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JPH0254883B2 - - Google Patents
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JPH0254883B2 - - Google Patents

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JPH0254883B2
JPH0254883B2 JP59008934A JP893484A JPH0254883B2 JP H0254883 B2 JPH0254883 B2 JP H0254883B2 JP 59008934 A JP59008934 A JP 59008934A JP 893484 A JP893484 A JP 893484A JP H0254883 B2 JPH0254883 B2 JP H0254883B2
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Akyoshi Narimatsu
Hiroyuki Ookubo
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    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
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    • G01D5/142Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は強磁性金属磁気抵抗薄膜で形成される
磁気スケール信号検出装置の改良に関する。
従来の磁気スケール信号検出装置には、例えば
特開昭50−81117号公報及び米国特許第3949345号
公報等で公知の如く、強磁性金属磁気抵抗薄膜の
分割型磁電変換素子から成るものがある。これは
素子の各構成要素を磁気スケールの各磁気目盛
(磁気格子)に対応するように配設することを基
本とするものであるが、実用化の見地からみて下
記の問題点がある。
(イ) 磁気目盛の大きさが磁電変換素子の寸法に制
約されるため短波長の磁気スケールを作ること
ができず、波長λ>1mmに限定される。磁気ス
ケールの分解能(読取り単位)を細かくするに
は内挿度を高めなければならないので、位相変
調検出方式の採用を必要とし、安価な検出回路
を実現し難い。
(ロ) 磁電変換素子の構成寸法Lは例えばλ=2
mm、構成要素数N=10として、L≧40mmと大き
くなるので高価になる。
またこのような多要素構成のものに対して、第
1図に示す如き公知の単要素構成1のものもある
が、上述したものと同様に、実用化に際してスケ
ール2の磁気目盛ピツチが大きくなるので、内挿
度を高めなければならず、位相変調検出方式を採
用することになつて、検出回路が高価となるのは
避け難い。
更に本発明の先願である特願昭52−114699号は
第2図に示すように磁気ヘツド3の各素片をスケ
ールの各磁気格子4のピツチλに対応して配置す
ることを提案している。
磁気格子4は非磁性材から成る基板41上に形
成された磁性薄膜42に所定ピツチλで記録され
ている。磁気ヘツド3は強磁性金属薄膜から成る
磁気抵抗素子で、一定のクリアランスΔを以つて
磁気格子4上に移動可能に保持される。強磁性金
属薄膜から成る磁気抵抗素子から成る従来の磁気
ヘツドが短波長(短い磁気格子ピツチ)の磁気ス
ケール信号磁界を検出できなかつた理由は上記素
子の構成要素を単位として磁気格子の位相に対応
させ、その面内磁場の方向変化に直接的に感応さ
せるようにした点にある。
そこで第2図の例では磁気スケール信号の検出
感度を高めて磁気格子4のピツチを小さくし、検
出信号の内挿を少なくし得るようにするために、
図示の如く前記磁気抵抗素子3の各構成要素を形
成する磁気抵抗路31が磁気格子4の各位相に対
応してじぐざぐに配置されるように構成する。た
だし磁気格子4のピツチが小さくなると、該磁気
格子からの漏洩磁界の広がりも激減し、磁気抵抗
素子3の構成要素を飽和し得なくなり、そのまま
では磁気ヒステリシスの生起が問題となる。そこ
で各磁気抵抗路31に対して図示のように高透磁
性薄膜から成る磁路部材32を配設し、各磁気格
