JPH027598B2 - - Google Patents
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- JPH027598B2 JPH027598B2 JP58040802A JP4080283A JPH027598B2 JP H027598 B2 JPH027598 B2 JP H027598B2 JP 58040802 A JP58040802 A JP 58040802A JP 4080283 A JP4080283 A JP 4080283A JP H027598 B2 JPH027598 B2 JP H027598B2
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- oxanosine
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- deoxyoxanosine
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H19/00—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof
- C07H19/02—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing nitrogen
- C07H19/24—Heterocyclic radicals containing oxygen or sulfur as ring hetero atom
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は制癌作用を有する抗生物質オキザノシ
ンの新規誘導体2′−デオキシオキザノシンに関す
る。 オキザノシン（）は梅沢浜夫等によつてスト
レプトミセス・カプレオラスMG−265−CF3株
（微工研菌寄第5735号）（ATCC31963）の培養物
から単離されたものである。（J.of Antibiotics、
34 1216〜1218（1981） 本発明者らは天然品の式（）のオキザノシン
を出発原料にして一般式（） （式中、R1およびR2は水酸基の保護基を意味す
る。）で示される2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−保護
オキザノシンを合成し、次いで3′，5′位の保護基
を脱離することにより目的とする下記式（）で
示される2′−デオキシオキザノシンを合成した。 この2′−デオキシオキザノシンはグラム陰性菌
に対して、優れた抗菌活性を示し、さらに白血病
Ｌ−1210細胞に対して発育阻止作用を示すことか
ら新規な医薬品として期待される。 2′−デオキシオキザノシンの理化学的性質は次
の通りである。 (1) 融点：193〜196℃ (2) 赤外線吸収スペクトルνNujol nax：3300、3225、
3175、3125、1770、1635、1045、1000、
945cm-1 (3) 質量分析スペクトル（FDMS）： Ｍ／Z268（M+） (4) 核磁気共鳴スペクトル（CD3OD）： 6.22ppm（1H、t.J＝７Hz） 7.98ppm（1H、Ｓ） (5) 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.91） 247（4.07） (6) 比施光度〔α〕20 D−7.0（Ｃ＝0.4MeOH） (7) 元素分析、分子式および分子量 実測値 Ｃ：44.91、Ｈ：4.47、Ｎ：20.75 計算値 Ｃ：44.78、Ｈ：4.51、Ｎ：20.89 分子式 C10H12N4O5（分子量268） 次に本発明による2′−デオキシオキザノシンの
0.5％ペプトン寒天による抗菌スペクトルを第１
表に示す。 【表】 【表】 2′−デオキシオキザノシンは第１表に示すよう
にグラム陰性菌のうち、エシエリヒア・コリ
NIHJ、エシエリヒア・コリＫ−12、エシエリヒ
ア・コリML1629（多剤耐性菌）、シゲラ・デセン
テリアJS11910、シゲラ・フレキシネリ
4bJS11811、シゲラ・ゾンネイJS11746、プロテ
ウス・ブルガリスOX19、プロテウス・ミラビリ
スIFM OM−９、プロテウス・レツトゲリ
GN311、プロテウス・レツトゲリGN466に対し
比較的強い発育阻止作用を示すがグラム陽性菌に
はその作用を示さない。 次に2′−デオキシオキザノシンについて細胞毒
性を調べた結果、白血病Ｌ−1210細胞に対する50
％発育阻止濃度（IC50値）は0.15μｇ／mlを示し
た。 マウスに対する2′−デオキシオキザノシンの急
性毒性値（LD50）は200mg／Kg（iv）を示し、公
知の種々の核酸系抗生物質に比較し、弱い毒性値
を示した。 以上の結果から明らかのように、大腸菌、赤痢
菌、変形菌などに対する新規化学療法剤および新
規制癌剤として期待できるものである。 本発明の式（）の2′−デオキシオキザノシン
は次式に示す方法によつて合成される。 （式中、R1およびR2は水酸基の保護基を意味す
る。） 即ち、第１工程で、オキザノシンの3′，5′−位
の水酸基を保護し、一般式（）の3′，5′−Ｏ−
ジ保護オキザノシンとし、次いで第２工程で2′位
の水酸基をフエノキシチオカルボニル化し、一般
式（）のオキザノシン誘導体とした後、第３工
程で、還元することにより、3′位のフエノキシチ
オカルボニルオキシ基を脱離し、一般式（）の
