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JPH0242912B2 - - Google Patents
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JPH0242912B2 - - Google Patents

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JPH0242912B2
JPH0242912B2 JP28426286A JP28426286A JPH0242912B2 JP H0242912 B2 JPH0242912 B2 JP H0242912B2 JP 28426286 A JP28426286 A JP 28426286A JP 28426286 A JP28426286 A JP 28426286A JP H0242912 B2 JPH0242912 B2 JP H0242912B2
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plating
package
support plate
ceramic package
plating liquid
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセラミツクパツケージの所定部分をめ
つきするためのめつき処理装置に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a plating processing apparatus for plating a predetermined portion of a ceramic package.

(従来の技術) 従来、ピングリツト型やデユアル・インライン
型などのセラミツクパツケージのめつきとして
は、キヤビテイ部、シールドリング部、ピン等の
露出導体部全体に、例えば電解めつき法や無電解
めつき法によりニツケルめつき、金めつきを施し
ていた。そのため、めつき処理の不必要な部分に
までめつき処理を施すこととなり、その結果とし
て製品1個当たりに電析される貴金属量が多くな
り、めつきコストが極めて高くついていた。
(Prior art) Conventionally, for plating ceramic packages such as pin grit type and dual in-line type, electrolytic plating or electroless plating has been applied to the entire exposed conductor parts such as the cavity part, shield ring part, and pins. By law, it was nickel-plated and gold-plated. As a result, plating is applied to parts that do not require plating, and as a result, the amount of precious metal electrodeposited per product increases, resulting in extremely high plating costs.

そのため、必要な部分にだけめつき処理を施す
部分めつき法を適用することが提案されている。
Therefore, it has been proposed to apply a partial plating method in which plating is applied only to necessary parts.

たとえば出願人が先に提案した実開昭61―
120765号公報明細書には、第5図に示すように、
ピングリツドパツケージ12の少なくともキヤビ
テイ内部をめつきするため、パツケージのキヤビ
テイ部分にめつき液を導入するめつき液噴射用窓
孔2を複数個有する支持プレート1に、パツケー
ジ位置決め用の固定ピン7を、植立させて設け、
さらに各パツケージ12を前記固定ピン側の押圧
してパツケージ12を固定する複数の可動ピン8
を固定ピン7と対向させて設けて、2個の固定ピ
ン7と1個の可動ピン8により、パツケージ12
を3点支持する構成をとつている。また、窓孔2
からめつき液が洩れないように窓孔2の周囲に弾
性部材3が設けられ、押圧板14によりこの弾性
部材3を介して前記めつき液噴射用の窓孔2にパ
ツケージ12を押圧している。
For example, in 1987, the applicant proposed
120765, as shown in Figure 5,
In order to plate at least the inside of the cavity of the pin grid package 12, a fixing pin 7 for positioning the package is attached to a support plate 1 having a plurality of plating liquid injection windows 2 for introducing plating liquid into the cavity of the package. , planted and established;
Furthermore, a plurality of movable pins 8 press each package 12 toward the fixed pin side to fix the package 12.
is provided facing the fixed pin 7, and the package 12 is connected by two fixed pins 7 and one movable pin 8.
The structure is such that it is supported at three points. Also, window hole 2
An elastic member 3 is provided around the window hole 2 to prevent the plating liquid from leaking, and a pressing plate 14 presses the package 12 through the elastic member 3 to the window hole 2 for spraying the plating liquid. .