子との間で閉磁路を形成するようにしてある。こ
のように構成すると磁路部材32が磁気格子4か
らの漏洩磁束を誘導することにより磁気抵抗素子
3を充分な飽和磁界に置くことができる。
これに対し実用性の点で更に改善した本発明の
先願である特願昭52−119468号は第3図に示すよ
うに磁気ヘツド5の各素片を磁気格子6のピツチ
λに対応させて配列することを提案している。
磁気ヘツド5は同図に示すように磁気抵抗素子
で形成された磁気抵抗路51,52が前記磁気格子
の位相に対応してぢぐざぐにかつ適当な角度θ′を
以つて斜めに配設されている。そして磁気抵抗路
の各構成要素は磁気格子の波長λに対し、互いに
λ/2の位相差を有するように設けられており、
各磁気抵抗路の一端は電流端子a,cに、また他
端は中点出力端子bに接続された3端子分割型構
成をとつている。
この磁気ヘツド5には信号磁界HSと略直交方
向にバイアス磁界HBが印加される。
而して磁気ヘツド5の面磁場H〓は信号磁場H〓S
とバイアス磁場H〓Bで決まる合成磁場となり、H〓S
とH〓Bの大きさによつてその強さHと方向θが決
定される。従つて前記磁気抵抗路の斜角θはθ′≒
90゜−θと設計されることが望ましい。
一般の強磁性金属ではこれに流れる電流方向と
これに作用する磁場方向とが平行になつた時、抵
抗値最大であり、直交した時、抵抗値最小とな
る。従つて前記磁気抵抗路は図示の配置において
端子a,b間では抵抗値最大、逆に端子c,b間
では抵抗値最小となる。更に図示の磁気格子に対
して磁気ヘツドの位置をλ/2変位させると、前
記端子間抵抗は上述とは逆の関係になる。
かくして端子a,c間に駆動電圧を印加する
と、磁気ヘツド5は磁気格子6との相対的変位X
に応じた出力を発生する。
而して上述の場合、磁気ヘツドの各素片は磁気
格子に対して所定角度で傾斜させる構成をとつて
いる。しかしこの構成によると、各素片が磁気格
子のλ/2の位相に亘つて分布するため磁気抵抗
効果がかなり相殺されるものと考えられ、検出信
号出力の効率の点で問題がある。
本発明は上述した従来技術の問題点を改良すべ
くなされたもので、短波長の磁気スケールを形成
でき、かつ簡易な検出回路の適用を可能ならしめ
て、安価なデイジタルスケールの実現に寄与する
ため磁気スケール信号検出装置を提供することを
目的とする。
このように比較的短い波長の磁気スケール信号
を検出するために、本発明装置は下記のような構
成の磁気スケール信号検出素子を使用する。
(イ) 磁気格子の固有波長に対応して、磁気抵抗の
異方性効果を有する強磁性体から成る検出素子
の各素片を並列的に配設する。
(ロ) 上記素片を連結する電流路を設ける。一般
に、この電流路は素片と同一の磁性薄膜で形成
するが、その磁気抵抗効果の影響を軽減するた
めに、素片に対応して幅広く設計することによ
り磁気抵抗値を下げるのが効果的である。
(ハ) 上記素片群から成る2個の構成要素を所定の
間隔{素子構成の必要に応じてnλ/2,(n/2+ 1/2)λ,(n/2+1/4)λのいずれかを選定す る。nは整数}を離して配列し、電流路で直列
的に接続し、その接続点に出力端子を形成す
る。
(ニ) 方向弁別及び内挿を目的とした2相出力を得
るために、上記検出素子を2個所定の間隔(例
えば(m/2+1/8)λ,(m/2+1/4)λなど
、但 しmは整数}をもつて配設する。
(ホ) 素片方向もしくは素片と所定の角度(実用上
主として45゜)を成す方向にバイアス磁場HB
印加する。このバイアス磁場は前記検出素子の
ヒステリシス電圧が無視できる程度の強さ、例
えば150Oe以上に設定する。
これにより素片の磁化ヒステリシスの影響が
回避され、出力振幅のばらつきを低減できる。
(ヘ) 前記検出素子は信号磁場が強い所で動作させ
る必要上から磁気格子面と面対向させる。
(ト) 基板上に磁気抵抗の異方性効果を有する強磁
性体薄膜により前記検出素子を形成する場合、
所定厚さの保護膜(又は保護板)を被覆し、磁
気格子面と面対向させる。一般に磁気スケール
と検出素子間のクリアランスは50μ以下程度な
ので、このような構成は有効である。
(チ) このような磁気抵抗薄膜素子と磁気格子とを
面対向させる構成は磁気格子を高密度化するの
に極めて有効であり、その具体化に当つては磁
気抵抗薄膜素子と磁気格子面との面間隔を狭め
るため、磁気抵抗薄膜素子のリード線取付部は
磁気格子の外側に配設すると好適である。
