JPH0246588B2 - - Google Patents
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- JPH0246588B2 JPH0246588B2 JP62137563A JP13756387A JPH0246588B2 JP H0246588 B2 JPH0246588 B2 JP H0246588B2 JP 62137563 A JP62137563 A JP 62137563A JP 13756387 A JP13756387 A JP 13756387A JP H0246588 B2 JPH0246588 B2 JP H0246588B2
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- Japan
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- mixture
- group
- solution
- acetic acid
- methanol
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/26—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
- C07D501/34—Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
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- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Veterinary Medicine (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は新規チアゾリル酢酸誘導体又はその塩
に関する。
に関する。
（発明の構成及び効果）
本発明は次の一般式（）で示される新規チア
ゾリル酢酸誘導体又はその塩に関する。
ゾリル酢酸誘導体又はその塩に関する。
（但し、R1は保護基、R2は水素原子又は低級ア
ルキル基、ｎは整数２又は３を表す。） 本発明のチアゾリル酢酸誘導体（）は新規化
合物であつて、優れた抗菌作用を有するセフアロ
スポリン化合物の合成中間体として有用な化合物
である。
ルキル基、ｎは整数２又は３を表す。） 本発明のチアゾリル酢酸誘導体（）は新規化
合物であつて、優れた抗菌作用を有するセフアロ
スポリン化合物の合成中間体として有用な化合物
である。
本発明のチアゾリル酢酸誘導体としては、例え
ば一般式（）において、R1がホルミル基、ア
セチル基、ピバロイル基の如き低級アルカノイル
基；クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基
の如きモノ―、ジ―もしくはトリハロゲノ―低級
アルカノイル基；メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、tert.―ブトキシカルボニル基の
如き低級アルコキシカルボニル基；ベンジルオキ
シカルボニル基、ｐ―メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオ
キシカルボニル基；ベンジル基、ｐ―メトキシベ
ンジル基、ｐ―メトキシベンジル基の如き置換も
しくは非置換フエニル低級アルキル基；ベンズヒ
ドリル基、トリチル基の如きジ―もしくはトリフ
エニル低級アルキル基などの保護基であり、R2
が水素原子又はメチル基、エチル基、プロピル基
の如き低級アルキル基であり、ｎが整数２又は３
である化合物が挙げられる。これらのうち好まし
い化合物としては、一般式（）において、R1
がトリチル基であり、R2が水素原子又はメチル
基であり、ｎが整数２又は３である化合物が挙げ
られる。さらに好ましい化合物としては、一般式
（）において、R1がトリチル基であり、R2が水
素原子であり、ｎが整数２である化合物が挙げら
れる。
ば一般式（）において、R1がホルミル基、ア
セチル基、ピバロイル基の如き低級アルカノイル
基；クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基
の如きモノ―、ジ―もしくはトリハロゲノ―低級
アルカノイル基；メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、tert.―ブトキシカルボニル基の
如き低級アルコキシカルボニル基；ベンジルオキ
シカルボニル基、ｐ―メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオ
キシカルボニル基；ベンジル基、ｐ―メトキシベ
ンジル基、ｐ―メトキシベンジル基の如き置換も
しくは非置換フエニル低級アルキル基；ベンズヒ
ドリル基、トリチル基の如きジ―もしくはトリフ
エニル低級アルキル基などの保護基であり、R2
が水素原子又はメチル基、エチル基、プロピル基
の如き低級アルキル基であり、ｎが整数２又は３
である化合物が挙げられる。これらのうち好まし
い化合物としては、一般式（）において、R1
がトリチル基であり、R2が水素原子又はメチル
基であり、ｎが整数２又は３である化合物が挙げ
られる。さらに好ましい化合物としては、一般式
（）において、R1がトリチル基であり、R2が水
素原子であり、ｎが整数２である化合物が挙げら
れる。
上記本発明のチアゾリル酢酸誘導体（）にお
いては、オキシイミノ基がＺ（即ち、シン）配置
である化合物が好ましいが、該異性体（Ｚ配置）
はＥ（即ち、アンチ）異性体を少量含むものであ
つてもよい。
いては、オキシイミノ基がＺ（即ち、シン）配置
である化合物が好ましいが、該異性体（Ｚ配置）
はＥ（即ち、アンチ）異性体を少量含むものであ
つてもよい。
さらに、本発明の化合物（）は不斉炭素原子
１個を有するため２個の光学異性体が存在する
が、本発明は化合物（）の光学異性体及びラセ
ミ体のいずれもその範囲に包含するものである。
１個を有するため２個の光学異性体が存在する
が、本発明は化合物（）の光学異性体及びラセ
ミ体のいずれもその範囲に包含するものである。
本発明によれば、目的化合物（）は、例えば
