。5は後述するリングホルダ8を保持
する保持台で、ブラケツト2に設けた貫通孔2a
に装着され水平に保持されている。この保持台5
はその上部外周に図では円形の嵌合部6と、その
上部に小径部6a、中央部には貫通孔7とを有し
ていて、小径部6aと保持台5の上面5aとの交
叉部分は滑らかに形成されている。8はリングホ
ルダで、前記保持台5の嵌合部6に嵌挿される。
このリングホルダ8の外周の3ケ所には二又状の
突起9,9が設けられている。そして第3図aに
その詳細が示されているように、突起9,9間に
は爪10が配置され、この爪10は突起9,9間
に介した第3図bに示されるような偏心ピン11
(偏心量e)に支持され、突起9,9間にて回動
自在とされている。なお第1図における11aは
偏心ピン11の止めねじである。また爪10のみ
の側面図が第3図cに示されているが、爪10の
一端10aはボルト12の頭12aが通らない程
度の間隔を有する二又13になつており、この二
又13を介してリングホルダ8の一側端14にボ
ルト12を締め付けてある。ただし爪10の一端
10aとリングホルダ8の一側端14との間には
圧縮ばね15が介在させてあり、従つてボルト1
2の締め付け量を変えることにより、第3図aに
おいて爪10は、実線で示される位置あるいは一
点鎖線で示される位置にと、その設定位置を自由
に調整できるようになつている。また第4図に示
されるように、リングホルダ8の外周3ケ所には
ボルト16の挿入用孔17、ボルト16の頭部が
当接する凹部18、圧縮ばね19挿入用の凹部2
0が設けられており、凹部20の圧縮ばね19を
挿入後ボルト16を保持台5に設けたねじ孔21
に締め付けることにより、リングホルダ8を保持
台5に装着するようになつている。従つて3ケ所
のボルト16の締め付け量を調整することにより
リングホルダ8の保持台5への装着位置は、保持
台5の上面5aに対する略垂直方向にて自由に調
整することができる。
(Example) An example of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a wafer ring holding device incorporated into a pellet bonding device, and FIG. 2 is a partial sectional view of the right front side thereof. In the figure, 1 is a base placed on an XY table (not shown), and 2 is a bracket.
is fixed to the base 1 through a long hole 3 with bolts 4 or the like. Reference numeral 5 denotes a holding base for holding a ring holder 8, which will be described later, and a through hole 2a provided in the bracket 2.
It is mounted on and held horizontally. This holding stand 5
has a circular fitting part 6 in the figure on its upper outer periphery, a small diameter part 6a in the upper part, and a through hole 7 in the center, where the small diameter part 6a intersects with the upper surface 5a of the holding base 5. is smoothly formed. A ring holder 8 is fitted into the fitting part 6 of the holding base 5.
Forked protrusions 9, 9 are provided at three locations on the outer periphery of the ring holder 8. As shown in detail in FIG. 3a, a claw 10 is arranged between the protrusions 9, 9, and this claw 10 is interposed between the protrusions 9, 9 as shown in FIG. 3b. Eccentric pin 11
(the amount of eccentricity e), and is rotatable between the protrusions 9, 9. Note that 11a in FIG. 1 is a set screw for the eccentric pin 11. Further, a side view of only the pawl 10 is shown in FIG. A bolt 12 is fastened to one end 14 of the ring holder 8 via the bolt 12. However, a compression spring 15 is interposed between one end 10a of the claw 10 and one side end 14 of the ring holder 8, so that the bolt 1
By changing the amount of tightening 2, the set position of the pawl 10 can be freely adjusted to the position shown by the solid line or the position shown by the dashed-dotted line in FIG. 3a. Further, as shown in FIG. 4, the ring holder 8 has three holes on its outer periphery: a hole 17 for inserting the bolt 16, a recess 18 for the head of the bolt 16 to come into contact with, and a recess 2 for inserting the compression spring 19.
0 is provided, and after inserting the compression spring 19 of the recess 20, the bolt 16 is inserted into the screw hole 21 provided in the holding base 5.
By tightening the ring holder 8, the ring holder 8 is attached to the holding base 5. Therefore, by adjusting the amount of tightening of the three bolts 16, the mounting position of the ring holder 8 on the holding base 5 can be freely adjusted in a substantially perpendicular direction to the upper surface 5a of the holding base 5.

