JPH0240070B2 - - Google Patents
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- JPH0240070B2 JPH0240070B2 JP60197432A JP19743285A JPH0240070B2 JP H0240070 B2 JPH0240070 B2 JP H0240070B2 JP 60197432 A JP60197432 A JP 60197432A JP 19743285 A JP19743285 A JP 19743285A JP H0240070 B2 JPH0240070 B2 JP H0240070B2
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- JP
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- dethia
- diphenylmethyl
- benzamide
- oxacefam
- carboxylate
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
本発明は、新規1―デチア―1―オキサセフア
ロスポリンの合成中間体に関する。更に詳しくは
一般式:
[但し、Aはアミノまたは保護されたアミノ;
Eは水素またはメトキシ;
Yは式
The present invention relates to a novel synthetic intermediate of 1-dethia-1-oxacephalosporin. More details: General formula: [However, A is amino or protected amino; E is hydrogen or methoxy; Y is the formula
【式】【formula】
【式】または[expression] or
【式】
(但し、COBはカルボキシまたは保護されたカ
ルボキシ;Xは水素または求核基;Zは脱離基;
を表わす。)
で示される二価の基;
波線はαまたはβ結合;をそれぞれ表わす。]
で示される1―デチア―1―オキサセフアム化合
物およびその製法に関する。
1―デチア―1―オキサセフアロスポリン類は
クリステンセン(ジヤーナル・アメリカン・ケミ
カル・ソテイアテイー,96,7582(1974年))によ
つて合成されている他、以下の反応工程図に示す
ような合成法もなされている。
●特開昭51―149295
●特開昭51―41385
●特開昭49―133594
(但し、Aはアミノまたは置換アミノ;COBは
カルボキシまたは保護されたカルボキシ;Xは水
素または求核基;phはフエニル;およびR′はア
リールまたはアルキル;を示す)
しかし、上記工程では、途中、アゼチジノンの
4位にカルボニウムイオンが生じるため、酸素官
能基の導入方向により、エピマー異性体が1:1
の割合で生じる。エピマー混合物は、1―デチア
ー1―オキサセフアロスポリン類の6―エピマー
体の約1/2の活性である。
本発明者らは、上記短所を改善すべく、かつ経
済的な合成法を見出そうと鋭意研究した結果、本
発明を完成するにいたつた。
前記定義において、保護されたアミノ基とは、
例えば以下に示すような基で保護されたアミノ基
を意味する。
(1) C1〜C10アルカノイル
(例えば、ホルミル,アセチル,プロピオニ
ル,ブチリル,イソブチリル,シクロプロピル
アセチル,トリメチルアセチル,バレリル,t
―ブチルアセチル,カプロイル,オクタノイ
ル,シクロヘキシルアセチル,ヂカノイル,2
―エチルエナントイルなど);
(2) C1〜C7ハロアルカノイル
(例えば、クロロアセチル,クロロプロピオニ
ル,クロロイソバレリル,ジクロロアセチル,
トリクロロアセチル,トリクロロプロピオニ
ル,ブロモアセチル,ブロモプロピオニル,ジ
ブロモシクロヘキシルカルボニルなど);
(3) アジドアセチル,シアノアセチル,トリフル
オロメチルチオアセチル,シアノメチルチオア
セチル,(4―ピリドン―1―イル)アセチ
ル;
(4) 式:Ar―CO―
(但し、Arはアリール,例えば、フリル,チ
エニル,ピロリル,オキサゾリル,イソオキサ
ゾリル,オキサジアゾリル,オキサトリアゾリ
ル,チアゾリル,イソチアゾリル,チアジアゾ
リル,チアトリアゾリル,ピラゾリル,イミダ
ゾリル,トリアゾリル,テトラゾリル,フエニ
ル,ピリジル,ピリミジル,ピラジニル,ピリ
ダジニル,トリアジニル,ジヒドロフエニル,
テトラヒドロフエニル,テトラヒドロピリミジ
ル,ナフチル,ベンゾチアゾリル,インドリ
ル,キノリル,イソキノリル,ベンゾピリミジ
ル,シンノリニル,ピリドピリミジル,インダ
ニルなどであり、メチル,エチル,プロピル,
ヒドロキシメチル,クロロメチル,トリフルオ
ロメチル,シアノ,カルボキシ,カルボキシメ
チル,アミノメチル,フエニル,クロロフエニ
ル,フルオロフエニル,アミノ,ホルミルアミ
ノ,アセトアミド,プロピオンアミド,ブチリ
ルアミノ,バレルアミド,イソバレルアミド,
イミノ,ニトロ,ヒドロキシ,メトキシ,エト
キシ,プロポキシ,メチレンジオキシ,エチレ
ンジオキシ,ホルミルオキシ,アセトキシ,プ
ロピオニルオキシ,ブチリルオキシ,バレリル
オキシ,フエニルアセトキシ,ベンゾイルオキ
シ,メタンスルホニルオキシ,エタンスルホニ
ルオキシ,ベンゼンスルホニルオキシ,ブロモ
ベンゼンスルホニルオキシ,メトキシカルボニ
ルオキシ,エトキシカルボニルオキシ,t―ブ
トキシカルボニルオキシ,ベンジルオキシカル
ボニルオキシ,カルバモイルオキシ,メチルカ
ルバモイルオキシ,オキソ,クロロ,ブロモ,
ヨードなどで適宜置換されていてもよい。)
で示されるアシル;
(5) 式:Ar―CQQ′―CO―
(但し、Arは上記と同意義;
QおよびQ′は各々水素またはメチル;を示
す)
で示されるアシル;
(6) 式:Ar―G―CQQ′―CO―
(但し、Ar,Q,およびQ′は前記と同意義;
Gは酸素,硫黄,またはイミノ,を示す)
で示されるアシル:
(7) 式:[Formula] (where COB is carboxy or protected carboxy; X is hydrogen or a nucleophilic group; Z is a leaving group;
represents. ) The wavy lines represent α or β bonds, respectively. ] The present invention relates to a 1-dethia-1-oxacefam compound represented by the following and a method for producing the same. 1-Dethia-1-oxacephalosporins have been synthesized by Christensen (Journal American Chemical Society, 96 , 7582 (1974)), and also by the synthesis method shown in the reaction process diagram below. has also been done. ●Japanese Patent Publication No. 51-149295 ●Japanese Patent Publication No. 51-41385 ●Unexamined Japanese Patent Publication 1973-133594 (However, A is amino or substituted amino; COB is carboxy or protected carboxy; X is hydrogen or a nucleophilic group; ph is phenyl; and R' is aryl or alkyl;) However, in the above process, Since a carbonium ion is generated at the 4-position of azetidinone, the epimer isomer ratio is 1:1 depending on the direction of introduction of the oxygen functional group.
occurs at a rate of The epimer mixture has approximately 1/2 the activity of the 6-epimer form of 1-dethia-1-oxacephalosporins. The present inventors have completed the present invention as a result of intensive research aimed at finding an economical synthesis method to improve the above-mentioned disadvantages. In the above definition, a protected amino group is
For example, it means an amino group protected with the groups shown below. ( 1 ) C1- C10 alkanoyl (e.g. formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, cyclopropylacetyl, trimethylacetyl, valeryl, t
-Butylacetyl, caproyl, octanoyl, cyclohexylacetyl, dicanoyl, 2
(2) C1 - C7 haloalkanoyl (e.g., chloroacetyl, chloropropionyl, chloroisovaleryl, dichloroacetyl,
(3) Azidoacetyl, cyanoacetyl, trifluoromethylthioacetyl, cyanomethylthioacetyl, (4-pyridon-1-yl)acetyl; (4) Formula: Ar―CO― (However, Ar is aryl, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl, oxatriazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, thiatriazolyl, pyrazolyl, imidazolyl, triazolyl, tetrazolyl, phenyl, Pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyridazinyl, triazinyl, dihydrophenyl,
Tetrahydrophenyl, tetrahydropyrimidyl, naphthyl, benzothiazolyl, indolyl, quinolyl, isoquinolyl, benzopyrimidyl, cinnolinyl, pyridopyrimidyl, indanyl, etc.; methyl, ethyl, propyl,
Hydroxymethyl, chloromethyl, trifluoromethyl, cyano, carboxy, carboxymethyl, aminomethyl, phenyl, chlorophenyl, fluorophenyl, amino, formylamino, acetamide, propionamide, butyrylamino, valeramide, isovaleramide,
imino, nitro, hydroxy, methoxy, ethoxy, propoxy, methylenedioxy, ethylenedioxy, formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, valeryloxy, phenylacetoxy, benzoyloxy, methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy , bromobenzenesulfonyloxy, methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, benzyloxycarbonyloxy, carbamoyloxy, methylcarbamoyloxy, oxo, chloro, bromo,
It may be appropriately substituted with iodine or the like. ); (5) Acyl represented by the formula: Ar-CQQ'-CO- (However, Ar has the same meaning as above; Q and Q' each represent hydrogen or methyl); (6) Acyl represented by the formula :Ar―G―CQQ′―CO― (However, Ar, Q, and Q′ have the same meanings as above;
(G represents oxygen, sulfur, or imino): (7) Formula:
【式】
(但し、Arは上記と同意義;
T1は水素またはC1〜C6アルキル、例えば、
メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブ
チル,イソブチル,s―ブチル,t―ブチル,
ペンチル,イソアミル,t―ペンチル,ネオペ
ンチル,イソプロピルエチル,シクロペンチル
などである。)で示されるアシル;
(8) 式:[Formula] (However, Ar has the same meaning as above; T 1 is hydrogen or C 1 - C 6 alkyl, for example,
Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl,
These include pentyl, isoamyl, t-pentyl, neopentyl, isopropylethyl, and cyclopentyl. ); Formula (8):
【式】
(但し、Arは上記と同意義;
T2は下記(i)〜(iv)のうちのいずれか;を示す。
(i) ヒドロキシまたはC1〜C10アシルオキシ
(例えば、ホルミルオキシ,アセトキシ,プ
ロピオニルオキシ,ブチリルオキシ,バレリ
ルオキシ,シクロプロピルアセトキシ,シク
ロペンチルプロピオニルオキシ,フエニルア
セトキシ,チエニルアセトキシ,フエノキシ
アセトキシ,グリコロイルオキシ,グリオキ
シロイルオキシ,グリシルオキシ,クロロア
セトキシ,ブロモアセトキシ,トリフルオロ
アセトキシ,ベンゾイルオキシ,メチルベン
ゾイルオキシ,ジメチルベンゾイルオキシ,
ニトロベンゾイルオキシ,メトキシベンゾイ
ルオキシ,シアノベンゾイルオキシ,メタン
スルホニルベンジルオキシ,カルバモイルオ
キシ,メチルカルバモイルオキシ,エチルカ
ルバモイルオキシ,プロピルカルバモイルオ
キシ,メトキシカルボニルオキシ,t―ブト
キシカルボニルオキシ,ベンジルオキシカル
ボニルオキシ,メトキシベンジルオキシカル
ボニルオキシ,ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシなど):
(ii) カルボキシまたは、後記COBの欄に示す
ような保護されたカルボキシ;
(iii) スルホまたはC1〜C5アルコキシスルホニ
ル(例えば、メトキシスルホニル,エトキシ
スルホニル,プロポキシスルホニル,ブトキ
シスルホニル,シクロプロピルメトキシスル
ホニル,ペンチルオキシスルホニル,または
シクロプロピルエトキシスルホニル;または
(iv) 式:[Formula] (However, Ar has the same meaning as above; T 2 represents any of the following (i) to (iv). (i) Hydroxy or C 1 to C 10 acyloxy (e.g., formyloxy, Acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, valeryloxy, cyclopropylacetoxy, cyclopentylpropionyloxy, phenylacetoxy, thienylacetoxy, phenoxyacetoxy, glycoloyloxy, glyoxyloyloxy, glycyloxy, chloroacetoxy, bromoacetoxy, trifluoroacetoxy, Benzoyloxy, methylbenzoyloxy, dimethylbenzoyloxy,
Nitrobenzoyloxy, methoxybenzoyloxy, cyanobenzoyloxy, methanesulfonylbenzyloxy, carbamoyloxy, methylcarbamoyloxy, ethylcarbamoyloxy, propylcarbamoyloxy, methoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, benzyloxycarbonyloxy, methoxybenzyloxy carbonyloxy, nitrobenzyloxycarbonyloxy, etc.): (ii) Carboxy or protected carboxy as shown in the COB column below; (iii) Sulfo or C1 - C5 alkoxysulfonyl (e.g. methoxysulfonyl, ethoxysulfonyl) , propoxysulfonyl, butoxysulfonyl, cyclopropylmethoxysulfonyl, pentyloxysulfonyl, or cyclopropylethoxysulfonyl; or (iv) formula:
【式】で示される基
[W1およびW2は各々水素またはC1〜C10ア
ミノ置換基、詳しくは、C2〜C7アルコキシ
カルボニル(例えば、メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,イソプロポキシカルボ
ニル,t―ブトキシカルボニル,ペンチルオ
キシカルボニル,またはメチルヘキシルカル
ボニル)、C3〜C10シクロアルキル―C2〜C3
―アルコキシカルボニル(例えば、シクロプ
ロピルメトキシカルボニル,シクロプロピル
エトキシカルボニル,シクロペンチルメトキ
シカルボニル,シクロヘキシルエトキシカル
ボニル,シクロヘプチルメトキシカルボニ
ル)、C5〜C8シクロアルコキシカルボニル
(例えば、シクロペンチルカルボニル,シク
ロヘキシルカルボニル,シクロヘプチルカル
ボニル,シクロプロピルカルボニル)、C1〜
C4アルキルスルホニル―C1〜C4アルコキシ
カルボニル(e.g.メタンスルホニルエトキシ
カルボニル,エタンスルホニルエトキシカル
ボニル,メタンスルホニルブトキシカルボニ
ル,ブタンスルホニルブトキシカルボニル),
ハローC1〜C3アルコキシカルボニル(例え
ば、クロロメトキシカルボニル,クロロエト
キシカルボニル,ブロモエトキシカルボニ
ル,ヨードエトキシカルボニル,ジクロロエ
トキシカルボニル,トリクロロエトキシカル
ボニル,トリクロロプロポキシカルボニル),
アラルコキシカルボニル(例えば、ベンジル
オキシカルボニル,メチルベンジルオキシカ
ルボニル,ジメチルベンジルオキシカルボニ
ル,アミノベンジルオキシカルボニル,アセ
トアミドベンジルオキシカルボニル,ニトロ
ベンジルオキシカルボニル,メトキシベンジ
ルオキシカルボニル,クロロベンジルオキシ
カルボニル,ブロモベンジルオキシカルボニ
ル,ジフエニルメトキシカルボニル,ジフエ
ニルエトキシカルボニル,チアゾリルメトキ
シカルボニル,ピリジルメトキシカルボニ
ル,その他のAr―CH2O―CO―(但し、Ar
は上記と同意義))、C1〜C10アルカノイル
(例えば、ホルミル,アセチル,プロピオニ
ル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,イ
ソバレリル,t―バレリル,ヘキサノイル,
ヘプタノイル,シクロヘキサンカルボニル,
オクタノイル,シクロペンタンプロピオニ
ル,デカノイル),Ar―CO―で示されるア
シル基(但し、Arは上記と同意義)、または
その他のアシル基(例えば、ピロンカルボニ
ル,チオピロンカルボニル,ピリドンカルボ
ニル,カルバモイル,グアニジルカルボニ
ル,ウレイドカルボニル,メチルイミダゾリ
ドンカルボニル,メタンスルホニルイミダゾ
リドンカルボニル,メチルジオキソピペラジ
ン―1―イルカルボニル,エチルジオキソピ
ペラジン―1―イルカルボニル,ブチルジオ
キソピペラジン―1―イルカルボニル);
The group represented by [Formula] [W 1 and W 2 are each hydrogen or a C 1 to C 10 amino substituent, specifically, a C 2 to C 7 alkoxycarbonyl (e.g., methoxycarbonyl,
ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, or methylhexylcarbonyl), C3 - C10 cycloalkyl- C2 - C3
-Alkoxycarbonyl (e.g. cyclopropylmethoxycarbonyl, cyclopropylethoxycarbonyl, cyclopentylmethoxycarbonyl, cyclohexylethoxycarbonyl, cycloheptylmethoxycarbonyl), C5 - C8 cycloalkoxycarbonyl (e.g. cyclopentylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, cycloheptylcarbonyl) , cyclopropylcarbonyl), C 1 ~
C 4 alkylsulfonyl - C 1 - C 4 alkoxycarbonyl (eg methanesulfonyl ethoxycarbonyl, ethanesulfonyl ethoxycarbonyl, methanesulfonyl butoxycarbonyl, butanesulfonyl butoxycarbonyl),
Halo C1 - C3 alkoxycarbonyl (e.g. chloromethoxycarbonyl, chloroethoxycarbonyl, bromoethoxycarbonyl, iodoethoxycarbonyl, dichloroethoxycarbonyl, trichloroethoxycarbonyl, trichloropropoxycarbonyl),
Aralkoxycarbonyl (e.g., benzyloxycarbonyl, methylbenzyloxycarbonyl, dimethylbenzyloxycarbonyl, aminobenzyloxycarbonyl, acetamidobenzyloxycarbonyl, nitrobenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, chlorobenzyloxycarbonyl, bromobenzyloxycarbonyl) , diphenylmethoxycarbonyl, diphenylethoxycarbonyl, thiazolylmethoxycarbonyl, pyridylmethoxycarbonyl, and other Ar-CH 2 O-CO- (However, Ar
(same meaning as above)), C1 - C10 alkanoyl (e.g., formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, t-valeryl, hexanoyl,
heptanoyl, cyclohexanecarbonyl,
octanoyl, cyclopentanepropionyl, decanoyl), an acyl group represented by Ar—CO— (where Ar has the same meaning as above), or other acyl groups (e.g., pyronecarbonyl, thiopyronecarbonyl, pyridonecarbonyl, carbamoyl, anidylcarbonyl, ureidocarbonyl, methylimidazolidonecarbonyl, methanesulfonylimidazolidonecarbonyl, methyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl, ethyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl, butyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl);
【式】が一緒になつて、アミノとエ
ノール化しうるカルボニル化合物(たとえば
C5〜C10アセトアセテート(例えばアセト酢
酸のメチル,エチル,プロピル,ブチル,イ
ソブチル,またはペンチルエステル)、C5〜
C10アセトアセタミド(例えばアセト酢酸の
アミド,メチルアミド,アニリド,またはメ
チルアニリド),アセチルアセトン,アセト
アセトニトリル,α―アセチルブチロラクト
ン,1,3―シクロペンタンジオンなど)か
ら誘導されるシツフ塩基またはエナミンを構
成する基,または[Formula] is taken together to form a carbonyl compound that can be enolized with amino (e.g.