2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−ジ保護オキザノシン
を得、次いで第４工程で保護基を脱離することに
より、目的化合物の一般式（）で表わされる
2′−デオキシオキザノシンを得ることができる。 以下各工程を説明する。 第１工程：原料化合物のオキザノシンの3′および
5′位の水酸基の保護は常法によつて行うことが
でき、一般に水酸基の保護基として使用される
種々の保護基が使用できるが、第４工程で保護
基を除去して得られる目的化合物が塩基性条件
下では比較的不安定であるので、酸性及び中性
条件下で除去できる保護基が好ましい。これら
の保護基としては具体的にはtert−ブチルジメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリル基ある
いは１，１，３，３−テトライソプロピル−
１，３−ジシリル基等のシリル保護基があげら
れる。 オキザノシンの3′，および5′に保護基を導入
するには、例えば保護基に対応するシリルクロ
リドを、ピリシン、トリエチルアミン、イミダ
ゾールどの塩化性触媒の存在下に、溶媒中で−
10〜50℃好ましくは10〜30゜程度でオキザノシ
ンと反応させることにより行うことができる。 溶媒としてはジオキサン、ジメチルホルムア
ミドなどの非プロトン性溶媒が使用できる。 第２工程：この工程は2′位の水酸基をフエノキシ
チオカルボニル化するものである。フエノキシ
チオカルボニルクロリドを用いてトリエチルア
ミン、４−ジメチルアミノピリジンなどの塩基
触媒、特に４−ジメチルアミノピリジンを用い
るのが好ましく室温乃至冷却下溶媒中で行う。
溶媒としてはアセトニトリル、ジクロルメタ
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の非プ
ロトン性溶媒が使用できる。 第３工程：本工程は2′位のフエニルチオカーボネ
ート基を水素原子で置換する反応で、一般式
（）の化合物を還元剤、殊にトリ置換スズハ
イドライドを用いて還元することにより行われ
る。トリ置換スズハイドライドとしてはトリエ
チルスズハイドライド、トリ−ｎ−ブチルスズ
ハイドライドなどのトリアルキルスズハイドラ
イドおよびトリフエニルスズハイドライドが挙
げられる。反応溶媒として好適なものはトルエ
ン、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンのようなハロゲン原子を含まない還元され難
い非プロトン性溶媒である。この反応は10〜
150℃好ましくは30〜100℃で行われるが反応を
促進するためラジカル開始剤たとえばα，α−
アゾイソブチロニトリル（AIBN）などを添加
するのが好ましい。 第４工程：以上の工程で得られた一般式（）の
2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−ジ保護オキザノシ
ンは次いで3′および5′位の水酸基の保護基を除
去する。水酸基の保護基の除去は通常の脱シリ
ル化条件下すなわち塩酸、硫酸などの鉱酸また
はフツ化カリ、テトラブチルアンモニウムフル
オリド、フツ化水素などのフツ素試薬で処理す
る。この反応は溶媒中０〜80℃好ましくは10〜
40℃で行う。溶媒はテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノールなどのフツ素試薬に対して
安定な溶媒が用いられる。 以上、本発明の目的化合物2′−デオキシオキザ
ノシンの合成法を説明したがそれらの合成法およ
び生成物の性状をさらに説明するための実施例を
示す。なおこれらの実施例で得られた化合物の理
化学的性状を示す記号のうち、NMRは核磁気共
鳴スペクトルを、IRは赤外線吸収スペクトルを、
UVは紫外線吸収スペクトルを、MSは質量分析
スペクトルをそれぞれ意味する。 実施例 (1) 3′，5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキ
サン−１，３−ジイル）オキザノシンの合成 オキザノシン（568mg）を無水ピリジン（10
ml）に溶解し、１，３−ジクロロ−１，１，
３，３−テトライソプロピルジシロキサン
（694mg、1.1当量）を加えて室温にて４時間撹
拌反応する。反応終了後減圧下に溶媒を留去し
残留物に酢酸エチル（100ml）を加える。酢酸
エチル溶液を0.1規定塩酸、水、飽和食塩水で
順次洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去して得た粘稠性物質をシリカ
ゲルカルムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ク
ロロホルム：メタノール＝20：１）により精製
単離すると結晶物質（800mg）を得る。収率76
％ mp：199゜〜202℃ IRνNujol nax：3400、3340、3180、3140、1755、
1670、1165、1050、890cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／S527（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 5.78ppm（1H、Ｓ） 7.72ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.93） 247（4.11） (2) 2′−Ｏ−フエノキシチオカルボニル−3′，
