JPH0260487B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 産業上の利用分野 本発明の複数の異なる粉体原料を用いて断面が
積層状にして、尚且つ各層の粉体原料が混ざらな
い均一な層状である多層タイルの原料充填装置に
関するものである。

従来の技術 従来タイルの成形においては、製品を均一化す
るためにキヤビテイ内に粉体原料を均一に充填す
ることが重要であり、かかる目的より例えば実開
昭60−189328号公報に見られる様に、粉ますの後
退復帰動作時に原料掻き戻し装置によりキヤビテ
イ内で一方に偏在した粉体原料の表層部を均らし
作用せしめてキヤビテイ内の粉体原料の分布状態
を均一ならしめるもの、或いは実開昭61−120631
号公報に見られる様に、粉ますの寸法をキヤビテ
イの寸法の約50％以下と成して往復動作せしめて
粉体原料の充填密度を均一化せしめるもの等が知
られるも、かかる装置及び方法は一応の目的を達
成する効果はあるが、何れもタイルが単層且つ粉
粉ますの動作が１方向の為、１方向における粉体
原料の均一充填は出来るとしても、全方向に対し
ては完全を期すことは出来なかつた。

発明が解決しようとする問題点 本発明は中間に安価な原料を、表面に高価な原
料を用いてコストを低下せしめる３層タイル、或
いは多数の積層状の側面断面を装飾面とする多層
タイルにおいて、各層の原料が混合すると品質が
低下する為にかかる混合を防止せしめ、３方向以
上よりキヤビテイに粉体原料を充填し、より均一
な成形品を得る多層タイルの原料充填装置を提供
せんとするものである。

〔発明の構成〕

問題点を解決するための手段 本発明はかかる点に鑑み、プレス成形装置の側
方に残留原料回収用シユートを介在して設けた粉
ますエプロン上を３基以上の原料充填装置を往復
移動自在と成さしめ、該原料充填装置には先端開
放のシヤツタープレートを固設せしめると共に、
該シヤツタープレート上を粉ますを往復移動自在
と成さしめ、又原料充填装置の先端には降下自在
な残留原料掻板を取付けたもの、及び粉ますの寸
法をキヤビテイの寸法の約50％以下と成した多層
タイルの原料充填装置を提供して上記欠点を解消
せんとしたものである。

作 用 本発明はキヤビテイ内に粉体原料を充填する際
に３方向以上より粉ますを動作せしめて均一充填
及び粉体原料が混合しない３層又は多層の原料充
填を行うのである。

実施例 以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明す
ると、 １，１ａ…はプレス成形装置２の側方に残留原
料回収用シユート３を介在して隣接配置せしめた
原料充填装置である。

プレス成形装置２の構成を説明すると、４はタ
イル等の製品を圧縮成形せしめるプレス成形装置
２の下型であり、該下型４の外周には下型４に対
し相対的に金型枠用シリンダー５により昇降制御
される金型枠６を配設せしめ、下型４の上方空間
部を粉体原料Ｍが供給されるキヤビテイ７と成
し、該キヤビテイ７の上方対向位置には油圧等の
駆動源により昇降制御されキヤビテイ７内の粉体
原料Ｍを加圧作用せしめる上型８を配設せしめて
いる。

次に原料充填装置１，１ａ…の構成を説明する
と、プレス成形装置２の金型枠６を側方に残留原
料回収用シユート３を介在して粉ますエプロン９
を設け、該粉ますエプロン９上を走行するローラ
ー１０，１０ａ…を具有せしめた粉ます装置１
１，１１ａ…を進体制御せしめるロツドレスの粉
ます装置移動用シリンダー１２を粉ますエプロン
９に水平に取付けると共に、粉ます装置１１，１
１ａ…の上方には粉ます装置１１，１１ａの後退
復帰時に対応する原料補給用ホツパー１３を配置
せしめている。