一般式 （但し、R1は前記と同一意味を有する。） で示されるエステル化合物と一般式 （但し、Ｘはハロゲン原子を表し、R2及びｎは
前記と同一意味を有する。） で示される２―オキソ化合物とを適当な溶媒（例
えば、ジメチルスルホキシド）中脱酸剤（例え
ば、炭酸カリウム）の存在下10―50℃で反応させ
て一般式 （但し、R1，R2及びｎは前記と同一意味を有す
る。） で示される化合物とし、次いで該化合物（）を
加水分解することにより製することができる。
一般式 （但し、R1は前記と同一意味を有する。） で示されるエステル化合物と一般式 （但し、Ｘはハロゲン原子を表し、R2及びｎは
前記と同一意味を有する。） で示される２―オキソ化合物とを適当な溶媒（例
えば、ジメチルスルホキシド）中脱酸剤（例え
ば、炭酸カリウム）の存在下10―50℃で反応させ
て一般式 （但し、R1，R2及びｎは前記と同一意味を有す
る。） で示される化合物とし、次いで該化合物（）を
加水分解することにより製することができる。
また、目的化合物（）は一般式
（但し、R1は前記と同一意味を有する。）
で示されるカルボン酸化合物と２―オキソ化合物
（）とを適当な溶媒（例えば、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド）中脱酸剤（例え
ば、水素化ナトリウム）の存在下10―40℃で反応
させることによつても製することができる。
（）とを適当な溶媒（例えば、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド）中脱酸剤（例え
ば、水素化ナトリウム）の存在下10―40℃で反応
させることによつても製することができる。
前述の如く、目的化合物（）は分子内に１個
の不斉炭素原子を有するため２種の光学異性体が
存在するものであるが、必要とあれば、これら光
学異性体は化合物（）を光学分割することによ
り取得することができる。例えば、化合物（）
において、R1がトリチル基であり、R2が水素原
子であり、ｎが２である化合物の光学異性体は、
同化合物のラセミ体とＬ―又はＤ―フエニルアラ
ニンメチルエステルとを適当な溶媒（例えば、メ
タノールとジオキサンとの混合物）中反応させて
それらのジアステレオマー塩を形成させ、次いで
該ジアステレオマー塩を分別再結晶して各々の成
分に分離することにより取得することができる。
該分別再結晶により、難溶性ジアステレオマー塩
が反応混合物から結晶として析出し、易溶性ジア
ステレオマー塩が溶液中に残存することとなる。
本分別再結晶は10―40℃で実施するのが好まし
い。
の不斉炭素原子を有するため２種の光学異性体が
存在するものであるが、必要とあれば、これら光
学異性体は化合物（）を光学分割することによ
り取得することができる。例えば、化合物（）
において、R1がトリチル基であり、R2が水素原
子であり、ｎが２である化合物の光学異性体は、
同化合物のラセミ体とＬ―又はＤ―フエニルアラ
ニンメチルエステルとを適当な溶媒（例えば、メ
タノールとジオキサンとの混合物）中反応させて
それらのジアステレオマー塩を形成させ、次いで
該ジアステレオマー塩を分別再結晶して各々の成
分に分離することにより取得することができる。
該分別再結晶により、難溶性ジアステレオマー塩
が反応混合物から結晶として析出し、易溶性ジア
ステレオマー塩が溶液中に残存することとなる。
本分別再結晶は10―40℃で実施するのが好まし
い。
前記の通り、本発明の目的化合物（）はセフ
アロスポリン化合物の合成中間体として有用であ
る。例えば、化合物（）を7β―アミノ―３―
（１―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―
カルボキシレートと縮合反応させ、次いで生成物
から保護基を除去することにより、一般式 （但し、R2及びｎは前記と同一意味を有する。） で示されるセフアロスポリン化合物を製すること
ができ、当該セフアロスポリン化合物はグラム陽
性菌及びグラム陰性菌のいずれに対しても優れた
抗菌作用を示す。より具体的には、例えばストレ
プトコツカス・フエカーリス（Streptococcus
faecalis）CN478に対する最小発育阻止濃度（M.
I.C.）〔寒天平板希釈法、37℃で20時間培養〕を
測定したところ、上記セフアロスポリン化合物に
おいて、R2が水素原子であり、ｎが２である化
合物、即ち7β―｛（Ｚ）―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―
３―イル）オキシイミノ〕アセタミド｝―３―
（１―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―
カルボキシレート、の左旋性異性体は前記細菌に
対し12.5μｇ／mlのM.I.C.を示すのに対し、セフ
メノキシム（化学名：7β―〔（Ｚ）―２―（２―
アミノチアゾール―４―イル）―２―（メトキシ
イミノ〕アセタミド〕―３―〔（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル〕―３―
セフアム―４―カルボン酸）及びセフタジジム
（化学名：7β―〔（Ｚ）―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―２―（２―カルボキシプロ
ツプ―２―イルオキシイミノ）アセタミド〕―３
―（１―ピリジニオメチル）―３―セフエム―４
―カルボキシレート）のM.I.C.は前記細菌に対し
それぞれ100μｇ／ml以上である。
アロスポリン化合物の合成中間体として有用であ
る。例えば、化合物（）を7β―アミノ―３―
（１―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―
カルボキシレートと縮合反応させ、次いで生成物
から保護基を除去することにより、一般式 （但し、R2及びｎは前記と同一意味を有する。） で示されるセフアロスポリン化合物を製すること
ができ、当該セフアロスポリン化合物はグラム陽
性菌及びグラム陰性菌のいずれに対しても優れた
抗菌作用を示す。より具体的には、例えばストレ
プトコツカス・フエカーリス（Streptococcus
faecalis）CN478に対する最小発育阻止濃度（M.