C5 to C10 acetoacetate (e.g. methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, or pentyl ester of acetoacetate), C5 to C10
Groups constituting Schiff bases or enamines derived from C10 acetoacetamide (e.g. amide, methylamide, anilide, or methylanilide of acetoacetate), acetylacetone, acetoacetonitrile, α-acetylbutyrolactone, 1,3-cyclopentanedione, etc.) ,or
【式】が一緒にな
つてC4〜C10二塩基性酸から誘導されたジア
シルアミノ(例えば、スクシンイミド,マレ
インイミド,フタルイミド)を示す]
で示されるアシル;
(9) 5―アミノアジポイル,C1〜C10アルカノイ
ル,アロイル,アラルカノイル,ハロアルカノ
イル,またはアルコキシカルボニルでアミノ基
を保護した5―アミノアジポイル,アルキル,
アリール,アラルキル,またはアルキルシリル
でカルボキシを保護した5―アミノアジポイ
ル;
(10) 式:L―O―CO―
(但し、Lは適宜置換された容易に除去しうる
C1〜C10炭化水素基(例えば、t―ブチル,1,
1―ジメチルプロピル,シクロプロピルメチ
ル,シクロプロピルエチル,1―メチルシクロ
ヘキシル,イソボルニル,2―メトキシ―t―
ブチル、2,2、2―トリクロルエチル,ベン
ジル,ナフチルメチル,p―メトキシベンジ
ル,p―ニトロベンジル,ピリジルメチル)
で示されるアシル;
(11) C4〜C10の多塩基性カルボン酸から誘導され
たジアシル(例えば、スクシニル,マレオイ
ル,フタロイル,ピリジン―2,3―ジカルボ
ニルなど);
(12) 適宜置換されていてもよいC1〜C20の炭化水
素基(例えば、メチル,エチル,t―ブチル,
トリチル,メチリデン,ベンジリデン,ヒドロ
キシベンジリデン,α―ハロベンジリデン,α
―メトキシベンジリデン,α―エトキシベンジ
リデン、1―メトキシ―2―フエニルエチリデ
ン,3,5―ジ―t―ブチル―4―ヒドロキシ
ベンジリデン,o―ヒドロキシベンジリデンな
ど);
(13) C3〜C10有機シリル(例えば、トリメチル
シリル,ジメチルメトキシシリル,クロロジメ
チルシリル,メチルジメトキシシリル,メチル
エチレンジオキシシリル);
(14) C3〜C10有機スタニル(例えば、トリメチ
ルスタニル,ジメチルメトキシスタニル,クロ
ロジメチルスタニル,メチルジメトキシスタニ
ル,メチルエチレンジオキシスタニル);およ
び
(15) C1〜C10スルフエニル(例えば、メチルチ
オ,フエニルチオ,o―ニトロフエニルチオな
ど)
これらの基はいずれも、ハロゲン(例えばフル
オロ,クロロ,ブロモなど)、窒素官能基(例え
ばアミノ,ヒドラジニル,アジド,アルキルアミ
ノ,アリールアミノ,アシルアミノ,アルキリデ
ンアミノ,アシルイミノ,イミノ,ニトロなど),
酸素官能基(例えば、ヒドロキシ,アルコキシ,
アラルコキシ,アリールオキシ,アシルオキシ,
オキソなど)、硫黄官能基(例えばメルカプト,
アルキルチオ,アラルキルチオ,アリールチオ,
アシルチオ,チオキソ,スルホ,スルホニル,ス
ルフイニル,アルコキシスルホニル,アリールオ
キシスルフイニル,炭素官能基(例えばアルキ
ル,アルケニル,アラルキル,アリール,カルボ
キシ,カルバルコキシ,カルバモイル,アルカノ
イル,アロイル,アミノアルキル,アラルカノイ
ル,シアノなど)、リン官能基(例えばホスホ,
ホスホロイルなど)で適宜置換されていてもよ
い。
上記アミノ保護基のうち、ペニシリン,セフア
ロスポリンにおける側鎖を構成するアシル基が特
に重要であるが、反応後任意の段階で、常法によ
り任意に除去ないし導入できるので、その構成は
原料、最終物の構造に拘りなく広範な変化が可能
であり、主眼は反応に対する安定性である。
また、アミノまたはアミドに変化しうる基(例
えばエナミノ,アミド,アジド,イソシアナト,
イソシアノ)および環状基(例えば4―フエニル
―2,2―ジメチル―5―オキソイミダゾリジン
―1―イル,4―p―ヒドロキシフエニル―2,
2―ジメチル―3―ニトロソ―5―オキソイミダ
ゾリジン―1―イル,4―p―ヒドロキシフエニ
ル―2―フエニル―5―オキソイミダゾリジン―
1―イル,4―チエニル―5―オキソイミダゾリ
ジン―1―イルなど)もAの範囲内に含めるもの
とする。
COBで示される保護されたカルボキシ基は、
β―ラフタムの化学において常用されるものであ
つて、本反応の反応条件に耐えうるものである。
保護基Bとしては
(1) エステル形成基[例えばC1〜C10アルコキシ
(例えばメトキシ,エトキシ,プロポキシ,イ
ソプロポキシ,ブトキシ,t―ブトキシ,モノ
ヒドロキシ―t―ブトキシ,メトキシ―t―ブ
トキシ,シクロプロピルメトキシ,ペンチルオ
キシ,イソペンチルオキシ,シクロプロピルエ
トキシ,シクロペンチルオキシ,ヘキシルオキ
シ,シクロヘキシルオキシ,オクチルオキシ,
デシルオキシなど)、C1〜C6ハロアルコキシ
(例えばクロロメトキシ,クロロエトキシ,ブ
ロモエトキシ,ヨードエトキシ,ジクロロプロ
ポキシ,トリクロロエトキシ,トリクロロブト
キシ,ジブロモシクロヘキシルオキシなど)、
C3〜C10アシルアルコキシ(例えばアセトニル
オキシ,アセチルエトキシ,プロピオニルメト
キシ,フエナシルオキシ,クロロフエナシルオ
キシ,ブロモフエナシルオキシ,ニトロフエナ
シルオキシ,メチルフエナシルオキシなど)、
C3〜C10アルコキシアルコキシ(例えばメトキ
シメトキシ,エトキシメトキシ,クロロエトキ
シメトキシ,プロポキシエトキシ,ブトキシエ
トキシ,シクロヘキシルオキシエトキシ,メト
キシエトキシメトキシ,ブトキシエトキシメト
キシ,オクチルオキシエトキシなど)、C2〜C10
アミノアルコキシ(例えばアミノメトキシ、ア
ミノエトキシ,ジメチルアミノエトキシ,エチ
ルアミノメトキシなど),アリールオキシ(例
えばフエノキシ,クロロフエノキシ,ニトロフ
エノキシ,ナフチルオキシ,ピリジルオキシ,
インドリルオキシ,インダニルオキシ,ペンタ
クロロフエノキシなど)、アラルコキシ(例え
ばベンジルオキシ,メチルベンジルオキシ,キ
シリルメトキシ,クロロベンジルオキシ,ブロ
モベンジルオキシ,メトキシベンジルオキシ,
エトキシベンジルオキシ,ニトロベンジルオキ
シ,ジブロモベンジルオキシ,フエネチルオキ
シ,フタリジルオキシ,p―ヒドロキシ―ジ―
t―ブチルベンジルオキシ,ジフエニルメトキ
シ,トリチルオキシなど),C1〜C10アルキルシ
リルオキシ(例えばトリメチルシリルオキシ,
ジメチルメトキシシリルオキシ,クロロジメチ
ルシリルオキシ,エチレンジオキシメチルシリ
ルオキシなど)、C1〜C10アルキルスタニルオキ
シ(例えばトリメチルスタニルオキシなど)];
(2) 無水物形成基[例えばC1〜C10有機アシルオ
キシ(例えばアセトキシ,プロピオニルオキ
シ,スルホニルオキシなど)、無機アシルオキ
シ(例えば硫酸,過塩素酸などのアシルオキ
シ)];
(3) 塩形成基[例えば周期津表第,または
属の金属の金属オキシ(例えばリチウムオキ
シ,ナトリウムオキシ,カリウムオキシ,マグ
ネシウムオキシなど),C1〜C15ヒドロカルビル
アンモニウムオキシ(例えばトリエチルアンモ
ニウムオキシ,ジシクロヘキシルアンモニウム
オキシなど)];
(4) チオールエステル形成基(例えばC1〜C10ヒ
ドロカルビルチオまたはメルカプトなど)];
(5) アミド形成基[例えばC1〜C5アルキルアミ
ノ(例えばメチルアミノ,エチルアミノ,プロ
ピルアミノ,ブチルアミノ,ペンチルアミノな
ど),ジ―C1〜C5アルキルアミノ(例えばジメ
チルアミノ,ジエチルアミノ,ピペリジル,モ
ルホリン―1―イル、メチルモルホリン―1―
イル);および
(6) ヒドラジドまたはアジド形成基
などを例示しうる。通常これらの保護基は反応
後除去するので、その構造の変化はこの発明に
重要な意味を持たないことが多い。
Xで示される求核基には、セフアロスポリンの
化学において、3位のアセトキシ基と置換した型
で導入されている基すべてが含まれる。たとえ
ば、ハロゲン(クロロ,ブロモなど),ヒドロキ
シ,適宜置換されていてもよいC1〜C4アルカノ
イルオキシ(ホルミルオキシ,アセトキシ,プロ
ピオニルオキシ,ブチリルオキシ,マロニルオキ
シ,スクシノイルオキシ,シアノアセトキシ,グ
リシルオキシ,アラニルオキシ,グリコロイルオ
キシ,グリオキシロイルオキシ,フエノキシアセ
トキシ,スルホプロピオニルオキシ,クロロアセ
トキシ,ジクロロアセトキシ,トリフルオロアセ
トキシなど),アロイルオキシ(ベンゾイルオキ
シ,ナフトイルオキシなど),適宜置換されてい
てもよい炭酸のアシルオキシ(クロロホルミルオ
キシ,メトキシホルミルオキシ,トリクロロエト
キシホルミルオキシ,シクロプロピルメトキシホ
ルミルオキシ,メタンスルホニルエトキシホルミ
ルオキシなど)、C1〜C6アルコキシ(メトキシ,
エトキシ,プロポキシ,ブトキシ,s―ブトキ
シ,シクロプロピルメトキシ,シクロヘキシルオ
キシなど)、アラルコキシ(ベンジルオキシ,フ
ルフリルオキシ,ナフチルメトキシなど),アリ
ールオキシ(フエノキシ,ナフチルオキシ,イン
ダニルオキシなど)、メルカプト,C1〜C5アルカ
ノイルチオ(アセチルチオ,プロピオニルチオ,
ブチリルチオなど),アロイルチオ(ベンゾイル
チオ,ナフトイルチオなど),チオカルバモイル
チオ,メチルチオカルバモイルチオ,C1〜C6ア
ルキルチオ(メチルチオ,エチルチオ,プロピル
チオ,ブチルチオ,シクロプロピルメチルチオ,
シクロプロピルエチルチオなど),アラルキルチ
オ(ベンジルチオ,ピコリルチオ,フエネチルチ
オなど)、アリールチオ(フエニルチオ,トリア
ゾリルチオ,チアジアゾリルチオ,オキサジアゾ
リルチオ,テトラゾリルチオなど)などである。
これらの基はいずれも、適宜置換されていてもよ
いアルキル(メチル,エチル,ヒドロキシメチ
ル,ヒドロキシエチル,カルボキシメチル,カル
ボキシエチル,スルホエチル,ジメチルアミノエ
チル,ジメチルアミノペンチル,モルホリノエチ
ルなど),窒素官能基(アミノ,アジド,ヒドラ
ジニル,アセチルアミノ,メチルアミノ,ピリジ
ニウム,ピコリニウム,4―カルボキシピリジニ
ウム,カルバモイルピリジニウム,ヒドロキシメ
チルピリジニウム,カルボキシメチルピリジニウ
ム,クロロピリジニウムなど)などで置換されて
いてもよい。
Zで示される脱離基とは、求核試薬の陰イオン
部分であり、たとえば、ハロゲン(クロロ,ブロ
モ,ヨードなど),ヒドロキシ,C1〜C8カルボン
酸のアシルオキシ(アセトキシ,トリフルオロア
セトキシなど),スルホン酸のアシルオキシ(メ
タンスルホニルオキシ,エタンスルホニルオキ
シ,トルエンスルホニルオキシ,ブロモベンゼン
スルホニルオキシなど),アリールチオ(フエニ
ルチオ),アリールスルフエニル(フエニルスル
フエニルなど),アリールセレニル,アリールス
ルフイニル,アルキルスルフイニルなどである。
これらの脱離基は反応中に脱離するので、その構
造は広範な変化が可能であり、本発明に重要な意
味を持たないことが多い。
本発明の化合物()は、以下に示すような化
合物を意味する。( 9 ) 5- Aminoadipoyl , C 1 ~C 10 alkanoyl, aroyl, aralkanoyl, haloalkanoyl, or 5-aminoadipoyl, alkyl with amino group protected with alkoxycarbonyl,
5-aminoadipoyl with carboxy protected with aryl, aralkyl, or alkylsilyl; (10) Formula: L-O-CO- (where L is appropriately substituted and easily removable)
C 1 -C 10 hydrocarbon groups (e.g. t-butyl, 1,
1-dimethylpropyl, cyclopropylmethyl, cyclopropylethyl, 1-methylcyclohexyl, isobornyl, 2-methoxy-t-
(11) Derived from C 4 to C 10 polybasic carboxylic acids diacyl (e.g., succinyl, maleoyl, phthaloyl, pyridine-2,3-dicarbonyl, etc.); (12) optionally substituted C 1 -C 20 hydrocarbon group (e.g., methyl, ethyl, t -butyl,
Trityl, methylidene, benzylidene, hydroxybenzylidene, α-halobenzylidene, α
(13) C 3 to C 10 organic Silyl (e.g. trimethylsilyl, dimethylmethoxysilyl, chlorodimethylsilyl, methyldimethoxysilyl, methylethylenedioxysilyl); (14) C3 - C10 organostannyl (e.g. trimethylstannyl, dimethylmethoxystannyl, chlorodimethylstannyl); and (15) C1 - C10 sulfenyl (e.g., methylthio, phenylthio, o-nitrophenylthio, etc.). fluoro, chloro, bromo, etc.), nitrogen functional groups (e.g. amino, hydrazinyl, azide, alkylamino, arylamino, acylamino, alkylidene amino, acylimino, imino, nitro, etc.),