第2図或いは第3図a、第4図に示されるよう
に、リングホルダ8の上面には環状溝22が設け
られており、この溝22内には環状のゴムリング
23が装着される。このゴムリング23は、環状
溝22に装着された時に、その上面がボルト16
の上面より上方に位置する厚さとされる。
As shown in FIG. 2, FIG. 3a, and FIG. 4, an annular groove 22 is provided on the upper surface of the ring holder 8, and an annular rubber ring 23 is mounted within this groove 22. When this rubber ring 23 is installed in the annular groove 22, its upper surface is attached to the bolt 16.
The thickness is located above the top surface of.

また保持台5の外周にV字状溝24が形成され
ている。一方ブラケツト2の外周3ケ所には上記
V字状溝24に対応する位置にボルト25がねじ
込まれており、このボルト25の先端部がV字状
溝24に当接するようになつている。しかして保
持台5をブラケツト2に対し水平方向にて回動さ
せ、保持台5のブラケツト2に対する位置を調整
したのち、その調整位置にてボルト25を締め付
け、さらに固定ナツト26を締め付ければ固定で
きるようになつている。またリングホルダ8の上
面2ケ所には第5図に示されるように、ピン27
が突設されている。
Further, a V-shaped groove 24 is formed on the outer periphery of the holding base 5. On the other hand, bolts 25 are screwed into three locations on the outer periphery of the bracket 2 at positions corresponding to the V-shaped grooves 24, and the tips of the bolts 25 come into contact with the V-shaped grooves 24. After rotating the holding stand 5 in the horizontal direction relative to the bracket 2 and adjusting the position of the holding stand 5 relative to the bracket 2, tighten the bolt 25 at the adjusted position and further tighten the fixing nut 26 to fix it. I'm starting to be able to do it. Also, as shown in FIG. 5, there are pins 27 at two locations on the top surface of the ring holder 8.
is installed protrudingly.

さて上記実施例において用いられるウエハリン
グ28を第6図に示してある。なお第1図にはそ
の外形だけを一点鎖線で示してある。図に示され
るようにウエハリング28の外周は、円形形状か
ら対応する2ケ所a,b及びそれに挾まれた1ケ
所cが切断され、またピン27に対応する位置2
ケ所に切欠きd,eが形成された形状とされてい
る。また中央部に貫通孔29が形成され、この貫
通孔29の径は保持部5の嵌合部6の径と略同一
になつている。このウエハリング28の下面には
可撓性シート30の外周部が接着されており、ま
たシート30の上面には、ダイシングまで施され
個々の半導体ペレツト32に分割された半導体ウ
エハ31が貼着されている。
Now, the wafer ring 28 used in the above embodiment is shown in FIG. In addition, in FIG. 1, only the outer shape is shown by a dashed line. As shown in the figure, the outer periphery of the wafer ring 28 is cut out from the circular shape at two corresponding places a and b and one place c sandwiched between them, and also at a position 2 corresponding to the pin 27.
It has a shape in which notches d and e are formed at these locations. Further, a through hole 29 is formed in the central portion, and the diameter of this through hole 29 is approximately the same as the diameter of the fitting portion 6 of the holding portion 5. The outer periphery of a flexible sheet 30 is adhered to the lower surface of this wafer ring 28, and a semiconductor wafer 31 that has been diced and divided into individual semiconductor pellets 32 is adhered to the upper surface of the sheet 30. ing.

次に上記構成における作用について説明する。 Next, the operation of the above configuration will be explained.

