JPH0237982B2 - - Google Patents
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- JPH0237982B2 JPH0237982B2 JP57214760A JP21476082A JPH0237982B2 JP H0237982 B2 JPH0237982 B2 JP H0237982B2 JP 57214760 A JP57214760 A JP 57214760A JP 21476082 A JP21476082 A JP 21476082A JP H0237982 B2 JPH0237982 B2 JP H0237982B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light guide
- substrate
- leakage
- coating
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N21/552—Attenuated total reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/86—Investigating moving sheets
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基体の表面における被覆の存在あるい
は不在を検知する方法およびその装置に関する。
さらに詳細に言えば、光の内部への全反射を達成
不可能にするという原理を利用して、たとえば、
紙、布、ポリマー・フイルムあるいは同様のシー
ト状材料上に被覆を作る工程の効率を評価するこ
とを指向する被覆の存在あるいは不在を検知する
方法およびその装置に関する。
は不在を検知する方法およびその装置に関する。
さらに詳細に言えば、光の内部への全反射を達成
不可能にするという原理を利用して、たとえば、
紙、布、ポリマー・フイルムあるいは同様のシー
ト状材料上に被覆を作る工程の効率を評価するこ
とを指向する被覆の存在あるいは不在を検知する
方法およびその装置に関する。
光の内部への全反射という現象は光学の分野に
おいて従来より知られている。簡潔に言えば、こ
の現象は、相対的に大きい屈折率を有しており、
かつ、相対的に小さい屈折率を有する第2の媒質
に囲まれる縦方向に延びる第1の媒質の第1の端
面上に光線が向けられるときに、この光線は両媒
質間の縦方向の界面を通過することなく、第1の
媒質中に反射されてかえるという事実が観察され
ることである。究極的には内部への全反射を繰り
返えして、光線は縦方向に沿つて第1の媒質を通
過し、第1の端面から遠い端面から出る。換言す
れば、光線は第1の媒質内において本質的に完全
に捕えられ、縦方向の界面に沿つて第1の媒質か
ら逃れ出ることはない。一方、内面への全反射の
過程において、電磁場が媒体との界面に垂直な方
向に、極めて微弱な非伝播性な場としてもれ出て
いく(escape)ことが知られている。その振幅
は第2の媒質中に対して急速に界面からの距離と
共に指数的に減衰する。この原理はアメリカ合衆
国、ニユーヨーク州、OssingのHarwick
Scientific Corporotion1979年刊行のN.J.
Harwick著「“Internal Reflection
Spectroscopy”」中に記載され、かつ応用されて
いる。
おいて従来より知られている。簡潔に言えば、こ
の現象は、相対的に大きい屈折率を有しており、
かつ、相対的に小さい屈折率を有する第2の媒質
に囲まれる縦方向に延びる第1の媒質の第1の端
面上に光線が向けられるときに、この光線は両媒
質間の縦方向の界面を通過することなく、第1の
媒質中に反射されてかえるという事実が観察され
ることである。究極的には内部への全反射を繰り
返えして、光線は縦方向に沿つて第1の媒質を通
過し、第1の端面から遠い端面から出る。換言す
れば、光線は第1の媒質内において本質的に完全
に捕えられ、縦方向の界面に沿つて第1の媒質か
ら逃れ出ることはない。一方、内面への全反射の
過程において、電磁場が媒体との界面に垂直な方
向に、極めて微弱な非伝播性な場としてもれ出て
いく(escape)ことが知られている。その振幅
は第2の媒質中に対して急速に界面からの距離と
共に指数的に減衰する。この原理はアメリカ合衆
国、ニユーヨーク州、OssingのHarwick
Scientific Corporotion1979年刊行のN.J.
Harwick著「“Internal Reflection
Spectroscopy”」中に記載され、かつ応用されて
いる。
上記の文献にあつては、内部への全反射を達成
不可能にするという原理が、たとえば、無インク
指絞装置のような各種の応用に使用されることが
示唆されてきている。
不可能にするという原理が、たとえば、無インク
指絞装置のような各種の応用に使用されることが
示唆されてきている。
内部への全反射を達成不可能にするという上記
の現象は、たとえば、紙、フイルム、布あるいは
その類のようなシート材料上における薄い被膜の
存在あるいは不在を決定しかつ監視するために使
用されうることが発見されている。この方法およ
びこの方法を行う装置は、被覆あるいはこの被覆
を適用されるべき基体のもつ反射性質に本質的に
無関係に利用されうることが発見されている。
の現象は、たとえば、紙、フイルム、布あるいは
その類のようなシート材料上における薄い被膜の
存在あるいは不在を決定しかつ監視するために使
用されうることが発見されている。この方法およ
びこの方法を行う装置は、被覆あるいはこの被覆
を適用されるべき基体のもつ反射性質に本質的に
無関係に利用されうることが発見されている。
本発明の方法に従えば、監視されるべき被覆を
支える基体の表面が一つの導光体(light guide)
に光学的に接触して置かれる。ここにいう術語
「導光体」とは本質的に内方への全反射を行う性
質をもつ一つの媒質を表わすものと意味付けられ
る。換言すれば、このような導光体は第1端面お
よび第2端面および縦方向の界面により周囲の媒
質に結合された一つの縦方向に延びる媒質から成
る。一つの光線が上記の導光体の第1の端面上に
向けられてこの光線が縦方向の界面を導光体とこ
れを囲む媒質との間において斜方向に当たる時
は、この光線は本質的に全反射されて縦方向の界
面について入射角に本質的に等しい反射角で導光
体内に戻る。定説に従えば、ある電磁界は縦方向
の界面における入射点において導光体を離れ、こ
の離れた磁界は媒質の界面に対し垂直で消え易い