めつき作業に用いるパツケージ12としては、
出願人が特開昭62―214648号公報において開示し
た、側面に共通電極を設けたピングリツドパツケ
ージが好適である。すなわち、第6図にその一例
を示すように、パツケージ12側面全体に設けた
共通電極12aにより各電極パターン12bさら
には各ピン12cのすべてに共通に電圧を供給で
きるピングリツドパツケージ12を使用すること
により、可動ピン8および固定ピン7に給電して
電解メツキを可能としている。なお、めつき作業
終了後、共通電極12aを除去して、最終製品と
してのピングリツドパツケージ12を得ている。
The package 12 used for plating work is as follows:
The pin grid package disclosed by the applicant in Japanese Patent Laid-Open No. 62-214648, in which a common electrode is provided on the side surface, is suitable. That is, as an example is shown in FIG. 6, a pin grid package 12 is used in which a common electrode 12a provided on the entire side surface of the package 12 can commonly supply voltage to all of the electrode patterns 12b and also to all of the pins 12c. This allows electrolytic plating to be performed by supplying power to the movable pin 8 and fixed pin 7. Note that after the plating work is completed, the common electrode 12a is removed to obtain the pin grid package 12 as a final product.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、パツケージ12を固定ピン側に
弾性的に押圧して固定する可動ピン8は、パツケ
ージ側面の共通電極12aの部分への接触によ
り、可動ピン8からパツケージ12のキヤビテイ
内の全電極パターン12bへ電気的導通を可能と
し、キヤビテイ部分に存在するめつき液を介し
て、めつき液噴射用窓孔と該キヤビテイ部パター
ン12bとの間で電気めつきを施すものである
が、そのばね機構部でばね押圧圧力不足にもとづ
くパツケージ側面の共通電極12aの部分への接
触不具合により、電気的導通不良が生じることが
あり、支持プレート上に固定されるセラミツクパ
ツケージの個々のめつき厚さがばらついた。
(Problems to be Solved by the Invention) However, the movable pin 8 that elastically presses the package 12 toward the fixed pin side to fix the package 12 is not able to move the package 12 from the movable pin 8 due to contact with the common electrode 12a on the side surface of the package. Electrical conduction is enabled to all the electrode patterns 12b in the 12 cavities, and electroplating is performed between the plating liquid injection window hole and the cavity pattern 12b via the plating liquid present in the cavity. However, due to insufficient spring pressing pressure in the spring mechanism, contact failure with the common electrode 12a on the side of the package may cause electrical continuity failure, and the ceramic package fixed on the support plate may Individual plating thicknesses varied.

本発明の目的は上述した不具合を解消して、セ
ラミツクパツケージの少なくともキヤビテイ内部
をめつき処理することができるめつき処理装置を
提供せんとするにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a plating apparatus capable of plating at least the inside of a cavity of a ceramic package.

(問題点を解決するための手段) 本発明のめつき処理装置は、セラミツクパツケ
ージの所定部分にめつき液を施すめつき液噴射部
と、該めつき液噴射部の上方に設けられ、かつ、
めつき液噴射用の窓孔を有する支持プレートと、
前記セラミツクパツケージを前記支持プレート上
に固定する位置決め部と、前記セラミツクパツケ
ージの複数のプラグピンと電気的に接触し、か
つ、前記支持プレートと前記セラミツクパツケー
ジとを気密に保持する押圧部とを備えたことを特
徴とする。
(Means for Solving the Problems) The plating processing apparatus of the present invention comprises: a plating liquid spraying section for applying plating solution to a predetermined portion of a ceramic package; ,
a support plate having a window hole for spraying plating liquid;
A positioning part for fixing the ceramic package on the support plate; and a pressing part for electrically contacting a plurality of plug pins of the ceramic package and holding the support plate and the ceramic package airtight. It is characterized by

