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JPH0255511B2 - - Google Patents
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JPH0255511B2 - - Google Patents

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JPH0255511B2
JPH0255511B2 JP30644387A JP30644387A JPH0255511B2 JP H0255511 B2 JPH0255511 B2 JP H0255511B2 JP 30644387 A JP30644387 A JP 30644387A JP 30644387 A JP30644387 A JP 30644387A JP H0255511 B2 JPH0255511 B2 JP H0255511B2
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mold
optical element
electroformed layer
optical
molding
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Takanobu Shiokawa
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、例えばレンズ、プリズム及びその
他の光学素子を押圧成形により作製する際に用い
られる光学素子用成形型の作製方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for producing a mold for an optical element used, for example, in producing lenses, prisms, and other optical elements by press molding.

(従来の技術) 例えばレンズ等の光学ガラスから成る光学素子
を作製するための方法として、加熱炉中で軟化さ
せた光学素子形成用材料(以下、単に光学材料と
称する場合も有る。)を押圧して成形する方法が
広く知られている。この方法では、転移点以上の
温度に加熱して軟化せしめた光学材料を、例え
ば、上型と下型とから成る成形型で押圧成形して
光学素子を作製する。従つて、光学材料を直接研
磨して行なわれる方法に比して、上述の方法は
個々の製品の品質が高い再現性を有し、量産性に
優れた製造技術として注目されている。
(Prior Art) As a method for producing optical elements made of optical glass, such as lenses, for example, an optical element forming material (hereinafter sometimes simply referred to as optical material) softened in a heating furnace is pressed. A method of molding is widely known. In this method, an optical element is produced by press-molding an optical material that has been softened by heating to a temperature equal to or higher than its transition point using, for example, a mold consisting of an upper mold and a lower mold. Therefore, compared to a method in which optical materials are directly polished, the above-mentioned method is attracting attention as a manufacturing technology that has high reproducibility in the quality of individual products and is excellent in mass production.

上述した方法に用いるための光学素子用成形型
(以下、単に成形型と称する場合も有る。)を構成
する型材料として、例えば特開昭52−45613号公
報及び特開昭60−195026号公報に開示される技術
ではカーバイド系の化合物、特開昭59−123631号
公報では炭化タングステンとコバルトとを主成分
とする材料、または窒化シリコン(SiNx)やそ
の他、種々の超硬合金が知られている。即ち、例
えば光学ガラスのような軟化する温度が比較的高
い光学材料を用いて、上述の押圧成形により光学
素子を作製する場合、高温条件での硬度低下が低
い超硬合金により成形型を構成する。このような
材料から成る母材を、例えば球面創成機(カーブ
ジエネレーター)等の工作機械を用いて直接研磨
加工し、設計に応じた曲率で光学素子を製造する
ための有効成形面を形成して成形型が作製され
る。
Examples of mold materials constituting the optical element mold (hereinafter sometimes simply referred to as a mold) for use in the above-mentioned method include those disclosed in JP-A-52-45613 and JP-A-60-195026. The technology disclosed in JP-A-59-123631 uses a material mainly composed of tungsten carbide and cobalt, silicon nitride (SiN x ), and various other cemented carbide alloys. ing. That is, when producing an optical element by the above-mentioned press molding using an optical material such as optical glass, which has a relatively high softening temperature, the mold is made of a cemented carbide whose hardness decreases little under high temperature conditions. . A base material made of such a material is directly polished using a machine tool such as a spherical surface generator (curve generator) to form an effective molding surface for manufacturing optical elements with a curvature according to the design. A mold is produced.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述した従来の光学素子成形型
の作製方法では、当該成形型の有効成形面の加工
性に乏しい超硬合金から成る母材を研磨すること
により行なわれる。これがため、特に、上述した
有効成形面を非球面として形成する必要が有る場
合、極めて硬い母材を研削及び研磨することは非
常に困難であるという問題点が有つた。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional optical element mold manufacturing method described above, the effective molding surface of the mold is made by polishing a base material made of cemented carbide, which has poor workability. It will be done. Therefore, especially when it is necessary to form the above-mentioned effective molding surface as an aspherical surface, there is a problem in that it is very difficult to grind and polish an extremely hard base material.