5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−
１，３−ジイル）オキザノシンの合成 3′，5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキ
サン−１，３−ジイル）オキザノシン（400mg）
と４−ジメチルアミノピリジン（279mg、３当
量）を無水アセトニトリル（５ml）に溶解し、
この溶液にフエニルクロロチオノカーボネート
（393mg、３当量）を１度に加えて室温にて１時
間撹拌する。反応終了後減圧下に溶媒を留去
し、残留物に酢酸エチル（80ml）を加える。酢
酸エテル溶液を0.1規定塩酸、水、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去して得た物質をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ク
ロロホルム：メタノール＝20：１）により精製
単離すると結晶性の目的物質（265mg、収率53
％）と回収原料（141mg回収率27％）を得る。 mp：185゜〜187℃ IRνNujol nax：3325、3200、1770、1760、1690、
1060、1042、890、770cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／Z663（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 6.20ppm（1H、ｄ、Ｊ、＝５Hz） 7.71ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 285（4.02） 242（4.22） (3) 2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−（テトライソプロ
ピルジシロキサン−１，３−ジイル）オキザノ
シンの合成 2′−Ｏ−フエノキシチオカルボニル．3′，
5′−Ｏ（テトライソプロピルジシロキサン−１，
３−ジイル）オキザノシン（200mg）、トリブチ
ルスズハイドライド（175mg、２当量）および
α，α′−アゾビスイソブチロニトリル（20mgを
乾燥トルエン（５ml）に溶解し窒素気流下に75
℃で２時間撹拌反応させる。反応終了後減圧下
に溶媒を留去し残留物をシリカゲルクロマトグ
ラフイー（溶出溶媒：クロロホルム：メタノー
ル＝20：１）により精製単離すると結晶物質
（126mg）を得る。収率82％ mp：205゜〜207℃ IRνNujol nax：3325、3175、1760、1685、1150、
1120、1050、1035、890cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／Z511（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 6.05ppm（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz） 7.73ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.96） 247（4.13） (4) 2′−デオキシオキザノシンの合成 2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−（テトライソプロ
ピルジシロキサン−１，３−ジイル）オキザノ
シン（100mg）をテトラヒドロフラン（２ml）
に溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリ
ド（103mg、２当量、テトラヒドロフランの１
モル溶液：400μ）を加えて室温で10分間撹
拌反応する。反応終了後減圧下に溶媒を留去し
残留物をシリカゲルクロマトグラフイー（溶出
溶媒：クロロホルム：メタノール＝４：１）に
より精製単離すると結晶の目的物質（43mg）を
得る。収率82％
ンの新規誘導体2′−デオキシオキザノシンに関す
る。 オキザノシン（）は梅沢浜夫等によつてスト
レプトミセス・カプレオラスMG−265−CF3株
（微工研菌寄第5735号）（ATCC31963）の培養物
から単離されたものである。（J.of Antibiotics、
34 1216〜1218（1981） 本発明者らは天然品の式（）のオキザノシン
を出発原料にして一般式（） （式中、R1およびR2は水酸基の保護基を意味す
る。）で示される2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−保護
オキザノシンを合成し、次いで3′，5′位の保護基
を脱離することにより目的とする下記式（）で
示される2′−デオキシオキザノシンを合成した。 この2′−デオキシオキザノシンはグラム陰性菌
に対して、優れた抗菌活性を示し、さらに白血病
Ｌ−1210細胞に対して発育阻止作用を示すことか
ら新規な医薬品として期待される。 2′−デオキシオキザノシンの理化学的性質は次
の通りである。 (1) 融点：193〜196℃ (2) 赤外線吸収スペクトルνNujol nax：3300、3225、
3175、3125、1770、1635、1045、1000、