また前記(ハ)及び(ホ)の項に関し、更に詳述する
と、例えば、第20図に示す如く平行な2個の
素片A1,A2をλ/4隔てて配置し、素片に平行
なバイアス磁界HBをかけ各々の磁気抵抗をR1
R2とすれば、 R1=ρ⊥sin2θ(x)+ρcos2θ(x) (1) R2=ρ⊥sin2θ(x+λ/4) +ρcos2θ(x+λ/4) (2) 素片A1,A2の両端子a,cに一定電圧V0を印
加する時、その共通端子bにおける電圧変動V
(x)とすれば、 V(x)=V0(R1−R2)/(R2+R1)で、これがヘツド
からの出 力であるから、上記R1,R2として上記(1)及び(2)
式を代入すれば下式が得られる。
V(x)=−△ρr2V0/2(ρ+ρ0r2)cos4π/λ
x ×{1+ρ⊥r4/4(ρ+ρ0r2)sin24π/λx}
-1(3) 但し2ρ0=ρ+ρ⊥,△ρ=ρ−ρ⊥,r=
s/Bで、ρ,ρ⊥は素片の固有磁気抵抗、Bは
バイアス磁界HBの絶対値、sは磁気スケールに
関する定数である。
次に第20図に示す如く素片A1,A2の間隔
がλ/2で、素片に対し45゜の方向にバイアス磁
界HBをかけた場合、A1,A2の磁気抵抗R1,R2は R1=ρ⊥sin2θ(x)+ρcos2θ(x) (4) R2=ρ⊥sin2θ(x+λ/2) +ρcos2θ(x+λ/2) (5) で、電圧変動V(x)は V(x)=V0R1−R2/R1+R2のR1,R2として上記(4)及
び (5)式を代入すれば下記のようになる。
V(x)=△ρV0/2ρ0sin2π/λx×(1
+△ρr2/4ρ0sin22π/λx+ρ⊥r2/4ρ0sin42π/
λx)-1(6) 上記(3)及び(6)式から明らかな如く、前記(ハ)及び
(ホ)の方式による素片A1,A2から得られる出力V
(x)は夫々波長λ/2,λの周期関数であり、
特に(3)式は同一波長のスケールを用いながら、周
期としては半波長と等価の出力が得られることを
示しており、実用上極めて有効であるのが分か
る。
以下上述した構成に従つた図面に示す本発明装
置の各実施例を説明する。
第4図は素片7,7′の間隔をλ/2に形成した検 出素子8,8′から成る本発明装置の実施例で、
これら検出素子8,8′は磁気スケールの磁気格
子面9と面対向せしめられ、素片方向にバイアス
磁場HBを与えてある。なおa,a′,c,c′は電流
端子、b,b′は出力端子、10,10′は電流路
である。
また上記各素片を電流路10,10′で直接に
接続した2つの構成要素は図示の如く(n/2+ 1/4)λの間隔を離して配列されている。
このような素子構成では磁気スケールの波長λ
に対して倍周波出力が得られるので、相差90゜の
2相出力を得るには図示の如く2つの検出素子
8,8′を(m/2+1/8)λの間隔で配置すればよ い。
本装置は前記(3)式から明らかな如く、バイアス
磁場HBの絶対値Bの2乗分の1に関連している
ので、バイアス磁場HBに対比して磁気スケール
の信号磁場が充分に大きい場合に有効である。
第5図の実施例は素片間隔をλとして配列し、
素片7,7′に対して略45゜の方向にバイアス磁場
HBを与えている。そして検出素子8,8′の2個
の構成要素11と11′及び12と12′は90゜(=
λ/4)の位相差を成す配置で、そしてこれら要素 11と12及び11′と12′は180゜(=λ/2)の
位 相差を成す配置で出力端子b,b′に接続すること
により(6)式から明らかなようにλの周期の検出信
号出力が得られる。また、本実施例のように素片
に対し45゜方向にバイアス磁場HBを印加すると、
磁気スケールよりの磁気信号が無い場合、上記信
号出力は、例えば第15図aに示す零電位状態に
ある。即ち、この零電位はバイアス磁場により決
定され、磁気スケールよりの磁気信号には影響さ
れない。従つて零電位の安定性がよく、高精度な
検出が可能となる。
このような素子構成では磁気スケールの波長周
波と同じ周波数出力が得られるので、相差90゜の
2相出力を得るには2つの検出素子8,8′を
(m/2+1/4)λの間隔(図示の場合はm=0)で 配置すればよい。
本装置においては、特に磁気スケールの信号磁
場が零の位置で、検出素子の各要素抵抗が略等し
くなるように形成しておくと、後述する零交差検
出位置が安定的に決定しうる。
第6図の実施例は第5図の変形例で、検出素子
8,8′の各構成要素11,11′,12,12′
に与える45゜方向のバイアス磁場を互いに逆向き