これに対して、例えばプラスチツク等の、軟化
する温度が低い光学材料では、比較的加工性に優
れた母材が用いられているが、係る材料では光学
ガラスのように軟化する温度が比較的高い光学材
料の押圧成形に耐え得る成形型が得られないとい
う問題が有る。
On the other hand, optical materials such as plastics, which have a low softening temperature, use base materials that are relatively easy to work with, but such materials have a relatively high softening temperature, such as optical glass. There is a problem that a mold that can withstand pressure molding of optical materials cannot be obtained.

この発明の目的は、上述した従来の問題点に鑑
み、例えば光学ガラスのような軟化する温度の高
い光学材料に用いる成形型であつても、光学素子
の設計に応じた有効成形面を高精度で形成するこ
とが可能な光学素子用成形型の作製方法を提供す
ることに有る。
In view of the above-mentioned conventional problems, it is an object of the present invention to form a mold with high precision in accordance with the design of an optical element, even in a mold used for optical materials such as optical glass, which have a high softening temperature. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a mold for an optical element that can be formed using the following methods.

(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明の光学素
子用成形型によれば、 加熱により軟化した光学素子形成用材料を押圧
成形して光学素子を形成するための有効成形面を
有する光学素子用成形型を作製するに当り、 マスター型の、少なくとも、上述の有効成形面
に対応する曲面に第一電鋳層を成長させて形成す
る工程と、 上述した第一電鋳層の上側に芯材を載置した
後、当該第一電鋳層と芯材との表面上に第二電鋳
層を成長させて形成する工程と を含むことを特徴としている。
(Means for Solving the Problem) In order to achieve this object, the mold for an optical element of the present invention provides a method for forming an optical element by press-molding an optical element forming material softened by heating. In manufacturing a mold for an optical element having an effective molding surface of The method is characterized by including a step of placing a core material above the first electroformed layer and then growing and forming a second electroformed layer on the surfaces of the first electroformed layer and the core material.

(作用) この発明の光学素子用成形型の作製方法の構成
によれば、有効成形面を電鋳層として形成するた
め、光学素子の設計に応じた曲面の形成が容易と
なり、かつ実質的に同一な有効成形面を有する複
数の成形型を繰り返し作製することができる。
(Function) According to the structure of the method for manufacturing a mold for an optical element of the present invention, since the effective molding surface is formed as an electroformed layer, it becomes easy to form a curved surface according to the design of the optical element, and substantially Multiple molds having the same effective molding surface can be repeatedly produced.

(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の光学素子用
成形型の作製方法の実施例につき説明する。尚、
以下の説明で参照する図面は、この発明の理解が
容易となる程度に概略的に示してあるにすぎず、
この発明は、これら図示例にのみ限定されるもの
ではない。また、以下の説明において、この発明
の理解を容易とするため、数値的条件、形状、材
料、配置関係またはその他特定の条件の下で説明
するが、この発明は、これら特定の条件にのみ限
定されるものではないことを理解されたい。
(Example) Hereinafter, an example of the method for manufacturing a mold for an optical element of the present invention will be described with reference to the drawings. still,
The drawings referred to in the following description are shown only schematically to facilitate understanding of the invention.
The present invention is not limited to these illustrated examples. In addition, in the following description, in order to facilitate understanding of this invention, explanation will be given under numerical conditions, shape, material, arrangement relationship, or other specific conditions, but this invention is limited only to these specific conditions. Please understand that this is not something that will be done.

まず始めに、この実施例の作製方法で用いたマ
スター型の作製につき説明する。
First, the production of the master mold used in the production method of this example will be explained.

この発明の方法で用いるマスター型は、光学素
子の押圧成形で有効成形面を担う第一電鋳層を堆
積し得るものである。これがため、当該マスター
型を構成する材料の要件としては、 電鋳による金属の堆積が可能である。
The master mold used in the method of the present invention is capable of depositing a first electroformed layer that serves as an effective molding surface in press molding of an optical element. Therefore, as a requirement for the material constituting the master mold, it is possible to deposit metal by electroforming.

光学素子用成形型の有効成形面に対応する曲
面を形成するに当つて加工性に優れている。
It has excellent workability in forming a curved surface corresponding to the effective molding surface of an optical element mold.

