JPH032953B2

JPH032953B2 -

Info

Publication number: JPH032953B2
Application number: JP15286682A
Authority: JP
Inventors: Kutsuku Barii; Richaadoson Nooman; Teimusu Josefu
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1981-09-04
Filing date: 1982-09-03
Publication date: 1991-01-17
Also published as: JPS5852487A; ZA826464B

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、水性もしくは部分水性システム、特
に接触する金属の腐食防止および／または金属腐
食によるスケール沈積防止のための水性システム
に関する。西独公開特許第2310450号公報には、式（式中、Ｒは１〜４個の炭素原子を有するアル
キル残基であり、Ｘは水素またはヒドロキシル基
である。）で表わされる化合物が記載されている。
上記化合物およびそれらの水溶性塩は、多価金属
イオンの錯化剤として有用であることが知られて
いる。前記化合物は、冷却水の腐食またはスケー
ル防止剤として好適に用いられることも知られて
いる。西独公開特許第2310450号公報では、先行技術
について記載されており、また次の点でそれと区
別されている。西独特許第1045373号が引用され
ており、該西独特許にはメチレンジホスホン酸を
カルシウムの良好な錯化剤として用いることが開
示されている旨記載されている。該特許には、もし１個のホスホン酸基がカルボ
ン酸基で置換されると、好ましくない富栄養（生
物栄養素）特性は低下するが、得られるホスホノ
酢酸の錯化特性も実質上低下する旨記載されてい
る。良好な錯化特性の維持と共に富栄養特性の低
下を同時に満足させるために、西独公開特許第
2310450号公報には、ホスホノ酢酸のメチレン基
のプロトンの１個が炭素数１〜４個のアルキル基
で置換されることが必要であり、第２のプロトン
は、選択によりヒドロキシル基で置換されてもよ
いと教示している。上記先行技術の教示とは明らかなに異なり、本
発明者らは驚くべきことに、２−ヒドロキシ−２
−ホスホノプロピオン酸の代りに２−ヒドロキシ
ホスホノ酢酸を含んだ水性システムを用いること
により遥かに改善された金属防食および／または
スケール沈積防止が達成されることを見出した。
さらに、２−ヒドロキシホスホノ酢酸は、部分的
にのみ水性のシステム、例えば水性機械加工液、
不凍液、水／グリコール作動液、および水性エマ
ルジヨン塗料および金属用水性粉体塗料などの水
性表面塗料について耐食性を示す。本発明により、接触する金属、特に鉄金属の腐
食および／または腐食によるスケール沈積防止の
ための水性もしくは部分水性システムであつて、
該システムに式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmを加えてなる水性
もしくは部分水性システムが提供される。２−ヒドロキシホスホノ酢酸は公知の化合物で
あつて、米国特許第3032500号にすでに開示され
ており、最近では欧州特許出願第0050792号に開
示されている。該化合物は、公知の方法、例えば
オルソ亜燐酸、その塩またはその溶液、あるいは
三塩化燐とグリオキシル酸、その塩またはその溶
液とを反応させることにより得られる。２−ヒドロキシホスホノ酢酸は、遊離の酸とし
て、あるいは例えばアルカリ金属、アルカリ土類
金属、アンモニアまたは（選択的に１〜６個のヒ
ドロキシル基で置換され）１〜20個、好ましくは
１〜12個の炭素原子を含有するアルキルアミンの
水溶性塩または部分塩として用いることができ
る。好適な例として、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、マグネシウ
ム、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、
ｎ−プロピルアミン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルア
ミン、オクチルアミン、エタノールアミン、ジエ
タノールアミン、トリエタノールアミンまたはモ
ルホリンの塩をあげることができる。そのシステムからの金属腐食および／またはス
ケール沈積の防止のために、水性システムに２−
ヒドロキシホスホノ酢酸0.1〜50000ppmが添加さ
れる。実際には、処理される水性システムに添加され
る２−ヒドロキシホスホノ酢酸の量は、２−ヒド
ロキシホスホノ酢酸が果すことを要求される機能
により変動する。腐食防止保護処理、および選択によりそれと同