まず第6図に示されるようなウエハリング28
を用意する。前述したようにウエハリング28に
その外周が接着された可撓性シート30上には、
公知の方法によりスクライビング、ダイシングが
施され個々の半導体ペレツト32に分割された半
導体ウエハ31が貼着されている。次にボルト1
6の締め付け具合を調整することにより、保持台
5に対するリングホルダ8の装着位置を調整す
る。即ちボルト16の締め付け量を多くすればリ
ングホルダ8は下降し、後述の説明で明らかなよ
うにウエハリング28をリングホルダ8に装着し
た時、可撓性シート30の引き伸ばし量を多くす
ることができ、反対にボルト16の締め付け量を
少なくすれば、可撓性シート30の引き伸ばし量
を少なくすることができる。ボルト16の締め付
け量の調整後、ウエハリング28の切欠きd,e
をリングホルダ8上に突設されたピン27に当接
させ、その後ウエハリング28全体を保持台5に
対して垂直方向に押し付ける。この押し付けによ
りウエハリング28は保持台5の外周を降下し、
この降下に伴い可撓性シート30は均一に引き伸
ばされ、この引き伸ばしにより各ペレツト間には
間隙が形成される。そして最終的には、ウエハリ
ング28はゴムリング23に当接しその降下を停
止せしめられる。
First, a wafer ring 28 as shown in FIG.
Prepare. As mentioned above, on the flexible sheet 30 whose outer periphery is adhered to the wafer ring 28,
A semiconductor wafer 31 that has been scribed and diced and divided into individual semiconductor pellets 32 by a known method is attached. Next, bolt 1
By adjusting the degree of tightening of the ring holder 6, the mounting position of the ring holder 8 with respect to the holding base 5 is adjusted. That is, if the amount of tightening of the bolts 16 is increased, the ring holder 8 will be lowered, and as will be clear from the explanation below, when the wafer ring 28 is attached to the ring holder 8, the amount of stretching of the flexible sheet 30 can be increased. On the other hand, if the amount of tightening of the bolts 16 is reduced, the amount of stretching of the flexible sheet 30 can be reduced. After adjusting the tightening amount of the bolt 16, the notches d and e of the wafer ring 28
is brought into contact with a pin 27 protruding from the ring holder 8, and then the entire wafer ring 28 is pressed vertically against the holding table 5. Due to this pressing, the wafer ring 28 descends on the outer periphery of the holding table 5,
The flexible sheet 30 is uniformly stretched as it descends, and gaps are formed between each pellet due to this stretching. Finally, the wafer ring 28 comes into contact with the rubber ring 23 and its descent is stopped.

説明の順序は逆になるが、ウエハリング28を
上記説明したように垂直方向に押し付けると、リ
ングホルダ8の外周部3ケ所に設けられている爪
10は、ウエハリング28の降下によりこのウエ
ハリング28によつて圧縮ばね15に抗して外側
(第3図において時計方向)に回動せしめられる。
ところがウエハリング28がゴムリング23に当
接した時点では、爪10は圧縮ばね15の作用で
前記と反対方向(第3図において反時計方向)に
回動してウエハリング28の上面を押圧し、この
ウエハリング28をリングホルダ8に完全に固定
する。なおボルト12の締め付け量を調整するこ
とにより、第3図aに示されるように爪10の偏
心ピン11を中心とする位置が調整され、また偏
心ピン11を回動させることによりリングホルダ
8の半径方向に対する爪10の位置を調整でき、
これらは予め使用されるウエハリングに合わせ調
整しておくようにする。
Although the order of explanation is reversed, when the wafer ring 28 is pressed vertically as explained above, the claws 10 provided at three locations on the outer periphery of the ring holder 8 will move as the wafer ring 28 descends. 28, it is rotated outward (clockwise in FIG. 3) against the compression spring 15.
However, when the wafer ring 28 comes into contact with the rubber ring 23, the claw 10 rotates in the opposite direction (counterclockwise in FIG. 3) due to the action of the compression spring 15 and presses the top surface of the wafer ring 28. , this wafer ring 28 is completely fixed to the ring holder 8. By adjusting the amount of tightening of the bolt 12, the position of the claw 10 about the eccentric pin 11 can be adjusted as shown in FIG. 3a, and by rotating the eccentric pin 11, the position of the ring holder 8 can be adjusted. The position of the claw 10 in the radial direction can be adjusted,
These should be adjusted in advance to match the wafer ring to be used.

このようにリングホルダ8にウエハリング28
が装着された時点で、可撓性シート30は均一に
引き伸ばされ、個々の半導体ペレツト32間には
間隙が形成される。必要あらばウエハリング28
をリングホルダ8に装着後、ナツト26、ボルト
25をゆるめ、ブラケツト2に対し保持台5を回
動させて半導体ペレツト32のθ方向に向きを調
整する。
In this way, attach the wafer ring 28 to the ring holder 8.
Once mounted, the flexible sheet 30 is uniformly stretched, and gaps are formed between the individual semiconductor pellets 32. Wafer ring 28 if necessary
After mounting on the ring holder 8, the nuts 26 and bolts 25 are loosened, and the holding table 5 is rotated relative to the bracket 2 to adjust the direction of the semiconductor pellet 32 in the θ direction.