非伝播性の波形を有し、界面からの距離の指数関
数に従つて振幅が急速に減衰する。
支える基体の表面が一つの導光体(light guide)
に光学的に接触して置かれる。ここにいう術語
「導光体」とは本質的に内方への全反射を行う性
質をもつ一つの媒質を表わすものと意味付けられ
る。換言すれば、このような導光体は第1端面お
よび第2端面および縦方向の界面により周囲の媒
質に結合された一つの縦方向に延びる媒質から成
る。一つの光線が上記の導光体の第1の端面上に
向けられてこの光線が縦方向の界面を導光体とこ
れを囲む媒質との間において斜方向に当たる時
は、この光線は本質的に全反射されて縦方向の界
面について入射角に本質的に等しい反射角で導光
体内に戻る。定説に従えば、ある電磁界は縦方向
の界面における入射点において導光体を離れ、こ
の離れた磁界は媒質の界面に対し垂直で消え易い
非伝播性の波形を有し、界面からの距離の指数関
数に従つて振幅が急速に減衰する。
導光体内へ反射して戻る光エネルギーの反射が
全体に近ずく割合は、諸種の要因のなかで縦方向
の界面を囲む媒質の屈折率に対する導光体の媒質
の屈折率の相対的の値の関数であることがとりわ
け大きい。たとえば、周囲の空気の屈折率に比し
大きい屈折率を有する一つのガラス棒は内面への
全反射の大きい割合を示す。一方、たとえば、被
覆紙のような周囲の媒質をガラス棒に対し圧しつ
けることにより、全反射は無効になり光は周囲の
媒質に漏れそこで散乱し、伝導しあるいは吸収さ
れる。ここに使用される術語「光学的接触(面)」
は、単位の屈折率(1)をもつ空気のような小さい反
射率の媒質に接触する導光体によつて表わされる
内部への全反射の割合に対比的に、導光体の内部
への全反射に影響を与えて、その程度を測定し得
るような密接な接触に、たとえば一つの基体の被
覆表面のようなある与えられた屈折率をもつ媒質
と一つの導光体の表面を一体にすることを表わす
ものと意味付けられる。
全体に近ずく割合は、諸種の要因のなかで縦方向
の界面を囲む媒質の屈折率に対する導光体の媒質
の屈折率の相対的の値の関数であることがとりわ
け大きい。たとえば、周囲の空気の屈折率に比し
大きい屈折率を有する一つのガラス棒は内面への
全反射の大きい割合を示す。一方、たとえば、被
覆紙のような周囲の媒質をガラス棒に対し圧しつ
けることにより、全反射は無効になり光は周囲の
媒質に漏れそこで散乱し、伝導しあるいは吸収さ
れる。ここに使用される術語「光学的接触(面)」
は、単位の屈折率(1)をもつ空気のような小さい反
射率の媒質に接触する導光体によつて表わされる
内部への全反射の割合に対比的に、導光体の内部
への全反射に影響を与えて、その程度を測定し得
るような密接な接触に、たとえば一つの基体の被
覆表面のようなある与えられた屈折率をもつ媒質
と一つの導光体の表面を一体にすることを表わす
ものと意味付けられる。
本発明の方法に従えば、一つの被覆表面が一つ
の導光体と光学的接触を行うようにもたらされ、
導光体から漏れ、かつ接触する媒質中に散乱する
光の量が測定される。導光体と被覆との間にある
界面の縦方向の長さに沿つて被覆中にギヤツプが
あれば、このギヤツプにより被覆部分に対比して
ギヤツプ部分において導光体から漏える光量はよ
り少なくなるという結果を生じ、したがつてギヤ
ツプの存在が検知可能となる。
の導光体と光学的接触を行うようにもたらされ、
導光体から漏れ、かつ接触する媒質中に散乱する
光の量が測定される。導光体と被覆との間にある
界面の縦方向の長さに沿つて被覆中にギヤツプが
あれば、このギヤツプにより被覆部分に対比して
ギヤツプ部分において導光体から漏える光量はよ
り少なくなるという結果を生じ、したがつてギヤ
ツプの存在が検知可能となる。
本発明の方法を実施するために設けられる装置
は、一つの縦方向の界面と第1端面および第2端
面とを有する一つの導光体から成る。一つの光源
が第1端面上に一つの光線を導くように設けられ
る。一つの被覆された基体を導光体の縦方向の界
面に光学的に接触させるための手段が設けられ、
また、縦方向界面から被覆へ漏れて、散乱、伝導
しあるいは吸収される光を測定するための漏光検
知手段が設けられる。
は、一つの縦方向の界面と第1端面および第2端
面とを有する一つの導光体から成る。一つの光源
が第1端面上に一つの光線を導くように設けられ
る。一つの被覆された基体を導光体の縦方向の界
面に光学的に接触させるための手段が設けられ、
また、縦方向界面から被覆へ漏れて、散乱、伝導
しあるいは吸収される光を測定するための漏光検
知手段が設けられる。
ある特定の実施例にあつては、縦方向の界面に
沿い複数の漏光検知手段が設けられて、この検知
手段により検知される相対的の光量によつて被覆
領域および非被覆領域が監視されうる。さらに詳
細に言えば、上記の検知手段は、検知した光の強
さに比例する一つの電気信号を発生することので
きるフオトダイオードのような複数の光検知器か
ら成り、この電気信号は増幅されて被覆中に一つ
のギヤツプが存在するか否かを信号する装置を作
動するのに利用される。
沿い複数の漏光検知手段が設けられて、この検知
手段により検知される相対的の光量によつて被覆
領域および非被覆領域が監視されうる。さらに詳
細に言えば、上記の検知手段は、検知した光の強
さに比例する一つの電気信号を発生することので
きるフオトダイオードのような複数の光検知器か
ら成り、この電気信号は増幅されて被覆中に一つ
のギヤツプが存在するか否かを信号する装置を作
動するのに利用される。
第1図には、基体上の被覆中にあるギヤツプを
検知するために本発明の方法を利用する装置の縦
方向の断面の誇張して拡大された概略図が示され
る。基体10は被覆が適用されるいかなる種類の
シート材料でもよく、点、線、小片などのような
特定の領域において、あるいは、シート材料の全
幅に亘るものにおいて適用されていてもよい。こ
のような基体には、たとえば、紙、布あるいはフ
イルムであつて、これらの基体上に各種の油噴霧
によるもの、圧着によるもの、接着によるもの、
積層化によるもの等の被覆が適用されたものが含
まれる。説明を簡単にするために、第1図の被覆
12は基体10の表面14に均等に適用されるも
のとして選ばれているが、本発明の教示するとこ
ろは、各種の所定のパターンに適用された被覆を
監視するためにも容易に適用できることは理解さ
れる。
検知するために本発明の方法を利用する装置の縦
方向の断面の誇張して拡大された概略図が示され
る。基体10は被覆が適用されるいかなる種類の
シート材料でもよく、点、線、小片などのような
特定の領域において、あるいは、シート材料の全
幅に亘るものにおいて適用されていてもよい。こ
