JPH0232682B2

JPH0232682B2 - Jikihetsudo

Info

Publication number: JPH0232682B2
Application number: JP3424382A
Authority: JP
Inventors: Atsunori Hayakawa
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1982-03-04
Filing date: 1982-03-04
Publication date: 1990-07-23
Anticipated expiration: 2002-03-04
Also published as: JPS58153216A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、磁気ヘツド、特に垂直記録方法によ
る磁気ヘツドに係わる。

高密度磁気記録（短波長記録）を行う場合、磁
気テープに磁気ヘツドとの相対的移行方向に沿う
方向の磁化によつて記録するいわゆる長手記録方
法によるよりも、磁気テープの厚さ方向の磁化、
いわゆる垂直記録方法による方が有利であること
が知られている。これは長手記録方法では記録信
号が短波長になるほど自己減磁界が大きくなるに
比し、垂直記録方法では磁性層内の自己減磁界が
小さくなる性質をもつことに因る。

この垂直記録方法に用いられる磁気ヘツドとし
ては、種々のものが提案されているが、この垂直
記録方法において、その記録（磁化）を理想的に
行うためには、磁気ヘツドから出る磁界の主成分
が磁気媒体にできるだけ垂直になつている必要が
ある。このような磁気ヘツドｈとしては、第１図
に示すように、磁気記録媒体１を挾んで対向する
ように、例えばパーマロイ薄膜より成る主磁極２
と補助磁極３とを有し、この補助磁極３にコイル
４が巻装された補助磁極励磁型磁気ヘツドがあ
る。

しかしながら、この場合、媒体１の背後に、媒
体１に接近して補助磁極３を置く必要があること
から、実際の組立や、磁気媒体の装着などの取扱
い操作が繁雑となる欠点がある。

このような欠点を回避するために、第２図に示
すように、磁気媒体１として非磁性ベース５上に
高透磁率材層６によつて裏打ちされた磁性層７を
設けて構造のものを用い、磁気ヘツドとして主磁
極２の一方の面或いは両方の面に高透磁率の補助
コア８を主磁極２の先端、すなわち磁気媒体との
摺接面より後退させた位置に配置させ、コイル４
を補助コア８上に巻装して成る主磁極型単磁気ヘ
ツドｈを配置してその記録を行うようにしたもの
がある。

しかし、この種磁気ヘツドｈは開磁路構成であ
るため一般にはリング型磁気ヘツドに比較して記
録効率が低い。この記録効率を向上させることは
非常に重要なことであり、また高周波で使用する
ことを考えると、駆動を容易にするためにコイル
のインピーダンスを低くすることが望ましい。

この種磁気ヘツドｈとして第３図に示す如く主
磁極２とコイル４の中心までの距離をａ、主磁極
２の長さをｂとし、ａ／ｂ１〜1.5とすると、
実験的にも、理論的にも最も記録効率が良いこと
が究明されている。またコイル４は補助コア８の
できるだけ先端に巻装し、さらに巻径を小さくす
ると記録効率を上げ、コイル４のインピーダンス
が下げられることは自明である。問題はこのよう
な磁気ヘツドをいかりして実現するかという点に
ある。

この第３図に示す如き磁気ヘツドにおいては、
記録効率を上げるために主磁極２とコイル４の中
心までの距離ａを小さくするとコアが細くなるた
め機械的強度が問題になり、実際上限度がある。
そのため第４図に示す如く主磁極２を挾持する補
助コア８，８′の外面側に巻線用窓孔９，９′を形
成した非磁性保護体１０，１０′を配置してなる
磁気ヘツドが考案されている。この磁気ヘツドは
第５図に示す工程により製作される。先ず、巻線
用窓孔９を形成する凹部１１ａと、一方の補助コ
ア８が接合される接着面１１ｂを形成した一方の
保護体１０となる非磁性体ブロツク１１に、一方
の補助コア８となるフエライト等の磁性板状ブロ
ツク１２を、凹部１１ａの先端部内面から接着面
１１ｂにかけてガラス接着剤１３により接着す
る。次に非磁性体ブロツク１１の凹部１１ａの先
端部外側面から磁性板状ブロツク１２の側面にか
けて、磁性板状ブロツク１２が所要の厚みになる
ように鏡面研磨して一方の複合ブロツク１４を形
成し、この鏡面加工面１４ａに主磁極膜２を付着
する。そして主磁極膜２の他側面側に上述の非磁
性体ブロツク１１と磁性板状ブロツク１２との複
合ブロツク１４と同様の方法で製作した他方の複
合ブロツク１４′を接合する。しかる後この接合
体を所定のトラツク幅になるように主磁性膜２に
関して切断し、ヘツド取付け用ベース（図示せ
ず）に接着して磁気媒体との摺動面を研磨し、凹
部１１ａ，１１a′から成る巻線用窓孔９，９′に
コイル４を巻線することによつて第４図に示す磁
気ヘツドが得られる。