I.C.）〔寒天平板希釈法、37℃で20時間培養〕を
測定したところ、上記セフアロスポリン化合物に
おいて、R2が水素原子であり、ｎが２である化
合物、即ち7β―｛（Ｚ）―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―
３―イル）オキシイミノ〕アセタミド｝―３―
（１―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―
カルボキシレート、の左旋性異性体は前記細菌に
対し12.5μｇ／mlのM.I.C.を示すのに対し、セフ
メノキシム（化学名：7β―〔（Ｚ）―２―（２―
アミノチアゾール―４―イル）―２―（メトキシ
イミノ〕アセタミド〕―３―〔（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル〕―３―
セフアム―４―カルボン酸）及びセフタジジム
（化学名：7β―〔（Ｚ）―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）―２―（２―カルボキシプロ
ツプ―２―イルオキシイミノ）アセタミド〕―３
―（１―ピリジニオメチル）―３―セフエム―４
―カルボキシレート）のM.I.C.は前記細菌に対し
それぞれ100μｇ／ml以上である。
なお、本明細書において、低級アルキル基、低
級アルコキシ基又は低級アルカノイル基とは、そ
れぞれ炭素数１―４のアルキル基、アルコキシ基
又はアルカノイル基を意味する。
級アルコキシ基又は低級アルカノイル基とは、そ
れぞれ炭素数１―４のアルキル基、アルコキシ基
又はアルカノイル基を意味する。
実施例 １
(1) （Ｚ）―２―（２―トリメチルアミノチアゾ
ール―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸
エチルエステル15.8ｇをジメチルスルホキシド
70mlに溶解し、該溶液に無水炭酸カリウム5.8
ｇを加える。混合物を室温で20分間かく拌す
る。混合物に３―ブロモ―２―ピロリドン6.6
ｇを加え、室温で20時間かく拌する。反応混合
物を水800mlに注加し、析出晶をろ取後水で洗
浄する。結晶をクロロホルムに溶解し、該溶液
を水で洗浄後乾燥する。クロロホルム液を減圧
下に濃縮して溶媒を留去する。残査に酢酸エチ
ル100mlを加え、該混合物を室温で放置する。
析出晶をろ取し、乾燥することにより、（Ｚ）
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸エチルエステル16.0ｇを得
る。
ール―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸
エチルエステル15.8ｇをジメチルスルホキシド
70mlに溶解し、該溶液に無水炭酸カリウム5.8
ｇを加える。混合物を室温で20分間かく拌す
る。混合物に３―ブロモ―２―ピロリドン6.6
ｇを加え、室温で20時間かく拌する。反応混合
物を水800mlに注加し、析出晶をろ取後水で洗
浄する。結晶をクロロホルムに溶解し、該溶液
を水で洗浄後乾燥する。クロロホルム液を減圧
下に濃縮して溶媒を留去する。残査に酢酸エチ
ル100mlを加え、該混合物を室温で放置する。
析出晶をろ取し、乾燥することにより、（Ｚ）
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸エチルエステル16.0ｇを得
る。
M.p. 209―210℃
NMR（CDCl3）δ：
1.30（3H，Ｊ＝７Hz），2.1―2.6（2H，ｍ），
3.1―3.6（2H，ｍ），4.34（2H，ｑ，Ｊ＝７
Hz），4.90（1H，ｔ，Ｊ＝７Hz），6.53（1H，
ｓ），7.0―7.6（17H，ｍ） (2) （Ｚ）―２―（２―トリメチルアミノチアゾ
ール―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―
３―イル）オキシイミノ〕酢酸エチルエステル
16.0ｇをメタノール160mlと2N水酸化ナトリウ
ム水溶液30mlとの混液に加え、該混合物を30分
間加熱還流する。冷後、析出晶をろ取し、メタ
ノールで洗浄する。結晶を水30mlにけん濁し、
該けん濁液を2N塩酸でPH３とする。析出晶を
ろ取し、乾燥することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸11.4ｇを得る。
3.1―3.6（2H，ｍ），4.34（2H，ｑ，Ｊ＝７
Hz），4.90（1H，ｔ，Ｊ＝７Hz），6.53（1H，
ｓ），7.0―7.6（17H，ｍ） (2) （Ｚ）―２―（２―トリメチルアミノチアゾ
ール―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―
３―イル）オキシイミノ〕酢酸エチルエステル
16.0ｇをメタノール160mlと2N水酸化ナトリウ
ム水溶液30mlとの混液に加え、該混合物を30分
間加熱還流する。冷後、析出晶をろ取し、メタ
ノールで洗浄する。結晶を水30mlにけん濁し、
該けん濁液を2N塩酸でPH３とする。析出晶を
ろ取し、乾燥することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸11.4ｇを得る。
M.p. 150―153℃（分解）
NMR（DMSO―d6）δ：
1.8―2.4（2H，ｍ），2.9―3.4（2H，ｍ），4.63
（1H，，ｔ，Ｊ＝７Hz），6.76（1H，ｓ），6.9
―7.6（15H，ｍ），7.85（1H，ｓ），8.70（1H，
broad ｓ） 実施例 ２ (1) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸30ｇ及びメタノー
ル60mlをＬ―フエニルアラニンメチルエステル
10.5ｇ含有ジオキサン100mlに加え、該混合物
を50℃に加熱して前記酸を溶解させる。この溶
液にジオキサン700mlを加え、該混合物を室温
で５時間かく拌する。析出晶をろ取（ろ液を”
ろ液”と称する）し、得られた粗製物（14.3
ｇ）をメタノール24mlに溶解する。この溶液に
ジオキサン280mlを加え、該混合物を室温で４
時間かく拌する。析出晶をろ取（ろ液を”ろ液
”と称する）することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸（ｌ―異性体）・Ｌ―フエニルア
ラニンメチルエステル塩12.2ｇを得る。
（1H，，ｔ，Ｊ＝７Hz），6.76（1H，ｓ），6.9
―7.6（15H，ｍ），7.85（1H，ｓ），8.70（1H，