Oxygen functional groups (e.g. hydroxy, alkoxy,
aralkoxy, aryloxy, acyloxy,
oxo), sulfur functional groups (e.g. mercapto,
Alkylthio, aralkylthio, arylthio,
Acylthio, thioxo, sulfo, sulfonyl, sulfinyl, alkoxysulfonyl, aryloxysulfinyl, carbon functional groups (e.g. alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, carboxy, carbalkoxy, carbamoyl, alkanoyl, aroyl, aminoalkyl, aralkanoyl, cyano, etc.) , phosphorus functional groups (e.g. phospho,
phosphoroyl, etc.) may be substituted as appropriate. Among the above amino-protecting groups, the acyl group constituting the side chain in penicillin and cephalosporin is particularly important, but since it can be removed or introduced by conventional methods at any stage after the reaction, its composition varies between raw materials and final products. A wide range of changes are possible regardless of the structure, and the main focus is on stability against reactions. Also, groups that can be converted to amino or amide (e.g. enamino, amide, azide, isocyanato,
isocyano) and cyclic groups (e.g. 4-phenyl-2,2-dimethyl-5-oxoimidazolidin-1-yl, 4-p-hydroxyphenyl-2,
2-dimethyl-3-nitroso-5-oxoimidazolidin-1-yl, 4-p-hydroxyphenyl-2-phenyl-5-oxoimidazolidine-
1-yl, 4-thienyl-5-oxoimidazolidin-1-yl, etc.) are also included within the scope of A. The protected carboxy group represented by COB is
It is commonly used in the chemistry of β-raftam and can withstand the reaction conditions of this reaction.
Protecting groups B include (1) ester-forming groups [e.g. C 1 -C 10 alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, monohydroxy-t-butoxy, methoxy-t-butoxy, cyclo Propylmethoxy, pentyloxy, isopentyloxy, cyclopropylethoxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, octyloxy,
decyloxy, etc.), C1 - C6 haloalkoxy (e.g. chloromethoxy, chloroethoxy, bromoethoxy, iodoethoxy, dichloropropoxy, trichloroethoxy, trichlorobutoxy, dibromocyclohexyloxy, etc.),
C3 - C10 acylalkoxy (e.g. acetonyloxy, acetyl ethoxy, propionylmethoxy, phenacyloxy, chlorophenacyloxy, bromophenacyloxy, nitrophenacyloxy, methylphenacyloxy, etc.),
C3 to C10 alkoxyalkoxy (e.g. methoxymethoxy, ethoxymethoxy, chloroethoxymethoxy, propoxyethoxy, butoxyethoxy, cyclohexyloxyethoxy, methoxyethoxymethoxy, butoxyethoxymethoxy, octyloxyethoxy, etc.), C2 to C10
Aminoalkoxy (e.g. aminomethoxy, aminoethoxy, dimethylaminoethoxy, ethylaminomethoxy, etc.), aryloxy (e.g. phenoxy, chlorophenoxy, nitrophenoxy, naphthyloxy, pyridyloxy,
indolyloxy, indanyloxy, pentachlorophenoxy), aralkoxy (e.g. benzyloxy, methylbenzyloxy, xylylmethoxy, chlorobenzyloxy, bromobenzyloxy, methoxybenzyloxy,
Ethoxybenzyloxy, nitrobenzyloxy, dibromobenzyloxy, phenethyloxy, phthalidyloxy, p-hydroxy-di-
t-butylbenzyloxy, diphenylmethoxy, trityloxy, etc.), C1 - C10 alkylsilyloxy (e.g. trimethylsilyloxy,
( 2 ) Anhydride -forming groups [ e.g. C 10 organic acyloxy (e.g. acetoxy, propionyloxy, sulfonyloxy, etc.), inorganic acyloxy (e.g. acyloxy such as sulfuric acid, perchlorate, etc.); (3) Salt-forming groups [e.g. metals of the periodic table or groups of metals; oxy (e.g. lithium oxy, sodium oxy , potassium oxy, magnesium oxy, etc.), C 1 -C 15 hydrocarbylammonium oxy (e.g. triethylammonium oxy, dicyclohexylammonium oxy, etc.); (5) Amide-forming groups [e.g. C 1 -C 5 alkylamino (e.g. methylamino, ethylamino, propylamino, butylamino, pentylamino, etc.), di-C 1 -C 5 Alkylamino (e.g. dimethylamino, diethylamino, piperidyl, morpholin-1-yl, methylmorpholine-1-
and (6) a hydrazide or azide forming group. Since these protecting groups are usually removed after the reaction, changes in their structure often have no important meaning for this invention. The nucleophilic group represented by X includes all groups that are substituted with an acetoxy group at the 3-position in the chemistry of cephalosporin. For example, halogen (chloro, bromo, etc.), hydroxy, optionally substituted C1 - C4 alkanoyloxy (formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, malonyloxy, succinoyloxy, cyanoacetoxy, glycyloxy, alanyloxy, glycoloyloxy, glyoxyloyloxy, phenoxyacetoxy, sulfopropionyloxy, chloroacetoxy, dichloroacetoxy, trifluoroacetoxy, etc.), aroyloxy (benzoyloxy, naphthoyloxy, etc.), which may be substituted as appropriate Acyloxy of carbonic acid (chloroformyloxy, methoxyformyloxy, trichloroethoxyformyloxy, cyclopropylmethoxyformyloxy, methanesulfonylethoxyformyloxy, etc.), C 1 - C 6 alkoxy (methoxy,
ethoxy, propoxy, butoxy, s-butoxy, cyclopropylmethoxy, cyclohexyloxy, etc.), aralkoxy (benzyloxy, furfuryloxy, naphthylmethoxy, etc.), aryloxy (phenoxy, naphthyloxy, indanyloxy, etc.), mercapto, C 1 ~ C5 alkanoylthio (acetylthio, propionylthio,
butyrylthio, etc.), aroylthio (benzoylthio, naphthoylthio, etc.), thiocarbamoylthio, methylthiocarbamoylthio, C1 - C6 alkylthio (methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, cyclopropylmethylthio,
cyclopropylethylthio, etc.), aralkylthio (benzylthio, picolylthio, phenethylthio, etc.), and arylthio (phenylthio, triazolylthio, thiadiazolylthio, oxadiazolylthio, tetrazolylthio, etc.).
All of these groups include optionally substituted alkyl (methyl, ethyl, hydroxymethyl, hydroxyethyl, carboxymethyl, carboxyethyl, sulfoethyl, dimethylaminoethyl, dimethylaminopentyl, morpholinoethyl, etc.), nitrogen functional groups (amino, azide, hydrazinyl, acetylamino, methylamino, pyridinium, picolinium, 4-carboxypyridinium, carbamoylpyridinium, hydroxymethylpyridinium, carboxymethylpyridinium, chloropyridinium, etc.). The leaving group represented by Z is the anionic part of the nucleophile, such as halogen (chloro, bromo, iodo, etc.), hydroxy, acyloxy of C 1 to C 8 carboxylic acids (acetoxy, trifluoroacetoxy, etc.). ), acyloxy sulfonic acids (methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, bromobenzenesulfonyloxy, etc.), arylthio (phenylthio), arylsulfenyl (phenylsulfenyl, etc.), arylselenyl, arylsulfinyloxy Nyl, alkylsulfinyl, etc.
Since these leaving groups are eliminated during the reaction, their structure can vary widely and are often of no significance to the invention. The compound () of the present invention means a compound as shown below.