このように磁気ヘツドを構成することによりコ
イル４の巻線部分を細くしても、両側の非磁性保
護体１０，１０′によつて支えられるため機械的
強度を保つことができ、従つて補助コア８，８′
を肉薄にすることができる。

しかし、このような構成の磁気ヘツドでは非磁
性体ブロツク１１，１１′と磁性板状ブロツク１
２，１２′による複合ブロツク１４，１４′の製作
過程で次のような問題がある。

(1) 非磁性体ブロツク１１，１１′を加工する際、
巻線窓孔用凹部１１ａ，１１a′の加工精度、特
に巻線窓孔用凹部１１ａ，１１a′の先端部内面
ｐ，p′と磁性板状ブロツク１２，１２′の接合
面１１ｂ，１１b′とのなす角度の加工精度を上
げることが困難である。（第６図Ａ参照）。

(2) そのため磁性板状ブロツク１２，１２′を接
着すると非磁性体ブロツク１１，１１′の加工
精度が上げられない上、接着箇所が同一平面上
にないため、接着層を薄くすることは困難であ
る。（第６図Ｂ参照）。

(3) 接着層が厚くなるため、その中に気泡ｃが生
じ易く、また接着剤１３，１３′はガラスを用
いても一般フエライト等と比較すると軟質で鏡
面研磨において凹みｄが生じ、特に接着層が広
くなれば、当然凹みｄは大きく深くなる。（第
７図参照）。

(4) この上に主磁極となる磁性薄膜をスパツタ、
蒸着等の方法で付着すると気泡ｃ或いは凹みｄ
の部分において段切れが生じ、または切れない
までも磁性薄膜は薄くなり磁気特性が劣化す
る。

等の欠点がある。

そこで本発明はこれらの欠点を改善し、量産に
も向き、さらに記録再生効率も改善される垂直記
録ヘツドを提供するものである。

第８図以下を参照して本発明の実施例を説明す
るに、図中Ｈは本発明による磁気ヘツドを全体と
して示す。第８図は本発明による磁気ヘツドの第
１の実施例を示すものである。本例における磁気
ヘツドＨは軟質磁性材料薄膜層よりなる主磁極２
２を、一側面側に保護膜２３を接合して両側から
ガード材ブロツクを挾持するように接合し一体化
する。このガード材ブロツク２４，２４′は磁気
媒体の対接面から所要の位置まで延在する非磁性
材部２５，２５′とこの後方に接合される磁性材
部２６，２６′から形成され、磁性材部２６，２
６′には主磁極２２に接合されコイル４が巻装さ
れる補助磁極部２７，２７′と主磁極２２の磁束
のリターンパスとなるリターンパス部２８，２
８′を分割する溝部２９，２９′が形成されてお
り、この溝部２９，２９′を通して主磁極２２に
補助磁極部２７，２７′を介してコイル２４が巻
装されて構成されている。