(HB−HB)にして、磁気スケールの位相に対し
てλ/2の位相差を設けたことを等価になるように している。
第7図の実施例は磁気スケールを2トラツク構
成13,13′とし、2相出力を得るのにこれら
トラツク間に所定の相差{(m/2+1/4)λ又はバ イアス磁場HBとなす角θ=45゜では(m/2+1/2) λ}を設けたもので、2つの検出素子8,8′は
同相に配列されている。
なお本実施例の動作は第5図と同様である。
第8図の実施例は素子構成上で次の2点におい
て独自な着想が施されている。
その1つは磁気格子14を角度傾斜させて磁
気スケールを形成している点で、磁気スケールの
幅寸法に対比して磁気格子14のトラツク幅を大
きくできる特徴がある。従つて検出素子8,8′
を構成する各素片も角度を以つて配列させる。
他の1つは2相出力を得るため、素片7と7′
とは(m/2+1/4)λの間隔を以つて交互に配設さ れ、素片7の素片間及び素片7′の素片間は磁気
格子ピツチの整数倍の間隔で配列させて構成する
ことを特徴としている。勿論、上述の2つの特徴
点の何れか一方に従つて検出素子を構成してもよ
い。
第8図の実施例で、θ=0とすれば第4図の実
施例、またθ==45゜とすれば第5図の実施例
と夫々同様な検出機能を示す。
また第6図〜第8図の実施例では磁気抵抗薄膜
素子のリード線取付部a〜c′が磁気格子の両外側
に配設されており、前記(チ)の構成が具体化されて
いる。
第9図の実施例は検出素子8,8′を構成する
素片7,7′をジグザグ状に配列している。但し
短波長の磁気スケール信号を読み取ることを目的
とする検出素子では、通常図示の如く2〜4本位
のジグザグ数が適当である。
なお上述の各実施例は検出装置と磁気スケール
間の相対的運動の方向弁別と検出信号の内挿とを
目的として2相出力を得る場合についての素子構
成を例示した。内挿度を高めるために更に多相の
出力を得ようとする場合にも本発明装置の検出素
子構成を適用できることは言うまでもない。
例えば60゜の相差で3相出力を得ると、1/12内
挿が容易にできることは特公昭48−2258号公報に
開示されているように公知である。このような出
力を得るには第10図に示すように3個の検出素
子8,8′及び8″を相差(m/2+1/6)λで配置
す ればよい。但し同図の実施例ではm=0である。
次に第4図乃至第10図に示した各実施例では
磁気スケールとして横磁界(長手方向)記録の磁
気格子から成るものを使用するとした。
しかし第11図に示すように縦磁界記録の磁気
格子15から成る磁気スケールを使用しても、そ
の面磁界は検出素子を駆動するのに有効な信号磁
界成分HSが含まれているので、本発明の検出素
子を適用することができる。第11図の実施例で
は後述する磁気スケール信号検出法との関連で1/
16内挿法に好適な4素子構成8〜8″をとつてい
る。
また本発明の素子構成は回転型磁気スケールに
対しても適用することができる。例えば第12図
に略示するように回転型磁気スケール16の回転
中心に対して等角度に配置される磁気格子17の
位相に対応させて、前述した本発明の構成による
検出素子8,8′を配設し、所定角度θのバイア
ス磁界HBを与えることにより、回転角に応じた
磁気スケール信号を検出することができる。
更に第11図及び第12図の実施例においても
磁気抵抗薄膜素子のリード線取付部a〜c′は磁気
格子の外側に配設されている。
さて本発明装置によつて得られた検出信号をゼ
ロクロス検出方式で処理し、所定のパルス列信号
を得るに当つては、以下に構成的に3つに分類し
た内挿弁別方法を採りうる。
(a) 検出信号出力を互いに加減算して多相信号を
得て内挿を高める方法。
(b) 検出素子を多相に構成し、直接的に多相信号
を得て内挿を高める方法。
(c) (a)と(b)の方法の組合せで多相信号を得て内挿
を高める方法。
(1) まず1/8内挿法について説明するが、この場
合検出信号としては正弦波、三角波又はこれと
類似の波形の検出信号であれば、以下の内挿弁
別法を適用できる。
(a) 検出素子からの検出信号が磁気格子と同じ
波長周波数の場合(第5図の実施例参照)に
ついて考えると、第13図aに示すように相
差90゜の2つの検出信号出力A,Bが得られ
る。なお説明を簡単にするため出力A,Bの
波形は三角波で示した。
この信号出力を第14図に示す如く加算器
18及び減算器19に与えて加減算して同図