(作 用) 本発明によれば、位置決め部によりセラミツク
パツケージのキヤビテイ部が窓孔に向かい合う状
態で、セラミツクパツケージが水平方向に固定さ
れ、この固定されたセラミツクパツケージは押圧
部により支持プレートに、押圧されて支持プレー
トとセラミツクパツケージとの間を気密にし、そ
のため窓孔を通じてセラミツクパツケージの所定
部分、たとえばキヤビテイ部に噴射されるめつき
液が他に漏れ出ないようになる。前記押圧部のセ
ラミツクパツケージへの押圧とほぼ同時に、セラ
ミツクパツケージの複数のピンに押圧部が接触し
て、接触点が多数あることにより、電気的導通の
信頼性が向上し、押圧部がセラミツクパツケージ
と均一且つ確実に導通し得るようにしている。ま
た、この押圧部がセラミツクパツケージの複数の
プラグピンと広範囲に接触しているため、セラミ
ツクパツケージ全体により均一な電位をもたらし
ている。さらに、押圧部は、セラミツクパツケー
ジから植立する複数のプラグピンを押圧し、且つ
押圧部の平坦面で多数のプラグピンをほぼ垂直に
押圧するため、ピンの曲がりが発生するおそれも
ない。
(Function) According to the present invention, the ceramic package is fixed in the horizontal direction by the positioning part with the cavity part of the ceramic package facing the window hole, and the fixed ceramic package is pressed against the support plate by the pressing part. The gap between the support plate and the ceramic package is made airtight, so that the plating liquid injected into a predetermined portion of the ceramic package, such as the cavity portion, through the window hole does not leak out. Almost at the same time as the pressing part presses the ceramic package, the pressing part comes into contact with a plurality of pins of the ceramic package, and since there are many contact points, the reliability of electrical continuity is improved, and the pressing part is pressed against the ceramic package. This ensures uniform and reliable electrical conduction. Also, since this pressing part is in extensive contact with the plurality of plug pins of the ceramic package, it provides a more uniform electrical potential throughout the ceramic package. Furthermore, since the pressing part presses the plurality of plug pins raised from the ceramic package and also presses the many plug pins almost perpendicularly with the flat surface of the pressing part, there is no possibility that the pins will bend.

(実施例) 以下に本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
(Example) Examples of the present invention will be described in detail below based on the drawings.

第1図は、本発明のめつき処理装置の全体を示
す正面図である。11はめつき液噴射部を、12
は押圧棒および給電ばねが取付けられた支持フレ
ームを夫々示している。支持フレーム12は複数
の空圧シリンダ13を介してフレーム部材14に
昇降自在に支持されている。なお、15はガイド
ロツドであり、支持フレーム12の昇降を補助し
ている。
FIG. 1 is a front view showing the entire plating processing apparatus of the present invention. 11 is the plating liquid injection part, 12
1A and 2B respectively show a support frame to which a pressure rod and a power supply spring are attached. The support frame 12 is supported by a frame member 14 via a plurality of pneumatic cylinders 13 so as to be movable up and down. Note that 15 is a guide rod that assists the support frame 12 to move up and down.

めつき液噴射部11には、図示しないが、上方
に向いて開口を有するめつき液噴射ノズルが設け
られて、後述する支持プレートに載置されたセラ
ミツクパケージのめつき面に向けてめつき液を噴
射する。このめつき面から戻つてくるめつき液を
回収するため、めつき液噴射ノズルを囲んで液戻
り室が設けられている。
Although not shown, the plating liquid spraying section 11 is provided with a plating liquid spraying nozzle having an opening facing upward, and the plating liquid spraying unit 11 is provided with a plating liquid spraying nozzle having an opening facing upward, and the plating liquid is sprayed toward the plating surface of a ceramic package placed on a support plate, which will be described later. Spray liquid. In order to collect the plating liquid that returns from the plating surface, a liquid return chamber is provided surrounding the plating liquid spray nozzle.