945cm-1 (3) 質量分析スペクトル（FDMS）： Ｍ／Z268（M+） (4) 核磁気共鳴スペクトル（CD3OD）： 6.22ppm（1H、t.J＝７Hz） 7.98ppm（1H、Ｓ） (5) 紫外線吸収スペクトル λMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.91） 247（4.07） (6) 比施光度〔α〕20 D−7.0（Ｃ＝0.4MeOH） (7) 元素分析、分子式および分子量 実測値 Ｃ：44.91、Ｈ：4.47、Ｎ：20.75 計算値 Ｃ：44.78、Ｈ：4.51、Ｎ：20.89 分子式 C10H12N4O5（分子量268） 次に本発明による2′−デオキシオキザノシンの
0.5％ペプトン寒天による抗菌スペクトルを第１
表に示す。 【表】 【表】 2′−デオキシオキザノシンは第１表に示すよう
にグラム陰性菌のうち、エシエリヒア・コリ
NIHJ、エシエリヒア・コリＫ−12、エシエリヒ
ア・コリML1629（多剤耐性菌）、シゲラ・デセン
テリアJS11910、シゲラ・フレキシネリ
4bJS11811、シゲラ・ゾンネイJS11746、プロテ
ウス・ブルガリスOX19、プロテウス・ミラビリ
スIFM OM−９、プロテウス・レツトゲリ
GN311、プロテウス・レツトゲリGN466に対し
比較的強い発育阻止作用を示すがグラム陽性菌に
はその作用を示さない。 次に2′−デオキシオキザノシンについて細胞毒
性を調べた結果、白血病Ｌ−1210細胞に対する50
％発育阻止濃度（IC50値）は0.15μｇ／mlを示し
た。 マウスに対する2′−デオキシオキザノシンの急
性毒性値（LD50）は200mg／Kg（iv）を示し、公
知の種々の核酸系抗生物質に比較し、弱い毒性値
を示した。 以上の結果から明らかのように、大腸菌、赤痢
菌、変形菌などに対する新規化学療法剤および新
規制癌剤として期待できるものである。 本発明の式（）の2′−デオキシオキザノシン
は次式に示す方法によつて合成される。 （式中、R1およびR2は水酸基の保護基を意味す
る。） 即ち、第１工程で、オキザノシンの3′，5′−位
の水酸基を保護し、一般式（）の3′，5′−Ｏ−
ジ保護オキザノシンとし、次いで第２工程で2′位
の水酸基をフエノキシチオカルボニル化し、一般
式（）のオキザノシン誘導体とした後、第３工
程で、還元することにより、3′位のフエノキシチ
オカルボニルオキシ基を脱離し、一般式（）の
2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−ジ保護オキザノシン
を得、次いで第４工程で保護基を脱離することに
より、目的化合物の一般式（）で表わされる
2′−デオキシオキザノシンを得ることができる。 以下各工程を説明する。 第１工程：原料化合物のオキザノシンの3′および
5′位の水酸基の保護は常法によつて行うことが
でき、一般に水酸基の保護基として使用される
種々の保護基が使用できるが、第４工程で保護
基を除去して得られる目的化合物が塩基性条件
下では比較的不安定であるので、酸性及び中性
条件下で除去できる保護基が好ましい。これら
の保護基としては具体的にはtert−ブチルジメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリル基ある
いは１，１，３，３−テトライソプロピル−
１，３−ジシリル基等のシリル保護基があげら
れる。 オキザノシンの3′，および5′に保護基を導入
するには、例えば保護基に対応するシリルクロ
リドを、ピリシン、トリエチルアミン、イミダ
ゾールどの塩化性触媒の存在下に、溶媒中で−
10〜50℃好ましくは10〜30゜程度でオキザノシ
ンと反応させることにより行うことができる。 溶媒としてはジオキサン、ジメチルホルムア
ミドなどの非プロトン性溶媒が使用できる。 第２工程：この工程は2′位の水酸基をフエノキシ
チオカルボニル化するものである。フエノキシ
チオカルボニルクロリドを用いてトリエチルア
ミン、４−ジメチルアミノピリジンなどの塩基
触媒、特に４−ジメチルアミノピリジンを用い
るのが好ましく室温乃至冷却下溶媒中で行う。
溶媒としてはアセトニトリル、ジクロルメタ
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の非プ
ロトン性溶媒が使用できる。 第３工程：本工程は2′位のフエニルチオカーボネ
ート基を水素原子で置換する反応で、一般式
（）の化合物を還元剤、殊にトリ置換スズハ
イドライドを用いて還元することにより行われ
る。トリ置換スズハイドライドとしてはトリエ
チルスズハイドライド、トリ−ｎ−ブチルスズ
ハイドライドなどのトリアルキルスズハイドラ
イドおよびトリフエニルスズハイドライドが挙
げられる。反応溶媒として好適なものはトルエ
ン、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンのようなハロゲン原子を含まない還元され難
い非プロトン性溶媒である。この反応は10〜
150℃好ましくは30〜100℃で行われるが反応を
促進するためラジカル開始剤たとえばα，α−
アゾイソブチロニトリル（AIBN）などを添加
するのが好ましい。 第４工程：以上の工程で得られた一般式（）の
2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−ジ保護オキザノシ
ンは次いで3′および5′位の水酸基の保護基を除