のような基体には、たとえば、紙、布あるいはフ
イルムであつて、これらの基体上に各種の油噴霧
によるもの、圧着によるもの、接着によるもの、
積層化によるもの等の被覆が適用されたものが含
まれる。説明を簡単にするために、第1図の被覆
12は基体10の表面14に均等に適用されるも
のとして選ばれているが、本発明の教示するとこ
ろは、各種の所定のパターンに適用された被覆を
監視するためにも容易に適用できることは理解さ
れる。
第1図に示される装置の目的は被覆12中にギ
ヤツプ16として示すようなギヤツプが存在する
ことを検知することにある。この目的達成のため
に、被覆された基体10は一つの導光体18に光
学的に接触するように置かれる。導光体18は一
つの縦方向に延び光を伝導する要素であつて、こ
れは、ガラス、石英、サフアイアあるいは他の適
当の材料で、一つの第1端面20、一つの第2端
面22および縦方向の界面24および26、すな
わち、導光体と周囲の媒質との間の界面を有す
る。説明上、導光体は縦方向に延びるものとして
示されているが、本発明の趣旨は特定の幾何学的
構成に限定されるものではなく、ここに示す構成
が本発明の方法を詳細に適用するのに最善のもの
として選ばれたものであることは理解されるべき
である。一つのウエブあるいはシートの幅に亘り
被覆を監視する目的には、第1図に示す構成が適
切なものと考えられる。
ヤツプ16として示すようなギヤツプが存在する
ことを検知することにある。この目的達成のため
に、被覆された基体10は一つの導光体18に光
学的に接触するように置かれる。導光体18は一
つの縦方向に延び光を伝導する要素であつて、こ
れは、ガラス、石英、サフアイアあるいは他の適
当の材料で、一つの第1端面20、一つの第2端
面22および縦方向の界面24および26、すな
わち、導光体と周囲の媒質との間の界面を有す
る。説明上、導光体は縦方向に延びるものとして
示されているが、本発明の趣旨は特定の幾何学的
構成に限定されるものではなく、ここに示す構成
が本発明の方法を詳細に適用するのに最善のもの
として選ばれたものであることは理解されるべき
である。一つのウエブあるいはシートの幅に亘り
被覆を監視する目的には、第1図に示す構成が適
切なものと考えられる。
導光体18は、隣界角θcより大きい一つの角度
θで点30′において界面24をビーム28のよ
うな一つの光線が第1端面20に指向される時
に、本質的に光の内面への全反射という性質を有
する一つの要素であるように選ばれる。この状況
の下で、光線は一つの縦方向の界面より別の縦方
向の界面へ一つのジグザグ路を通つて反射し、つ
いに反対側にある第2端面22より出る。すべて
の光エネルギーの大部分はこのようにして透過す
る。ある装置についての臨界角は較正(白試験)
により容易に定められうる。光の内部への全反射
を支配するものとして仮説された理論は、ロンド
ンのFaraday Societyよりの刊行された
Symposia of the Faraday Society No.4、
1970に集録されたH.R.Mark、Jr.およびE.N.
Randall共著“Application of Internal
Reflective Spectroscopy to the Study of
Absorbed Layers at Interfaces”の論文中に記
載されている。この理論に従えば、臨界角θcは関
数sin-1(n1/n2)に等しく、ここに、n1は導光体
についての縦方向の界面にある媒質の屈折率であ
り、また、n2は導光体媒質の屈折率である。この
理論によれば、また、内部への反射のためには屈
折率n2は屈折率n1より大きくなければならないこ
とが規定されている。
θで点30′において界面24をビーム28のよ
うな一つの光線が第1端面20に指向される時
に、本質的に光の内面への全反射という性質を有
する一つの要素であるように選ばれる。この状況
の下で、光線は一つの縦方向の界面より別の縦方
向の界面へ一つのジグザグ路を通つて反射し、つ
いに反対側にある第2端面22より出る。すべて
の光エネルギーの大部分はこのようにして透過す
る。ある装置についての臨界角は較正(白試験)
により容易に定められうる。光の内部への全反射
を支配するものとして仮説された理論は、ロンド
ンのFaraday Societyよりの刊行された
Symposia of the Faraday Society No.4、
1970に集録されたH.R.Mark、Jr.およびE.N.
Randall共著“Application of Internal
Reflective Spectroscopy to the Study of
Absorbed Layers at Interfaces”の論文中に記
載されている。この理論に従えば、臨界角θcは関
数sin-1(n1/n2)に等しく、ここに、n1は導光体
についての縦方向の界面にある媒質の屈折率であ
り、また、n2は導光体媒質の屈折率である。この
理論によれば、また、内部への反射のためには屈
折率n2は屈折率n1より大きくなければならないこ
とが規定されている。
本発明の教示によれば、基体10の被覆12は
導光体の縦方向界面24に光学的に接触するよう
にもたらされ、また、光線28は第1端面20に
対向するように指向される。
導光体の縦方向界面24に光学的に接触するよう
にもたらされ、また、光線28は第1端面20に
対向するように指向される。
光学的接触を確実にするためには、接触する媒
質は1より大きい屈折率をもたなければならず、
好ましくは、典型的には1.2より大なる値、たと
えば、1.5のような導光体の屈折率に等しいもの
がよい。次に、接触する媒質は導光体の縦方向の
表面について十分の密接な接触を維持して、2個
の表面間の距離は光の波長のほぼ1/7である0.1マ
イクロメータより小さくなければならない。導光
体の硬い表面とこのような密接な接触を維持する
にはただ2種の方法がある。一は、別の硬い表面
を精密光学研磨することであり、他は、流れに基
くある順応性をもつある材料と接触させることで
ある。被覆の検知に用いられるのは後者である。
たとえば、ガラスに対し圧し付けられた被覆のな
い紙はその紙の屈折率のいかんにかゝわらず光学
的接触を形成することなく、光学的波長のミクロ
の尺度において紙の表面はきわめて粗でガラスの
導光体とはたまたま点接触を行うにすぎない。こ
れに反し、接着性のある、あるいは、結合性のあ
る被覆付の紙は被覆とガラスとの間の結合力の綜
合効果および紙の粗さを平滑にする被覆材料の流
れのために光学的接触を形成する。被覆された紙
と被覆されていない紙との間における光の漏れの