この垂直記録磁気ヘツドの製作方法を第９図に
ついて説明する。

先ず、非磁性板状ブロツク３１と磁性材ブロツ
ク３２とを用意する。この非磁性板状ブロツク３
１としては非磁性フエライト（Znフエライト）、
フオルステライト、フオトセラム、結晶化ガラ
ス、チタンバリウム、チタン酸カリウム、Al₂O₃
−TiC系のセラミツクス等より構成し得、また磁
性材ブロツク３２はMn−Zn系、Ni−Zn系フエ
ライト等より構成し得るが、非磁性板状ブロツク
３１及び磁性材ブロツク３２はその熱膨張率が近
似することが望まれ、これがため非磁性板状ブロ
ツク３１及び磁性材ブロツク３２は夫々非磁性及
び磁性フエライトより構成することが望ましい。
この非磁性板状ブロツク３１及び磁性材ブロツク
３２の夫々の一面を鏡面研磨する。次に磁性材ブ
ロツク３２の鏡面研磨面３２ａに溝３３を所要間
隔で形成する。この状態で磁性材ブロツク３２の
鏡面研磨面３２ａに非磁性板状ブロツク３１の鏡
面研磨面３１ａを対向させて接合する。この接合
はガラス融着面或いはエポキシ接着剤、若しくは
無機系接着剤或いは水ガラス等の接着剤３４によ
つて行い得るが、ガラス融着が望ましく後の工程
で再びガラス融着することがあるので２度目の融
着で溶融しない程度に高温のガラスを用いる。次
に、鎖線m₁，m₂，m₃…に示す面に沿つて非磁性
板状ブロツク３１と磁性材ブロツク３２の接合体
３５を所要の厚さに非磁性板状ブロツク３１及び
磁性材ブロツク３２を横切るように切断して一方
のガード材ブロツク２４，２４′となる複数の複
合板状体３６を切出す。そして板状体３６の非磁
性板状ブロツク３１及び磁性材ブロツク３２に差
渡る一主面３６ａを鏡面仕上げする。この鏡面仕
上げにおいては記録再生の効率を上げるために前
述した主磁極２２の先端近くの補助磁極部２７の
厚さを前述の第３図において説明した如くａ／ｂ
１〜1.5程度にする必要があり、一方、分割溝
部２９の大きさはコイルを充分巻くため、あまり
小さくできないので分割溝部２９となる溝３３の
縁部が研磨時に割れ易くなる。そこで強度を確保
するため磁性材ブロツク３２の溝３３を台形に形
成し、補助磁極部２７が先細になるようになし、
さらに補助磁極部２７の下部に相当する底部の角
を丸くすることが望ましい。また、補助磁極部２
７の先端は薄くする必要があるので強度を保つた
め接着ガラスで覆つて補強する。このように補助
磁極部２７を先細に形成することにより記録再生
の効率は向上される。

このように形成した複合板状体３６の鏡面３６
ａに前述した主磁極２２を構成する例えば厚さ
0.5〜3μmのパーマロイ、センダスト、磁性アモ
ルフアス等よりなる磁性薄膜３７をスパツタ、蒸
着、イオンプレーテイング等で被着し、必要なト
ラツク幅及び間隔で主磁極２２が形成されるよう
にフオトエツチングする。次にこれの上に保護膜
２３を形成するSiO₂，Si₃N₄，Al₂O₃等の絶縁保
護膜３８をスパツタリング、蒸着、イオンプレー
テイング等で被着する。しかるのち前述した複合
板状体３６と同様の方法で製作した他方のガード
材ブロツク２４′となる複合板状体３６′を絶縁保
護膜３８側から接着する。この接着剤３９として
はガラス接着剤を用いることが信頼性向上という
意味からは望ましいが、水ガラス等の無機系の接
着剤、エポキシ樹脂等の有機接着剤を用いること
もできる。

また、この場合他方の複合板状体３６′の接合
面に予め主磁極２２となる磁性薄膜３７に対応す
る溝を例えばエツチングによつて形成し、この溝
内に接着剤を充填することによつて両複合板状体
３６及び３６′を接着することもできる。

そして鎖線n₁，n₂，…に示すように各帯状の磁
性薄膜２７に関して切断し、ヘツド取付け用ベー
ス（図示せず）に接着し先端面すなわち被磁性板
状ブロツク３１の表面側を研磨し、ここに磁気媒
体との摺接面Ｓを形成する。このようにすればこ
の磁気媒体との摺接面Ｓに臨んで磁性薄膜３７か
らなる主磁極２２が設けられ、この主磁極２２は
その先端部の両側には、非磁性材部２５，２５′
が配置され、その後方には磁性材部２６，２６′
が配置されることになり、この磁性材部２６，２
６′に補助磁極部２７，２７′と主磁極部２２の磁
束リターンパス部２８，２８′とを分割するため
に形成された溝２９，２９′にコイル４を巻線す
ることにより本発明による磁気ヘツドＨが得られ
る。