broad ｓ） 実施例 ２ (1) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸30ｇ及びメタノー
ル60mlをＬ―フエニルアラニンメチルエステル
10.5ｇ含有ジオキサン100mlに加え、該混合物
を50℃に加熱して前記酸を溶解させる。この溶
液にジオキサン700mlを加え、該混合物を室温
で５時間かく拌する。析出晶をろ取（ろ液を”
ろ液”と称する）し、得られた粗製物（14.3
ｇ）をメタノール24mlに溶解する。この溶液に
ジオキサン280mlを加え、該混合物を室温で４
時間かく拌する。析出晶をろ取（ろ液を”ろ液
”と称する）することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸（ｌ―異性体）・Ｌ―フエニルア
ラニンメチルエステル塩12.2ｇを得る。
〔α〕25 D−14.0゜（ｃ＝１，メタノール）
上記で得られた塩12.2ｇをメタノール120ml
に溶解し、該溶液に0.1N塩酸176mlを加える。
混合物を氷冷下に２時間かく拌する。析出晶を
ろ取し、メタノールで洗浄することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―〔（２―ピロリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸（ｌ―異性体）7.5ｇを得
る。
に溶解し、該溶液に0.1N塩酸176mlを加える。
混合物を氷冷下に２時間かく拌する。析出晶を
ろ取し、メタノールで洗浄することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―〔（２―ピロリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸（ｌ―異性体）7.5ｇを得
る。
本左旋性異性体の絶対配置に基く表示：（Ｚ）
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（（3S）―２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸 M.p. 142―143℃（分解） 〔α〕25 D−38.8゜（ｃ＝１，ジメチルホルムアミ
ド） (2) 上記(1)で得られたろ液及びを合わせ、こ
の溶液を減圧下に濃縮乾固する。残査をメタノ
ール250mlに溶解し、該溶液に0.1N塩酸450ml
を滴下する。混合物を氷冷下に２時間かく拌す
る。析出晶をろ取し、メタノールで洗浄後乾燥
することにより、（Ｚ）―２―（２―トリチル
アミノチアゾール―４―イル）―２―〔（２―
ピロリドン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸
（ｄ―異性体を過剰に含む）20ｇを得る。本品
20ｇ及びメタノール40mlをＤ―フエニルアラニ
ンメチルエステル7.0ｇ含有ジオキサン70mlに
加え、該混合物を50℃に加熱して前記酸を溶解
する。この溶液にジオキサン450mlを加え、該
混合物を室温で４時間かく拌する。析出晶をろ
取し、得られる粗製物（13.3ｇ）をメタノール
20mlに溶解する。この溶液にジオキサン260ml
を加え、該混合物を室温で４時間かく拌する。
析出晶をろ取することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸（ｄ―異性体）・Ｄ―フエニルア
ラニンメチルエステル塩12.0ｇを得る。
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（（3S）―２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸 M.p. 142―143℃（分解） 〔α〕25 D−38.8゜（ｃ＝１，ジメチルホルムアミ
ド） (2) 上記(1)で得られたろ液及びを合わせ、こ
の溶液を減圧下に濃縮乾固する。残査をメタノ
ール250mlに溶解し、該溶液に0.1N塩酸450ml
を滴下する。混合物を氷冷下に２時間かく拌す
る。析出晶をろ取し、メタノールで洗浄後乾燥
することにより、（Ｚ）―２―（２―トリチル
アミノチアゾール―４―イル）―２―〔（２―
ピロリドン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸
（ｄ―異性体を過剰に含む）20ｇを得る。本品
20ｇ及びメタノール40mlをＤ―フエニルアラニ
ンメチルエステル7.0ｇ含有ジオキサン70mlに
加え、該混合物を50℃に加熱して前記酸を溶解
する。この溶液にジオキサン450mlを加え、該
混合物を室温で４時間かく拌する。析出晶をろ
取し、得られる粗製物（13.3ｇ）をメタノール
20mlに溶解する。この溶液にジオキサン260ml
を加え、該混合物を室温で４時間かく拌する。
析出晶をろ取することにより、（Ｚ）―２―
（２―トリチルアミノチアゾール―４―イル）
―２―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシ
イミノ〕酢酸（ｄ―異性体）・Ｄ―フエニルア
ラニンメチルエステル塩12.0ｇを得る。
〔α〕25 D＋13.9゜（ｃ＝１，メタノール）
上記で得られた塩12.0ｇをメタノール120ml
に溶解し、該溶液に0.1N塩酸174mlを加える。
混合物を氷冷下に２時間かく拌する。析出晶を
ろ取し、メタノールで洗浄することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―３―
イル）オキシイミノ〕酢酸（ｄ―異性体）7.3
ｇを得る。
に溶解し、該溶液に0.1N塩酸174mlを加える。
混合物を氷冷下に２時間かく拌する。析出晶を
ろ取し、メタノールで洗浄することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―２―〔（２―ピロリドン―３―
イル）オキシイミノ〕酢酸（ｄ―異性体）7.3
ｇを得る。
本右旋性異性体の絶対配置に基く表示：（Ｚ）
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（（3R）―２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸 M.p. 143〜144℃（分解） 〔α〕25 D＋37.4゜（ｃ＝１，ジメチルホルムアミ
ド） 実施例 ３ (1) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸エ
チルエステル2.7ｇをジメチルスルホキシド12
mlに溶解し、該溶液に無水炭酸カリウム1.0ｇ