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】または[expression] or
【式】
(但し、A,E,COB,XおよびZは前記と同
意義)
本発明の化合物()すなわち(a),(
b),(c),または(d)は、以下に示すよ
うな閉環反応,メトキシ化,XZの付加反応など
を順次あるいは適宜組み合わせて行なうことによ
り容易に製造しうる。
(1) 閉環反応
(カツコ内の数字は、骨核の位置番号を示す。)
(2) メトキシ化
(3) XZ付加反応
(4) その他の変換反応
(上記工程式において、
A,E,COB,X,およびZは前記と同意
義;
Y1はYまたは[Formula] (However, A, E, COB,
b), (c), or (d) can be easily produced by carrying out the following ring-closing reaction, methoxylation, addition reaction of XZ, etc. sequentially or in an appropriate combination. (1) Ring-closing reaction (The numbers inside the brackets indicate the position numbers of the bone nucleus.) (2) Methoxylation (3) XZ addition reaction (4) Other conversion reactions (in the above process formula, A, E, COB, X, and Z have the same meanings as above; Y 1 is Y or
【式】
Rはアシルからカルボニルを除いた基;をそ
れぞれ意味する。)
上記定義において、Rで示されるアシルからカ
ルボニルを除いた基とは、具体的には、前記Aの
項でアミノ保護基として例示したアシルからカル
ボニルを除いた基を意味する。すなわち、RCO
はAの定義内に含まれる。
本発明の方法によれば、原料物質として化合物
()を用いることにより、閉環反応に際してヒ
ドロキシ基の酸素原子が環結合の反対側から結合
するため、6位における好ましい立体異性体
(6β体)のみをかつ高収率で得ることができる。
従つて、本発明の方法は、6位異性体が生じると
いう従来の合成法の欠点を改善したすぐれた方法
である。
以下に、各工程を詳述する。
(1) 閉環反応
オキサゾリノアゼチジン類()を酸で処理
すると、閉環して化合物()を得る。
酸としては、鉱酸(塩酸,臭化水素酸,硝
酸,硫酸,リン酸など),スルホン酸(メタン
スルホン酸,エタンスルホン酸,ベンゼンスル
ホン酸,トルエンスルホン酸,ブロモベンゼン
スホン酸,トリフルオロメタンスルホン酸,ナ
フタレンスルホン酸など),強酸性のカルボン
酸(トリクロロ酢酸,トリフルオロ酢酸など)、
ルイス酸(三フツ化ホウ素,塩化亜鉛,塩化第
一スズ,塩化第二スズ,臭化第一スズ,三塩化
アンチモン,五塩化アンチモン,三塩化チタン
など)などを用いうる。
反応は、通常不活性溶媒中で行なう。不活性
溶媒としては、たとえば、炭化水素系溶媒(ヘ
キサン,シクロヘキサン,ベンゼン,トルエン
など),ハロ炭化水素類(塩化メチレン,クロ
ロホルム,ジクロロエタン,四塩化炭素,クロ
ロベンゼンなど),エーテル類(ジエチルエー
テル,ジイソブチルエーテル,ジオキサン,テ
トラヒドロフランなど),エステル類(酢酸エ
チル,酢酸ブチル,安息香酸メチルなど),ケ
トン類(アセトン,メチルエチルケトン,シク
ロヘキサノンなど),スルホキシド(ジメチル
スルホキシドなど),ニトリル類(アセトニト
リル,ベンゾニトリルなど)などを単独で、ま
たは数種以上を混合して用いる。水酸基を有す
る溶媒、例えば水、アルコール類(メタノー
ル,エタノール,t―ブタノール,ベンジルア
ルコール)、酸(ギ酸,酢酸,プロピオン酸な
ど)などは原料物質()と反応して副生物を
生成するため好ましくないが、反応条件を調整
すれば使用可能である。
反応は通常−30℃から50℃、好ましくは15℃
〜30℃で達成され、5分〜10時間、通常は15分
〜3時間で完了して目的物()を高収量で得
ることができる。
必要ならば、本反応は撹拌下に行なつたり、
あるいは不活性気体(たとえば窒素,アルゴ
ン,二酸化炭素など)中で行なつてもよい。
オキサゾリノアゼチジン()のY1に連接
した末端ヒドロキシ基は、容易に除去しうるヒ
ドロキシ保護基、たとえばホルミル、テトラヒ
ドロピラニルなどであらかじめ保護しておいて
もよい。
本工程は、たとえば、オキサゾリノアゼチジ
ン()を5〜10倍量の炭化水素系溶媒(クロ
ロホルム,塩化メチレンなど)および0〜10倍
量のエーテル系溶媒(エーテル,ジオキサンな
ど)の混液に溶かし、これに0.001〜1モル当
量の酸(三フツ化ホウ素エーテレート,トルエ
ンスルホン酸,硫酸銅,塩化亜鉛,塩化スズな
ど)を加えた後、溶液を10〜60℃で0.5〜10時
間保つと化合物()を約50〜90%の収率で得
ることができる。
原料物質()は6―エピペニシリン―1―
オキシドからたとえば次のような反応工程図に
従つて製造しうる。
(R,COB,およびXは上記と同意義)
(2) メトキシ化
E基の水素からメトキシ基への変換は、まず
側鎖Aの―NH―部分を酸化してイミノ:―N
=(7位におけるエキソ体)を形成させた後、
メタノールを加えることにより達成しうる。
Aがアミノまたはアミドである時は、化合物
(a)をN―ハロゲン化剤で処理し、塩基を
加えてハロゲン化水素を脱離させ、得られたイ
ミノ化合物をメタノールで処理すると、Eがα
―メトキシである目的物質()を得る。N―
ハロゲン化剤の添加によつて、分子内の他の部
分がハロゲン化されて過ハロゲン体となること
があるが、還元によつて過剰のハロゲンを除去
しうる。本工程は以下の(i)〜(iv)のいずれかの方
法により達成される。
(i) アミンまたはアミドをN―ハロゲン化剤
(たとえば、分子状ハロゲン、t―ブチルヒ
ポクロライト)ついでメタノール中アルカリ
金属メトキシド(LiOCH3,NaOCH3,
KOCH3など)またはアルカリ土類金属メト
キシド(Mg(OCH3)2,Ca(OCH3)2,Ba
(OCH3)2など)で処理する。;
(ii) 塩基およびフエニルリチウムの存在下、要
すれば溶媒(テトラヒドロフランなど)中、
t―ブチルヒポハライトとメタノールを作用
する。;
(iii) 臭素―DBU,五塩化リン―ピリジン,塩
基,メタノール性塩基,および塩化トリアル
キルシリルまたは塩化テトラアルキルアンモ
ニウムを順次作用する。;または
(iv) ホウ酸ナトリウムの存在下、メタノール中
t―ブチルヒポハライトを作用し、過ハロゲ
ン化体が部分的に生じた時は、亜鉛,亜リン
酸塩などで還元する。
また化合物(a)(E=H、A=NH2)
は適当なアルデヒド(ベンズアルデヒド,p
―ヒドロキシベンズアルデヒド,3,5―ジ
―t―ブチル―4―ヒドロキシベンズアルデ
ヒド)で処理してシツフ塩基を形成させ、酸
化してイミノ体とした後メタノールで処理
し、ついで加水分解すると目的化合物()
(E=OCH3,A=NH2)を得る。
本工程を具体的に述べれば、アミド(a)
を10〜50倍量の不活性溶媒(ジクロロメタン,
ジオキサン,エーテル,ジブロピルエーテル,
テトラヒドロフランなど)に溶かし、1〜5モ
ル当量のN―ハロゲン化剤(分子状ハロゲン/
四塩化炭素,t―ブチルヒポクライトなど)を
加えて−70〜−10℃で2〜10分間撹拌し、1〜
4当量の金属メトキシド(LiOCH3、Mg
(OCH3)2など)のメタノール溶液を加え、−50
〜0℃で5〜70分間撹拌する。反応混液を酢酸
または鉱酸で中和した後有機溶媒で抽出する
と、Eがメトキシである化合物()を得る。
このような操作によれば、収率は通常95%まで
上がる。
(3) 付加反応
3位にエキソメチレンを有する化合物(
c)は不活性溶媒(炭化水素,ハロ炭化水素,
エーテル,エステル系などの溶媒)中、付加試
薬XZ[分子状ハロゲン,過酸,過酸化物,ヒポ
ハライト塩,ヒポハライトエステル,重金属の
過酸化物(四酸化オスミウムなど)、スルフエ
ニルハライドなど]を加えると、Yが式:[Formula] R means a group obtained by removing carbonyl from acyl. ) In the above definition, the group represented by R, obtained by removing carbonyl from acyl, specifically means a group obtained by removing carbonyl from acyl, which is exemplified as an amino protecting group in the section A above. That is, R.C.O.
is included within the definition of A. According to the method of the present invention, by using the compound ( ) as a starting material, the oxygen atom of the hydroxyl group bonds from the opposite side of the ring bond during the ring-closing reaction, so that only the preferred stereoisomer (6β form) at the 6-position is present. can be obtained in high yield.
Therefore, the method of the present invention is an excellent method that improves the drawback of the conventional synthetic method that a 6-position isomer is produced. Each step will be explained in detail below. (1) Ring-closing reaction When oxazolinoazetidines () are treated with acid, the ring is closed to obtain compound (). Examples of acids include mineral acids (hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc.), sulfonic acids (methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, bromobenzenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid) acids, naphthalenesulfonic acid, etc.), strongly acidic carboxylic acids (trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.),
Lewis acids (boron trifluoride, zinc chloride, stannous chloride, stannic chloride, stannous bromide, antimony trichloride, antimony pentachloride, titanium trichloride, etc.) can be used. The reaction is usually carried out in an inert solvent. Examples of inert solvents include hydrocarbon solvents (hexane, cyclohexane, benzene, toluene, etc.), halohydrocarbons (methylene chloride, chloroform, dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene, etc.), ethers (diethyl ether, diisobutyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), nitriles (acetonitrile, benzonitrile, etc.) These can be used alone or in combination. Solvents with hydroxyl groups, such as water, alcohols (methanol, ethanol, t-butanol, benzyl alcohol), acids (formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.), are preferred because they react with the raw material () to produce by-products. However, it can be used by adjusting the reaction conditions. The reaction is usually carried out at -30°C to 50°C, preferably 15°C.
It is achieved at ~30°C and can be completed in 5 minutes to 10 hours, usually 15 minutes to 3 hours, to obtain the desired product () in high yield. If necessary, the reaction can be carried out under stirring or
Alternatively, it may be carried out in an inert gas (eg nitrogen, argon, carbon dioxide, etc.). The terminal hydroxy group connected to Y 1 of oxazolinoazetidine ( ) may be protected in advance with an easily removable hydroxy protecting group such as formyl, tetrahydropyranyl, etc. In this step, for example, oxazolinoazetidine () is mixed with a 5 to 10 times amount of a hydrocarbon solvent (chloroform, methylene chloride, etc.) and a 0 to 10 times amount of an ether solvent (ether, dioxane, etc.). After melting and adding 0.001 to 1 molar equivalent of acid (boron trifluoride etherate, toluene sulfonic acid, copper sulfate, zinc chloride, tin chloride, etc.), the solution is kept at 10 to 60℃ for 0.5 to 10 hours. Compound () can be obtained in yields of about 50-90%. Raw material () is 6-epipenicillin-1-
It can be produced from oxide according to the following reaction scheme, for example. (R, COB, and
After forming = (exo form at position 7),
This can be achieved by adding methanol. When A is amino or amide, when compound (a) is treated with an N-halogenating agent, a base is added to eliminate the hydrogen halide, and the resulting imino compound is treated with methanol, E becomes α
- Obtain the target substance () which is methoxy. N-
When a halogenating agent is added, other parts within the molecule may be halogenated to form a perhalogen, but excess halogen can be removed by reduction. This step is achieved by any of the following methods (i) to (iv). (i) The amine or amide is treated with an N-halogenating agent (e.g., molecular halogen, t-butyl hypochlorite) and then with an alkali metal methoxide (LiOCH 3 , NaOCH 3 ,
KOCH 3 ) or alkaline earth metal methoxides (Mg( OCH3 ) 2 , Ca( OCH3 ) 2 , Ba
(OCH 3 ) 2 , etc.). (ii) in the presence of a base and phenyllithium, optionally in a solvent (such as tetrahydrofuran);
Use t-butyl hypohalite and methanol. (iii) Bromine-DBU, phosphorus pentachloride-pyridine, base, methanolic base, and trialkylsilyl chloride or tetraalkylammonium chloride are reacted sequentially. or (iv) Treat t-butylhypohalite in methanol in the presence of sodium borate, and if a perhalogenated product is partially generated, reduce with zinc, phosphite, etc. Also, compound (a) (E=H, A=NH 2 )
is a suitable aldehyde (benzaldehyde, p
-Hydroxybenzaldehyde, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzaldehyde) to form Schiff's base, oxidize to imino form, treat with methanol, and then hydrolyze to form the target compound ().