このように構成される本例の磁気ヘツドＨは第
１０図に示す如く、非磁性ベース５上に高透磁率
材層６によつて裏打ちされた磁性層７を設けた磁
気媒体１に対して主磁極２２の磁束φは磁性層
６，７を通して補助磁極部２７，２７′と分割さ
れるリターンパス部２８，２８′にリターンパス
されることになる。

そして次のような特徴を持つ。

(1) 非磁性材と磁性材からなる複合ブロツクを制
作するとき接合面が平面上にあるため、鏡面研
磨ができ、また加工精度が容易に上げられるの
で非常に薄くできる。さらに表面で接着するの
で接着作業も簡単であり、そのため従来の欠点
すなわち接着層に気泡が生じたり、凹みができ
る等の問題は起きず、また巻線用窓となる溝の
構造は簡単で１回の加工で容易に形成すること
ができる。

(2) また、前述の第４図及び第５図に示される構
造の磁気ヘツドでは複合ブロツクを１個１個接
着して制作しなければならないが本発明による
ときは１度接着して切断するだけで多数の複合
ブロツクを製作することができるので量産に適
する。

(3) 主磁極先端付近の補助磁極の形状を機械的強
度を増すため、また記録再生効率を向上させる
ために先細にするには前述の従来例では補助磁
極を構成するフエライトブロツクを１個１個先
細の形状に加工する必要があり、ブロツクの形
状が複雑になるだけ加工精度も上げにくく、さ
らに加工に手数を要するが、本発明によるとき
は溝を形成する研削に必要な形状の砥石を用い
るでけでよいので加工精度が向上すると共に簡
単に加工できる。

(4) また、本発明によれば補助磁極部は板状では
大きなブロツクに構成されている上、巻線窓孔
部の反対側の磁極部すなわち両側磁極部が記録
再生磁界のリターンパスになるため記録再生効
率は大幅に向上される。

(5) また、前述した従来の磁気ヘツドでは薄い磁
性材料に対して非磁性材料の接着範囲が広く、
しかも２面で接着するので熱膨張率は一致した
材料を用いないと磁性材料が割れるおそれがあ
るが、本発明によれば非磁性材料の部分は薄く
小さいので従つて接着長さも小さく磁性材料と
接着できる熱膨張率の範囲が従来の磁気ヘツド
ほど厳しくなくそれだけ材料の選択範囲が広く
なる。

次に第１１図について本発明の第２の実施例を
説明する。

本例は上述した第１の実施例において一半部の
ガード材ブロツクを非磁性材料のみにより構成し
たものである。すなわち本例による磁気ヘツド
は、軟性磁性材料薄膜層よりなる主磁極２２をそ
の一方面に絶縁保護膜２３を被着し、両側からガ
ード材ブロツクにより挾持して構成するもので、
一方のガード材ブロツク２４は磁気媒体対接面か
ら所要の位置まで延在する非磁性材部２５とこの
非磁性材部２５の後側に大きく接合される磁性材
部２６から成る複合体であつて非磁性材部２５と
磁性材部２６の接合界面には主磁極２２と磁気的
に接合されて所要の幅の補助磁極となる補助磁極
部２７と主磁極２２の磁束のリターンパスとなる
リターンパス部２８とを分割する溝部２９が形成
されている。また他半部のガード材ブロツク２
４′は、非磁性材部のみにより一方のガード材ブ
ロツク２４と同形状に形成され、すなわち、一方
のガード材ブロツク２４の非磁性材部２５及び磁
性材部２６と対応する非磁性材部２５′及び非磁
性材部２５″から構成され、両非磁性材部２５′，
２５″間に溝部２９と対応する溝部２９′が形成さ
れており、この溝部２９′と上述した溝部２９と
を通して主磁極にコイル４が巻装されて垂直記録
用磁気ヘツドが構成される。

