JPH0250065B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0250065B2 JPH0250065B2 JP57106381A JP10638182A JPH0250065B2 JP H0250065 B2 JPH0250065 B2 JP H0250065B2 JP 57106381 A JP57106381 A JP 57106381A JP 10638182 A JP10638182 A JP 10638182A JP H0250065 B2 JPH0250065 B2 JP H0250065B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- optical
- fiber
- sputtering
- reflection
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は光コネクタに収容する光フアイバ端面
への反射防止膜の形成方法に関する。
への反射防止膜の形成方法に関する。
(b) 技術の背景
光通信は光フアイバを伝送路とし、レーザ光な
どを用いて通信を行うものである。こゝで光フア
イバには高純度の二酸化硅素（SiO2）を主成分
とする石英系フアイバ、多成分のガラスからなる
多成分系フアイバおよび合成樹脂からなるプラス
チツク系フアイバなどがある。然し光通信に使用
される光フアイバは低損失なことが必要条件であ
り、この点から石英系フアイバが主として用いら
れ、現在は波長1.2〜1.3μｍ領域において0.5
〔dB／Km〕程度の低損失のものまで実現されてい
る。
どを用いて通信を行うものである。こゝで光フア
イバには高純度の二酸化硅素（SiO2）を主成分
とする石英系フアイバ、多成分のガラスからなる
多成分系フアイバおよび合成樹脂からなるプラス
チツク系フアイバなどがある。然し光通信に使用
される光フアイバは低損失なことが必要条件であ
り、この点から石英系フアイバが主として用いら
れ、現在は波長1.2〜1.3μｍ領域において0.5
〔dB／Km〕程度の低損失のものまで実現されてい
る。
さて、光通信路における光フアイバの接続は光
コネクタを用いて行われるが、光フアイバと空気
との屈折率が異るために界面における反射が避け
られずそれによる損失を生じていた。
コネクタを用いて行われるが、光フアイバと空気
との屈折率が異るために界面における反射が避け
られずそれによる損失を生じていた。
(c) 従来技術と問題点
第１図は光コネクタの断面構造を示すものであ
つてＡは装着後の状態またＢは光フアイバの外観
を示している。
つてＡは装着後の状態またＢは光フアイバの外観
を示している。
ここで光フアイバの場合光をフアイバ内に閉じ
込めるためにレーザ光が伝播する中心のコア部分
の屈折率を周囲のクラツド部より大きく形成され
ている。例えば石英系光フアイバの場合コア部分
の屈折率は1.46、クラツド部分は1.45程度であ
り、また大きさについて言えば線径が１mmのフア
イバの場合、コア部分の直径は約50μｍ、またク
ラツド部分の直径は約125μｍであり、これを合
成樹脂例えばナイロンにより被覆し保護すること
によつてフアイバケーブルが構成されている。
込めるためにレーザ光が伝播する中心のコア部分
の屈折率を周囲のクラツド部より大きく形成され
ている。例えば石英系光フアイバの場合コア部分
の屈折率は1.46、クラツド部分は1.45程度であ
り、また大きさについて言えば線径が１mmのフア
イバの場合、コア部分の直径は約50μｍ、またク
ラツド部分の直径は約125μｍであり、これを合
成樹脂例えばナイロンにより被覆し保護すること
によつてフアイバケーブルが構成されている。
こゝで光フアイバ相互を接続するには第１図Ｂ
に示すようにプラスチツク被覆１を部分的に除い
て光フアイバ２を露出させた１対の光ケーブル
３，３′をそれぞれフエルールに固定し研磨盤を
使用してフエルールの端面と光フアイバ２の端面
とが同一面となるように研磨する。研磨が終つた
光フアイバは１図Ａに示すようにフエルール４，
４′に固定されたままの状態でアダプタ５に収容
後カツプリングナツト６，６′を用いてアダプタ
５に嵌着することで光フアイバ２，２′の接続が
行われていた。然し乍らこの場合、光フアイバ
２，２′の接続は完全に行われているわけではな
く数10μｍの間隙の存在は避けられず、光フアイ
バと空気と屈折率が異なるため反射を生じ１ヶ所
につき約４％の反射損失を生じている。また反射
光が存在するとこれがレーザ光源にまで戻る結果
としてレーザ発振の不安定性を招いている。それ
でこれを防ぐ方法として光フアイバの端面に反射
防止膜を設ければよいことは判つていたが、光フ
アイバケーブルの長さが充分に長いためにこの端
面のみ有効に反射防止膜を設ける方法は見当らな
かつた。
に示すようにプラスチツク被覆１を部分的に除い
て光フアイバ２を露出させた１対の光ケーブル
３，３′をそれぞれフエルールに固定し研磨盤を
使用してフエルールの端面と光フアイバ２の端面
とが同一面となるように研磨する。研磨が終つた
光フアイバは１図Ａに示すようにフエルール４，
４′に固定されたままの状態でアダプタ５に収容
後カツプリングナツト６，６′を用いてアダプタ
５に嵌着することで光フアイバ２，２′の接続が
行われていた。然し乍らこの場合、光フアイバ