以上、めつき処理装置の概略を説明したが、次
に本発明のめつき処理装置の押圧部について以下
に説明する。第2図は本発明の装置の押圧部とそ
の態様を拡大して示す斜視図である。支持プレー
ト21はめつきすべきセラミツクパツケージ、本
例ではピングリツドパツケージ22を収容する複
数の段部を有する位置決め部23を設け、この位
置決め部23の底壁中央にはめつき液噴射用の窓
孔24を設け、この窓孔24の周囲はパツケージ
22を支持すると共にそのキヤビテイ部以外の部
分にめつき液が被着されないようにゴムその他の
材料よりなる弾性シール部材25を配設する。窓
孔24および弾性シール部材25の大きさは、パ
ツケージにめつきしたい範囲にあわせて決定す
る。例えば、パツケージ22のキヤビテイ部内だ
けをめつきする場合には、キヤビテイ部の大きさ
と同一寸法とし、またキヤビテイ部の外周のシー
ルリング部までめつきしたい場合にはシールリン
グ部の外径とほぼ同一の寸法とする。このめつき
液噴射用の窓孔24には、パツケージに向けて噴
射されためつき液の循環を円滑に行なうために、
例えば、支持プレート21のめつき液噴射ノズル
側の底面からテーパ(図示せず)を設けるのが好
適である。この支持プレート21の材質は、例え
ばFRP、若しくはセラミツク等の絶縁体とする。
The outline of the plating processing apparatus has been explained above, and next, the pressing section of the plating processing apparatus of the present invention will be explained below. FIG. 2 is an enlarged perspective view showing the pressing section of the device of the present invention and its aspect. A positioning part 23 having a plurality of steps for accommodating a ceramic package to be attached to the support plate 21, in this example a pin grid package 22, is provided, and a window hole for spraying a plating liquid is provided in the center of the bottom wall of the positioning part 23. 24, and an elastic seal member 25 made of rubber or other material is disposed around the window hole 24 to support the package 22 and to prevent plating liquid from adhering to parts other than the cavity portion. The sizes of the window hole 24 and the elastic seal member 25 are determined according to the area to be plated on the package. For example, if only the inside of the cavity of the package 22 is to be plated, the dimensions should be the same as the size of the cavity, and if it is desired to plate up to the seal ring on the outer periphery of the cavity, the dimensions should be approximately the same as the outer diameter of the seal ring. The dimensions shall be . In order to smoothly circulate the plating liquid sprayed toward the package, the window hole 24 for plating liquid injection is provided with:
For example, it is preferable to provide a taper (not shown) from the bottom surface of the support plate 21 on the plating liquid spray nozzle side. The material of this support plate 21 is, for example, an insulator such as FRP or ceramic.

この一方において、支持プレート21の窓孔2
4と対応する位置に、支持フレーム12の先端面
から押圧棒26を突出させて設け、その押圧棒2
6の両側に給電ばね27を配設する。この押圧棒
26には、その先端にゴム等の材料よりなるブツ
シユ28が螺合され、その基部にはフランジ29
が設けられて、支持フレーム12からの押圧棒2
6の抜け出しを防止している。さらに、支持フレ
ーム12の底壁とブツシユ28との間にSUS材
よりなるコイルばね30が外挿されており、この
コイルばね30と前記ブツシユ28とにより、弾
性的にしかも適切な圧力にてセラミツクパツケー
ジ22を押圧することができ、また押圧時には、
前記弾性シール部材25とブツシユ28とが共働
して、パツケージ22のずれを防止すべく作用す
る。上記押圧棒26の両側に配設された給電ばね
27は、第3図に示すように、絶縁板31および
ブスバー32を介して支持フレーム12に固着さ
れている。この給電ばね27はパツケージ22か
ら植立するプラグピン33に均一且つ垂直に当接
する平坦面34を有し、多数のプラグピンと電気
的接触が保たれるようにしている。この平坦面3
4は、プラグピン33と当接する際には、プラグ
ピン33と垂直に且つ広い範囲にわたつて接して
おり、また、給電バネ27の材質を軟らかな、
SUS材を使用しているため、プラグピン33の
曲がりを有効に防止することができる。給電ばね
27の材質としては、電気的導通と耐食性とを確
実にするためにSUS材を使用するのが望ましい
が、SUS材以外でも電気抵抗が小さく耐食性、
耐酸化性に優れた材質、例えばCu材あるいはBe
銅材に硬質Auめつきを施した材料でも良い。
On the other hand, the window hole 2 of the support plate 21
4, a press rod 26 is provided to protrude from the distal end surface of the support frame 12, and the press rod 2
Power supply springs 27 are disposed on both sides of 6. A bush 28 made of a material such as rubber is screwed onto the tip of the press rod 26, and a flange 29 is attached to the base of the push rod 26.
is provided, and the push rod 2 from the support frame 12 is
6 is prevented from slipping out. Furthermore, a coil spring 30 made of SUS material is inserted between the bottom wall of the support frame 12 and the bush 28, and the coil spring 30 and the bush 28 allow the ceramic to be moved elastically and with appropriate pressure. The package 22 can be pressed, and when pressed,
The elastic sealing member 25 and the bushing 28 work together to prevent the package 22 from shifting. The power supply springs 27 disposed on both sides of the press rod 26 are fixed to the support frame 12 via an insulating plate 31 and a bus bar 32, as shown in FIG. This power supply spring 27 has a flat surface 34 that uniformly and perpendicularly abuts the plug pins 33 raised from the package 22, so that electrical contact with a large number of plug pins is maintained. This flat surface 3
4 is in contact with the plug pin 33 perpendicularly and over a wide range when it comes into contact with the plug pin 33, and the material of the power supply spring 27 is made of a soft material.
Since SUS material is used, bending of the plug pin 33 can be effectively prevented. As the material for the power supply spring 27, it is desirable to use SUS material to ensure electrical continuity and corrosion resistance, but materials other than SUS may also be used with low electrical resistance and corrosion resistance.
Materials with excellent oxidation resistance, such as Cu or Be
A material made of copper with hard Au plating may also be used.