(E=OCH 3 , A=NH 2 ) is obtained. To describe this process specifically, amide (a)
with 10 to 50 times the volume of an inert solvent (dichloromethane,
dioxane, ether, dibropylether,
1 to 5 molar equivalents of an N-halogenating agent (molecular halogen/
carbon tetrachloride, t-butyl hypocrite, etc.) and stir at -70 to -10°C for 2 to 10 minutes, and then
4 equivalents of metal methoxide (LiOCH 3 , Mg
Add a methanol solution of ( OCH3 ) 2 , etc.) and bring to -50
Stir for 5-70 minutes at ~0°C. When the reaction mixture is neutralized with acetic acid or mineral acid and extracted with an organic solvent, a compound () in which E is methoxy is obtained.
With such operations, yields are usually up to 95%. (3) Addition reaction Compounds with exomethylene at the 3rd position (
c) is an inert solvent (hydrocarbon, halohydrocarbon,
Addition reagent XZ [molecular halogen, peracid, peroxide, hypohalite salt, hypohalite ester, heavy metal peroxide (osmium tetroxide, etc.), sulfenyl halide, etc. ], Y becomes the formula:
【式】
(但し、COB,XおよびZは前記と同意義)
で示される二価の基の化合物(a)を得る。
付加反応は、不活性溶媒中、特にハロ炭化水
素系またはエーテル系溶媒中、低塩で、すなわ
ち−70〜0℃で円滑に進行し、5分〜10時間で
完了する。また、3位におけるエキソメチレン
の二重結合の高い反応性のために、収率は90%
にまで達する。試薬が分子状ハロゲンである
時、光照射または触媒(Cu,Cu2S,Cu2Cl2,
ph3POなど)の添加によりハロゲン化を進行す
ることができ、かつ収率をあげることができ
る。
(4) その他の変換反応
化合物()は、β―ラクタム化学において
常法の変換反応(たとえば塩基による二重結合
の転移、COBで示されるカルボキシの保護ま
たは保護されたカルボキシの脱保護、Aで示さ
れるアミノの保護または保護されたアミノの脱
保護,求核試薬によるXまたはZ基の導入また
は変換,アシル化,加水分解,酸化,還元など
の変換反応によるXまたはZの変換など)を施
せば別の化合物()に変換しうる。
これらの反応は炭化水素系溶媒(ヘキサン,ト
ルエンなど)、ハロ炭化水素系溶媒(ジクロロメ
タン,クロロベンゼンなど),エーテル系溶媒
(ジエチルエーテル,ジオキサンなど),ケトン系
溶媒(アセトン,シクロヘキサノン,ベンゾフエ
ノンなど),エステル系溶媒(酢酸エチル,安息
香酸メチルなど)、アルコール系溶媒(エタノー
ル,t―ブタノール,ベンジルアルコールなど),
アミド,カルボン酸など有機反応に通常用いうる
溶媒中で行なう。
上記のようにして製造した化合物()は、濃
縮,抽出,洗浄,乾燥またはその他の常法により
溶媒,未反応物質,副生物などから単離し、再沈
殿,クロマトグラフイー,結晶,吸着などにより
精製しうる。3位または7位における立体異性体
は、クロマトグラフイー,分別再結晶などによつ
て分離することができる。立体異性体の混合物は
分離することなく次の工程または合成反応に用い
てもよい。
上記工程中、二重結合の転移、求核基の導入、
脱離などの副反応が反応中に生じることがある
が、これらの副反応も有効に利用することがで
き、本発明の範囲内とする。
本発明の化合物()は、公知の抗菌剤、たと
えば1―オキサセフアロスポリン類の合成原料と
して使用できる(特開昭49―133594および51―
149295参照)。すなわち、Δ3への二重結合の転
移、抗菌作用を示すに適当な側鎖へのA基の変
換、および/またはCOBで示される保護された
カルボキシの脱保護などの操作を化合物()に
施すことによつて合成することができる。
例えば、以下の工程図に示すように
(a) 化合物(a)からHZが脱離すると1―デ
チア―1―オキサセフアロスポリン()を得
る。
(b) 化合物(d)に0〜70℃で5時間〜3日間
塩基(たとえばトリメチルアミンなど)を作用
すると二重結合が転位して1―デチア―1―オ
キサセフアロスポリン()を得る。
(c) 化合物(a)を0℃〜50℃で0.1〜1時間
ルイス酸(たとえば三フツ化ホウ素)で処理す
ると閉環して1―デチア―1―オキサセフアロ
スポリン()を得る。
本発明の化合物()(A=7β―アミド、COB
=COOH)またはその製薬上許容しうる塩は、
それ自体緩和な抗菌作用を有しており、希釈剤な
どを添加して、感受性のグラム陽性菌(たとえば
(ストレプトコツカス・ピオゲネス)またはグラ
ム陰性菌(たとえばエシエリヒア・コリ)による
疾患に、1日0.1〜10g注射すればよい。
以下に実施例を示して本発明の態様を明らかに
する。
実施例における化合物の命名および位置番号は
次のとおりである。
1βH,5βH―または(1R,5S)―7―オキソ
―4―オキサ―2,6―ジアザビシクロ[3.2.0]
ヘプト―2―エン
1―デチア―1―オキサセフアム
オキサセフアムの7位および6位の炭素の立体
配置は、オキサビシクロヘプトエンの1位および
5位の立体配置と同じになる。
1―デチア―1―オキサセフアム環の6位炭素
における立体化学は、セフアロスポリンの6位炭
素の立体化学と一致する。
COBの立体化学はペニシリンと同じであるの
が好ましいが、すなわちR配位が好ましいが、必
ずしもそうでなくてもよい。
以下の実施例における測定誤差は、IRは±10
cm-1,NMRは±0.2ppm以内であり、融点は正確
ではない。溶液の乾燥には無水硫酸ナトリウムを
用いている。
生成物の物理恒数は表に記載している。
閉環反応
実施例 ―1〜32
オキサゾリノアゼチジンを溶媒に溶かし、酸を
加えると、1―デチア―1―オキサセフアム化合
物を得る。表にその反応条件を示す。
No.14を例にとつて、以下に詳細に示す。
(1) 2―[(1R、5S)―3―フエニル―7―オキ
サ―4―オキサ―2,6―ジアザビシクロ
[3.2.0]ヘプト―2―エン―6―イル]―2―
イソプロペニル酢酸ジフエニルメチル12.0g,
四酸化オスミウム1.0gおよび塩素酸カリウム
12.0gをテトラヒドロフラン400mlと水200mlの
混液に溶かし、58℃で3.5時間撹拌する。冷却
後、反応混液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する。抽出液を食塩水、10%チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液で
順次洗い、乾燥し、溶媒を留去すると、2―
[(1R、5S)―3―フエニル―7―オキソ―4
―オキサ―2,6―ジアザビシクロ[3.2.0]
ヘプト―2―エン―6―イル]―3,4―ジヒ
ドロキシ酪酸ジフエニルメチル12.88gを得る。
IR:νCHCl3 nax3500br,1770br,1742,1636cm-1
(2) 上記生成物10.88gをジエチルエーテル300ml
に溶かし、三フツ化ホウ素エーテレート75μ
を加え、窒素気流中、室温で3.5時間撹拌し、
冷却した炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄
濃縮する。残渣を塩化メチレンとエーテルの濃
液で処理すると、7α―ベンズアミド―3ξ―メ
チル―3ξ―ヒドロキシ―1―デチア―1―オ
キサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニルメ
チルの3位における異性体混合物15gを得る。
IR:νCHC13 nax3560,3445,1774,1739,1670cm
-1
異性体混合物を10%含水シリカゲルのカラム
クロマトグラフイーに付し、ベンゼン―酢酸エ
チル(4:1)で溶出する。溶出液をアセトン
―エーテル,およびアセトン―塩化メチレンで
それぞれ結晶化すると、立体異性体を分離する
ことができる。
実施例 ―33
(a) 2―[(1R、5S)―3―フエニル―7―オキ
ソ―4―オキサ―2,6―ジアザビシクロ
[3.2.0]ヘプト―2―エン―6―イル)]―3
―ホルミルオキシメチル―2―ブテン酸ベンジ
ル54mgをメタノール2mlに溶かし、三フツ化ホ
ウ素エーテレート19μを−20℃で冷却しなが
ら加え、混液を−20℃〜0℃で40分間,0℃で
2時間、ついで室温で1時間撹拌する。これに
5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メ
チレンで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥した
後溶媒を留去する。残渣をメタノールから結晶
化すると7α―ベンズアミド―3―メチル―1
―デチア―1―オキサ―3―セフエム―4―カ
ルボン酸ベンジル10mg(収率20%)を得る。
mp.208〜212℃
(b) 三フツ化ホウ素のかわりにトリフルオロメタ
ンスルホン酸5μを水冷しながら加えて130分
間撹拌するか、または0.38N塩酸―メタノール
0.5mlを加えて3時間撹拌し、他は上記と同様
の操作を行なえば同一物質(14mg;5mg)(収
率27.5%;7%)を得る。mp・208〜212℃
メトキシ化
実施例 ―1〜24
7β―不飽和―7α―アミド―1―デチア―1―
オキサセフアム化合物を溶媒に溶かし、N―ハロ
ゲン化剤と塩基をメタノール中に作用させると
7α―メトキシ―7β―アミド化合物を得る。表
にその反応条件を示す。
(No.5)
7α―ベンズアミド―3α―ヒドロキシ―3β―メ
チル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―
カルボン酸ジフエニルメチル486mgを無水塩化メ
チレン20mlに溶かし、t―ブチルヒポクロライト
0.15mlおよび2Nリチウムメトキシドのメタノー
ル溶液1.1mlを−50℃で加え、15分間撹拌する。
これに酢酸1.2mlを加え、5分間撹拌した後、氷
冷した炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、塩化
メチレンで抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで水で洗浄した後、溶媒を留去す
る。得られた無色泡状残渣をシリカゲルのクロマ
トグラフイーで精製すると7β―ベンズアミド―
7α―メトキシ―3α―ヒドロキシ―3β―メチル―
1―デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボ
ン酸ジフエニルメチル250mg(収率48%)を得る。
(No.9)
7α―ベンズアミド―3ξ―ブロモ―3ξ―ブロモ
エチル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α
―カルボン酸ジフエニルメチル187mgを無水塩化
メチレン1mlに溶かし、−30℃でt―ブチルヒポ
クロライト46μおよび2Mリチウムメチトキシ
ドのメタノール溶液0.17mlを加え、同温で1時間
撹拌する。これに、1―メチルテトラゾール―5
―イルメルカプチドナトリウム100mgのアセトン
1ml溶液を加え、室温で1.5時間撹拌する。反応
混液を塩化メチレンで希釈し、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで食塩水で洗い、乾燥し、溶媒を留
去する。残渣180mgをシリカゲルのカラムクロマ
トグラフイーに付し、ベンゼン―酢酸エチル
(1:1)で溶出すると、7β―ベンズアミド―7α
―メトキシ―3―(1―メチルテトラゾール―5
―イル)チオメチル―1―デチア―1―オキサ―
3―セフエム―4―カルボン酸ジフエニルメチル
108mgを得る。
付加反応
実施例 ―1〜16
3,3―メチレン―1―デチア―1―オキサセ
フアム化合物を溶媒に溶かし、付加試薬XZを加
える。表にその反応条件を示す。
(No.3)
7α―ベンズアミド―3―エキソメチレン―1
―デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン
酸ジフエニルメチル519mgを塩化メチレン5mlに
溶かし、0.76N塩素/四塩化炭素溶液1.6mlを加
え、−20〜−30℃で40分間タングステン灯で照射
しながら撹拌する。これにシクロペンテン0.14ml
を加え、更に5分間撹拌する。反応混液に1,5
―ジアザビシクロ[3.4.0]ノネン−50.14mlを加
え、−20℃で10分間撹拌し、希塩酸ついで水で洗
い、乾燥し、溶媒を留去する。結晶性残渣をメタ
ノールから再結晶化すると、7α―ベンズアミド
―3―クロロメチル―1―デチア―1―オキサ―
3―セフエム―4―カルボン酸ジフエニルメチル
484mg(収率86%)を得る。mp.120〜128℃
(No.4)
7α―ベンズアミド―3―メチレン―1―デチ
ア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフ
エニルメチル103mgを塩化メチレン1mlに溶かし、
0.75N塩素の四塩化炭素溶液0.3mlを加え、−20〜
−30℃で30分間タングステン灯で照射下に反応さ
せた後、減圧下で溶媒を留去すると7α―ベンズ
アミド―3ξ―クロロ―3ξ―クロロメチル―1―
デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸
ジフエニルメチル120mgを得る。
(No.5)
同様にして7α―ベンズアミド―3―メチレン
―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―カル
ボン酸ベンジル141mgと塩素1.4当量とを塩化メチ
レン3ml中−50℃で光照射下に反応させれば7α
―ベンズアミド―3ξ―クロロ―3ξ―クロロメチ
ル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―カ
ルボン酸ベンジル170mg(収率102%)を得る。
(No.15)
上記と同様にして、7α―フエニルアセトアミ
ド―3―メチレン―1―デチア―1―オキサセフ
アム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル705mgに
塩化メチレン7ml中、−25℃以下で塩素1.77当量
を作用させれば、7α―フエニルアセトアミド―
3ξ―クロロ―3ξ―クロロメチル―1―デチア―
1―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニ
ルメチルを得る。
これにピリジン0.16mlを15℃で40分間作用させ
れば、7α―フエニルアセトアミド―3―クロロ
メチル―1―デチア―1―オキサ―3―セフエム
―4―カルボン酸ジフエニルメチル586mg(収率
78.4%)を得る。mp.179〜182℃(分解)。
実施例 ―17
7α―ベンズアミド―3―メチレン―1―デチ
ア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフ
エニルメチル1.405g(3ミリモル)を−26℃に
冷却した無水塩化メチレンに溶かし、窒素気流中
撹拌下に銅末141mgを加え、1.2M塩素―クロロホ
ルム溶液6.3ml(2.5当量)を10分間を要して滴下
し、−22〜−30℃で3時間撹拌する。これに、チ
オスルホン酸ナトリウム・5水和物(2.98g;4
当量)の水溶液を加え、塩化メチレンで2回抽出
する。抽出液を食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥した後溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
190gのクロマトグラフイーに付し、ベンゼン―
エチルアセテート(3:1)で溶出すれば、7α
―ベンズアミド―3α―クロロ―3β―クロロメチ
ル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―カ
ルボン酸ジフエニルメチル1.541g(収率95.2%)
を白色泡状物として得る。
その他の変換反応
A 脱離反応
実施例 A―1〜20
1―デチア―1―オキサセフアム化合物を溶液
に溶かし、脱離剤を使用すれば1―デチア―1―
オキサセフアム化合物を得る。表―Aにその反
応条件を示す。
(No.12)
7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロキシ―3ξ―メ
チル―1―オキサデチアセフアム―4α―カルボ
ン酸ジフエニルメチル15.0gを塩化メチレン100
mlに溶かし、ピリジン6.8mlおよび塩化チオニル
3mlを氷冷撹拌下に加え、同温で7.25時間および
室温で2.25時間撹拌した後、氷水中に注ぐ。有機
層を分取し、水洗した後、乾燥し溶媒を留去す
る。残渣を10%含水シリカゲル350gのクロマト
グラフイーに付し、ベンゼン―酢酸エチル(9:
1)で溶出すると、7α―ベンズアミド―3―メ
チル―1―デチア―1―オキサ―3―セフエム―
4―カルボン酸ジフエニルメチル2.65g(収率:
25.2%)および7α―ベンズアミド―3―メチル―
1―デチア―1―オキサ―2―セフエム―4α―
カルボン酸ジフエニルメチル1.05g(収率:10.8
%)を得る。
(IR:νCHC13 nax3440,1782,1745,1676,1663Sh
cm-1)
B 二重結合の転移
実施例 B―1
7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3―メチ
ル―1―デチア―1―オキサ―2―セフエム―カ
ルボン酸100mgをアセトン10mlに溶かし、トリエ
チルアミン0.1mlを加え、室温で6日間放置する。
反応液を薄層クロマトグラフイーにかけると、
7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3―メチル
―1―デチア―1―オキサ―3―セフエム―4―
カルボン酸および原料のスポツトを示す。
実施例 B―2
7α―ベンズアミド―3,3―メチレン―1―
デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸
ジフエニルメチル5.0gを塩化メチレン25mlに溶
かし、トリエチルアミン0.5mlを加える。室温で
80分間撹拌し、ベンゼンを少量加えた後濃縮す
る。残渣をエーテルから結晶化すると、7α―ベ
ンズアミド―3―メチル―1―デチア―1―オキ
サ―3―セフエム―4―カルボン酸ジフエニルメ
チル4.5g(収率90%)を得る。
混液を室温で15時間放置した後、クロマトグラ
フで分離すると、Δ2異性体50.8%,Δ3異性体38.3
%およびそれらの混合物4.1%を得る。
実施例 B―3
7α―ベンズアミド―3,3―メチレン―1―
デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸
100mgをアセトン10mlに溶かし、トリエチルアミ
ン0.1mlを加え、5日間放置する。反応混液を薄
層クロマトグラフイーに付せば、7α―ベンズア
ミド―3―メチル―1―デチア―1―オキサ―2
―セフエム―4―カルボン酸,7α―ベンズアミ
ド―3―メチル―1―デチア―1―オキサ―3―
セフエム―4―カルボン酸および原料物質のスポ
ツトを示す。
C カルボキシ保護基の除去
実施例 C―1
7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3α―メチ
ル―3β―アセトキシ―1―デチア―1―オキサ
セフアム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル960
mgをアニソール4mlに溶かし、0℃でトリフルオ
ロ酢酸10mlを加えて15分間撹拌し、減圧下で溶媒
を留去する。残渣をエーテル―n―ヘキサンから
固化すると7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―
3α―メチル―3β―アセトキシ―1―デチア―1
―オキサセフアム―4α―カルボン酸470mg(収
率:70%)を無色粉末として得る。mp.203〜208
℃(分解)
同様にして対応するジフエニルメチルエステル
より以下のカルボン酸を製造しうる。
7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3α―ヒド
ロキシ―3β―メチル―1―デチア―1―オキサ
セフアム―4α―カルボン酸、mp.100〜105℃(分
解)
7α―ベンズアミド―7α―メトキシ―3α―トリ
フルオロアセトキシ―3β―メチル―1―デチア
―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸、
mp.108〜113℃
7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3―メチ
ル―1―デチア―1―オキサ―2―セフエム―4
―カルボン酸,mp.195〜198℃
IR:νKBr nax3250,1766,1742,1642cm-1
7α―ベンズアミド―3ξ―クロロ―3ξ―クロロ
メチル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α
―カルボン酸,mp.118〜122℃(分解)
実施例 C―2
7α―ベンズアミド―3―エキソメチレン―1
―デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン
酸ジフエニルメチル1.125gを塩化メチレン15ml
とアニソール3.5mlの混液に溶かし、−20℃で撹拌
しながら、三塩化アルミニウム(625mg)のニト
ロメタン(20ml)溶液を加え、窒素気流中、−10
〜−20℃で30分間撹拌する。これを塩酸の水溶液
に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和炭
酸ナトリウム水溶液で洗い、洗液を濃塩酸で酸性
とし、酢酸エチルで再び抽出する。有機層を合わ
せ、水洗,乾燥後、溶媒を留去すると、7α―ベ
ンズアミド―3―エキソメチレン―1―デチア―
1―オキサセフアム―4α―カルボン酸623mgを得
る。
同様に、7α―ベンズアミド―3―メチル―1
―デチア―1―オキサ―2―セフエム―4α―カ
ルボン酸ジフエニルメチル1.8gを塩化メチレン
25mlに溶かし、アニソール5.8ml、三塩化アルミ
ニウム1.026gおよびニトロメタン36mlを用いて
−10℃で30分間加溶媒分解すると、7α―ベンズ
アミド―3―メチル―1―デチア―1―オキサ―
2―セフエム―4α―カルボン酸935mg(収率72.6
%)を得る。
D アミノ基の保護およびアミノ保護基の除去
実施例 D―1
7α―アミノ―3―メチレン―4―デチア―1
―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニル
メチル25mgを塩化メチレン0.5mlに溶かし、窒素
気流中−20℃でピリジン7μおよび塩化ベンゾ
イル10μを加え、1時間撹拌する。これを氷水
中に注ぎ、5分間撹拌した後、塩化メチレンで抽
出する。有機層を分離し、水、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、ついで水で洗い、乾燥し、溶媒留去す
ると、7α―ベンズアミド―3―メチレン―1―
デチア―1―オキサセフアム―4α―カルボン酸
ジフエニルメチル28mg(収率86%)を得る。本品
は薄層クロマトグラフイーおよびNMRで同定し
た。
実施例 D―2
7α―ベンズアミド―3―メチレン―デチア―
1―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニ
ルメチル94mgを塩化メチレン4mlに溶かし、窒素
気流中−40℃でピリジン32μおよび、0.37M五
塩化リンの塩化メチレン溶液1.08mlを加え、室温
に温めて1時間撹拌する。再び−40℃に冷却し、
メタノール8mlを加えた後0℃に温め、水0.8ml
を加えて減圧下で溶媒を留去する。残渣を酢酸エ
チル20mlに溶かし、水洗した後、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液ついで水で抽出する。抽出液と洗液を
合わせ、酢酸エチルで覆い、PH7.0に調整して酢
酸エチルで抽出する。有機層を分取し、水洗し、
乾燥した後溶媒を留去すると7α―アミノ―3―
メチレン―1―デチア―1―オキサセフアム―
4α―カルボン酸ジフエニルメチル29mg(収率:
40%)を得る。
IR:νCHC13 nax3000,1770sh,1760,1740cm-1
E XおよびZの変換反応
実施例 E―1
(1) 7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロキシ―3ξ―
ブロモメチル―1―デチア―1―オキサセフア
ム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル108mgを
10%含水アセトン5mlに溶かし、炭酸カリウム
50mgを加え、室温で1.5時間撹拌した後、食塩
水を加えて希釈し、塩化メチレンで抽出する。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去する。残渣90mgをシリカゲルの薄層クロマト
グラフイー(展開溶媒:ベンゼン―酢酸エチル
(2:1))で精製すると7α―ベンズアミド―
3,3―エポキシメタノール―1―デチア―1
―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニ
ルメチル40mg(異性体A)を得る。また、原料
物質の立体異性体140mgからは3位における立
体異性体B56mgを得る。
(2) 1―メチルテトラゾール―5―イルチオール
20mgをテトラヒドロフラン2mlに溶かし、
1.5Mn―ブチルリチウムのヘキサン溶液0.05ml
を加えて30分間撹拌する。これに上記で得た
7α―ベンズアミド―3,3―エポキシメタノ
―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―カ
ルボン酸ジフエニルメチル(異性体B)56mgを
テトラヒドロフラン1mlに溶かして加え、1時
間撹拌し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残渣を10%含水シリカゲル1gのカラムク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン―酢酸エチ
ル(9:1)で溶出すると7α―ベンズアミド
―3―(1―メチルテトラゾール―5―イル)
チオメチル―3―ヒドロキシ―1―デチア―1
―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニ
ルメチル(異性体B)43mgを得る。
実施例 E―2
(1) 7α―ベンズアミド―3α―ヒドロキシ―3β―
メチル―1―デチア―1―オキサセフアム―4
―カルボン酸ジフエニルメチル100mgを酢流イ
ソプロペニル5mlに溶かしてp―トルエンスル
ホン酸―水和物6mgを加え、60℃で75分間加熱
する。冷後、反応混液を氷冷した炭酸水素ナト
リウム水溶液に注ぎこみ、塩化メチレンで抽出
する。有機層を分離し、水洗し、乾燥した後、
溶媒を留去すると7α―ベンズアミド―3α―ア
セトキシ―3β―メチル―1―デチア―1―オ
キサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニルメ
チル(収率:30.5%)を得る。
(2) 7α―ベンズアミド―3α―ヒドロキシ―3β―
メチル―1―デチア―1―オキサセフアム―4
―カルボン酸ジフエニルメチルをリチウムジイ
ソプロピルアミド1.1当量、塩化アセチル1.2当
量および20容量倍のテトラヒドロフランの混液
を加え、−40℃で45分、−20℃で15分、ついで0
℃で20分作用させるか、またはピリジン1当量
および1.2当量の塩化アセチルの塩化メチレン
溶液で処理すると(1)と同一の生成物を得る。
(3) 7β―ベンズアミド―7α―メトキシ―3α―ヒ
ドロキシ―3β―メチル―1―デチア―1―オ
キサセフアム―4α―カルボン酸ジフエニルメ
チル52mgをジオキサン1mlに溶かし、窒素気流
中氷冷下にトリフルオロ酢酸無水物0.1mlを加
え、室温で2時間撹拌する。これに水0.3mlを
加え、30分間撹拌し、氷水で希釈し、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥後溶媒を
留去すると、7β―ベンズアミド―7α―メトキ
シ―3α―トリフルオロアセトキシ―3β―メチ
ル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α―
カルボン酸ジフエニルメチル64mgを油状物とし
て得る。
(4) 7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロキシ―3ξ―
ヒドロキシメチル―1―デチア―1―オキサセ
フアム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル112
mgをピリジン0.5mlおよび無水酢酸0.3mlの混液
に溶かし、0℃で一夜放置した後、減圧下で濃
縮する。残渣を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。抽出液を水、希塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水で順次洗い、乾燥した後溶媒
を留去すると7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロ
キシ―3ξ―アセトキシメチル―1―デチア―
1―オキサセフアム―4α―カルボン酸ジフエ
ニルメチル54mgを結晶として得る。mp・118〜
120℃
(5) 7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロキシ―3ξ―
ヒドロキシメチル―1―デチア―1―オキサセ
フアム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル350
mgを塩化メチレン3mlに溶かし、ピリジン78μ
およびメタンスルホニルクロリド75μを加
え、0℃で1時間、ついで室温で3時間撹拌す
る。これを氷水中に注ぎこみ、酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水、炭酸水素ナトリウム水溶
液ついで水で洗い、乾燥し、溶媒を留去する。
得られた残渣370mgをシリカゲルのクロマトグ
ラフイーに付すと、7α―ベンズアミド―3ξ―
ヒドロキシ―3ξ―メタンスルホニルオキシメ
チル―1―デチア―1―オキサセフアム―4α
―カルボン酸ジフエニルメチル145mgを得る。
連続工程
実施例 ―1〜8
7α―アミノ―7β―非置換―3―エキソメチレ
ン―1―デチア―1―オキサセフアム―4―カル
ボン酸エステルを塩化メチレンに溶かし、メタノ
ール中ハロゲン化剤および塩基を作用すると、3
―ハロ―3―ハロメチル―7α―メトキシ―7β―
アミノ―1―デチア―1―オキサ―3―セフエム
―4―カルボン酸エステルを得る。表にその反
応条件を示す。3―ハロメチルは他の求核基で置
換してもよい。
(No.6)
7α―p―シアノベンズアミド―3―エキソメ
チレン―1―デチア―1―オキサセフアム―4α
―カルボン酸ジフエニルメチル246mgを−50℃に
冷却した塩化メチレン8mlに溶かし、1.2M塩素
の四塩化炭素溶液1.47mlを加え、300Wのタング
ステン灯で照射しながら7分間撹拌すると7α―
(N―クロロ―p―シアノベンズアミド)―3―
エキソメチレン―1―デチア―1―オキサセフア
ム―4α―カルボン酸ジフエニルメチルを得る。
これに、2Mリチウムメトキシドのメタノール溶
液1.57mlを加え、−50℃〜−60℃で10分間撹拌す
る。これに酢酸0.2mlを加えた後、氷水中に注ぎ、
塩化メチレンで抽出する。抽出液を希薄な炭酸水
素ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄し、乾燥後
溶媒を留去する。残渣(7α―シアノベンズアミ
ド―7α―メトキシ―3―クロロメチル―1―デ
チア―1―オキサ―3―セフエム―4―カルボン
酸ジフエニルメチル)を塩化メチレン6mlに溶か
し、これに、1―メチルテトラゾール―5―メル
カブチド100mgおよび臭化テトラブチルアンモニ
ウム20mgを水3mlに溶かし、室温で1時間撹拌す
る。反応混液を氷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽
出し、水洗し、乾燥した後、溶媒を留去する。得
られた残渣335mgをシリカゲルのカラムクロマト
グラフイーに付すと7β―p―シアノベンズアミ
ド―7α―メトキシ―3―(1―メチルテトラゾ
ール―5―イルチオ)メチル―1―デチア―1―
オキサ―3―セフエム―4―カルボン酸ジフエニ
ルメチル251mgを得る。
利用例
7α―ベンズアミド―3ξ―ヒドロキシ―3ξ―メ
チル―1―オキサデチアセフアム―4α―カルボ
ン酸ジフエニルメチル15.0gを塩化メチレン100
mlに溶かし、氷冷撹拌下にピリジン6.8mlおよび
塩化チオニル3mlを加え、同温で75分間、ついで
室温で2.25時間撹拌し、氷水中に注ぐ。有機層を
分離し、水洗し、乾燥した後溶媒を留去する。残
渣を10%含水シリカゲル350gのクロマトグラフ
イーに付し、ベンゼン―酢酸エチル(9:1)で
溶出すると、7α―ベンズアミド―3―メチル―
1―デチア―1―オキサ―3―セフエム―4―カ
ルボン酸ジフエニルメチル2.65g(収率:25.2
%,mp・144〜146℃)および7α―ベンズアミド
―3―メチル―1―デチア―1―オキサ―2―セ
フエム―4α―カルボン酸ジフエニルメチル1.05g
(収率:10.8%,
IR:νCHC13 nax3440,1782,1745,1676,1663shcm
-1)を得る。
原料製造例 1
化合物(a)512mgをベンゼン10mlおよびメタノー
ル1mlの混液に溶かし、トリフエニルホスフイン
0.4gを加え、65℃で1.5時間撹拌する。これを10
%含水シリカゲル30gのカラムクロマトグラフイ
ーに付し、20〜30%酢酸エチル含有ベンゼンで溶
出すると化合物(b)202mgを得る。
IR:νCHC13 nax3370,1782,1755,1635cm-1
NMR:δCHC132.50〜3.35m 1H,4.18S 2H,
5.08S1H,5.25SIN,5.28d(3Hz)1H,5.50SIH,
6.08d(3Hz)1H,6.93S1H,7.20〜8.00m15H.
原料製造剤 2
(1) 2―(3―ベンジル―7―オキソ―2,6―
ジアザ―4―オキサビシクロ[3.2.0]ヘプト
―2―エン―6―イル)―3―メチル―3―ブ
テン酸ジフエニルメチル4.6g酢酸エチル70ml
に溶かし、2.74M塩酸―酢酸エチル3.8mlおよ
び1.47M塩酸―四塩化炭素12mlを加え、室温で
15分間撹拌する。これに、5%チオ硫酸ナトリ
ウム80ml、炭酸水素ナトリウム3.4gおよびア
セトン240gを加え、室温で2.5時間撹拌した
後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を硫酸ナト
リウムで乾燥し、2―(3―ベンジル―7―オ
キソ―2,6―ジアザ―4―オキサビシクロ
[3.2.0]ヘプト―2―エン―6―イル)―3―
クロロメチル―3―ブテン酸ジフエニルメチル
3.33gを得る。mp.82〜83℃
(2) 上記生成物をアセトン25mlに溶かし、ヨウ化
ナトリウム3.3gを加え、室温で2時間放置し
た後、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルで抽
出し、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、ついで
水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を留去すると、対応するヨウ化物3.0gを得る。
(3) 上記生成物1.59gをジメチルスルホキシド13
mlおよび水3mlの混液に溶かし、酸化第一銅
0.77gを加え、39℃で1時間撹拌した後、濾過
する。濾液を酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾
燥した後溶媒を留去すると、2―(3―ベンジ
ル―7―オキソ―2,6―ジアザ―4―オキサ
ビシクロ[3.2.0]ヘプト―2―エン―6―イ
ル)―3―ヒドロキシメチル―3―ブテン酸ジ
フエニルメチル0.35gを得る。mp・40〜55℃
略語の説明
―ph=フエニル
―STert=1―メチル―1,2,3,4―テト
ラゾール―5―イル
―C6H4NO2―p=p―ニトロフエニル
―C6H4CH3―p=p―トリル
―C6H4CN―P=p―シアノフエニル
―C6H4C1―p=p―クロロフエニル
―Bu―t=第三級ブチル
―OAc=アセトキシ
XとZ間の==CH2XとZが一緒になつてメチ
レンを表わす。
XとZの間の−O―=XとZがエポキシを表わ
す。
=CH2=原料の3―エポキシメチレン化合物の
重量
EtOAC=エチルアセテート
THF=テトラヒドロフラン
DMF=N,N―ジメチルホルムアミド
c―H2SO4=濃H2SO4
Et2O=ジエチルエーテル
t―BuOC1=第3級ブチルヒポクロライト
eq=当量
DBN=1,5―ジアザビシクロ[3.4.0]ノネ
ン―5
(CH2)5NH=ピペリジン
hν=光照射
ZにおけるΔ2またはΔ3=3位の脱離基のかわ
りに2(3)位または3(4)位に二重結合が存在す
ることを意味する。[Formula] (However, COB, X and Z have the same meanings as above)
A compound (a) having a divalent group represented by is obtained. The addition reaction proceeds smoothly in an inert solvent, especially a halohydrocarbon or ether solvent, with low salt, ie at -70 to 0°C, and is completed in 5 minutes to 10 hours. Also, due to the high reactivity of the exomethylene double bond at the 3-position, the yield is 90%.