といつた点が挙げられる。The following points can be mentioned.

このような要件を満たす材料として、例えばニ
ツケル、無酸素銅、リン青銅、鉛、アルミニウム
またはその他、種々のものが考えられるが、この
実施例では、ニツケルを用いてマスター型を構成
した場合につき説明する。
Various materials such as nickel, oxygen-free copper, phosphor bronze, lead, aluminum, and others can be considered as materials that meet these requirements, but in this example, the case where the master mold is constructed using nickel will be explained. do.

以下、第1図A〜Eを参照して、この発明の実
施例につき説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1A to 1E.

第1図A〜Eは、この発明の実施例を説明する
ため、夫々の作製工程毎に、作製途中の光学素子
用成形型の概略的断面により示す説明図である。
FIGS. 1A to 1E are explanatory diagrams showing schematic cross-sections of a mold for an optical element that is in the middle of being manufactured, for each manufacturing process, in order to explain an embodiment of the present invention.

まず始めに、ニツケルから成る型材料を超精密
旋盤で研削加工した後、研磨を行ない、第1図A
に示すような、曲面10を有するマスター型12
を得る。この曲面10は、所望とする光学素子の
形状と実質的に同一な凸形状として形成されるも
のであり、この実施例では非球面として形成し
た。
First, the mold material made of nickel was ground using an ultra-precision lathe, and then polished.
A master mold 12 having a curved surface 10 as shown in
get. This curved surface 10 is formed as a convex shape that is substantially the same as the shape of the desired optical element, and in this example, it is formed as an aspheric surface.

次に、上述のマスター型12を電解層中に浸漬
し、従来周知の電鋳法により所定の層厚と成るま
で電着して第一電鋳層14を被着形成する(第1
図B)。
Next, the above-mentioned master mold 12 is immersed in the electrolytic layer, and the first electroformed layer 14 is formed by electrodeposition until a predetermined layer thickness is achieved by a conventionally well-known electroforming method (first
Figure B).

ここで、上述した第一電鋳層14を構成する材
料につき説明する。
Here, the material constituting the first electroformed layer 14 described above will be explained.

既に説明したように、この発明を適用して作製
される成形型は、例えばガラスを始めとする光学
材料を軟化させた状態で押圧成形するために用い
られる。これがため、上述の第一電鋳層14を構
成する材料の要件としては、光学素子の設計に応
じた光学材料の転移温度で充分な硬度(強度)を
維持することが必要となる。このような要件を満
たし、かつ前述したマスター型12(曲面10)
の表面に、電鋳法によつて堆積せしめることが可
能な物質の一例として、次のような種々の合金が
考えられる。
As already explained, the mold produced by applying the present invention is used for press-molding optical materials such as glass in a softened state. Therefore, as a requirement for the material constituting the first electroformed layer 14 described above, it is necessary to maintain sufficient hardness (strength) at the transition temperature of the optical material according to the design of the optical element. The master mold 12 (curved surface 10) that satisfies these requirements and is described above
The following various alloys can be considered as examples of substances that can be deposited on the surface of the metal by electroforming.

まず、第一電鋳層14の主成分として、約40重
量%以上のニツケルを含有せしめ、残りの約60重
量%未満(以下、残部と称する。)を、クロム
(Cr)、コバルト(Co)、モリブデン(Mo)、ニオ
ブ(Nb)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、またはアル
ミニウム(Al)のうちから選ばれた1種類或い
は2種類以上の合金で構成する。この際上述した
残部を占めるために選ばれる7種類の金属は、以
下に記載する組成範囲内(但し、単位は第一電鋳
層における重量%により示す。)で含有せしめる
のが好適である。
First, the first electroformed layer 14 contains about 40% by weight or more of nickel as a main component, and the remaining less than about 60% by weight (hereinafter referred to as the balance) is made of chromium (Cr) and cobalt (Co). , molybdenum (Mo), niobium (Nb), iron (Fe), titanium (Ti), or aluminum (Al). At this time, it is preferable that the seven metals selected to account for the balance described above are contained within the composition range described below (however, the unit is expressed in weight % in the first electroformed layer).