パツケージ22には、外周側面に露出したキヤ
ビテイ内の全電極パターンの端部に共通電極を設
け、独立した各電極パターンを相互に導通させて
いる。この共通電極はめつき除去される。そのた
め、給電ばねがプラグピン33の少くとも1本以
上と接触すれば、パツケージ22の側面の共通電
極部を経由して、給電ばねとキヤビテイ内の全電
極パターンとの間に電気的導通のできる構造とな
つている。
In the package 22, a common electrode is provided at the ends of all the electrode patterns in the cavity exposed on the outer peripheral side surface, and the independent electrode patterns are electrically connected to each other. This common electrode is plated out. Therefore, if the power supply spring comes into contact with at least one plug pin 33, electrical continuity can be established between the power supply spring and all the electrode patterns in the cavity via the common electrode part on the side surface of the package 22. It is becoming.

また、給電ばねの平坦面34にスリツトを適宜
施すと電気的導通の信頼性を向上することができ
る。
Furthermore, if a slit is suitably formed in the flat surface 34 of the power supply spring, the reliability of electrical continuity can be improved.

以上のように構成しためつき処理装置により実
際にピングリツドパツケージのキヤビテイ部をめ
つきする実施例について第1図、第2図および第
3図により説明する。まず前処理完了後のピング
リツドパツケージ22を、そのめつきすべきキヤ
ビテイ部をめつき液噴射用の窓孔24に対向させ
て、支持プレート21の段部を有する位置決め部
23に嵌め込む。次に、めつき液噴射部11の支
持台の上端面から上方に突出する位置決めピン
(図示せず)に支持プレート21の位置決め孔3
5を嵌め合わせて、支持プレート21をめつき液
噴射部上に正確にセツトする。この状態におい
て、支持プレート21に載置される複数のパツケ
ージ22の中心部とめつき液噴射部内部の複数の
めつき液噴射ノズル(図示せず)の開口部とが同
軸上に配置されている。このようにセツトされた
複数のパツケージ22を押えるとともに給電する
ため、上部の空圧シリンダ13を作動させて、ガ
イドロツド15により支持フレーム12を降下さ
せ、この支持フレーム12に取り付けられた押え
ロツド26をパツケージ22の中央部に当接さ
せ、次に押えロツド26の収縮によりパツケージ
22の周端部のプラグピン33に給電ばね27を
当接させる。パツケージ22を押圧棒26が所定
の圧力で加圧する位置で、支持フレーム12の降
下を停止させる。この状態で、給電ばね27の負
電極とめつき液噴射ノズルの正電極とに通電し、
一方では支持プレート21の下方よりめつき液噴
射用の窓孔24を通して、例えば金めつき液をキ
ヤビテイ部へノズル噴射し、キヤビテイ部の導電
パターンに金めつきを施すことができる。
An embodiment in which the cavity portion of a pin grid package is actually plated using the plating processing apparatus constructed as described above will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3. First, the pin grid package 22 after pretreatment is fitted into the stepped positioning part 23 of the support plate 21 with the cavity part to be plated facing the window hole 24 for spraying plating liquid. Next, the positioning holes 3 of the support plate 21 are inserted into the positioning pins (not shown) that protrude upward from the upper end surface of the support base of the plating liquid injection unit 11.
5 to accurately set the support plate 21 on the plating liquid spraying section. In this state, the centers of the plurality of packages 22 placed on the support plate 21 and the openings of the plurality of plating liquid injection nozzles (not shown) inside the plating liquid injection section are arranged coaxially. . In order to hold down the plurality of packages 22 set in this way and to supply power, the upper pneumatic cylinder 13 is activated, the support frame 12 is lowered by the guide rod 15, and the presser rod 26 attached to the support frame 12 is lowered. The power supply spring 27 is brought into contact with the center part of the package 22, and then the power supply spring 27 is brought into contact with the plug pin 33 at the peripheral end of the package 22 by contraction of the presser rod 26. The lowering of the support frame 12 is stopped at a position where the press rod 26 presses the package 22 with a predetermined pressure. In this state, the negative electrode of the power supply spring 27 and the positive electrode of the plating liquid injection nozzle are energized,
On the other hand, gold plating liquid can be injected into the cavity from a nozzle through the plating liquid injection window hole 24 from below the support plate 21 to plate the conductive pattern in the cavity with gold.