を窒素ガス気流下に加える。混合物を室温で10
分間かく拌する。混合物に１―メチル―３―ブ
ロモ―２―ピロリドン1.2ｇを加え、混合物を
室温で５時間かく拌する。反応混合物を水100
mlに注加し、析出晶をろ取する。結晶を酢酸エ
チルに溶解し、該溶液を水で洗浄後乾燥する。
酢酸エチル液を減圧下に濃縮して溶媒を留去す
る。残査をイソプロピルエーテルから再結晶
し、ろ取することにより、（Ｚ）―２―（２―
トリチルアミノチアゾール―４―イル）―２―
〔（１―メチル―２―ピロリドン―３―イル）オ
キシイミノ〕酢酸エチルエステル2.1ｇを得る。
―２―（２―トリチルアミノチアゾール―４―
イル）―２―〔（（3R）―２―ピロリドン―３
―イル）オキシイミノ〕酢酸 M.p. 143〜144℃（分解） 〔α〕25 D＋37.4゜（ｃ＝１，ジメチルホルムアミ
ド） 実施例 ３ (1) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸エ
チルエステル2.7ｇをジメチルスルホキシド12
mlに溶解し、該溶液に無水炭酸カリウム1.0ｇ
を窒素ガス気流下に加える。混合物を室温で10
分間かく拌する。混合物に１―メチル―３―ブ
ロモ―２―ピロリドン1.2ｇを加え、混合物を
室温で５時間かく拌する。反応混合物を水100
mlに注加し、析出晶をろ取する。結晶を酢酸エ
チルに溶解し、該溶液を水で洗浄後乾燥する。
酢酸エチル液を減圧下に濃縮して溶媒を留去す
る。残査をイソプロピルエーテルから再結晶
し、ろ取することにより、（Ｚ）―２―（２―
トリチルアミノチアゾール―４―イル）―２―
〔（１―メチル―２―ピロリドン―３―イル）オ
キシイミノ〕酢酸エチルエステル2.1ｇを得る。
NMR （CDCl3）δ：
1.30（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0―2.7（2H，
ｍ），2.88（3H，ｓ），3.0―3.6（2H，ｍ），
4.34（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），4.92（1H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），6.54（1H，ｓ），6.87（1H，ｓ），
7.0―7.5（15H，ｍ） (2) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（１―メチル―２―ピ
ロリドン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ルエステル2.7ｇをメタノール27mlにけん濁し、
該けん濁液に2N水酸化ナトリウム水溶液4.9ml
を加える。混合物を20分間加熱還流する。冷
後、混合物を減圧下に濃縮してメタノールを留
去する。残査に2N塩酸を加えてPH２とし、酢
酸エチルで抽出する。抽出液を乾燥後減圧下に
溶媒を留去する。残査をエーテルで結晶化し、
ろ取することにより、（Ｚ）―２―（２―トリ
チルアミノチアゾール―４―イル）―２―
〔（１―メチル―２―ピロリドン―３―イル）オ
キシイミノ〕酢酸2.15ｇを得る。
ｍ），2.88（3H，ｓ），3.0―3.6（2H，ｍ），
4.34（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz），4.92（1H，ｔ，Ｊ
＝７Hz），6.54（1H，ｓ），6.87（1H，ｓ），
7.0―7.5（15H，ｍ） (2) （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（１―メチル―２―ピ
ロリドン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ルエステル2.7ｇをメタノール27mlにけん濁し、
該けん濁液に2N水酸化ナトリウム水溶液4.9ml
を加える。混合物を20分間加熱還流する。冷
後、混合物を減圧下に濃縮してメタノールを留
去する。残査に2N塩酸を加えてPH２とし、酢
酸エチルで抽出する。抽出液を乾燥後減圧下に
溶媒を留去する。残査をエーテルで結晶化し、
ろ取することにより、（Ｚ）―２―（２―トリ
チルアミノチアゾール―４―イル）―２―
〔（１―メチル―２―ピロリドン―３―イル）オ
キシイミノ〕酢酸2.15ｇを得る。
M.p. 142〜145℃（分解）
NMR（DMSO―d6）δ：
2.0―2.5（2H，ｍ），2.77（3H，ｓ），3.1―3.4
（2H，ｍ），4.78（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.87
（1H，ｓ），6.9―7.5（16H，ｍ） 実施例 ４ （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸1.3ｇ
をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、該溶液に
水素化ナトリウム（60％油状分散物）0.24ｇを加
える。混合物を室温で15分間かく拌する。混合物
に３―ブロモ―２―ピペリドン0.65ｇを加え、該
混合物を室温で1.5時間かく拌する。反応混合物
を水に注加し、該混合物を酢酸エチルとテトラヒ
ドロフラン（１：１）との混液で洗浄する。水層
を10％塩酸でPH３とし、酢酸エチルとテトラヒド
ロフラン（１：１）との混液で抽出する。抽出液
を乾燥後減圧下に濃縮乾固する。残査をエーテル
で粉末とし、ろ取する。粉末（1.3ｇ）をシリカ
ゲルクロマトグラフイー（溶媒，メタノール：ク
ロロホルム＝１：４）で精製することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール―
４―イル）―２―〔（２―ピペリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸0.85ｇを得る。
（2H，ｍ），4.78（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.87
（1H，ｓ），6.9―7.5（16H，ｍ） 実施例 ４ （Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール
―４―イル）―２―ヒドロキシイミノ酢酸1.3ｇ
をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、該溶液に
水素化ナトリウム（60％油状分散物）0.24ｇを加
える。混合物を室温で15分間かく拌する。混合物
に３―ブロモ―２―ピペリドン0.65ｇを加え、該
混合物を室温で1.5時間かく拌する。反応混合物