0.5≦Cr≦30 0.5≦Co≦30 1.0≦Mo≦25 0.5≦Nb≦5.0 0.5≦Fe≦20 0.5≦Ti≦5.0 0.5≦Al≦6.0 このような組成の一例として、この実施例で
は、Niが約70重量%、Crが約20重量%及びCoが
約10重量%の電着液を電解槽に入れ、第1図Bに
示すような第一電鋳層14を形成した。
0.5≦Cr≦30 0.5≦Co≦30 1.0≦Mo≦25 0.5≦Nb≦5.0 0.5≦Fe≦20 0.5≦Ti≦5.0 0.5≦Al≦6.0 As an example of such a composition, in this example, Ni is An electrodeposition solution containing about 70% by weight, about 20% by weight of Cr, and about 10% by weight of Co was placed in an electrolytic bath to form a first electroformed layer 14 as shown in FIG. 1B.

この第一電鋳層14がマスター型12の上側に
成長することによつて、前述の凸形状の球面10
に対応する凹形状の有効成形面16が形成される
こととなる。
By growing this first electroformed layer 14 on the upper side of the master mold 12, the above-mentioned convex spherical surface 10
An effective molding surface 16 having a concave shape corresponding to this is formed.

続いて、第1図Bに示す状態のマスター型12
を電解層から取り出した後、形成された第一電鋳
槽14の上側に、補強を目的とする芯材18を載
置する。ここで、第一電鋳層14と同様に高温に
おける強度維持を考慮し、上述の芯材18をステ
ンレスにより構成した。また、芯材18と第一電
鋳層14との密着性を良好なものとするため、こ
れら2つの成分同士が当接する当該芯材18の一
方の面を予め研削研磨加工して、前述した曲面1
0に対する近似球面形状として行なつた。
Next, the master mold 12 in the state shown in FIG.
After being taken out from the electrolytic layer, a core material 18 for the purpose of reinforcement is placed on the upper side of the first electroforming tank 14 that has been formed. Here, like the first electroformed layer 14, the above-mentioned core material 18 was made of stainless steel in consideration of maintaining strength at high temperatures. In addition, in order to improve the adhesion between the core material 18 and the first electroformed layer 14, one surface of the core material 18 where these two components contact each other is ground and polished in advance, as described above. Curved surface 1
This was done as an approximate spherical shape with respect to 0.

然る後、マスター型12の上側に形成された第
一電鋳層14の上側に芯材18を載置した状態
で、前述の電着液を用いて再度電鋳を行ない、第
1図Cに示すような第二電鋳層20を形成して、
母材22を得る。
Thereafter, with the core material 18 placed above the first electroformed layer 14 formed on the upper side of the master mold 12, electroforming was performed again using the above-mentioned electrodeposition liquid, and as shown in FIG. Forming a second electroformed layer 20 as shown in
A base material 22 is obtained.

この第二電鋳層20の形成に当つては、前述の
第一電鋳層14と、この工程で得られる第二電鋳
層20とによつて、上述した芯材18が完全に包
囲されるまで行なうのが良い。換言すれば、この
ような第二電鋳層20の形成により、上述の芯材
18がインサート加工されることとなる。また、
第一電鋳層14の上に芯材18を載置せしめ、第
二電鋳層20を形成するに当り、当該第一電鋳層
14と芯材18との圧着またはその他の手段によ
つて、充分な密着性を有する母材22を得ること
ができる。
In forming this second electroformed layer 20, the above-mentioned core material 18 is completely surrounded by the above-mentioned first electroformed layer 14 and the second electroformed layer 20 obtained in this step. It is best to do this until it is done. In other words, by forming the second electroformed layer 20 in this manner, the above-mentioned core material 18 is subjected to insert processing. Also,
When placing the core material 18 on the first electroformed layer 14 and forming the second electroformed layer 20, the first electroformed layer 14 and the core material 18 are crimped or by other means. , a base material 22 having sufficient adhesion can be obtained.

次に、マスター型12から上述した母材22を
取り外した後、後述する押圧成形装置に装着する
ための加工を母材22に対して行ない、第1図D
に示す、この発明の実施例としての光学素子用成
形型24が得られる。
Next, after removing the above-mentioned base material 22 from the master mold 12, the base material 22 is processed to be attached to a press molding device, which will be described later.
A mold 24 for an optical element as an example of the present invention is obtained as shown in FIG.