去する。水酸基の保護基の除去は通常の脱シリ
ル化条件下すなわち塩酸、硫酸などの鉱酸また
はフツ化カリ、テトラブチルアンモニウムフル
オリド、フツ化水素などのフツ素試薬で処理す
る。この反応は溶媒中０〜80℃好ましくは10〜
40℃で行う。溶媒はテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノールなどのフツ素試薬に対して
安定な溶媒が用いられる。 以上、本発明の目的化合物2′−デオキシオキザ
ノシンの合成法を説明したがそれらの合成法およ
び生成物の性状をさらに説明するための実施例を
示す。なおこれらの実施例で得られた化合物の理
化学的性状を示す記号のうち、NMRは核磁気共
鳴スペクトルを、IRは赤外線吸収スペクトルを、
UVは紫外線吸収スペクトルを、MSは質量分析
スペクトルをそれぞれ意味する。 実施例 (1) 3′，5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキ
サン−１，３−ジイル）オキザノシンの合成 オキザノシン（568mg）を無水ピリジン（10
ml）に溶解し、１，３−ジクロロ−１，１，
３，３−テトライソプロピルジシロキサン
（694mg、1.1当量）を加えて室温にて４時間撹
拌反応する。反応終了後減圧下に溶媒を留去し
残留物に酢酸エチル（100ml）を加える。酢酸
エチル溶液を0.1規定塩酸、水、飽和食塩水で
順次洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去して得た粘稠性物質をシリカ
ゲルカルムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ク
ロロホルム：メタノール＝20：１）により精製
単離すると結晶物質（800mg）を得る。収率76
％ mp：199゜〜202℃ IRνNujol nax：3400、3340、3180、3140、1755、
1670、1165、1050、890cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／S527（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 5.78ppm（1H、Ｓ） 7.72ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.93） 247（4.11） (2) 2′−Ｏ−フエノキシチオカルボニル−3′，
5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−
１，３−ジイル）オキザノシンの合成 3′，5′−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキ
サン−１，３−ジイル）オキザノシン（400mg）
と４−ジメチルアミノピリジン（279mg、３当
量）を無水アセトニトリル（５ml）に溶解し、
この溶液にフエニルクロロチオノカーボネート
（393mg、３当量）を１度に加えて室温にて１時
間撹拌する。反応終了後減圧下に溶媒を留去
し、残留物に酢酸エチル（80ml）を加える。酢
酸エテル溶液を0.1規定塩酸、水、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去して得た物質をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（溶出溶媒：ク
ロロホルム：メタノール＝20：１）により精製
単離すると結晶性の目的物質（265mg、収率53
％）と回収原料（141mg回収率27％）を得る。 mp：185゜〜187℃ IRνNujol nax：3325、3200、1770、1760、1690、
1060、1042、890、770cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／Z663（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 6.20ppm（1H、ｄ、Ｊ、＝５Hz） 7.71ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 285（4.02） 242（4.22） (3) 2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−（テトライソプロ
ピルジシロキサン−１，３−ジイル）オキザノ
シンの合成 2′−Ｏ−フエノキシチオカルボニル．3′，
5′−Ｏ（テトライソプロピルジシロキサン−１，
３−ジイル）オキザノシン（200mg）、トリブチ
ルスズハイドライド（175mg、２当量）および
α，α′−アゾビスイソブチロニトリル（20mgを
乾燥トルエン（５ml）に溶解し窒素気流下に75
℃で２時間撹拌反応させる。反応終了後減圧下
に溶媒を留去し残留物をシリカゲルクロマトグ
ラフイー（溶出溶媒：クロロホルム：メタノー
ル＝20：１）により精製単離すると結晶物質
（126mg）を得る。収率82％ mp：205゜〜207℃ IRνNujol nax：3325、3175、1760、1685、1150、