reach up to. When the reagent is a molecular halogen, light irradiation or catalysts (Cu, Cu 2 S, Cu 2 Cl 2 ,
ph 3 PO, etc.), the halogenation can proceed and the yield can be increased. (4) Other conversion reactions Compound () can be processed by conventional conversion reactions in β-lactam chemistry (for example, transfer of double bonds with bases, protection of carboxy represented by COB or deprotection of protected carboxy), protection of the indicated amino or deprotection of the protected amino, introduction or conversion of the X or Z group with a nucleophile, conversion of X or Z by conversion reactions such as acylation, hydrolysis, oxidation, reduction, etc.) can be converted into another compound (). These reactions involve hydrocarbon solvents (hexane, toluene, etc.), halohydrocarbon solvents (dichloromethane, chlorobenzene, etc.), ether solvents (diethyl ether, dioxane, etc.), ketone solvents (acetone, cyclohexanone, benzophenone, etc.), Ester solvents (ethyl acetate, methyl benzoate, etc.), alcohol solvents (ethanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.),
It is carried out in a solvent commonly used for organic reactions such as amides and carboxylic acids. The compound () produced as described above is isolated from the solvent, unreacted substances, by-products, etc. by concentration, extraction, washing, drying, or other conventional methods, and then subjected to reprecipitation, chromatography, crystallization, adsorption, etc. Can be purified. Stereoisomers at the 3- or 7-position can be separated by chromatography, fractional recrystallization, and the like. The mixture of stereoisomers may be used in the next step or synthetic reaction without separation. During the above steps, double bond transfer, introduction of nucleophilic group,
Although side reactions such as elimination may occur during the reaction, these side reactions can also be effectively utilized and are within the scope of the present invention. The compound () of the present invention can be used as a raw material for the synthesis of known antibacterial agents, such as 1-oxacephalosporins (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 49-133594 and 51-
149295). That is, operations such as transfer of the double bond to Δ 3 , conversion of the A group to a side chain suitable for exhibiting antibacterial activity, and/or deprotection of the protected carboxy represented by COB are performed on the compound (). It can be synthesized by applying For example, as shown in the process diagram below, (a) when HZ is eliminated from compound (a), 1-dethia-1-oxacephalosporin () is obtained. (b) When compound (d) is treated with a base (such as trimethylamine) at 0 to 70°C for 5 hours to 3 days, the double bond is rearranged to obtain 1-dethia-1-oxacephalosporin (). (c) Compound (a) is treated with a Lewis acid (eg, boron trifluoride) at 0°C to 50°C for 0.1 to 1 hour to cause ring closure and yield 1-dethia-1-oxacephalosporin (). Compound of the present invention () (A=7β-amide, COB
=COOH) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is
It itself has a mild antibacterial effect and can be used with diluents to treat diseases caused by susceptible Gram-positive bacteria (e.g. (Streptococcus pyogenes)) or Gram-negative bacteria (e.g. Escherichia coli) for one day. It is sufficient to inject 0.1 to 10 g.The embodiments of the present invention will be clarified by giving examples below.The names and position numbers of the compounds in the examples are as follows. 1βH, 5βH- or (1R,5S)-7-oxo-4-oxa-2,6-diazabicyclo [3.2.0]
hept-2-en 1-Dethia-1-oxacepham The configuration of carbons at the 7- and 6-positions of oxacefam is the same as the configuration of the 1- and 5-positions of oxabicycloheptene. The stereochemistry at carbon 6 of the 1-dethia-1-oxacepham ring is consistent with the stereochemistry at carbon 6 of cephalosporin. Preferably, the stereochemistry of COB is the same as penicillin, ie the R configuration, but this need not be the case. The measurement error in the following examples is ±10 IR
cm -1 , NMR is within ±0.2 ppm, melting point is not accurate. Anhydrous sodium sulfate is used to dry the solution. The physical constants of the products are listed in the table. Ring Closing Reaction Examples -1 to 32 When oxazolinoazetidine is dissolved in a solvent and an acid is added, a 1-dethia-1-oxacefam compound is obtained. The reaction conditions are shown in the table. Taking No. 14 as an example, it will be shown in detail below. (1) 2-[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxa-4-oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl]-2-
Diphenylmethyl isopropenylacetate 12.0g,
Osmium tetroxide 1.0g and potassium chlorate
Dissolve 12.0g in a mixture of 400ml of tetrahydrofuran and 200ml of water, and stir at 58°C for 3.5 hours. After cooling, the reaction mixture is poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was sequentially washed with brine, 10% sodium thiosulfate aqueous solution and sodium bicarbonate aqueous solution, dried, and the solvent was distilled off, resulting in 2-
[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxo-4
-Oxa-2,6-diazabicyclo [3.2.0]
12.88 g of diphenylmethyl hept-2-en-6-yl]-3,4-dihydroxybutyrate are obtained. IR: ν CHCl3 nax 3500br, 1770br, 1742, 1636cm -1 (2) Add 10.88g of the above product to 300ml of diethyl ether.
Boron trifluoride etherate 75μ dissolved in
and stirred at room temperature for 3.5 hours in a nitrogen stream.
Pour into a cooled aqueous sodium bicarbonate solution,
Extract with ethyl acetate. The extract is washed with brine and concentrated. Treatment of the residue with a concentrated solution of methylene chloride and ether gives 15 g of a mixture of isomers in the 3-position of diphenylmethyl 7α-benzamide-3ξ-methyl-3ξ-hydroxy-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate. IR:ν CHC13 nax 3560, 3445, 1774, 1739, 1670cm
The -1 isomer mixture was subjected to column chromatography on 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (4:1). The stereoisomers can be separated by crystallizing the eluate with acetone-ether and acetone-methylene chloride, respectively. Example -33 (a) 2-[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxo-4-oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)]-3
-Dissolve 54 mg of benzyl formyloxymethyl-2-butenoate in 2 ml of methanol, add 19μ of boron trifluoride etherate while cooling at -20°C, and heat the mixture at -20°C to 0°C for 40 minutes and at 0°C for 2 hours. , then stirred for 1 hour at room temperature. A 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added to this, and the mixture is extracted with methylene chloride. The extract is washed with water, dried, and then the solvent is distilled off. When the residue is crystallized from methanol, 7α-benzamide-3-methyl-1
10 mg (yield 20%) of benzyl -dethia-1-oxa-3-cefem-4-carboxylate is obtained.
mp.208-212℃ (b) Add 5μ of trifluoromethanesulfonic acid while cooling with water instead of boron trifluoride and stir for 130 minutes, or add 0.38N hydrochloric acid-methanol.
Add 0.5 ml, stir for 3 hours, and otherwise perform the same procedure as above to obtain the same substance (14 mg; 5 mg) (yield 27.5%; 7%). mp・208~212℃ Methoxylation Example -1~24 7β-Unsaturated-7α-Amido-1-Dethia-1-
When an oxacefam compound is dissolved in a solvent and an N-halogenating agent and a base are reacted in methanol,
A 7α-methoxy-7β-amide compound is obtained. The reaction conditions are shown in the table. (No. 5) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-
Dissolve 486 mg of diphenylmethyl carboxylate in 20 ml of anhydrous methylene chloride and add t-butyl hypochlorite.
Add 0.15 ml and 1.1 ml of 2N lithium methoxide in methanol at −50° C. and stir for 15 minutes.
Add 1.2 ml of acetic acid to this, stir for 5 minutes, dilute with ice-cooled aqueous sodium bicarbonate solution, and extract with methylene chloride. After washing the extract with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water, the solvent was distilled off. The resulting colorless foamy residue was purified by silica gel chromatography to yield 7β-benzamide.
7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-
250 mg (yield 48%) of diphenylmethyl 1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. (No.9) 7α-benzamide-3ξ-bromo-3ξ-bromoethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α
-Dissolve 187 mg of diphenylmethyl carboxylate in 1 ml of anhydrous methylene chloride, add 46μ of t-butyl hypochlorite and 0.17 ml of a methanol solution of 2M lithium methoxide at -30°C, and stir at the same temperature for 1 hour. To this, 1-methyltetrazole-5
- Add a solution of 100 mg of sodium ilmercaptide in 1 ml of acetone and stir at room temperature for 1.5 hours. The reaction mixture is diluted with methylene chloride, washed with aqueous sodium bicarbonate and brine, dried, and the solvent is evaporated. 180 mg of the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with benzene-ethyl acetate (1:1), resulting in 7β-benzamide-7α.
-methoxy-3-(1-methyltetrazole-5
-yl)thiomethyl-1-dethia-1-oxa-
Diphenylmethyl 3-cephem-4-carboxylate
Get 108mg. Addition reaction examples -1 to 16 Dissolve 3,3-methylene-1-dethia-1-oxacefam compound in a solvent and add addition reagent XZ. The reaction conditions are shown in the table. (No.3) 7α-benzamide-3-exomethylene-1
Dissolve 519 mg of diphenylmethyl -dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 5 ml of methylene chloride, add 1.6 ml of 0.76N chlorine/carbon tetrachloride solution, and stir at -20 to -30°C for 40 minutes while irradiating with a tungsten lamp. . Add this to 0.14ml of cyclopentene
Add and stir for an additional 5 minutes. 1,5 to the reaction mixture
-Diazabicyclo[3.4.0]nonene-50.14ml was added, stirred at -20°C for 10 minutes, washed with dilute hydrochloric acid and then water, dried, and the solvent was distilled off. Recrystallization of the crystalline residue from methanol yields 7α-benzamide-3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-
Diphenylmethyl 3-cephem-4-carboxylate
Obtain 484 mg (86% yield). mp.120-128℃ (No. 4) Dissolve 103 mg of diphenylmethyl 7α-benzamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 1 ml of methylene chloride,
Add 0.3 ml of 0.75N chlorine in carbon tetrachloride solution, -20 ~
After reacting under irradiation with a tungsten lamp for 30 minutes at −30°C, the solvent was distilled off under reduced pressure to produce 7α-benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-
120 mg of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. (No. 5) In the same manner, 141 mg of benzyl 7α-benzamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate and 1.4 equivalents of chlorine were reacted in 3 ml of methylene chloride at -50°C under light irradiation. If 7α
170 mg of benzyl -benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate (yield 102%) is obtained. (No. 15) In the same manner as above, 1.77 equivalents of chlorine was added to 705 mg of diphenylmethyl 7α-phenylacetamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 7 ml of methylene chloride at -25°C or below. If allowed to act, 7α-phenylacetamide-
3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-
Diphenylmethyl 1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. If 0.16 ml of pyridine is treated with this at 15°C for 40 minutes, 586 mg of diphenylmethyl 7α-phenylacetamide-3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate (yield
78.4%). mp.179-182℃ (decomposition). Example -17 1.405 g (3 mmol) of diphenylmethyl 7α-benzamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate was dissolved in anhydrous methylene chloride cooled to -26°C, and 141 mg of copper powder was added under stirring in a nitrogen stream. In addition, 6.3 ml (2.5 equivalents) of 1.2M chlorine-chloroform solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred at -22 to -30°C for 3 hours. To this, sodium thiosulfonate pentahydrate (2.98 g; 4
Add an aqueous solution of the same amount) and extract twice with methylene chloride. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. Silica gel residue
190g of benzene-
If eluted with ethyl acetate (3:1), 7α
-Benzamide-3α-chloro-3β-chloromethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-diphenylmethyl carboxylate 1.541g (yield 95.2%)
is obtained as a white foam. Other Conversion Reactions A Elimination Reaction Examples A-1 to 20 If the 1-dethia-1-oxacefam compound is dissolved in a solution and a eliminating agent is used, 1-dethia-1-
Oxacefam compound is obtained. Table A shows the reaction conditions. (No.12) Add 15.0 g of diphenylmethyl 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-methyl-1-oxadethiacefam-4α-carboxylate to 100 g of methylene chloride.
ml, add 6.8 ml of pyridine and 3 ml of thionyl chloride while stirring on ice, stir at the same temperature for 7.25 hours and at room temperature for 2.25 hours, and then pour into ice water. The organic layer is separated, washed with water, dried, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on 350 g of 10% hydrated silica gel, and benzene-ethyl acetate (9:
1), 7α-benzamide-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-
2.65 g of diphenylmethyl 4-carboxylate (yield:
25.2%) and 7α-benzamide-3-methyl-
1-Decia-1-Oxa-2-Cefem-4α-
Diphenylmethyl carboxylate 1.05g (yield: 10.8
%). (IR: ν CHC13 nax 3440, 1782, 1745, 1676, 1663Sh
cm -1 ) B Double bond transfer example B-1 Dissolve 100 mg of 7β-benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cefem-carboxylic acid in 10 ml of acetone, and dissolve 0.1 triethylamine. ml and leave at room temperature for 6 days.
When the reaction solution is subjected to thin layer chromatography,
7β-benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-
Carboxylic acid and raw material spots are shown. Example B-2 7α-benzamide-3,3-methylene-1-
Dissolve 5.0 g of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 25 ml of methylene chloride and add 0.5 ml of triethylamine. at room temperature
Stir for 80 minutes, add a small amount of benzene, and then concentrate. Crystallization of the residue from ether gives 4.5 g (90% yield) of diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate. After the mixture was left at room temperature for 15 hours, chromatographic separation revealed that 50.8% of Δ 2 isomers and 38.3% of Δ 3 isomers were obtained.
% and their mixture yields 4.1%. Example B-3 7α-benzamide-3,3-methylene-1-
Dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid
Dissolve 100 mg in 10 ml of acetone, add 0.1 ml of triethylamine, and leave for 5 days. When the reaction mixture is subjected to thin-layer chromatography, 7α-benzamide-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2
-Cefem-4-carboxylic acid, 7α-benzamide-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-
The spots of Cefm-4-carboxylic acid and raw materials are shown. C Removal example of carboxy protecting group C-1 7β-benzamide-7α-methoxy-3α-methyl-3β-acetoxy-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid diphenylmethyl 960
mg in 4 ml of anisole, 10 ml of trifluoroacetic acid was added at 0°C, stirred for 15 minutes, and the solvent was distilled off under reduced pressure. When the residue is solidified from ether-n-hexane, 7β-benzamide-7α-methoxy-
3α-methyl-3β-acetoxy-1-dethia-1
-Oxacefam-4α-carboxylic acid 470 mg (yield: 70%) is obtained as a colorless powder. mp.203~208
℃ (Decomposition) The following carboxylic acids can be produced from the corresponding diphenyl methyl esters in a similar manner. 7β-Benzamide-7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid, mp.100-105℃ (decomposition) 7α-Benzamide-7α-methoxy-3α-trifluoro Acetoxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid,
mp.108~113℃ 7β-benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cephem-4
-Carboxylic acid, mp.195-198℃ IR: ν KBr nax 3250, 1766, 1742, 1642cm -1 7α-benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α
-Carboxylic acid, mp.118-122℃ (decomposition) Example C-2 7α-benzamide-3-exomethylene-1
1.125 g of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate and 15 ml of methylene chloride
A solution of aluminum trichloride (625 mg) in nitromethane (20 ml) was added to the solution of aluminum trichloride (625 mg) in nitromethane (20 ml) while stirring at -20°C, and the solution was heated to -10° C. in a nitrogen stream.