以後は図示を省略したが、公知の突き上げピン
でシート30の下方から1個の半導体ペレツト3
2を押し上げるとともに、シート30の上方から
吸着具を下降させて押し上げられた半導体ペレツ
ト32を吸着保持後、基板の所定位置に移送し、
固着する通常のペレツトボンデイング作業を行な
う。
Although illustration is omitted hereafter, one semiconductor pellet 3 is lifted from the bottom of the sheet 30 using a known push-up pin.
At the same time as pushing up the semiconductor pellet 32, the suction tool is lowered from above the sheet 30 to suction and hold the semiconductor pellet 32 pushed up, and then transferred to a predetermined position on the substrate.
Perform normal pellet bonding work to ensure fixation.

また、ウエハリング28の取りはずしは、爪1
0を外側に押し広げ、ウエハリング28を上方に
持ち上げることにより行なう。なお少なくとも1
個の爪10に第7図に示すような腕33を設けて
おけば、この腕33を倒すことでより簡単に行な
える。
Also, to remove the wafer ring 28, use the claw 1.
This is done by pushing the wafer ring 28 outward and lifting the wafer ring 28 upward. At least 1
If each claw 10 is provided with an arm 33 as shown in FIG. 7, this can be done more easily by folding down this arm 33.

以上説明した実施例では、ウエハリング28を
リングホルダ8に装着する段階で、シート30の
引き伸ばしが行えるため、シート30を引き伸ば
した後、そのままの状態でペレツト32をペレツ
トボンデイング装置に提供することが可能とな
り、工程の簡素化が図れる。また同様の理由か
ら、シートを引き伸ばした後にリングホルダに装
着する従来の装置に比べ、シート30上における
半導体ペレツト32の位置ずれを防止することが
可能となる。またシート30の引き伸ばし量は、
ボルト16の締め付け量を調整するだけで可変に
することができ、半導体ウエハ31、各ペレツト
32に応じた最適な引き伸ばし量、つまり各ペレ
ツト間に最適な間隙量を得ることができる。さら
にウエハリング28をリングホルダ8に装着完了
後、半導体ペレツト32の基台1に対するθ方向
の位置は、ナツト26、ボルト25をゆるめ、保
持台5をブラケツト2に対して回動させることに
より、また半導体ペレツト32上面の基台1から
の上下位置は、ボルト4をゆるめ、ブラケツト2
を基台1に対して上下動させることにより、それ
ぞれ調整することができる。
In the embodiment described above, the sheet 30 can be stretched at the stage of attaching the wafer ring 28 to the ring holder 8. Therefore, after stretching the sheet 30, the pellets 32 can be provided to the pellet bonding apparatus in that state. This makes it possible to simplify the process. Furthermore, for the same reason, it is possible to prevent the semiconductor pellet 32 from shifting on the sheet 30, compared to the conventional device in which the sheet is stretched and then attached to a ring holder. Also, the amount of stretching of the sheet 30 is
The amount of tightening of the bolt 16 can be varied simply by adjusting the amount of tightening, and the optimum amount of stretching for the semiconductor wafer 31 and each pellet 32, that is, the optimum amount of gap between each pellet, can be obtained. Furthermore, after the wafer ring 28 has been attached to the ring holder 8, the position of the semiconductor pellet 32 in the θ direction with respect to the base 1 can be adjusted by loosening the nuts 26 and bolts 25 and rotating the holding base 5 with respect to the bracket 2. Also, the vertical position of the top surface of the semiconductor pellet 32 from the base 1 can be determined by loosening the bolt 4 and adjusting the bracket 2.
By moving up and down with respect to the base 1, each can be adjusted.

(発明の効果) 以上本発明によれば、半導体ウエハの貼着され
た可撓性シートを引き伸ばした後、そのままの状
態で、半導体ペレツトをペレツトボンデイング装
置に提供することができ、工程の簡素化が図れ
る。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, after stretching a flexible sheet to which a semiconductor wafer is attached, semiconductor pellets can be provided to a pellet bonding apparatus in that state, which simplifies the process. can be achieved.