この実施例では、実際の押圧成形に上述の工程
を経て得られた成形型24を用いた場合、当該成
形型24と成形後の光学素子との離型性、或いは
成形型24の耐酸化性を良好とするため、上述し
た成形型24の有効成形面16に薄膜26を被着
させた。この薄膜26の被着は白金Ptをターゲ
ツトとしてスパツタリング法によつて行ない、約
2(μm)の膜厚で均一な薄膜26が得られた(第
1図E)。
In this example, when the mold 24 obtained through the above-mentioned process is used for actual press molding, the releasability between the mold 24 and the optical element after molding, or the oxidation resistance of the mold 24 In order to improve the quality, a thin film 26 was applied to the effective molding surface 16 of the mold 24 described above. This thin film 26 was deposited by a sputtering method using platinum Pt as a target, and a uniform thin film 26 with a thickness of about 2 (μm) was obtained (FIG. 1E).

以下、上述した薄膜につき説明する。 The above-mentioned thin film will be explained below.

従来、押圧成形により光学素子を成形するに当
り、酸化による成形型の劣化を防ぐため、成形型
を還元ガス雰囲気中で使用する技術が知られてい
る。上述した成形型の劣化は、成形型の有効成形
面16の変形をもたらす。従つて、この実施例で
は、当該有効成形面16に耐酸化性に優れた材料
を被着せしめ、成形型24の寿命を伸ばすと共
に、光学素子の製造に当つての離型性を高める構
成とした。
Conventionally, when molding optical elements by press molding, a technique is known in which a mold is used in a reducing gas atmosphere in order to prevent deterioration of the mold due to oxidation. The deterioration of the mold described above results in deformation of the effective molding surface 16 of the mold. Therefore, in this embodiment, a material with excellent oxidation resistance is coated on the effective molding surface 16 to extend the life of the mold 24 and improve the mold releasability when manufacturing optical elements. did.

上述の目的を果す薄膜構成材料としては、前述
した白金(Pt)、または、金(Au)、ロジウム
(Rh)等を始めとする貴金属、或いは窒化チタン
(TiN)、アルミナ(Al2O3)、窒化珪素(Si3N4
等のセラミツクス材料が考えられる。また、この
薄膜の被着技術として、夫々の物性に応じて、ス
パツタリング法、蒸着法、イオンプレーテイング
法等、任意好適な技術により薄膜を被着すれば良
い。
Thin film constituent materials that achieve the above purpose include the aforementioned platinum (Pt), noble metals such as gold (Au), rhodium (Rh), titanium nitride (TiN), and alumina (Al 2 O 3 ). , silicon nitride (Si 3 N 4 )
Possible ceramic materials such as Moreover, as a technique for depositing this thin film, the thin film may be deposited by any suitable technique such as sputtering method, vapor deposition method, ion plating method, etc. depending on the respective physical properties.

以下、図面を参照して、この発明により作製さ
れた成形型を実際に用いた光学素子の製造工程に
つき説明する。
Hereinafter, with reference to the drawings, a process for manufacturing an optical element using a mold produced according to the present invention will be described.

第2図A〜Cは、この発明の実施例に係る成形
型により、非球面を有する凸レンズの製造工程の
説明に供する図である。これら図中、第1図Eを
参照して説明した成形型24及び薄膜26は、同
一の構成成分として包括的に示すと共に、上型と
しての成形型に24a、また、下型としての成形
型に24bの、夫々の符号を付して示してある。
これら2つの成形型は、いずれも第1図A〜Eを
参照して説明した。この発明の実施例により作製
されたものである。
FIGS. 2A to 2C are diagrams for explaining the manufacturing process of a convex lens having an aspherical surface using a mold according to an embodiment of the present invention. In these figures, the mold 24 and the thin film 26 described with reference to FIG. and 24b are shown with their respective reference numerals.
Both of these molds have been described with reference to FIGS. 1A-E. This was produced according to an embodiment of this invention.