対比は、被覆領域が縦方向の界面に沿つて導光体
と少くとも長さで20%の光学的接触を作ること、
すなわち、被覆領域の少くとも面積で4%が導光
体より0.1マイクロメータの距離内にあることが
達成される時に検知されえて測定可能であると信
じられている。
質は1より大きい屈折率をもたなければならず、
好ましくは、典型的には1.2より大なる値、たと
えば、1.5のような導光体の屈折率に等しいもの
がよい。次に、接触する媒質は導光体の縦方向の
表面について十分の密接な接触を維持して、2個
の表面間の距離は光の波長のほぼ1/7である0.1マ
イクロメータより小さくなければならない。導光
体の硬い表面とこのような密接な接触を維持する
にはただ2種の方法がある。一は、別の硬い表面
を精密光学研磨することであり、他は、流れに基
くある順応性をもつある材料と接触させることで
ある。被覆の検知に用いられるのは後者である。
たとえば、ガラスに対し圧し付けられた被覆のな
い紙はその紙の屈折率のいかんにかゝわらず光学
的接触を形成することなく、光学的波長のミクロ
の尺度において紙の表面はきわめて粗でガラスの
導光体とはたまたま点接触を行うにすぎない。こ
れに反し、接着性のある、あるいは、結合性のあ
る被覆付の紙は被覆とガラスとの間の結合力の綜
合効果および紙の粗さを平滑にする被覆材料の流
れのために光学的接触を形成する。被覆された紙
と被覆されていない紙との間における光の漏れの
対比は、被覆領域が縦方向の界面に沿つて導光体
と少くとも長さで20%の光学的接触を作ること、
すなわち、被覆領域の少くとも面積で4%が導光
体より0.1マイクロメータの距離内にあることが
達成される時に検知されえて測定可能であると信
じられている。
したがつて、被覆された基体が導光体に密接に
接触していることを確めることが重要である。接
触の程度は監視されつつある試料に圧力を加える
ことにより調節され、また、圧力の程度は較正に
より容易に決定される。実用上は、結合力のある
被覆について約0.07より1.4キログラム/平方セ
ンチメートル(1.0より20ポント/平方インチ)
の範囲にある圧力を加えるのが有用であることが
判明している。
接触していることを確めることが重要である。接
触の程度は監視されつつある試料に圧力を加える
ことにより調節され、また、圧力の程度は較正に
より容易に決定される。実用上は、結合力のある
被覆について約0.07より1.4キログラム/平方セ
ンチメートル(1.0より20ポント/平方インチ)
の範囲にある圧力を加えるのが有用であることが
判明している。
再び、第1図において、たとえば入射点30の
ような入射点において被覆と導光体との間におけ
る光学的接触のために光の内部への全反射という
現象は破壊されて、少量の光エネルギーは界面を
横切つて漏れる。このように漏れた光は被覆され
た基体の光学的特性に従つて種々の程度に被覆あ
るいは基体10により吸収され、伝導され、か
つ、あるいは散乱される。
ような入射点において被覆と導光体との間におけ
る光学的接触のために光の内部への全反射という
現象は破壊されて、少量の光エネルギーは界面を
横切つて漏れる。このように漏れた光は被覆され
た基体の光学的特性に従つて種々の程度に被覆あ
るいは基体10により吸収され、伝導され、か
つ、あるいは散乱される。
漏れた光エネルギーを測定する手段が設けられ
る。もつとも簡単な実施例においては、漏れた光
を検知する手段は、漏れた光を人間の眼で視認す
る手段のみより成ることがありうることを理解す
るべきである。第1図に示すように、このような
手段は界面24あるいは基体10より散乱され、
導光体18にもどり、反対側の縦方向界面26を
経て出て行く漏れた光の部分を測定する。この実
施例において、界面26を経て漏れ出る散乱光を
測定する手段は、散乱光を一つのフオトダイオー
ド34のような光検知装置上に焦点合わせする一
つのレンズ32から成る。このフオトダイオード
は次いで散乱された光エネルギーに比例する一つ
の電気信号を発生する。
る。もつとも簡単な実施例においては、漏れた光
を検知する手段は、漏れた光を人間の眼で視認す
る手段のみより成ることがありうることを理解す
るべきである。第1図に示すように、このような
手段は界面24あるいは基体10より散乱され、
導光体18にもどり、反対側の縦方向界面26を
経て出て行く漏れた光の部分を測定する。この実
施例において、界面26を経て漏れ出る散乱光を
測定する手段は、散乱光を一つのフオトダイオー
ド34のような光検知装置上に焦点合わせする一
つのレンズ32から成る。このフオトダイオード
は次いで散乱された光エネルギーに比例する一つ
の電気信号を発生する。
被覆中のギヤツプを検知するために、レンズ3
2およびダイオード34のような複数の漏れた光
を測定する手段が導光体の縦方向の通路に沿つて
設けられる。被覆中に一つのギヤツプが存在する
ときは光学的接触は作られず、かつ、光線28の
内部に反射された光の成分28′は界面24への
入射点30′において界面24から実質的に漏れ
ず、かえつて界面24への入射角に本質的に等し
い一つの角において導光体中へ本質的に全部反射
される。したがつて、漏れた光を測定する手段す
なわちレンズ32′およびダイオード34′はいか
なる実質的な光も検知せずいかなる電気信号も発
生しない。
2およびダイオード34のような複数の漏れた光
を測定する手段が導光体の縦方向の通路に沿つて
設けられる。被覆中に一つのギヤツプが存在する
ときは光学的接触は作られず、かつ、光線28の
内部に反射された光の成分28′は界面24への
入射点30′において界面24から実質的に漏れ
ず、かえつて界面24への入射角に本質的に等し
い一つの角において導光体中へ本質的に全部反射
される。したがつて、漏れた光を測定する手段す
なわちレンズ32′およびダイオード34′はいか
なる実質的な光も検知せずいかなる電気信号も発
生しない。
レンズ32およびダイオード34の漏れた光を
検知する手段により検知された光を、レンズ3
2′およびダイオード34′の漏れた光を検知する
手段により検知された光に比べて得られる対比
は、ギヤツプ16の存在を指示するために使用す
ることができる。さらに詳細に言えば、それぞれ
のダイオードにより発生される電気信号における
差は、ギヤツプ16の存在およびあるいは位置を
信号する論理回路系に関連して使用することがで
きる。
検知する手段により検知された光を、レンズ3
2′およびダイオード34′の漏れた光を検知する
手段により検知された光に比べて得られる対比
は、ギヤツプ16の存在を指示するために使用す