bに示すように上記信号出力とは45゜の相差
を有し、かつ互いに90゜の相差を有する加減
算信号A+B,A−Bを作る。
これら4つの信号出力は45゜の相差を伴な
つて現われることになり、これらをシユミツ
ト回路20を通すと、第13図c〜fの矩形
波信号となる。更にこの矩形波信号を微分回
路21に通すと、同図g〜jで示すような検
出方向によつて正負に反転するパルス列が得
られる。
各シユミツト回路の2つの出力端子22に
は、互いに逆位相の出力が生ずる。この各出
力信号を微分回路の次段の各アンドゲート回
路23,24のゲート開閉信号を利用する
と、前記微分出力から、+x方向に移動する
場合には第13図kに示すパルス列信号を、
また−x方向に移動する場合には同図1に示
すパルス列信号を、各アンドゲート回路の出
力に得ることができる。
従つて上記パルス列信号を可逆カウンタ2
5でカウントさせることにより移動量を検知
することができる。
上述した(a)項の方法に対し(b)項の方法によれば
下記のようになる。
(b) 前記した相差が45゜の4つの検出素子を用
いると、次の信号出力が得られる。
VA=Esin(nλ+θ) VB=Esin(nλ+θ−π/4) VC=Esin(nλ+θ−π/2) VD=Esin(nλ+θ−3π/4) この4つの信号出力の説明を簡単にするた
め三角波で示すと第15図aのA〜Dで表わ
され、これらをシユミツト回路に通すと同図
b〜eで示す矩形波信号となる。これは第1
3図の矩形波信号c〜fに対応するもので、
以後の処理は第13図及び14図で示した方
法をそのまま適用できる。
かくして得られた出力信号は磁気スケールに対
する検出素子の移動方向を弁別し、かつ磁気格子
の一波長を8分割したデイジタル信号となつてい
る。
(2) 次に1/16内挿法について説明する。
(a) 第16図aに示す如く相差45゜の4つの信
号出力を得るべく検出素子を用意する。そし
てこれら信号出力を加減算して上記信号出力
とは22.5゜の相差があり、かつ互いに45゜の相
差を有する同図bに示す4つの加減算信号を
作る。このようにして相差22.5゜の8相信号
が得られるので、第16図c〜rに示すよう
に前述の信号処理と同様な信号処理を施して
磁気格子の一波長を16分割した同図s,Tに
示す内挿信号を得る。
(b) 8個の検出素子を所定の相差で配置して第
17図aに示す相差22.5゜の8相の検出信号
を直接得る。この内挿法によると検出素子数
が増えるが、内挿信号がゼロクロス点から読
み出されるために、磁気格子のピツチを精確
に形成しておくことにより、高精度の内挿が
実現でき、また加減算回路が不要なので、回
路構成も簡単化される。
第17図aの信号出力はシユミツト回路を
通すことにより同図b〜iに示す矩形波信号
となるが、これは第16図で示したものと同
一であり、前述と同様に同図j〜gに示すよ
うな信号処理を施して1/16の内挿信号(同図
r)が得られる。
(c) 1/8内挿手段を2組使用して1/16内挿を構
成しうる。例えば第13図a,bに示す信号
出力を22.5゜の相差でシフトした状態のもう
1組の信号出力を得ることにより全体として
16分割した内挿信号を作る方法である。
(A)信号 VA=E1sin(nλ+θ) (B)信号 VB=E1sin(nλ+θ−π/2) (A)+(B)信号 VA+B=E2sin(nλ+θ−π/4) (A)−(B)信号 VA-B=E2sin(nλ+θ+π/4) (C)信号 VC=E1sin(nλ+θ−π/8) (D)信号 VD=E1sin(nλ+θ−5π/8) (C)+(D)信号 VC+D=E2sin(nλ+θ−3π/8) (C)−(D)信号 VC-D=E2sin(nλ+θ+π/8) この内挿方法は前述の(a)項の内挿方法(第16
図)に比較して検出素子からの信号出力の相差、
従つて検出素子の配置間隔は異なるが、8相の信
号出力として見たときには等価と見なすことがで
きる。
なお第18図a,bに実際の検出素子の回路構
成を例示する。同図に示すように駆動電源端子或
いは接地端子等を各素子毎に共通化することがで
きる。従つて検出素子8,8′の端子数を第19
図で略示するように薄膜形成上で削減することが
可能である。
以上説明した所から明らかなように、本発明に
よれば短波長の磁気スケールを実現することがで
きるようになり、しかも簡易な検出回路の適用が
可能で、安価なデイジタルスケールを提供しう