２，２′の接続は完全に行われているわけではな
く数10μｍの間隙の存在は避けられず、光フアイ
バと空気と屈折率が異なるため反射を生じ１ヶ所
につき約４％の反射損失を生じている。また反射
光が存在するとこれがレーザ光源にまで戻る結果
としてレーザ発振の不安定性を招いている。それ
でこれを防ぐ方法として光フアイバの端面に反射
防止膜を設ければよいことは判つていたが、光フ
アイバケーブルの長さが充分に長いためにこの端
面のみ有効に反射防止膜を設ける方法は見当らな
かつた。
(d) 発明の目的
本発明は光フアイバケーブルの端面に酸化物系
の多層構成の反射防止膜を形成する方法を提供す
ることを目的とする。
の多層構成の反射防止膜を形成する方法を提供す
ることを目的とする。
(e) 発明の構成
本発明の目的は端面を研磨した複数個の光フア
イバケーブルを縦に分割したゴム弾性をもつ円筒
状のフアイバホルダに挟着した状態でスパツタ装
置に装着し、次にこの光フアイバの先端部を陽極
基板に予め設けてある複数個のフアイバ孔より突
出せしめた状態でスパツタ処理を施すことによつ
て多層膜からなる反射防止膜を光フアイバの先端
部に設ける反射防止膜形成方法により達成され
る。
イバケーブルを縦に分割したゴム弾性をもつ円筒
状のフアイバホルダに挟着した状態でスパツタ装
置に装着し、次にこの光フアイバの先端部を陽極
基板に予め設けてある複数個のフアイバ孔より突
出せしめた状態でスパツタ処理を施すことによつ
て多層膜からなる反射防止膜を光フアイバの先端
部に設ける反射防止膜形成方法により達成され
る。
(f) 発明の実施例
本発明は酸化物系の薄膜を層状に形成すること
により使用波長領域に互つて反射防止を行うもの
であつて、薄膜の材料としてはSiO2（屈折率
1.45）、二酸化チタンTiO2（屈折率2.3）、酸化アル
ミAl2O3（屈折率1.65）などがあり、これを層状に
形成して反射防止膜とする。
により使用波長領域に互つて反射防止を行うもの
であつて、薄膜の材料としてはSiO2（屈折率
1.45）、二酸化チタンTiO2（屈折率2.3）、酸化アル
ミAl2O3（屈折率1.65）などがあり、これを層状に
形成して反射防止膜とする。
この組合せについて例を挙げれば、SiO2−
Al2O3−TiO2−SiO2からなる組合わせ、或は
Al2O3−TiO2−SiO2の組合せなどがよい。
Al2O3−TiO2−SiO2からなる組合わせ、或は
Al2O3−TiO2−SiO2の組合せなどがよい。
本発明はこれらの酸化物をスパツタ方法により
形成するものであるがこの場合に適当な膜厚は次
式で与えられる。
形成するものであるがこの場合に適当な膜厚は次
式で与えられる。
λ／４・１／ｎ ………(1)
ここで
λ……レーザ光の波長
ｎ……酸化物の屈折率
以下薄膜形成法について説明する。
第２図は本発明に係るスパツタ装置の構成図ま
た第３図は光フアイバをセツトする陽極の構成を
示すものである。
た第３図は光フアイバをセツトする陽極の構成を
示すものである。
第２図のスパツタ装置は陽極７およびフアイバ
ホルダの装着口８を除いては通常のスパツタ装置
と変らない。すなわちスパツタすべき酸化物より
なるターゲツト９は陰勤１０上にセツトされてい
ると共に内側を水冷されており高圧電源１１の負
極側に接続されておりまた陽極７は電源１１の正
極側に接続されている。また電源より絶縁されて
存在する排気鐘１２は図示していない排気系によ
り排気口１３より排気されると共にニードルバル
ブ１４を通してアルゴン（Ar）或は酸素（O2）
などが供給され、一定の真空度の下でスパツタが
行われるようになつている。なおスパツタ効果を
高めるためにバイアスコイル１５が設けられてい
る。
ホルダの装着口８を除いては通常のスパツタ装置
と変らない。すなわちスパツタすべき酸化物より
なるターゲツト９は陰勤１０上にセツトされてい
ると共に内側を水冷されており高圧電源１１の負
極側に接続されておりまた陽極７は電源１１の正
極側に接続されている。また電源より絶縁されて
存在する排気鐘１２は図示していない排気系によ
り排気口１３より排気されると共にニードルバル
ブ１４を通してアルゴン（Ar）或は酸素（O2）
などが供給され、一定の真空度の下でスパツタが
行われるようになつている。なおスパツタ効果を
高めるためにバイアスコイル１５が設けられてい
る。
以上のようなスパツタ装置において複数個の光
ケーブル３は第１図Ｂに示すように先端部のプラ
スチツク被覆１を除き先端部を研磨した状態のも
のを排気鐘のフアイバホルダの装着口８を通して
装置内に導き陽極板１６設けてある多数のケーブ
ルセツト孔１７に挿入する。こゝでケーブルセツ
ト孔１７は光ケーブル３が嵌合する大きさに作ら
れている。こゝで陽極板１６に設けられているケ
ーブルセツト孔１７の先端のフアイバ孔１８は光
フアイバ２の径に合わせ段差をもつて設けられて
いるので光フアイバ２は陽極１６の下面より僅か
に突出する状態に保持される。なお陽極板１６の
内部は水冷されており、スパツタの際の発熱によ
り、ケーブルのプラスチツク被覆１が軟化溶着し
ないようになつている。
ケーブル３は第１図Ｂに示すように先端部のプラ
スチツク被覆１を除き先端部を研磨した状態のも
のを排気鐘のフアイバホルダの装着口８を通して
装置内に導き陽極板１６設けてある多数のケーブ
ルセツト孔１７に挿入する。こゝでケーブルセツ