ることができる。さらに詳細に言えば、それぞれ
のダイオードにより発生される電気信号における
差は、ギヤツプ16の存在およびあるいは位置を
信号する論理回路系に関連して使用することがで
きる。
上記の教示から当業者に明らかであるように、
この装置の分解能、すなわち、検知しうる最小ギ
ヤツプは漏れた光を検知する手段の数およびその
手段の間隔の関数であり、このような設計上の条
件は、特定の応用分野に要求される分解能のよう
な因子および十分な数の光検知手段を設ける費用
を考慮して選択されうる。
この装置の分解能、すなわち、検知しうる最小ギ
ヤツプは漏れた光を検知する手段の数およびその
手段の間隔の関数であり、このような設計上の条
件は、特定の応用分野に要求される分解能のよう
な因子および十分な数の光検知手段を設ける費用
を考慮して選択されうる。
漏れた光を検知する手段の出力に附随する論理
回路系はその特定の応用分野に従つて変化されう
る。たとえば、第1図の簡単な装置においては、
この回路系は基体の測定幅の範囲内の被覆中にギ
ヤツプが存在すればその存在を単に報知する、す
なわち、信号するように設計すればよい。代りと
して、この回路系はギヤツプの存在のみではなく
その特定された位置をも報告する、すなわち、信
号するように設計することもできる。さらに、な
お、この回路系はギヤツプが特定の箇所で発生し
ているときにはエラー信号を発するが、他の領域
におけるギヤツプの検出は容認するように設計す
ることもできる。このような装置は基体を所定の
パターンで被覆する過程を制御するのに有効な例
となる。上記の論理回路の考えうるいずれもが、
すべて本発明の方法の所望の適用に従つて組み合
わせて使用されうることは明らかであろう。
回路系はその特定の応用分野に従つて変化されう
る。たとえば、第1図の簡単な装置においては、
この回路系は基体の測定幅の範囲内の被覆中にギ
ヤツプが存在すればその存在を単に報知する、す
なわち、信号するように設計すればよい。代りと
して、この回路系はギヤツプの存在のみではなく
その特定された位置をも報告する、すなわち、信
号するように設計することもできる。さらに、な
お、この回路系はギヤツプが特定の箇所で発生し
ているときにはエラー信号を発するが、他の領域
におけるギヤツプの検出は容認するように設計す
ることもできる。このような装置は基体を所定の
パターンで被覆する過程を制御するのに有効な例
となる。上記の論理回路の考えうるいずれもが、
すべて本発明の方法の所望の適用に従つて組み合
わせて使用されうることは明らかであろう。
ここに記載される方法は、被覆された基体を透
過し、基体により散乱されあるいは吸収さえされ
る漏れた光を測定することにより利用されること
は理解されるであろう。たとえば、被覆された基
体が十分に透明であるときは、漏れた光を検知す
る手段は基体上に設けられて位置を決め、透過し
た光を測定することができる。また、被覆が蛍光
性を有するときは、上記の漏れた光を検知する手
段は、吸収された光の指標となるであろう色の変
化を検知する手段のみから成るものでよい。第1
図に説明された例に選択されている方法は、被覆
された基体により十分に散乱されている界面から
漏れた光を測定することである。この方法にはい
くつかの特別の利点が認められる。たとえば、透
過した光を測定すべきときは、被覆の反対側表面
上に印刷を有する基体には、この印刷が光の透過
を干渉しうることがあるために、上記の方法は適
用され得ないであろう。この問題点は散乱光を測
定することにより完全に回避される。
過し、基体により散乱されあるいは吸収さえされ
る漏れた光を測定することにより利用されること
は理解されるであろう。たとえば、被覆された基
体が十分に透明であるときは、漏れた光を検知す
る手段は基体上に設けられて位置を決め、透過し
た光を測定することができる。また、被覆が蛍光
性を有するときは、上記の漏れた光を検知する手
段は、吸収された光の指標となるであろう色の変
化を検知する手段のみから成るものでよい。第1
図に説明された例に選択されている方法は、被覆
された基体により十分に散乱されている界面から
漏れた光を測定することである。この方法にはい
くつかの特別の利点が認められる。たとえば、透
過した光を測定すべきときは、被覆の反対側表面
上に印刷を有する基体には、この印刷が光の透過
を干渉しうることがあるために、上記の方法は適
用され得ないであろう。この問題点は散乱光を測
定することにより完全に回避される。
第2図および第3図には、第1図に概説した本
発明の方法を実施する装置が説明される。図面に
現わされていない被覆された基体は入口案内板4
4および46の間にある入口細孔42を経て装置
に入り、かつ、出口案内板44′および46′の間
にある出口細孔42′を経て装置から離れる。装
置40を進行するその行程中において基体は圧力
ローラ50および導光体52間のニツプ(はさむ
ところ)48を通過する。圧力ローラ50は基体
上に圧力を及ぼし、かつ、被覆を導光体52に光
学的接触をなすように押し付けるために、たとえ
ば、ゴム・ローラのような何らかの適当な材料か
ら成るものである。この目的のために、圧力ロー
ラ50を導光体52に対して圧迫するように偏力
を加えられた、たとえば、ばね54のような加圧
手段が設けられる。このばねは調整可能のもの
で、この装置が適当な圧力を基体に対し与えうる
ように較正されうることが好ましい。
発明の方法を実施する装置が説明される。図面に
現わされていない被覆された基体は入口案内板4
4および46の間にある入口細孔42を経て装置
に入り、かつ、出口案内板44′および46′の間
にある出口細孔42′を経て装置から離れる。装
置40を進行するその行程中において基体は圧力
ローラ50および導光体52間のニツプ(はさむ
ところ)48を通過する。圧力ローラ50は基体
上に圧力を及ぼし、かつ、被覆を導光体52に光
学的接触をなすように押し付けるために、たとえ
ば、ゴム・ローラのような何らかの適当な材料か
ら成るものである。この目的のために、圧力ロー
ラ50を導光体52に対して圧迫するように偏力
を加えられた、たとえば、ばね54のような加圧
手段が設けられる。このばねは調整可能のもの
で、この装置が適当な圧力を基体に対し与えうる
ように較正されうることが好ましい。
導光体52は、たとえば、ガラスのような材料
製であることが好ましい中空の相対的に薄肉の円
筒の形成である。縦方向表面はニツプ48におけ
る縦方向界面として作用し、このために、基体は
被覆側がこの界面において導光体に接触するよう
に装置に供給されるべきである。
製であることが好ましい中空の相対的に薄肉の円