本発明のめつき処理装置を使用してめつきした
場合と、第5図に示す従来のめつき用治具を有す
るめつき処理装置を使用した場合のめつき厚を、
比較したところ従来例に比較して本発明ではめつ
き厚のばらつきが著しく減少した。また、上記実
施例においては、従来のようなパツケージの位置
決め用孔を加工する必要がなくなり、手間が省け
るという利点がある。
The plating thickness when plating was performed using the plating processing apparatus of the present invention and when using the plating processing apparatus having the conventional plating jig shown in FIG.
When compared, the variation in plating thickness was significantly reduced in the present invention compared to the conventional example. Further, in the above-mentioned embodiment, there is no need to process a hole for positioning the package as in the conventional case, and there is an advantage that time and effort can be saved.

また、支持プレートは、第5図に示す従来の支
持プレートを、電源に接続しない状態で利用する
ことができる。さらに、第4図に示すように、支
持プレート21を、支持プレート本体とめつき液
噴射用の窓孔24を有するコマとに別け、パツケ
ージのキヤビテイ部の形状に対応させてそれと合
致する窓孔を有するコマに個々に交換可能にした
支持プレートを使用することもできる。
Furthermore, the conventional support plate shown in FIG. 5 can be used without being connected to a power source. Furthermore, as shown in FIG. 4, the support plate 21 is divided into a support plate main body and a piece having a window hole 24 for spraying plating liquid, and a window hole that matches the shape of the cavity part of the package is formed. It is also possible to use individually replaceable support plates for the pieces.

また実施例では、押圧部がセラミツクパツケー
ジを弾性シール部材に固着する押圧棒とプラグピ
ンに給電する給電ばねとに分離した部材を示した
が、この両者を一体的にした押圧部であつても差
し支えない。
Furthermore, in the embodiment, the pressing part is made up of a separate member consisting of a pressing rod that fixes the ceramic package to the elastic sealing member and a power supply spring that supplies power to the plug pin, but it is also possible to use a pressing part that integrates both. do not have.

本発明は上述した実施例にのみ限定されるもの
ではなく、幾多の変形、変更が可能である。
The present invention is not limited only to the embodiments described above, and numerous modifications and changes are possible.