ト孔１７は光ケーブル３が嵌合する大きさに作ら
れている。こゝで陽極板１６に設けられているケ
ーブルセツト孔１７の先端のフアイバ孔１８は光
フアイバ２の径に合わせ段差をもつて設けられて
いるので光フアイバ２は陽極１６の下面より僅か
に突出する状態に保持される。なお陽極板１６の
内部は水冷されており、スパツタの際の発熱によ
り、ケーブルのプラスチツク被覆１が軟化溶着し
ないようになつている。
さて必要数の光ケーブル３を陽極板１６に挿着
した後は縦に２分割された円筒状のゴム弾性をも
つ材料例えばシリコン樹脂よりなるフアイバホル
ダに光ケーブル３を挟着しフアイバホルダの装着
口８に装着することにより気密を保持することが
できる。
した後は縦に２分割された円筒状のゴム弾性をも
つ材料例えばシリコン樹脂よりなるフアイバホル
ダに光ケーブル３を挟着しフアイバホルダの装着
口８に装着することにより気密を保持することが
できる。
このようにして光ケーブル３の一部のみを装置
内に入れ以後通常のスパツタを行うことにより
SiO2、TiO2、Al2O3などの酸化物を光フアイバ
２の断面に折出させ、反射防止膜を作ることがで
きる。
内に入れ以後通常のスパツタを行うことにより
SiO2、TiO2、Al2O3などの酸化物を光フアイバ
２の断面に折出させ、反射防止膜を作ることがで
きる。
(g) 発明の効果
本発明の実施により光フアイバの端面に対し反
射防止膜の形成が可能となりこれにより光コネク
タ接続における反射損失を無くすることが可能と
なつた。
射防止膜の形成が可能となりこれにより光コネク
タ接続における反射損失を無くすることが可能と
なつた。
第１図Ａは光コネクタの断面図で同図Ｂは光ケ
ーブルの斜視図、第２図は本発明を実施するに必
要なスパツタ装置の構成図、また第３図はこの陽
極板の構造でＡは正面図、Ｂは断面図である。 図において、１はプラスチツク被覆、２，２′
は光フアイバ３，３′は光ケーブル、７は陽極、
８はフアイバホルダの挿入口、１６は陽極板、１
７はケーブルセツト孔、１８はフアイバ孔。
ーブルの斜視図、第２図は本発明を実施するに必
要なスパツタ装置の構成図、また第３図はこの陽
極板の構造でＡは正面図、Ｂは断面図である。 図において、１はプラスチツク被覆、２，２′
は光フアイバ３，３′は光ケーブル、７は陽極、
８はフアイバホルダの挿入口、１６は陽極板、１
７はケーブルセツト孔、１８はフアイバ孔。
Claims (1)
- １ 端面を研磨した複数個の光フアイバケーブル
を縦に分割したゴム弾性をもつ円筒状のフアイバ
ホルダに挟着した状態でスパツタ装置に装着し、
次に該光フアイバの先端部を陽極基板に予め設け
てある複数個のフアイバ孔より突出せしめた状態
でスパツタ処理を施すことによつて多層膜からな
る反射防止膜を光フアイバの先端部に設けること
を特徴とする光フアイバ端面への反射防止膜形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57106381A JPS58223639A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57106381A JPS58223639A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58223639A JPS58223639A (ja) | 1983-12-26 |
| JPH0250065B2 true JPH0250065B2 (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=14432127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57106381A Granted JPS58223639A (ja) | 1982-06-21 | 1982-06-21 | 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58223639A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4561954A (en) * | 1985-01-22 | 1985-12-31 | Avx Corporation | Method of applying terminations to ceramic bodies |
| JPH0812302B2 (ja) * | 1987-11-02 | 1996-02-07 | 株式会社日立製作所 | チタン酸化物薄膜の製造方法 |
| US20040118349A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-06-24 | 3M Innovative Properties Company | Vapor deposition shield for optical fibers |
-
1982
- 1982-06-21 JP JP57106381A patent/JPS58223639A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58223639A (ja) | 1983-12-26 |
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