筒の形成である。縦方向表面はニツプ48におけ
る縦方向界面として作用し、このために、基体は
被覆側がこの界面において導光体に接触するよう
に装置に供給されるべきである。
導光体およびローラはそれぞれの軸のまわりに
自由に回転して、ニツプ48において被覆された
基体と装置の表面との間に過剰の摩擦が生ずるこ
となく、かつ、基体が装置を連続的平滑に通過し
得るようになることが好ましい。この目的のため
に、ローラ50はローラ軸51に支持され、ロー
ラ軸51はローラ軸受53に回転可能に順に支持
される。同様に導光体52は導光体軸受55によ
り回転可能に支持される。第2図および第3図の
装置については、基体は装置の外部の手段により
装置から引出されることを意図したものと理解さ
れるべきである。それでも、ローラあるいは導光
体を駆動して基体を装置から引出すための手段を
(装置内に)設けることは等しく可能である。
自由に回転して、ニツプ48において被覆された
基体と装置の表面との間に過剰の摩擦が生ずるこ
となく、かつ、基体が装置を連続的平滑に通過し
得るようになることが好ましい。この目的のため
に、ローラ50はローラ軸51に支持され、ロー
ラ軸51はローラ軸受53に回転可能に順に支持
される。同様に導光体52は導光体軸受55によ
り回転可能に支持される。第2図および第3図の
装置については、基体は装置の外部の手段により
装置から引出されることを意図したものと理解さ
れるべきである。それでも、ローラあるいは導光
体を駆動して基体を装置から引出すための手段を
(装置内に)設けることは等しく可能である。
導光体の端面56はニツプ附近において、第1
図の第1端面20および第2端面22に対応す
る。したがつて、光を端面56に導くためにガラ
ス球58が設けられる。図示はしてないが光はス
クリーンを通ることによつて端面56のみが主と
して照射され、かつ、装置のその他の内部は暗い
ことが好ましい。
図の第1端面20および第2端面22に対応す
る。したがつて、光を端面56に導くためにガラ
ス球58が設けられる。図示はしてないが光はス
クリーンを通ることによつて端面56のみが主と
して照射され、かつ、装置のその他の内部は暗い
ことが好ましい。
一連の縦方向に間隔をおいて配置された漏光検
知器60は導光体52のガラス円筒壁の照射部分
の直下に複数個設けられ、かつ、中空円筒内に静
止支持体62により支持される。このような検知
器は漏光をたとえばフオトダイオードのような光
検知器上に焦点を結ばせるための一つのレンズか
らなり、このフオトダイオードはダイオードの受
ける光エネルギーに比例して一つの電気信号を生
ずることが好ましい。各フオトダイオードは基体
光伝導界面の相対的に小さい領域のみを視準しこ
れによつて高い分解能を確保し、かつ干渉を消滅
することを保証するように、レンズは決められ
る。
知器60は導光体52のガラス円筒壁の照射部分
の直下に複数個設けられ、かつ、中空円筒内に静
止支持体62により支持される。このような検知
器は漏光をたとえばフオトダイオードのような光
検知器上に焦点を結ばせるための一つのレンズか
らなり、このフオトダイオードはダイオードの受
ける光エネルギーに比例して一つの電気信号を生
ずることが好ましい。各フオトダイオードは基体
光伝導界面の相対的に小さい領域のみを視準しこ
れによつて高い分解能を確保し、かつ干渉を消滅
することを保証するように、レンズは決められ
る。
光検知器よりの電気信号出力は、一つの静止プ
リント回路盤66上に支持される一連の増幅器群
64に電気的に接続され、このプリント回路盤内
において電気信号は増幅され図示してない論理回
路へ送られる。この論理回路は、たとえば、基体
上の被膜のギヤツプの存在あるいは不在を報知
し、信号するように設計することができる。
リント回路盤66上に支持される一連の増幅器群
64に電気的に接続され、このプリント回路盤内
において電気信号は増幅され図示してない論理回
路へ送られる。この論理回路は、たとえば、基体
上の被膜のギヤツプの存在あるいは不在を報知
し、信号するように設計することができる。
第2図および第3図の装置は、ある種の医療製
品を包装する目的の連続ウエブ上の被覆内のギヤ
ツプの存在を検知するために使用されている例で
ある。包装材料は被覆の反対面上に記号やその他
の情報資料が印刷されている。被覆は包装封緘用
の結合材料で天然ラテツクスとある種のスチレ
ン・ブタジエン・コポリマーから成る処方物であ
る。ウエブ幅は、たとえば、約3.18センチメート
ル(1.25インチ)約3.81センチメートル(1.5イン
チ)および約10.2センチメートル(4インチ)で
あり、これらの各幅を監視するようにあらかじめ
設定された回路系を装置に設備する。紙は基本重
量が約278平方メートル(3000平方フイート)に
つき約9.52キログラム(21ポンド)であり、約
278平方メートル(3000平方フイート)につき約
1.25キログラム(2.75ポンド)より約2.15キログ
ラム(4.75ポンド)の粘着力をもつように被覆さ
れる。ウエブは最高速度約毎分91.4メートル
(300フイート)で装置を通つて動く。
品を包装する目的の連続ウエブ上の被覆内のギヤ
ツプの存在を検知するために使用されている例で
ある。包装材料は被覆の反対面上に記号やその他
の情報資料が印刷されている。被覆は包装封緘用
の結合材料で天然ラテツクスとある種のスチレ
ン・ブタジエン・コポリマーから成る処方物であ
る。ウエブ幅は、たとえば、約3.18センチメート
ル(1.25インチ)約3.81センチメートル(1.5イン
チ)および約10.2センチメートル(4インチ)で
あり、これらの各幅を監視するようにあらかじめ
設定された回路系を装置に設備する。紙は基本重
量が約278平方メートル(3000平方フイート)に
つき約9.52キログラム(21ポンド)であり、約
278平方メートル(3000平方フイート)につき約
1.25キログラム(2.75ポンド)より約2.15キログ
ラム(4.75ポンド)の粘着力をもつように被覆さ
れる。ウエブは最高速度約毎分91.4メートル
(300フイート)で装置を通つて動く。
使用された装置の光源として各々が一つの石英
レンズ付の一組の高輝度石英ハロゲンランプを利
用し、各ガラス球はGereral Electric
Corporation製造でこの会社によりG.E.#2604X
の型式名で販売されている。使用された光検知器
はGeneral Sensor Corporation製造でこの会社
によりG.S.3020−3フオトトランジスタとして販
売されている。このフオトトランジスタは上記の
漏光の焦点を合わせるための小レンズを備える。