第2図Aに示す押圧成形装置の構成につき簡単
に説明すれば、28a及び28bは押圧成形装置
の加熱路中に設けられた油圧シリンダを示し、上
側の油圧シリンダ28aに成形型24a、及び上
側の油圧シリンダ28bに成形型24bが各々装
着される。30は成形型24aまたは24bの温
度を測定するための熱電対を示し、当該熱電対3
0が上述の油圧シリンダ28a及び28bの夫々
に配設される。また、32は加熱炉内に設けられ
るヒーター、34は成形部、36は成形部に連通
するガス送入口を示す。
To briefly explain the configuration of the press molding apparatus shown in FIG. The molds 24b are respectively attached to the hydraulic cylinders 28b. 30 indicates a thermocouple for measuring the temperature of the mold 24a or 24b;
0 is arranged in each of the above-mentioned hydraulic cylinders 28a and 28b. Further, 32 is a heater provided in the heating furnace, 34 is a molding section, and 36 is a gas inlet communicating with the molding section.

始めに、光学素子形成材料の一例として、光学
ガラス38(SFS01、小原光学硝子製;転移点
約393℃)を用意し、当該光学ガラス38を球形
に研磨加工する。この研磨加工に当り、重量を体
積に換算して体積調整を行なつた。
First, an optical glass 38 (SFS01, manufactured by Ohara Optical Glass Co., Ltd.; transition point: about 393° C.) is prepared as an example of an optical element forming material, and the optical glass 38 is polished into a spherical shape. During this polishing process, the volume was adjusted by converting the weight into volume.

然る後、成形型24bの有効成形面を構成する
凹部の上側に、上述の体積調整を行なつた光学ガ
ラス38を載置し、成形部34を外気と隔絶し
て、成形型24a及び24bの温度を熱電対30
によつて測定しながら、当該両成形型の温度が約
420℃となるまで、ヒーター32により加熱を行
なう。この際、成形型24a及び24bの劣化を
軽減するため、前述したように、ガス送入口36
を介して成形部34に窒素ガスを導入し、還元性
雰囲気として加熱を行なつた。
After that, the optical glass 38 whose volume has been adjusted as described above is placed above the concave portion constituting the effective molding surface of the mold 24b, the molding portion 34 is isolated from the outside air, and the molds 24a and 24b are closed. Temperature of thermocouple 30
While measuring by
Heating is performed using the heater 32 until the temperature reaches 420°C. At this time, in order to reduce deterioration of the molds 24a and 24b, the gas inlet 36 is
Nitrogen gas was introduced into the molding section 34 through the molding section 34 to create a reducing atmosphere and heating was performed.

続いて、上述の加熱により成形型24a及び2
4bの温度が約420℃に達した後、第2図Bから
も理解できるように、約80(Kg/cm2)の圧力で両
成形型同士を油圧シリンダ28a及び28bによ
り圧接させ、前述の光学ガラス38を押圧成形す
る。
Subsequently, the molds 24a and 2 are heated as described above.
After the temperature of 4b reaches approximately 420° C , as can be seen from FIG. Optical glass 38 is press-molded.

続いて、ヒーター32を停止して押圧成形直後
の光学ガラス38と、成形型28a及び28bと
を放冷する。その後、熱電対30により、成形型
24a及び24bの温度が、用いた光学材料の転
移点よりも低いこと(約390℃以下)を確認した
時点で、当該押圧成形装置から成形品を取りだす
ことにより第2図Cに示すような光学素子40を
得る。
Subsequently, the heater 32 is stopped and the optical glass 38 immediately after press molding and the molds 28a and 28b are allowed to cool. Thereafter, when it is confirmed by the thermocouple 30 that the temperature of the molds 24a and 24b is lower than the transition point of the optical material used (approximately 390°C or less), the molded product is removed from the press molding device. An optical element 40 as shown in FIG. 2C is obtained.

このようにして得られた光学素子40は、前述
したマスター型12に形成される曲面11と実質
的に同一の非球面を有し、この発明の方法により
作製された成形型が、極めて高精度に仕上がつて
いることが確認できた。
The optical element 40 thus obtained has an aspherical surface substantially the same as the curved surface 11 formed in the master mold 12 described above, and the mold produced by the method of the present invention has extremely high precision. It was confirmed that the finish was good.

また、上述の成形型24a及び24bを用い
て、光学素子を繰り返し押圧成形したところ、高
い再現性を以つて光学素子を製造することができ
た。
Furthermore, when optical elements were repeatedly press-molded using the molds 24a and 24b, the optical elements could be manufactured with high reproducibility.