(発明の効果) 以上詳細に説明したところから明らかなように
本発明のめつき処理装置によれば、押圧部を、位
置決め部により固定されたセラミツクパツケージ
のプラグピンと均一に当接させたことにより、セ
ラミツクパツケージの導体パターンと給電ばねと
の電気的導通に対す信頼性が向上し、セラミツク
パツケージの所定部分たとえばキヤビテイ部に確
実にめつきを施すことができる。その結果、めつ
き厚不足やめつきのはみだしのめつき不良が、著
しく減少し品質,歩留が向上する。
(Effects of the Invention) As is clear from the above detailed explanation, according to the plating processing apparatus of the present invention, the pressing part is brought into uniform contact with the plug pin of the ceramic package fixed by the positioning part. The reliability of electrical continuity between the conductor pattern of the ceramic package and the power supply spring is improved, and predetermined portions of the ceramic package, such as the cavity portion, can be reliably plated. As a result, defects in plating due to insufficient plating thickness or protruding plating are significantly reduced, and quality and yield are improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のめつき処理装置の全体図を示
す正面図、第2図は本発明のめつき処理装置押圧
部、位置決め部および支持プレートを詳細に示す
部分拡大図、第3図は支持プレートのAA′断面
図、第4図は同じく押圧部の電極構造を示す部分
側面図、第5図は従来例を示す斜視図、第6図は
従来の側面に共通電極を設けたピングリツドパツ
ケージの一例を示す斜視図である。 11……めつき浴液噴射部、12……支持フレ
ーム、13……空圧シリンダ、14……フレー
ム、15……ガイドロツド、21……支持プレー
ト、22……ピングリツドパツケージ、23……
段部を有する位置決め部、24……窓孔、25…
…弾性シール部材、26……押圧棒、27……給
電ばね、28……ブツシユ、29……フランジ、
30……コイルばね、31……絶縁板、32……
ブスバー、33……プラグピン、34……平坦
面、35……位置決め孔。
Fig. 1 is a front view showing the overall view of the plating processing device of the present invention, Fig. 2 is a partially enlarged view showing details of the plating processing device pressing section, positioning section, and support plate of the present invention, and Fig. 3 is a front view showing the overall view of the plating processing device of the present invention. AA′ sectional view of the support plate, FIG. 4 is a partial side view showing the electrode structure of the pressing part, FIG. 5 is a perspective view showing a conventional example, and FIG. 6 is a conventional pin grid with a common electrode provided on the side. FIG. 2 is a perspective view showing an example of a dossier cage. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Plating bath liquid injection part, 12... Support frame, 13... Pneumatic cylinder, 14... Frame, 15... Guide rod, 21... Support plate, 22... Pin grid package, 23...
Positioning portion having a stepped portion, 24...window hole, 25...
...Elastic sealing member, 26...Press rod, 27...Power supply spring, 28...Button, 29...Flange,
30...Coil spring, 31...Insulating plate, 32...
Bus bar, 33...Plug pin, 34...Flat surface, 35...Positioning hole.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 セラミツクパツケージの所定部分にめつき液
を施すめつき液噴射部と、該めつき液噴射部の上
方に設けられ、かつ、めつき液噴射用の窓孔を有
する支持プレートと、前記セラミツクパツケージ
を前記支持プレート上に固定する位置決め部と、
前記セラミツクパツケージの複数のプラグピンと
電気的に接触し、かつ、前記支持プレートと前記
セラミツクパツケージとを気密に保持する押圧部
とを備えたことを特徴とするめつき処理装置。 2 押圧部が押圧棒と給電ばねとからなる特許請
求の範囲第1項記載のめつき処理装置。 3 支持プレートとセラミツクパツケージとの間
に、弾性シール部材を配設した特許請求の範囲第
1項または第2項記載のめつき処理装置。 4 位置決め部が、支持プレートの窓孔の周辺に
設けられた段部である特許請求の範囲第1項乃至
第3項の何れか一項記載のめつき処理装置。
[Scope of Claims] 1. A plating liquid spraying part for applying plating liquid to a predetermined portion of a ceramic package, and a support provided above the plating liquid spraying part and having a window hole for spraying the plating liquid. a plate; a positioning portion for fixing the ceramic package onto the support plate;
A plating processing apparatus comprising: a pressing part that electrically contacts a plurality of plug pins of the ceramic package and holds the support plate and the ceramic package airtight. 2. The plating processing apparatus according to claim 1, wherein the pressing portion comprises a pressing rod and a power supply spring. 3. The plating processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein an elastic sealing member is disposed between the support plate and the ceramic package. 4. The plating processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the positioning portion is a stepped portion provided around the window hole of the support plate.
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