を水に注加し、該混合物を酢酸エチルとテトラヒ
ドロフラン（１：１）との混液で洗浄する。水層
を10％塩酸でPH３とし、酢酸エチルとテトラヒド
ロフラン（１：１）との混液で抽出する。抽出液
を乾燥後減圧下に濃縮乾固する。残査をエーテル
で粉末とし、ろ取する。粉末（1.3ｇ）をシリカ
ゲルクロマトグラフイー（溶媒，メタノール：ク
ロロホルム＝１：４）で精製することにより、
（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノチアゾール―
４―イル）―２―〔（２―ピペリドン―３―イル）
オキシイミノ〕酢酸0.85ｇを得る。
M.p 145〜150℃（分解）
参考例
オキザリルクロリド1.81ｇをジメチルホルムア
ミド1.15ml含有クロロホルム45ml溶液に−５℃〜
０℃で加え、該混合物を同温で15分間かく拌す
る。混合物に（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノ
チアゾール―４―イル）―２―〔（２―ピロリド
ン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸（ｌ―異性
体）4.90ｇ及びトリエチルアミン0.97ｇのクロロ
ホルム45ml溶液を−30℃で加え、同温で５分間か
く拌する。この混合物に7β―アミノ―３―（１
―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―カル
ボキシレートのクロロホルム溶液（この溶液は前
記セフアム化合物・２塩酸塩5.8ｇをクロロホル
ム45mlにけん濁し、該けん濁液にＮ，Ｏ―ビス
（トリメチルシリル）アセタミド12.7mlを加えて
前記塩を溶解させることにより調製する）を−30
℃〜−10℃で加える。混合物を同温で30分間かく
拌後、減圧下に濃縮乾固する。残査に80％ギ酸水
溶液100mlを加え、該混合物を室温で１時間かく
拌する。混合物に水110mlを加え、不溶物をろ去
する。ろ液を酢酸エチルで洗浄後減圧下に濃縮乾
固する。残査を水に溶解し、該溶液を非イオン性
吸着樹脂（商品名：ダイヤイオンHP―20、三菱
化成社製）を充填したカラムに導通する。カラム
を水で洗浄後20％メタノール水溶液で溶出する。
溶出液を減圧下に濃縮乾固する。残査をアセトン
で粉末とし、ろ取することにより、7β―｛（Ｚ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）―２
―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシイミノ〕
アセタミド｝―３―（１―ピリジニオメチル）―
３―セフアム―４―カルボキシレート（ｌ―異性
体）2.22ｇを得る。
ミド1.15ml含有クロロホルム45ml溶液に−５℃〜
０℃で加え、該混合物を同温で15分間かく拌す
る。混合物に（Ｚ）―２―（２―トリチルアミノ
チアゾール―４―イル）―２―〔（２―ピロリド
ン―３―イル）オキシイミノ〕酢酸（ｌ―異性
体）4.90ｇ及びトリエチルアミン0.97ｇのクロロ
ホルム45ml溶液を−30℃で加え、同温で５分間か
く拌する。この混合物に7β―アミノ―３―（１
―ピリジニオメチル）―３―セフアム―４―カル
ボキシレートのクロロホルム溶液（この溶液は前
記セフアム化合物・２塩酸塩5.8ｇをクロロホル
ム45mlにけん濁し、該けん濁液にＮ，Ｏ―ビス
（トリメチルシリル）アセタミド12.7mlを加えて
前記塩を溶解させることにより調製する）を−30
℃〜−10℃で加える。混合物を同温で30分間かく
拌後、減圧下に濃縮乾固する。残査に80％ギ酸水
溶液100mlを加え、該混合物を室温で１時間かく
拌する。混合物に水110mlを加え、不溶物をろ去
する。ろ液を酢酸エチルで洗浄後減圧下に濃縮乾
固する。残査を水に溶解し、該溶液を非イオン性
吸着樹脂（商品名：ダイヤイオンHP―20、三菱
化成社製）を充填したカラムに導通する。カラム
を水で洗浄後20％メタノール水溶液で溶出する。
溶出液を減圧下に濃縮乾固する。残査をアセトン
で粉末とし、ろ取することにより、7β―｛（Ｚ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）―２
―〔（２―ピロリドン―３―イル）オキシイミノ〕
アセタミド｝―３―（１―ピリジニオメチル）―
３―セフアム―４―カルボキシレート（ｌ―異性
体）2.22ｇを得る。
本左旋性異性体の絶対配置に基く表示：（6R，
7R）―７―（（Ｚ）―２―（２―アミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（（3S）―２―ピロリド
ン―３―イル）オキシイミノ〕アセタミド｝―３
―（１―ピリジニオメチル）―３―セフエム―４
―カルボキシレート NMR（D2O）δ： 2.2―2.7（2H，ｍ），3.1―3.（4H，ｍ） 5.05（1H，ｔ，Ｊ＝７Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz）， 5.36（1H，ｄ，Ｊ＝14Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝
14Hz）， 5.87（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.98（1H，ｓ）， 8.10（2H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz），8.57（1H，ｔ，Ｊ
＝7.5Hz）， 8.98（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz） 〔α〕20 D−38.0゜（ｃ＝１，水）。
7R）―７―（（Ｚ）―２―（２―アミノチアゾー
ル―４―イル）―２―〔（（3S）―２―ピロリド
ン―３―イル）オキシイミノ〕アセタミド｝―３
―（１―ピリジニオメチル）―３―セフエム―４
―カルボキシレート NMR（D2O）δ： 2.2―2.7（2H，ｍ），3.1―3.（4H，ｍ） 5.05（1H，ｔ，Ｊ＝７Hz），5.28（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz）， 5.36（1H，ｄ，Ｊ＝14Hz），5.63（1H，ｄ，Ｊ＝
14Hz）， 5.87（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.98（1H，ｓ）， 8.10（2H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz），8.57（1H，ｔ，Ｊ