この本例の磁気ヘツドの製作工程を第１２図に
ついて説明する。

まず、非磁性体ブロツク４１と非磁性材板状ブ
ロツク４２を用意し、夫々の一面４１ａ及び４２
ａを鏡面研磨する。次に非磁性材ブロツク４１の
鏡面４１ａに分割溝部２９′となる溝４３を形成
する。そして非磁性体ブロツク４１と非磁性材板
状ブロツク４２とを鏡面４１ａと４２ａとを対向
して接合し接合体を形成する。この場合非磁性体
ブロツク４１と非磁性材板状ブロツク４２との接
合は、ガラス融着が望ましい。この様に形成した
接合体を所要の厚さに両ブロツク４１，４２を横
切るように切断してガード材ブロツク２４′とな
る複数の板状体４４を切り出す。そしてこの板状
体４４の一方の面、すなわち溝４３の前側の面４
４ａを鏡面仕上げし、この面４４ａに最終的に前
述した主磁極２２を構成する例えば厚さ0.5〜
3μmのアーマロイ、センダスト、磁性アモルハス
等よりなる磁性薄膜４５をスパツタリング、蒸
着、イオンプレーテイング等によつて被着する。
この磁性薄膜４５を必要なトラツク幅及び間隔で
主磁極膜２２が形成される様に、例えばフオトエ
ツチングによつて平行を成す帯状に残して除去す
る。次にこの帯状磁性薄膜４５の上から非磁性板
状体４４の一主面４４ａにSiO₂，Si₃N₄，Al₂O₃
等の絶縁保護膜４６を被着する。

一方第９図に示す第１の実施例で説明したと同
様の複合板状体すなわち非磁性板状ブロツク４７
と溝部２９となる溝４８を形成した磁性材ブロツ
ク４９とを接合してその一主面を補助磁極部２７
が所要の厚さになるように鏡面研磨して、複合板
状体５０を形成し、この複合板状体５０を前述し
た非磁性板状体４４の一主面４４ａ側すなわち磁
性薄膜４５の上に被着した絶縁保護膜４６側に接
着する。この場合の接着はガラス融着することが
信頼性向上という意味からは望ましいが、他の接
着剤を用いることも出来る。そしてこの接合体を
各帯状の磁性薄膜４５に関して切断し、その先端
面すなわち非磁性材板状部４２，４７側の表面を
研磨し、ここに磁気媒体との摺接面を形成する。
しかる後、両ガード材ブロツク２４，２４′とな
る両板状体５０，４４の溝４３，４８すなわち分
割溝部２９，２９′にコイル４を巻装することに
より第１１図に示す磁気ヘツドＨが構成される。

この様に構成した第２の実施例の磁気ヘツドに
おいても前述した第１の実施例の磁気ヘツドと略
同程度の性能を得ることができる。また本例の磁
気ヘツドにおいては主磁極２２となる磁性薄膜４
５は、同じ非磁性材料によつて形成される非磁性
ガード材ブロツク２４′に被着するので、この磁
性薄膜４５に段切れが生じることはない。すなわ
ち非磁性ガード材ブロツクは、分割溝部２９′と
なる溝４３を設けたブロツク部分４１とこれに接
合する板状ブロツク部分４２は同じ非磁性材料に
より形成するので磁性薄膜４５を被着する面の鏡
面研磨の際段差がほとんど生じることがなく両部
分４１，４２にわたつて略完全な鏡面が形成され
るためである。また非磁性板状体４４の磁性薄膜
被着面側に接合する複合板状体５０の磁性ブロツ
ク部４９と非磁性板状部４７との間に硬度差によ
り段差が生じている場合は、接着層が広くなるこ
とになるがガラス融着等信頼性のある接着方法を
用いれば接着層が少し広いことによる記録再生特
性の劣化は防ぐことができる。