この装置には全部で32個のレンズおよびフオトト
ランジスターの組み合わせより成る光検知器を縦
方向の通路約10.2センチメートル(4インチ)に
沿つて約2.54センチメートル(1インチ)当り8
個の間隔で備える。この装置は約0.318センチメ
ートル(0.125インチ)の分解能を有するものと
認められ、実際上は幅約0.635センチメートル
(0.25インチ)あるいはこれ以上のギヤツプを検
知しうる信頼性がある。
レンズ付の一組の高輝度石英ハロゲンランプを利
用し、各ガラス球はGereral Electric
Corporation製造でこの会社によりG.E.#2604X
の型式名で販売されている。使用された光検知器
はGeneral Sensor Corporation製造でこの会社
によりG.S.3020−3フオトトランジスタとして販
売されている。このフオトトランジスタは上記の
漏光の焦点を合わせるための小レンズを備える。
この装置には全部で32個のレンズおよびフオトト
ランジスターの組み合わせより成る光検知器を縦
方向の通路約10.2センチメートル(4インチ)に
沿つて約2.54センチメートル(1インチ)当り8
個の間隔で備える。この装置は約0.318センチメ
ートル(0.125インチ)の分解能を有するものと
認められ、実際上は幅約0.635センチメートル
(0.25インチ)あるいはこれ以上のギヤツプを検
知しうる信頼性がある。
第4図は、本装置に使用される回路の簡略図で
ある。この回路にはフオトトランジスタ60のよ
うな32個の光検知器が含まれる。各フオトトラン
ジスタ60の出力は一つの演算増幅器(オペ・ア
ンプ)64の負の入力端子に接続され、オペ・ア
ンプ64の利得は帰還抵抗器68により決められ
る。各オペ・アンプ64の正の入力端子は接地さ
れる。32個のオペ・アンプ64の各出力は電位差
計70により平均化され、基体中に送り込む前に
装置の平衡をとるために各電位差計70は各オ
ペ・アンプ64の出力に接続される。各電位差計
70は互に接続されて一つの32個の入力を有する
アンド・ゲート72を集約的に操作する。実際上
は、アンド・ゲート72は4個の互に内部接続さ
れた8入力アンド・ゲート、たとえば、RCA社
製造の型式第CD4048番のようなアンド・ゲート
である。
ある。この回路にはフオトトランジスタ60のよ
うな32個の光検知器が含まれる。各フオトトラン
ジスタ60の出力は一つの演算増幅器(オペ・ア
ンプ)64の負の入力端子に接続され、オペ・ア
ンプ64の利得は帰還抵抗器68により決められ
る。各オペ・アンプ64の正の入力端子は接地さ
れる。32個のオペ・アンプ64の各出力は電位差
計70により平均化され、基体中に送り込む前に
装置の平衡をとるために各電位差計70は各オ
ペ・アンプ64の出力に接続される。各電位差計
70は互に接続されて一つの32個の入力を有する
アンド・ゲート72を集約的に操作する。実際上
は、アンド・ゲート72は4個の互に内部接続さ
れた8入力アンド・ゲート、たとえば、RCA社
製造の型式第CD4048番のようなアンド・ゲート
である。
動作するに当り、漏光エネルギーは各フオトト
ランジスタ60により検知される。検知された光
エネルギーはこれに対応するオペ・アンプ64の
入力において電位差を生ずる電流を引き出す。基
準状態では光エネルギーは、被覆の存在を現わし
かつ対応するオペ・アンプ64の一つの第1出力
を生ずる各光トランジスタ60において検知さ
れ、オペ・アンプ64は次いでアンド・ゲート7
2への対応する入力に結合されている。すべての
フオトトランジスタ60が一つの被覆の存在を検
知する時は、アンド・ゲート72はこのゲートの
しきい値を上回る32個の電圧入力を有す。フオト
トランジスタ60のいずれかが一つの被覆の存在
に対応する光エネルギーの必要とされる量を検出
し得ないときはいつでも、フオトトランジスタ6
0は、対応するオペ・アンプ64が被覆の不存在
を表わす二次出力を生じるような出力をし、つい
で、この二次出力がしきい値を下回る一つの入力
をアンド・ゲートに与えてアンド・ゲート72の
出力を反転する。このようにして、フオトトラン
ジスタ60のいずれかが被覆の不存在を検出した
場合には、アンド・ゲート72の出力が変化して
不良状態を示すことになる。
ランジスタ60により検知される。検知された光
エネルギーはこれに対応するオペ・アンプ64の
入力において電位差を生ずる電流を引き出す。基
準状態では光エネルギーは、被覆の存在を現わし
かつ対応するオペ・アンプ64の一つの第1出力
を生ずる各光トランジスタ60において検知さ
れ、オペ・アンプ64は次いでアンド・ゲート7
2への対応する入力に結合されている。すべての
フオトトランジスタ60が一つの被覆の存在を検
知する時は、アンド・ゲート72はこのゲートの
しきい値を上回る32個の電圧入力を有す。フオト
トランジスタ60のいずれかが一つの被覆の存在
に対応する光エネルギーの必要とされる量を検出
し得ないときはいつでも、フオトトランジスタ6
0は、対応するオペ・アンプ64が被覆の不存在
を表わす二次出力を生じるような出力をし、つい
で、この二次出力がしきい値を下回る一つの入力
をアンド・ゲートに与えてアンド・ゲート72の
出力を反転する。このようにして、フオトトラン
ジスタ60のいずれかが被覆の不存在を検出した
場合には、アンド・ゲート72の出力が変化して
不良状態を示すことになる。
第1図は、基体上の被覆の存在あるいは不在を
検知する本発明の方法を説明する概略図である。
第2図は、本発明を実施する装置の縦方向の断面
図である。第3図は、第2図の装置の横方向の断
面図である。第4図は、第2図の装置により検知
されたギヤツプを監視しかつ信号する電気回路図
である。 ここに、10……基体、12……被覆、16…
…ギヤツプ、18……導光体、28……光線、3
4……フオトダイオード、42……入口細孔、4
4,46……入口案内板、52……導光体、58
……ガラス球、60……漏光検知器すなわちフオ
トトランジスタ。
検知する本発明の方法を説明する概略図である。
第2図は、本発明を実施する装置の縦方向の断面
図である。第3図は、第2図の装置の横方向の断
面図である。第4図は、第2図の装置により検知
されたギヤツプを監視しかつ信号する電気回路図
である。 ここに、10……基体、12……被覆、16…
…ギヤツプ、18……導光体、28……光線、3
4……フオトダイオード、42……入口細孔、4
4,46……入口案内板、52……導光体、58
……ガラス球、60……漏光検知器すなわちフオ
トトランジスタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基体の表面の少くとも一部分における被覆の
存在あるいは不在を検知する方法であつて:両端
面とこの端面間にある縦方向の表面とを有する一
つの導光体を備えること;該基体を上記の導光体
上にこの基体の被覆表面を上記の導光体の縦方向
の表面に光学的に接触するように置くこと;一つ
の光線を上記の導光体の上記の端面の少くとも一
方に導くこと;および、上記の導光体と上記の基
体との界面を通る漏光を監視することより成る方
法。 2 特許請求の範囲第1項に記載する方法であつ
て、上記の光線が、その一成分は上記の導光体の
縦方向の表面に垂直に一つの角をなし、この角は
被覆領域における漏光と非被覆領域における漏光
との間に測定しうる対比を生ずるに十分であるよ
うに向けられる方法。 3 特許請求の範囲第2項に記載する方法であつ
て、上記の角は関数sin-1(n1/n2)の表わすもの
より大なるものであり、ここにn1は非被覆領域の
屈折率であり、かつ、n2は導光体の屈折率である
方法。 4 特許請求の範囲第1項に記載する方法であつ
て、上記の被覆は1.0より大なる屈折率を有する
方法。 5 特許請求の範囲第4項に記載する方法であつ
て、上記の被覆は1.5の屈折率を有する方法。 6 特許請求の範囲第1項に記載する方法であつ
て、上記の被覆は上記の導光体の縦方向の表面に
密接な接触をなす方法。 7 特許請求の範囲第6項に記載する方法であつ
て、上記の被覆された表面が、上記の界面の長さ
の少くとも20%に亘り、上記の導光体の縦方向の
表面の0.1マイクロメータの範囲内にある方法。 8 特許請求の範囲第1項に記載する方法であつ
て、上記の基体を透過する漏光が監視される方
法。 9 特許請求の範囲第1項に記載する方法であつ
て、上記の基体により吸収される漏光が監視され
る方法。 10 特許請求の範囲第1項に記載する方法であ
つて、上記の基体より散乱される漏光が監視され
る方法。 11 特許請求の範囲第10項に記載する方法で
あつて、上記の導光体を経て散乱されかつ伝導さ
れる上記の基体よりの漏光が監視される方法。 12 特許請求の範囲第1項に記載する方法であ
つて、上記の漏光が視認により監視される方法。 13 特許請求の範囲第1項に記載する方法であ
つて、上記の漏光を一つの光検知器に導き、この
光検知器は漏光の強度に比例する電気信号を発生
することにより、上記の漏光が測定される方法。 14 特許請求の範囲第13項に記載する方法で
あつて、上記の漏光が一つのレンズを経て上記の
光検知器に導かれる方法。 15 特許請求の範囲第1項に記載する方法であ
つて、上記の基体が、上記の導光体上を連続的に
通り、かつ、上記の漏光が連続的に監視される方
法。 16 上基体の表面の少くとも一部分における被
覆の存在あるいは不在を検知する装置であつて:
一つの縦方向の表面と第1の端面および第2の端
面とを有する一つの導光体;一つの光線を上記の
第1の端面に導く一つの光源;一つの基体の被覆
された表面を上記の導光体の縦方向の表面に光学
的に接触するように上記の導光体上に上記の基体
を置くための接触手段;および、上記の基体およ
び上記の導光体の界面よりの漏光の強度を測定す
る漏光検知手段より成る装置。 17 特許請求の範囲第16項に記載する装置で
あつて、上記の導光体は1.2より大なる屈折率を
有する装置。 18 特許請求の範囲第16項に記載する装置で
あつて、上記の導光体はガラス製である装置。 19 特許請求の範囲第16項に記載する装置で
あつて、上記の導光体は一つの中空の円筒である
装置。 20 特許請求の範囲第16項に記載する装置で
あつて、上記の接触手段は上記の基体上に圧力を
及ぼす圧力手段から成る装置。 21 特許請求の範囲第20項に記載する装置で
あつて、上記の圧力手段は調整可能であり、もつ
て、十分の圧力が上記の基体に加えられて被覆領
域と非被覆領域との間に対比的な漏光を生ずる装
置。 22 特許請求の範囲第21項に記載する装置で
あつて、上記の圧力手段は一つのゴム・ローラと
上記の基体に調整可能の圧力を加えるようにされ
た調整可能のばねとより成る装置。 23 特許請求の範囲第16項に記載する装置で
あつて、上記の漏光検知手段は漏光をさえぎる位
置にある少くとも一つの光感知器から成り、この
光感知器はさえぎられた漏光に比例する一つの電
気信号を発生しうるものである装置。 24 特許請求の範囲第23項に記載する装置で
あつて、上記の光感知器が上記の界面より散乱さ
れかつ上記の導光体を透過する漏光を検知する位
置にある装置。 25 特許請求の範囲第24項に記載する装置で
あつて、漏光を検知するための複数の光感知器が
設けられ、これらの光感知器が上記の導光体と上
記の基体との界面に沿つて間隔をおいて配置され
る装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/329,793 US4456374A (en) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | Detecting the presence or absence of a coating on a substrate |
| US329793 | 1981-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58105077A JPS58105077A (ja) | 1983-06-22 |
| JPH0237982B2 true JPH0237982B2 (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=23287043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57214760A Granted JPS58105077A (ja) | 1981-12-11 | 1982-12-09 | 基体の表面における被覆の存在あるいは不在を検知する方法および装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
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| US (1) | US4456374A (ja) |
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| FR (1) | FR2518264B1 (ja) |
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