また各半導体ペレツト間の間隙量の調整、設定
も容易に行なえる。
Further, the amount of gap between each semiconductor pellet can be easily adjusted and set.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例であるウエハリング
保持装置の平面図、第2図はその右正面の一部断
面図、第3図はウエハリングのチヤツク機構の詳
細図で、同図aは正面図、bは偏心ピンの拡大
図、cは爪の右側面図、第4図はリングホルダの
保持台への装着位置の調整機構を示す詳細図、第
5図はピンの詳細図、第6図はウエハリングの一
例を示す図で、同図aは平面図、bは側面図、第
7図は爪の他の実施例を示す正面図を各々示して
いる。 1……基台、2……ブラケツト、5……保持
台、6……嵌合部(環状部)、8……リングホル
ダ、10……爪(保持爪)、11……偏心ピン、
15,19……圧縮ばね、16……ボルト(調整
機構)、23……ゴムリング、24……V字状溝、
28……ウエハリング、30……可撓性シート、
31……半導体ウエハ、32……半導体ペレツ
ト。
Fig. 1 is a plan view of a wafer ring holding device which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a partial sectional view of the right front side thereof, and Fig. 3 is a detailed view of the chuck mechanism of the wafer ring. is a front view, b is an enlarged view of the eccentric pin, c is a right side view of the claw, Fig. 4 is a detailed view showing the adjustment mechanism for the mounting position of the ring holder on the holding base, Fig. 5 is a detailed view of the pin, FIG. 6 is a diagram showing an example of a wafer ring, in which FIG. 6A shows a plan view, FIG. 6B shows a side view, and FIG. 7 shows a front view showing another embodiment of the claw. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Base, 2... Bracket, 5... Holding stand, 6... Fitting part (annular part), 8... Ring holder, 10... Claw (holding claw), 11... Eccentric pin,
15, 19... Compression spring, 16... Bolt (adjustment mechanism), 23... Rubber ring, 24... V-shaped groove,
28...Wafer ring, 30...Flexible sheet,
31...Semiconductor wafer, 32...Semiconductor pellet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基台と、この基台に水平に保持され上部に環
状部を有する保持台と、この保持台の前記環状部
の外周に装着されるリングホルダと、このリング
ホルダと前記保持台間に設けられ前記リングホル
ダの前記保持台への装着位置を調整可能とする調
整機構とからなり、前記リングホルダには、ウエ
ハ切断後の半導体ペレツトが貼着された可撓性シ
ートの外周部位を保持するウエハリングを前記保
持台の環状部上面に対し略直角方向に移動させた
時に、前記ウエハリングをその移動後の位置で保
持する保持爪を有してなることを特徴とするペレ
ツトボンデイング装置におけるウエハリング保持
装置。 2 保持台は基台に対し、水平面内にて回動調整
自在にかつ調整位置にて固定されるようにしたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のペレ
ツトボンデイング装置におけるウエハリング保持
装置。 3 保持台は基台にブラケツトを介して保持さ
れ、前記ブラケツトは前記基台に対し、その取り
付け位置を鉛直方向に調整可能としたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の
ペレツトボンデイング装置におけるウエハリング
保持装置。
[Scope of Claims] 1. A base, a holding stand that is held horizontally on the base and has an annular portion at the top, a ring holder attached to the outer periphery of the annular portion of the holding stand, and a ring holder that is attached to the outer periphery of the annular portion of the holding stand. The adjustment mechanism is provided between the holding stands and is configured to adjust the attachment position of the ring holder to the holding stand, and the ring holder is provided with a flexible sheet to which a semiconductor pellet after cutting the wafer is attached. When the wafer ring that holds the outer peripheral portion of the wafer ring is moved in a direction substantially perpendicular to the upper surface of the annular portion of the holding stand, the wafer ring is provided with a holding claw that holds the wafer ring at the position after the movement. Wafer ring holding device in pellet bonding equipment. 2. A wafer ring in a pellet bonding apparatus according to claim 1, wherein the holding table is rotatably adjustable in a horizontal plane with respect to the base and fixed at an adjusted position. holding device. 3. Claims 1 or 2, characterized in that the holding stand is held by a base via a bracket, and the bracket is capable of vertically adjusting its attachment position with respect to the base. A wafer ring holding device in the pellet bonding apparatus described above.
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