Stir for 30 min at ~-20°C. This is poured into an aqueous solution of hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract is washed with saturated aqueous sodium carbonate solution, the washings are acidified with concentrated hydrochloric acid, and extracted again with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed with water, dried, and the solvent was distilled off to give 7α-benzamide-3-exomethylene-1-dethia-
623 mg of 1-oxacefam-4α-carboxylic acid is obtained. Similarly, 7α-benzamide-3-methyl-1
-diphenylmethyl dethia-1-oxa-2-cephem-4α-carboxylate (1.8 g) in methylene chloride
7α-benzamide-3-methyl-1-dethia-1-oxa-
2-Cefem-4α-carboxylic acid 935 mg (yield 72.6
%). D Example of protection of amino group and removal of amino protecting group D-1 7α-amino-3-methylene-4-dethia-1
Dissolve 25 mg of diphenylmethyl oxacefam-4α-carboxylate in 0.5 ml of methylene chloride, add 7μ of pyridine and 10μ of benzoyl chloride at -20°C in a nitrogen stream, and stir for 1 hour. This is poured into ice water, stirred for 5 minutes, and then extracted with methylene chloride. The organic layer was separated, washed with water, an aqueous sodium bicarbonate solution, then water, dried, and the solvent was distilled off to give 7α-benzamide-3-methylene-1-
28 mg (yield 86%) of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. This product was identified by thin layer chromatography and NMR. Example D-2 7α-benzamide-3-methylene-dethia-
Dissolve 94 mg of diphenylmethyl 1-oxacefam-4α-carboxylate in 4 ml of methylene chloride, add 32μ of pyridine and 1.08 ml of a 0.37M phosphorus pentachloride solution in methylene chloride at -40°C in a nitrogen stream, warm to room temperature, and stir for 1 hour. . Cool again to -40℃,
Add 8 ml of methanol, warm to 0℃, and add 0.8 ml of water.
was added and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in 20 ml of ethyl acetate, washed with water, extracted with an aqueous sodium bicarbonate solution and then with water. Combine the extract and washing liquid, cover with ethyl acetate, adjust the pH to 7.0, and extract with ethyl acetate. Separate the organic layer, wash with water,
After drying and distilling off the solvent, 7α-amino-3-
Methylene-1-dethia-1-oxacefam-
Diphenylmethyl 4α-carboxylate 29 mg (yield:
40%). IR: ν CHC13 nax 3000, 1770sh, 1760, 1740cm -1 E Example of conversion reaction of X and Z E-1 (1) 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-
Diphenylmethyl bromomethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate 108mg
Potassium carbonate dissolved in 5 ml of 10% aqueous acetone
After adding 50 mg and stirring at room temperature for 1.5 hours, dilute with brine and extract with methylene chloride.
The extract is dried over magnesium sulfate and the solvent is distilled off. When 90 mg of the residue was purified by silica gel thin layer chromatography (developing solvent: benzene-ethyl acetate (2:1)), 7α-benzamide was obtained.
3,3-epoxymethanol-1-dethia-1
40 mg of diphenylmethyl -oxacefam-4α-carboxylate (isomer A) is obtained. Furthermore, from 140 mg of the stereoisomer of the raw material, 56 mg of the stereoisomer B at the 3-position is obtained. (2) 1-methyltetrazol-5-ylthiol
Dissolve 20mg in 2ml of tetrahydrofuran,
1.5Mn-butyllithium hexane solution 0.05ml
Add and stir for 30 minutes. I got this above
Add 56 mg of diphenylmethyl 7α-benzamide-3,3-epoxymethano-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate (isomer B) dissolved in 1 ml of tetrahydrofuran, stir for 1 hour, and add aqueous sodium bicarbonate solution. Extract with ethyl acetate. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated. The residue was subjected to column chromatography using 1 g of 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (9:1) to give 7α-benzamide-3-(1-methyltetrazol-5-yl).
Thiomethyl-3-hydroxy-1-dethia-1
43 mg of diphenylmethyl -oxacefam-4α-carboxylate (isomer B) is obtained. Example E-2 (1) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-
Methyl-1-dethia-1-oxacefam-4
-Dissolve 100 mg of diphenylmethyl carboxylate in 5 ml of isopropenyl vinegar solution, add 6 mg of p-toluenesulfonic acid hydrate, and heat at 60°C for 75 minutes. After cooling, the reaction mixture is poured into an ice-cooled aqueous sodium bicarbonate solution and extracted with methylene chloride. After separating the organic layer, washing with water and drying,
When the solvent was distilled off, diphenylmethyl 7α-benzamide-3α-acetoxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate (yield: 30.5%) was obtained. (2) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-
Methyl-1-dethia-1-oxacefam-4
- Diphenylmethyl carboxylate was added to a mixture of 1.1 equivalents of lithium diisopropylamide, 1.2 equivalents of acetyl chloride, and 20 times the volume of tetrahydrofuran, heated at -40°C for 45 minutes, at -20°C for 15 minutes, and then heated to 0.
C. or treatment with a solution of 1 equivalent of pyridine and 1.2 equivalents of acetyl chloride in methylene chloride gives the same product as (1). (3) Dissolve 52 mg of diphenylmethyl 7β-benzamide-7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 1 ml of dioxane, and add trifluoroacetic anhydride under ice cooling in a nitrogen stream. Add 0.1 ml of the solution and stir at room temperature for 2 hours. Add 0.3 ml of water to this, stir for 30 minutes, dilute with ice water, and extract with ethyl acetate. The extract was washed with water, dried, and the solvent was distilled off, resulting in 7β-benzamide-7α-methoxy-3α-trifluoroacetoxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-
64 mg of diphenylmethyl carboxylate are obtained as an oil. (4) 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-
Diphenylmethyl hydroxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate 112
mg is dissolved in a mixture of 0.5 ml of pyridine and 0.3 ml of acetic anhydride, left overnight at 0°C, and then concentrated under reduced pressure. Pour the residue into water and extract with ethyl acetate. The extract was washed successively with water, dilute hydrochloric acid, aqueous sodium bicarbonate solution, and water, dried, and the solvent was distilled off to give 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-acetoxymethyl-1-dethia-
54 mg of diphenylmethyl 1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained as crystals. mp・118〜
120℃ (5) 7α-Benzamide-3ξ-Hydroxy-3ξ-
Hydroxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid diphenylmethyl 350
Dissolve mg in 3 ml of methylene chloride, and dissolve 78μ of pyridine.
and 75μ of methanesulfonyl chloride, and stirred at 0°C for 1 hour and then at room temperature for 3 hours. Pour this into ice water and extract with ethyl acetate. The extract is washed with water, an aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, dried, and the solvent is distilled off.
When 370 mg of the obtained residue was subjected to silica gel chromatography, 7α-benzamide-3ξ-
Hydroxy-3ξ-methanesulfonyloxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α
- Obtain 145 mg of diphenylmethyl carboxylate. Continuous Process Examples -1 to 8 7α-amino-7β-unsubstituted-3-exomethylene-1-dethia-1-oxacefam-4-carboxylic acid ester was dissolved in methylene chloride and treated with a halogenating agent and a base in methanol. Then, 3
-Halo-3-halomethyl-7α-methoxy-7β-
Amino-1-dethia-1-oxa-3-cefem-4-carboxylic acid ester is obtained. The reaction conditions are shown in the table. 3-Halomethyl may be substituted with other nucleophilic groups. (No.6) 7α-p-cyanobenzamide-3-exomethylene-1-dethia-1-oxacefam-4α
-Dissolve 246mg of diphenylmethyl carboxylate in 8ml of methylene chloride cooled to -50℃, add 1.47ml of 1.2M chlorine in carbon tetrachloride solution, and stir for 7 minutes while irradiating with a 300W tungsten lamp to obtain 7α-
(N-chloro-p-cyanobenzamide)-3-
Diphenylmethyl exomethylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained.
Add 1.57 ml of a 2M lithium methoxide methanol solution to this, and stir at -50°C to -60°C for 10 minutes. After adding 0.2ml of acetic acid to this, pour it into ice water.
Extract with methylene chloride. The extract is washed with a dilute aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, dried, and the solvent is distilled off. The residue (diphenylmethyl 7α-cyanobenzamide-7α-methoxy-3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate) was dissolved in 6 ml of methylene chloride, and 1-methyltetrazole-5 was dissolved in this. -Dissolve 100 mg of mercabutide and 20 mg of tetrabutylammonium bromide in 3 ml of water and stir at room temperature for 1 hour. The reaction mixture is poured into ice water, extracted with methylene chloride, washed with water, dried, and the solvent is distilled off. When 335 mg of the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, 7β-p-cyanobenzamide-7α-methoxy-3-(1-methyltetrazol-5-ylthio)methyl-1-dethia-1-
251 mg of diphenylmethyl oxa-3-cephem-4-carboxylate is obtained. Usage example Add 15.0 g of diphenylmethyl 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-methyl-1-oxadethiacefam-4α-carboxylate to 100 g of methylene chloride.
ml, add 6.8 ml of pyridine and 3 ml of thionyl chloride while stirring on ice, stir at the same temperature for 75 minutes, then at room temperature for 2.25 hours, and pour into ice water. The organic layer is separated, washed with water, dried and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on 350 g of 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (9:1) to give 7α-benzamide-3-methyl-
2.65 g of diphenylmethyl 1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate (yield: 25.2
%, mp・144-146℃) and diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cephem-4α-carboxylate 1.05 g
(Yield: 10.8%, IR: ν CHC13 nax 3440, 1782, 1745, 1676, 1663shcm
-1 ). Raw material manufacturing example 1 Dissolve 512 mg of compound (a) in a mixture of 10 ml of benzene and 1 ml of methanol, and add triphenylphosphine.
Add 0.4g and stir at 65°C for 1.5 hours. This is 10
The product was subjected to column chromatography using 30 g of hydrated silica gel and eluted with benzene containing 20-30% ethyl acetate to obtain 202 mg of compound (b). IR: ν CHC13 nax 3370, 1782, 1755, 1635cm -1 NMR: δ CHC13 2.50~3.35m 1H, 4.18S 2H,
5.08S1H, 5.25SIN, 5.28d (3Hz) 1H, 5.50SIH,
6.08d (3Hz) 1H, 6.93S1H, 7.20~8.00m15H. Raw material manufacturing agent 2 (1) 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-
Diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)-3-methyl-3-butenoic acid diphenylmethyl 4.6g Ethyl acetate 70ml
Add 2.74M hydrochloric acid-ethyl acetate 3.8ml and 1.47M hydrochloric acid-carbon tetrachloride 12ml, and stir at room temperature.
Stir for 15 minutes. To this were added 80 ml of 5% sodium thiosulfate, 3.4 g of sodium bicarbonate and 240 g of acetone, stirred at room temperature for 2.5 hours, and then extracted with ethyl acetate. The extract was dried with sodium sulfate, and 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)-3-
Diphenylmethyl chloromethyl-3-butenoate
Obtain 3.33g. mp.82-83°C (2) Dissolve the above product in 25 ml of acetone, add 3.3 g of sodium iodide, and let stand at room temperature for 2 hours, then evaporate the solvent. The residue is extracted with ethyl acetate, washed with 5% aqueous sodium thiosulfate solution and then with water, dried over sodium sulfate, and the solvent is distilled off to give 3.0 g of the corresponding iodide. (3) Add 1.59 g of the above product to dimethyl sulfoxide 13
ml of cuprous oxide and 3 ml of water.
Add 0.77 g, stir at 39°C for 1 hour, and then filter. The filtrate was extracted with ethyl acetate, washed with water, dried and the solvent was distilled off to give 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2- 0.35 g of diphenylmethyl en-6-yl)-3-hydroxymethyl-3-butenoate is obtained. mp・40~55℃ Explanation of abbreviations ―ph=phenyl ―STert=1-methyl-1,2,3,4-tetrazol-5-yl ―C 6 H 4 NO 2 ―p=p-nitrophenyl ―C 6 H 4 CH 3 -p=p-tolyl -C 6 H 4 CN-P=p-cyanophenyl -C 6 H 4 C1-p=p-chlorophenyl -Bu-t=tertiary butyl -OAc=acetoxy Between X and Z ==CH 2 X and Z together represent methylene. -O-=X and Z between X and Z represent epoxy. = CH 2 = Weight of raw material 3-epoxymethylene compound EtOAC = Ethyl acetate THF = Tetrahydrofuran DMF = N,N-dimethylformamide c-H 2 SO 4 = Concentrated H 2 SO 4 Et 2 O = Diethyl ether t-BuOC1 = Tertiary butylhypochlorite eq = equivalent DBN = 1,5-diazabicyclo[3.4.0]nonene-5 (CH 2 ) 5 NH = piperidine hν = photoirradiation Δ 2 or Δ 3 at Z = elimination at 3-position It means that a double bond is present at the 2(3) or 3(4) position in place of the group.
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】
試薬の中、メトキシドはメタノール溶液として使用
[Table] Among the reagents, methoxide is used as a methanol solution.
【表】【table】
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Claims (1)
COBはカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ;Xは水素または求核基;Y′は式 【式】【式】 【式】【式】または 【式】 (但し、Zは脱離基を表わす。) で示される二価の基をそれぞれ表わす。][Claims] 1. General formula By reacting acid with the compound represented by the general formula A method for producing a compound represented by [However, RCO is an acyl residue derived from a carboxylic acid;
COB is carboxy or protected carboxy; Each represents a divalent group as shown. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197432A JPS61246187A (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 1-oxadethiacepham compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60197432A JPS61246187A (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 1-oxadethiacepham compound |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1247031A Division JPH02117677A (en) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 1-oxadithiacepham compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61246187A JPS61246187A (en) | 1986-11-01 |
| JPH0240070B2 true JPH0240070B2 (en) | 1990-09-10 |
Family
ID=16374415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60197432A Granted JPS61246187A (en) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 1-oxadethiacepham compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61246187A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3771566B2 (en) * | 2004-07-08 | 2006-04-26 | 塩野義製薬株式会社 | Method for producing 1-oxacephalosporin-7α-methoxy-3-chloromethyl derivative |
| CN106749335B (en) * | 2016-11-29 | 2019-02-12 | 浙江新和成股份有限公司 | A kind of preparation method and application of halogenated oxycephalosporins intermediate |
| CN107325115A (en) * | 2017-07-31 | 2017-11-07 | 山西千岫制药有限公司 | A kind of preparation method of oxygen cephalosporin intermediate |
| KR102115644B1 (en) * | 2017-09-13 | 2020-05-27 | 주식회사 동도물산 | Method of manufacturing 7α-alkoxy oxacephem intermediate compound |
| CN114805395B (en) * | 2022-04-27 | 2023-03-28 | 陕西友帮生物医药科技有限公司 | Preparation method of oxacephem parent nucleus intermediate |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3883518A (en) * | 1972-05-15 | 1975-05-13 | Merck & Co Inc | 3-Methylene cephalosporins |
| CA1022542A (en) * | 1973-01-09 | 1977-12-13 | Bruno Fechtig | Process for the manufacture of methylene compounds |
| DE2528077A1 (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-20 | Bayer Ag | BETA-LACTAMANTIBIOTICS, THE METHOD OF MANUFACTURING AND THEIR USE AS A MEDICINAL PRODUCT |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP60197432A patent/JPS61246187A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61246187A (en) | 1986-11-01 |
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