第１３図及び第１４図は本発明の第３の実施例
を示すもので本例による磁気ヘツドは、補助磁極
の幅をヘツドの厚みに関係なく主磁極幅と略同程
度に形成し、コイルのインピーダンスを下げて高
周波駆動が容易に行えるようにしたものである。
すなわち本例による磁気ヘツドは、軟質磁性材料
薄膜よりなる主磁極２２の一方の面に保護膜２３
を接合しこの主磁極２２を両側から挾持するガー
ド材ブロツク２４，２４′を磁気媒体対接面から
所要の位置まで延在する非磁性材部２５，２５′
と磁性材部２６，２６′との複合体により形成し
非磁性部材２５，２５′と磁性部材２６，２６′の
接合界面には主磁極２２と磁気的に接合されて所
要の幅の補助磁極となる補助磁極部２７，２７′
と主磁極２２の磁束のリターンパスとなるリター
ンパス部２８，２８′とを分割する溝部２９，２
９′が形成され、更に補助磁極部２７，２７′及び
リターンパス部２８，２８′は主磁極２２の幅に
応じて磁性部材２６，２６′が非磁性材料３０，
３０′で置き換えられ、また溝部２９，２９′を通
して主磁極２２にコイル４が巻装されて垂直記録
用磁気ヘツドが構成されている。

次に本例の垂直記録用磁気ヘツドの製造方法を
第１５図について説明する。

まず例えばMn−Sn系フエライト或るいはNi−
Zn系フエライト等よりなる磁性体ブロツク５１
と例えばガラスセラミツクス、非磁性のMn系フ
エライト等より構成される非磁性板状体５２を用
意し、磁性体ブロツク５１の一主面５１ａに後述
する切断間隔に一致するようにコ字状または台形
状の溝５３を形成しこの溝５３にガラス等の非磁
性材料５４を充填する。その後磁性体ブロツク５
１の主面５１ａを非磁性材５４の表面と共に鏡面
研磨する。この鏡面研磨においては非磁性材５４
を充填した溝５３の深さは前述した補助磁極部２
７とリターンパス部２８との分割溝部２９の深さ
よりやや浅くなることが望ましい。また鏡面研磨
面５１ａにおける磁性体５１の表出幅はトラツク
幅に一致するか少し広くなる程度に溝５３の幅を
設定する。

尚この溝５３を形成する際、磁性体５１の縁部
に割れが生じないように注意する必要があり割れ
が生じる虞れがある場合はそれが生じない範囲で
溝幅を狭くする必要がある。

次に磁性体ブロツク５１の主面５１ａに非磁性
材５４を充填した溝５３と直角方向に前述の分割
溝部２９となる溝５５を所要間隔で形成する。そ
してこの主面５１ａに非磁性板状体５２をその主
面５２ａを鏡面研磨して接合する。この非磁性板
状体５２の接合は溝５３に充填した非磁性材５４
としてのガラスが溶融しない程度の高温のガラス
により融着することが望ましく、また他に水ガラ
ス等の無機系接着剤エポキシ樹脂等の有機接着剤
を用いることもできる。

この様にして磁性体ブロツク５１と非磁性板状
体５２とを接合した後、鎖線m₁，m₂，m₃，…に
示す面にそつて切断して一方のガード材ブロツク
２４となる複数の複合板状体５６を切り出す。次
にこの複合板状体５６の磁性体ブロツク５１′か
ら非磁性板状体５２′に差し渡る主磁極形成面５
６ａを鏡面研磨した後、この面に最終的に前述し
た主磁極２２を構成する例えば厚さ0.5〜3μmの
アーマロイ、センダスト、磁性アモルハス等より
なる磁性薄膜５７をスパツタリング、蒸着、イオ
ンプレーテイング等の方法によつて被着する。次
に磁性薄膜５７を例えばフオトエツチングによつ
て所定のトラツク幅と間隔をもつて、平衡をなす
帯状に残して除去する。この場合帯状の磁性薄膜
５７は磁性体ブロツク５１の非磁性材５４を充填
した溝５３の間、すなわち補助磁極部上に位置す
る様に被着形成する。更に帯状磁性薄膜５７の上
から複合板状体５６の主面５６ａに保護膜２３と
なるSiO₂，Si₃N₄，Al₂O₃等の絶縁保護膜層５８
を被着する。そこで複合板状体５６と同様に形成
した他方のガード材ブロツク２４′となる複合板
状体５６′を用意し、その一主面５６a′を鏡面研
磨して一方の複合板状体５６の主面５６ａ側に絶
縁保護膜５８を介して接着する。この場合他方の
複合板状体５６′の補助磁極部は一方の複合板状
体５６の補助磁極部と対向させ帯状磁性薄膜５７
を挾持する様に接着する。そして鎖線n₁，n₂，
n₃，…に示す様に各帯状磁性薄膜５７に関して切
断しその先端面を研磨しここに磁気媒体との摺接
面を構成する。この様にすれば磁気媒体との摺接
面に臨んで主磁極２２が設けられこの主磁極２２
の先端部の両側には非磁性材部２５，２５′が配
置され、その後方に主磁極の巾に応じ、非磁性材
部３０，３０′により保持された補助磁極部２７，
２７′と磁束リターン部２８，２８′を有する磁性
材部２６，２６′が配置された第１３図に示す本
例の磁気ヘツドＨが得られる。