上記粉ます装置１１，１１ａ…は２枚の側壁１
４，１４ａ…内に開口部１５，１５ａ…が下型４
より大なる先端開放のコ字状のシヤツタープレー
ト１６，１６ａ…を固設せしめると共に、該シヤ
ツタープレート１６，１６ａ…上を粉ます１７，
１７ａ…が粉ますシリンダー１８，１８ａ…によ
り往復移動自在と成し、又粉ます装置１１，１１
ａ…の先端には掻板シリンダー１９により回転降
下自在な残留原料掻板２０，２０ａ…を取付けて
いる。

又、本発明にあつては粉ます１７，１７ａ…の
進退方向の寸法をこれに対応するキヤビテイ７の
前後の寸法の約50％以下に設定せしめている。

次に本発明に係る多層タイルの原料充填装置の
作用について説明すると、粉ます装置移動用シリ
ンダー１２の作動によりシヤツタープレート１
６，１６ａ…及び粉ます１７，１７ａ…を固設せ
しめた粉ます装置１１，１１ａ…はローラー１
０，１０ａ…を介して粉ますエプロン９、金型枠
６上面を移動して残留原料回収用シユート３を通
過し、第４図及び第５図に示す原料充填位置に移
動する。

次に粉ますシリンダー１８，１８ａ…を作動せ
しめて粉ます１７，１７ａ…をシヤツタープレー
ト１６，１６ａ…上を往復移動せしめて下型４上
のシヤツタープレート１６，１６ａの開口部１
５，１５ａ…におけるキヤビテイ７内に粉体原料
Ｍを充填する（第６図参照）。

尚、粉体原料Ｍの充填量は次の通りであり、例
えばシヤツタープレート１６，１６ａ…金型枠６
上面と接触しない程度（１mm位）に隙間H1を有
し、キヤビテイ７への充填量はシヤツタープレー
ト１６，１６ａ…の厚さH2で調整する。

例えば充填深さH3が10mmならシヤツタープレ
ート１６，１６ａ…の厚さH2を10〜11mmに設定
し、実際の充填量は金型枠６の深さで決定する
（第７図及び第１０図参照）。

次に金型枠用シリンダー５を作動せしめて金型
枠６を充填深さH3分上昇させ、粉体原料Ｍを金
型枠６内に入れる。

尚、この時に粉末原料Ｍが僅かに余る（第７図
参照）。

次に粉ます装置移動用シリンダー１２を作動せ
しめて粉ます装置１１，１１ａ…を粉ますエプロ
ン９上に後退復帰せしめると共に、粉ます装置１
１，１１ａ…先端の掻板シリンダー１９を作動せ
しめて残留原料掻板２０，２０ａ…を降下せし
め、該残留原料掻板２０，２０ａ…で金型枠６内
の粉体原料Ｍを均らすと共に、余つた粉体原料Ｍ
及び金型枠６上にある残留原料を残留原料回収用
シユート３へ落下せしめるのである（第８図参
照）。

尚、残留原料掻板２０，２０ａ…の巾は金型枠
６の巾より広いので金型枠６上面全体を奇麗にす
るのである。

以上の動作で１層Ｔの原料充填が終了し、同様
に他の２基の原料充填装置１，１ａ…を動作せし
めて３層Ｔ，Ｔ１…の原料充填を行い、上型８を
動作せしめてブレス成形するのである。

尚、上記した実施例は第１１図に示す３層タイ
ル用の多層タイルの原料充填装置であり、原料充
填装置１，１ａ…を３基設置せしめたものを示し
たが、又第１２図に示す多数の積層状のタイルの
原料充填は３基の原料充填装置１，１ａ…を複数
回動作せしめて多層充填を行うか、若しくは４基
の原料充填装置１，１ａ…を設置せしめるのであ
る。