＝7.5Hz）， 8.98（1H，ｄ，Ｊ＝7.5Hz） 〔α〕20 D−38.0゜（ｃ＝１，水）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （但し、R1は保護基、R2は水素原子又は低級ア
ルキル基、ｎは整数２又は３を表す。） で示されるチアゾリル酢酸誘導体又はその塩。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8222823 | 1982-08-07 | ||
| GB8222823 | 1982-08-07 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58138674A Division JPS5951292A (ja) | 1982-08-07 | 1983-07-27 | セファロスポリン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62294681A JPS62294681A (ja) | 1987-12-22 |
| JPH0246588B2 true JPH0246588B2 (ja) | 1990-10-16 |
Family
ID=10532181
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58138674A Granted JPS5951292A (ja) | 1982-08-07 | 1983-07-27 | セファロスポリン化合物 |
| JP62137562A Granted JPS62294615A (ja) | 1982-08-07 | 1987-05-29 | 抗菌剤 |
| JP62137563A Granted JPS62294681A (ja) | 1982-08-07 | 1987-05-29 | チアゾリル酢酸誘導体 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58138674A Granted JPS5951292A (ja) | 1982-08-07 | 1983-07-27 | セファロスポリン化合物 |
| JP62137562A Granted JPS62294615A (ja) | 1982-08-07 | 1987-05-29 | 抗菌剤 |
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| Country | Link |
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| EP (2) | EP0101265B1 (ja) |
| JP (3) | JPS5951292A (ja) |
| KR (1) | KR870001440B1 (ja) |
| AT (2) | ATE35413T1 (ja) |
| AU (1) | AU562248B2 (ja) |
| BG (3) | BG42835A3 (ja) |
| CA (1) | CA1231940A (ja) |
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| DD (1) | DD210053A5 (ja) |
| DE (2) | DE3381734D1 (ja) |
| DK (2) | DK358983A (ja) |
| ES (3) | ES8502121A1 (ja) |
| FI (1) | FI74972C (ja) |
| GR (1) | GR78864B (ja) |
| IE (1) | IE55406B1 (ja) |
| IL (1) | IL69246A (ja) |
| NO (1) | NO161068C (ja) |
| PH (1) | PH18498A (ja) |
| PL (2) | PL140023B1 (ja) |
| PT (1) | PT77166B (ja) |
| SU (2) | SU1227116A3 (ja) |
| ZA (1) | ZA835411B (ja) |
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| JPS6178792A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-22 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（４−オキソ−２−アゼチジニル置換イミノ）アセトアミド〕−３−置換メチル−Δ↑３−セフエム−４−カルボン酸およびその製造法 |
| JPS6185392A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン化合物の新規製法 |
| JPS61143379A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-07-01 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
| JPS61143381A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-07-01 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 光学活性チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
| JPS61143380A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-07-01 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
| CA1263399A (en) * | 1984-12-19 | 1989-11-28 | Hoffmann-La Roche Limited | Process for the manufacture of aminothiazole acetic acid derivatives |
| JPS61171464A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
| JPS63107989A (ja) * | 1986-06-04 | 1988-05-12 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セファロスポリン化合物 |