1120、1050、1035、890cm-1 MS（SIMS）： Ｍ／Z511（Ｍ＋Ｈ）+ NMR（CDCl3）： 6.05ppm（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz） 7.73ppm（1H、Ｓ） UVλMeOH naxｎｍ（logε） 286（3.96） 247（4.13） (4) 2′−デオキシオキザノシンの合成 2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−（テトライソプロ
ピルジシロキサン−１，３−ジイル）オキザノ
シン（100mg）をテトラヒドロフラン（２ml）
に溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリ
ド（103mg、２当量、テトラヒドロフランの１
モル溶液：400μ）を加えて室温で10分間撹
拌反応する。反応終了後減圧下に溶媒を留去し
残留物をシリカゲルクロマトグラフイー（溶出
溶媒：クロロホルム：メタノール＝４：１）に
より精製単離すると結晶の目的物質（43mg）を
得る。収率82％
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式で示される2′−デオキシオキザノシ
ン。 ２ 下記一般式 （式中R1およびR2は水酸基の保護基を意味す
る。）で示される2′−デオキシ−3′，5′−Ｏ−保護
オキザノシンより保護基を脱離することを特徴と
する2′−デオキシオサザノシンの合成法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58040802A JPS59167600A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | ２′−デオキシオキザノシンおよびその製造法 |
| DK144284A DK144284A (da) | 1983-03-14 | 1984-02-29 | 2'-desoxyoxanosin, den fremstilling og anvendelse |
| US06/586,348 US4530998A (en) | 1983-03-14 | 1984-03-05 | 2'-Deoxyoxanosine |
| HU84929A HUT35694A (en) | 1983-03-14 | 1984-03-08 | Process for producing 2'-deoxy-oxanosine and pharmaceutical compositions containing them |
| AT84102551T ATE24519T1 (de) | 1983-03-14 | 1984-03-09 | 2-deoxyoxanosin, verfahren zu seiner herstellung und seine pharmazeutische verwendung. |
| EP84102551A EP0120374B1 (en) | 1983-03-14 | 1984-03-09 | 2-desoxyoxanosine, a process for the preparation thereof and its use as a medicament |
| DE8484102551T DE3461806D1 (en) | 1983-03-14 | 1984-03-09 | 2-desoxyoxanosine, a process for the preparation thereof and its use as a medicament |
| ES530508A ES530508A0 (es) | 1983-03-14 | 1984-03-12 | Un metodo de preparar 2'-desoxioxanosina |
| GR74066A GR81773B (ja) | 1983-03-14 | 1984-03-12 | |
| ZA841850A ZA841850B (en) | 1983-03-14 | 1984-03-13 | 2'-desoxyoxanosine,a process for the preparation thereof and its use as a medicament |
| CA000449454A CA1209132A (en) | 1983-03-14 | 1984-03-13 | 2'-deoxyoxanocine and processes for preparation thereof |
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|---|---|---|---|
| JP58040802A JPS59167600A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | ２′−デオキシオキザノシンおよびその製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59167600A JPS59167600A (ja) | 1984-09-21 |
| JPH027598B2 true JPH027598B2 (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=12590759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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