〔発明の効果〕

要するに本発明は、プレス成形装置２の側方に
残留原料回収用シユート３を介在して設けた粉ま
すエプロン９上を３基以上の原料充填装置１，１
ａ…を往復移動自在と成さしめ、該原料充填装置
１，１ａ…には先端開放のシヤツタープレート１
６，１６ａ…を固設せしめると共に、該シヤツタ
ープレート１６，１６ａ…上を粉ます１７，１７
ａを往復移動自在と成さしめ、又原料充填装置
１，１ａ…の先端には降下自在な残留原料掻板２
０，２０ａ…を取付けたので、３層Ｔ，Ｔ１…の
タイルを成型することが出来、例えば最下層Ｔに
敷板を傷付けない為に敷板に付着しない粉体原料
Ｍを充填し、中間層Ｔ１に不良製品の粉砕原料を
充填し、表面層Ｔ２に高価な粉体原料Ｍを充填す
れば、コストの安価なタイルを成型することが出
来ると共に、中間層Ｔ１は焼成に要する時間が短
縮出来て製造コストが安価となり、又中間層Ｔ１
は収縮率が低い為焼成時の歪みが少なく寸法精度
が良好で良質の製品が製造出来るのであり、又３
方向より粉ます１７，１７ａ…を作動せしめるの
で従来の１方向からの充填に比し粉体原料Ｍのよ
り均一な充填が可能となりこの点からも歪みの少
ない製品を製造することが出来、又原料充填装置
１，１ａ…を複数回作動せしめれば粉ます１７，
１７ａを交換すること無く多層タイルの製造も可
能となるのであり、又プレス成形装置２と粉ます
１７，１７ａ…とは直接接触していない為プレス
成形装置２の金型枠６の耐久力が向上するのであ
り、又シヤツタープレート１６，１６ａ…を介し
て粉体原料Ｍを充填する為に粉体原料Ｍが混合す
ること無く、且つ粉ます１７，１７ａ…内の粉体
原料Ｍの重みによる層Ｔ，Ｔ１…の乱れが無く大
型のタイルでも均一な薄い層Ｔ，Ｔ１…が出来る
のであり、又残留原料回収用シユート３及び粉ま
す装置１１，１１ａ…に残留原料掻板２０，２０
ａ…を取付けている為、夫々の粉ます１７，１７
ａ…の粉体原料Ｍが混合すること無く回収出来る
為、粉体原料Ｍを再使用出来るのである。

又、粉ます１７，１７ａ…の寸法をキヤビテイ
７の寸法の約50％以下と成さしめれば、原料充填
時に下の層Ｔ，Ｔ１…の上へ粉体原料Ｍを載せる
こととなり層Ｔ，Ｔ１…の乱れが無く大型のタイ
ルでも均一な薄い層Ｔ，Ｔ１…が出来る等その実
用的効果甚だ大なるものである。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例を示すものにして、第１
図は本発明に係る多層タイルの原料充填装置の平
面図、第２図は同上一部正面図、第３図は粉ます
装置の残留原料掻板を示す正面図、第４図はキヤ
ビテイとシヤツタープレートを示す平面図、第５
図乃至第９図は粉体原料充填時の動作を示す正面
図、第１０図はキヤビテイの充填深さを示す図、
第１１図は３層タイルを示す斜視図、第１２図は
多層タイルを示す斜視図である。 １，１ａ… ……原料充填装置、２……プレス
成形装置、３……残留原料回収用シユート、６…
…金型枠、７……キヤビテイ、９……粉ますエプ
ロン、１１，１１ａ… ……粉ます装置、１６，
１６ａ… ……シヤツタープレート、１７，１７
ａ… ……粉ます、２０，２０ａ… ……残留原
料掻板、Ｍ……粉体原料、Ｔ，Ｔ１… ……層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ プレス成形装置の側方に残留原料回収用シユ
   ートを介在して設けた粉ますエプロン上を３基以
   上の原料充填装置を往復移動自在と成さしめ、該
   原料充填装置には先端開放のシヤツタープレート
   を固設せしめると共に、該シヤツタープレート上
   を粉ますを往復移動自在と成さしめ、又原料充填
   装置の先端には降下自在な残留原料掻板を取付け
   たことを特徴とする多層タイルの原料充填装置。 ２ 粉ますの寸法をキヤビテイの寸法の約50％以
   下と成したことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の多層タイルの原料充填装置。