以上、この発明の実施例につき、作製された成
形型を用いた光学素子の製造工程をも参照して説
明した。しかしながら、この発明の光学素子用成
形型の作製方法は上述の実施例にのみ限定される
ものではなく、数値的条件、形状、材料、配置関
係またはその他の条件は、この発明の目的の範囲
内で任意好適な設計の変更及び変形を行ない得る
こと明らかである。
The embodiments of the present invention have been described above with reference to the manufacturing process of an optical element using the fabricated mold. However, the method for producing a mold for an optical element according to the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and numerical conditions, shapes, materials, arrangement relationships, and other conditions are within the scope of the present invention. Obviously, any suitable design changes and modifications may be made therein.

(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明
の光学素子用成形型の作製方法によれば、成形型
の有効成形面を電鋳層として形成する。これがた
め、光学素子の設計に応じた曲面の形成が容易な
加工性の高い材料から成るマスター型を利用して
成形型の有効成形面の形成が容易となり、かつ実
質的に同一な有効成形面を有する複数の成形型を
繰り返し作製することができる。
(Effects of the Invention) As is clear from the above description, according to the method for manufacturing a mold for an optical element of the present invention, the effective molding surface of the mold is formed as an electroformed layer. Therefore, it is easy to form the effective molding surface of the mold by using a master mold made of a material with high workability that allows easy formation of curved surfaces according to the design of the optical element, and the effective molding surface is substantially the same. A plurality of molds can be repeatedly produced.

従つて、軟化する温度の高い光学材料であつて
も、光学素子の設計に応じた有効成形面を高精度
で形成することが可能となり、優れた光学素子用
成形型を簡単かつ容易に作製することにより、優
れた特性を有する光学素子を安価に提供すること
ができる。
Therefore, even if the optical material has a high softening temperature, it is possible to form an effective molding surface with high precision according to the design of the optical element, and it is possible to easily and easily produce an excellent mold for an optical element. As a result, optical elements having excellent characteristics can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図A〜Eは、この発明の実施例を説明する
ため、光学素子用成形型の作製工程毎の概略的な
断面により示す説明図、第2図A〜Cは、実施例
により作製された成形型の使用例を説明する図で
ある。 10……曲面(非球面)、12……マスター型、
14……第一電鋳層、16……有効成形面(非球
面)、18……芯材、20……第二電鋳層、22
……母材、24,24a,24b……光学素子用
成形型、26……薄膜、28a,28b……油圧
シリンダ、30……熱電対、32……ヒーター、
34……成形部、36……ガス送入口、38……
光学ガラス、40……光学素子。
1A to 1E are explanatory diagrams showing schematic cross-sections of each manufacturing process of a mold for an optical element in order to explain an embodiment of the present invention, and FIGS. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of how a mold is used. 10...Curved surface (aspherical surface), 12...Master mold,
14... First electroformed layer, 16... Effective molding surface (aspherical surface), 18... Core material, 20... Second electroformed layer, 22
... Base material, 24, 24a, 24b ... Molding mold for optical element, 26 ... Thin film, 28a, 28b ... Hydraulic cylinder, 30 ... Thermocouple, 32 ... Heater,
34... Molding section, 36... Gas inlet, 38...
Optical glass, 40...optical element.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 加熱により軟化した光学素子形成用材料を押
圧成形して光学素子を形成するための、有効成形
面を有する光学素子用成形型を作製するに当り、 マスター型の、少なくとも、前記有効成形面に
対応する曲面に第一電鋳層を堆積する工程と、 前記第一電鋳層の上側に芯材を載置した後、第
二電鋳層を堆積する工程と を含むことを特徴とする光学素子用成形型の作製
方法。
[Scope of Claims] 1. In producing an optical element mold having an effective molding surface for forming an optical element by press molding an optical element forming material softened by heating, at least , a step of depositing a first electroformed layer on a curved surface corresponding to the effective forming surface; and a step of depositing a second electroformed layer after placing a core material on the upper side of the first electroformed layer. A method for producing a mold for an optical element, characterized in that:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0449910U (en) * 1990-09-04 1992-04-27

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