このように本例の磁気ヘツドは補助磁極部巾を
主磁極巾と略等しく形成し、この補助磁極部を非
磁性部材により保持して構成するので、補助磁極
部がヘツドの厚さに対して巾狭であつても機械的
強度は充分に確保され、また補助磁極部は主磁極
と略同巾で巾狭であるため、補助磁極部に巻装さ
れるコイルのインピーダンスはコイル中のコアの
断面積に略比例するので低下されることになり高
周波駆動を容易にすることができると共に、従来
と同等のインピーダンスまで許されるとすればそ
れだけコイルを多く巻装することができ記録再生
感度を上げることが可能となる。特に本例による
磁気ヘツドはトラツク巾の狭い狭トラツクヘツド
に適する。

以上の様に本発明による磁気ヘツドによれば主
磁極は磁気媒体対接面を構成する非磁性材部と補
助磁極部を構成する磁性材部とにより形成される
ガード材ブロツクにより両側から挾持されるの
で、機械的強度を充分確保できると共に、磁性材
部は主磁極に対応しコイルを巻装する補助磁極部
と主磁極の磁束のリターンパスとなるリターンパ
ス部が分割形成されているので記録再生効率が大
幅に向上される。尚、本発明による磁気ヘツドは
複数の主磁極が配置された多素子磁気ヘツドに適
用しても同様の効果を奏せしめることは明らかで
あろう。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は垂直記録型磁気ヘツドの構
成図、第３図は第２図の一部分を拡大した構成
図、第４図は従来の垂直記録型磁気ヘツド、第５
図は同、磁気ヘツドの製法の工程図、第６図Ａは
同、磁気ヘツドの製作工程における非磁性体ブロ
ツクと磁性板状ブロツクの接合状態の正面図、第
６図Ｂは同図Ａの一部分を拡大した正面図、第７
図は同、斜視図、第８図Ａは本発明による磁気ヘ
ツドの一例の正面図、第８図Ｂは同図Ａの一部分
の拡大斜視図、第９図は同、磁気ヘツドの製法の
工程図、第１０図は同、磁気ヘツドの動作状態の
一部省略した正面図、第１１図Ａは本発明による
磁気ヘツドの他例の正面図、第１１図Ｂは同図Ａ
の一部分の拡大斜視図、第１２図は同、磁気ヘツ
ドの製法の工程図、第１３図は本発明による磁気
ヘツドの更に他例の正面図、第１４図は同、磁気
ヘツドの非磁性材部を省略した要部の斜視図、第
１５図は同、磁気ヘツドの製法の工程図である。図中２２は主磁極、２３は保護膜、２４，２
４′はガード材ブロツク、２５，２５′は非磁性材
部、２６，２６′は磁性材部、２７，２７′は補助
磁極部、２８，２８′はリターンパス部、２９，
２９′は溝部、４はコイルである。

Claims

【特許請求の範囲】

１軟質磁性材料薄層よりなる主磁極と上記主磁
極を両側から挾持する様に接合一体化されたガー
ド材ブロツク対よりなり、上記ガード材ブロツク
のそれぞれは磁気媒体対接面から所要の位置まで
延在する非磁性材部と磁性材部が複合されてな
り、該非磁性材部と磁性材部の接合界面には上記
主磁極と磁気的に接合されて所要の巾の補助磁極
となる補助磁極部と主磁極の磁束のリターンパス
となるリターンパス部とを分割する溝部が形成さ
れてなり、該溝部を通して、主磁極に巻線が施さ
れた垂直記録用磁気ヘツド。