る。
また特に本発明においては検出素子が磁気格子
に対し面対向に配置される構成で、バイアス磁界
を印加しているので分解能が向上し、出力歪みは
低減され、かつ出力振幅のむらが抑制されるばか
りでなく、リード線取付部が磁気格子面外にある
ので、かかる面対向でバイアス磁界を印加する構
造でも配線作業が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は夫々従来の検出素子と磁気
スケールとの関係を示す図、第4図乃至第12図
は夫々本発明の各実施例の構成を示す概略図、第
13図a乃至lは1/8内挿法の1つの方法を説明
するための波形図、第14図は1/8内挿回路を示
すブロツク図、第15図a〜eは1/8内挿の他の
方法を説明するための波形図、第16図a〜Tは
1/16内挿の1つの方法を説明するための波形図、
第17図a〜rは1/16内挿の他の方法を説明する
ための波形図、第18図a,b及び第19図a,
bは実際の検出素子の回路構成例示する図、第2
0図は本発明の動作原理を説明するための図であ
る。 7,7′……素片、8,8′……検出素子、9…
…磁気格子面。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 磁気スケール9の磁気格子のピツチλに対応
    するnλ/2(nは0以外の整数)の距離を隔てて
    磁気抵抗の異方性効果を有する複数の強磁性体素
    片7,7′を略平行に配列し、該各素片を電流路
    10,10′で直列に接続した2個の構成要素を
    有し、夫々が略平行に配列された構成要素の一端
    を直列に接続し、この構成要素の一端の接続部に
    出力端子bを設けると共に、上記2個の構成要素
    の他端に電流端子a,cを設け、夫々の構成要素
    の面と、磁気格子面と面対向させて磁気スケール
    信号を検出する装置において、上記2個の構成要
    素は略(n/2+1/4)λの間隔(nは整数)を
    離して配列して検出素子を構成し、かつ上記各素
    片と略同一方向にバイアス磁場を印加し、上記検
    出素子のリード線取付部を磁気格子面の外側に配
    設したことを特徴とする磁気スケール信号検出装
    置。 2 前記電流路を素片に対比して幅広く形成した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁
    気スケール信号検出装置。 3 磁気スケール9の磁気格子のピツチλに対応
    するnλ(nは0以外の整数)の距離を隔てて磁気
    抵抗の異方性効果を有する複数の強磁性体素片
    7,7′を略平行に配列し、該各素片を電流路1
    0,10′で直列に接続した2個の構成要素を有
    し、夫々が略平行に配列された構成要素の一端を
    直列に接続し、この構成要素の一端の接続部に出
    力端子bを設けると共に、上記2個の構成要素の
    他端に電流端子a,cを設け、夫々の構成要素の
    面と、磁気格子面と面対向させて磁気スケール信
    号を検出する装置において、上記2個の構成要素
    は略(n+1/2)λの間隔(nは整数)を離して
    配列して検出素子を構成し、かつ上記各素片と略
    45゜方向にバイアス磁場を印加し、上記検出素子
    のリード線取付部を磁気格子面の外側に配設した
    ことを特徴とする磁気スケール信号検出装置。 4 2つの検出素子をλ/4の間隔をもつて配設
    したことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載
    の磁気スケール信号検出装置。 5 前記素片を磁気スケールの長手方向と直交す
    る方向に対し所定角度傾斜せしめると共に各素片
    を磁気格子ピツチの整数倍の間隔で交互に配列し
    たことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
    磁気スケール信号検出装置。 6 前記電流路を素片に対比して幅広く形成した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の磁
    気スケール信号検出装置。
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