| IL82738A0 (en) * | 1986-06-16 | 1987-12-20 | Tanabe Seiyaku Co | Cephalosporin compounds,their preparation and pharmaceutical compositions containing them |
| AT389701B (de) * | 1987-10-08 | 1990-01-25 | Tanabe Seiyaku Co | Neue cephalosporinverbindungen und diese enthaltende pharmazeutische zusammensetzungen |
| JP4773154B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2011-09-14 | 小澤物産株式会社 | レバー式カップリング |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1399086A (en) * | 1971-05-14 | 1975-06-25 | Glaxo Lab Ltd | Cephalosporin compounds |
| GB1536281A (en) * | 1975-06-09 | 1978-12-20 | Takeda Chemical Industries Ltd | Cephem compounds |
| DE2760123C2 (de) * | 1976-01-23 | 1986-04-30 | Roussel-Uclaf, Paris | 7-Aminothiazolyl-syn-oxyiminoacetamidocephalosporansäuren, ihre Herstellung und sie enthaltende pharmazeutische Zusammensetzungen |
| IE44888B1 (en) * | 1976-03-09 | 1982-05-05 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid compounds and processes for the preparation theroef |
| DE2760484C2 (ja) * | 1976-04-14 | 1992-12-03 | Takeda Chemical Industries, Ltd., Osaka, Jp | |
| FR2384782A1 (fr) * | 1977-03-25 | 1978-10-20 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-acetoxymethyl 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| SE448379B (sv) * | 1978-03-31 | 1987-02-16 | Roussel Uclaf | O-substituerade oximderivat av 7-amino-tiazolyl-acetamidocefalosporansyra |
| AR228726A1 (es) * | 1978-05-26 | 1983-04-15 | Glaxo Group Ltd | Procedimiento para la preparacion del antibiotico(6r,7r)-7-((z)-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-(2-carboxiprop-2-oxiimino)acetamido)-3-(1-piridiniometil)cef-3-em-4-carboxilato |
| EP0059486B1 (en) * | 1978-07-17 | 1985-10-02 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | New starting compounds for preparing cephem compounds and processes for their preparation |
| US4284631A (en) * | 1978-07-31 | 1981-08-18 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 7-Substituted cephem compounds and pharmaceutical antibacterial compositions containing them |
| GB2028305A (en) * | 1978-08-03 | 1980-03-05 | Hoechst Ag | Cephem derivatives and processes for their manufacture |
| US4271157A (en) * | 1980-02-28 | 1981-06-02 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Imidazole derivatives of 7-[(2-amino-4-thiazolyl)-oximino] cephalosporins |
| GB2061276B (en) * | 1979-10-25 | 1983-05-25 | Squibb & Sons Inc | Imidazole and tetrazole derivatives of 7-((2-amino-4-thiazolyl)-oximino)cephalosporins |
| US4416879A (en) * | 1980-09-08 | 1983-11-22 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephem compounds |
| IE55406B1 (en) * | 1982-08-07 | 1990-09-12 | Tanabe Seiyaku Co | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
| JPS59155391A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-04 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 新規セファロスポリン誘導体 |
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