時のスケール防止処理のためには、該水性システ
ムに添加される２−ヒドロキシホスホノ酢酸の量
は、該水性システムに対して0.1〜50000ppm（す
なわち0.00001〜５重量％）の範囲が適当であり、
１〜500ppm（すなわち0.0001〜0.05重量％）の範
囲が好ましい。スケール沈積防止だけの場合、使
用される２−ヒドロキシホスホノ酢酸の量は、該
水性システムに対して１〜200ppmの範囲が適当
があり、１〜30ppmの範囲が好ましい。腐食防止とスケール沈積防止の同時処理に関し
て特に関係のある、本発明により処理される水性
システムとしては、冷却水システム、スチーム発
生システム、海水蒸発器、静水がま
（hydrostatic cookers）、ガススクラビングシス
テムおよび完全循環加熱システムがあげられ、腐
食防止処理のみについては、特に関係のある水性
システムとしては水性機械加工液配合物（例え
ば、ボーリング、ミリング、リーミング、ブロー
チング、引抜き（drawing）、旋削（turning）、
切断、のこ引き、粉砕、および糸切断（thread−
cutting）作業用のもの又はスピニング、ドロー
イングもしくはローリング作業における非切断造
形用のもの）、水性磨き（aqueous scouring）シ
ステム、水性グリコール不凍液システム、水／グ
リコール静水液（hydraulic fluids）、および水系
ポリマー表面塗料システムがあげられる。式の化合物は、単独で用いてもよく、また水
性システムの処理に有用な公知の他の化合物と共
に用いてもよい。完全に水性であるシステム、例えば冷却水シス
テム、スチーム発生システム、海水蒸発器システ
ム、静水がま（hydrostatic cookers）、および完
全循環加熱システムの処理の場合、さらに防食
剤、例えば水溶性亜鉛塩；ホスフエート；ポリホ
スフエート；ホスホン酸およびその塩、例えばア
セトジホスホン酸、ニトリロトリスメチレンホス
ホン酸およびメチルアミノジメチレンホスホン
酸；他のホスホノカルボン酸およびその塩、例え
ば西独公開特許第2632774号公報記載の化合物、
２−ホスホノブタン−１，２，−４−トリカルボ
ン酸および英国特許第1572406に記載の化合物；
クロメート、例えばナトリウムクロメート；ニト
レート、例えばナトリウムニトレート；ニトリツ
ト、例えばナトリウムニトリツト；ベンゾトリア
ゾール、ビス−ベンゾトリアゾールまたは銅奪活
ベンゾトリアゾールまたはトリトリアゾール誘導
体；Ｎ−アシルサルコシン；Ｎ−アシリミノ二酢
酸；エタノールアミン；脂肪アミン；およびポリ
カルボン酸、例えばポリマレイン酸およびポリア
クリル酸、さらにはそれぞれそれらのアルカリ金
属塩、無水マレイン酸のコポリマー、アクリル酸
のコポリマー、およびポリマレイン酸、ポリアク
リル酸およびそれらのコポリマーの置換誘導体を
用いることができる。さらに、完全な水性システムにおいて、式の
化合物は、さらに分散剤および／または限界剤
（threshold agents）、例えば重合アクリル酸（ま
たはその塩）、ホスフイノポルカルボン酸（英国
特許第1458235号に記載され、特許請求されてい
るような）、加水分解されたポリアクリロニトリ
ル、重合メタクリル酸およびその塩、ポリアクリ
ルアミドおよびアクリル酸およびメタクリル酸と
のコポリマー、リグニンスルホン酸およびその
塩、タンニン、ナフタレンスルホン酸／ホルムア
ルデヒド縮合生成物、でん粉およびその誘導体、
およびセルロースと併用することができる。使用
される限界剤（threshold agent）の具体例とし
て、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカル
ボン酸、アセトジホスホン酸、加水分解されたポ
リ無水マレイン酸およびその塩、アルキルホスホ
ン酸、１−アミノアルキル−１，１−ジホスホン
酸およびその塩、およびアルカリ金属ポリホスフ
エートをあげることができる。アルカリ金属オルソホスフエートおよびカーボ
ネートなどの沈でん剤；アルカリ金属スルフイツ
ト（sulphites）およびヒドラジンなどの脱酸素
剤；ニトリロトリ酢酸およびその塩などの金属イ
オン封鎖剤；シロキサン例えばポリジメチルシロ
キサン、ジステアリルセバカミド、ジステアリル
アジパミドおよびエチレンオキシドおよび／また
はプロピレンオキシド縮合物より誘導される関連
の生成物、さらに加えて、脂肪アルコール例えば
カプリルアルコールおよびそのエチレンオキシド
縮合物などの消泡剤；および殺生物剤、例えばア
ミン、第４級アンモニウム化合物、クロロフエノ
ール、硫黄含有化合物例えばスルホン、メチレン
ビスチオシアネートおよびカーバメート、イソチ
アゾロン、臭素化プロピオナミド、トリアジン、
ホスホニウム化合物、塩素および塩素放出剤およ
び有機金属化合物例えばトリブチル錫オキシドを
用いることができる。本発明により処理されるシステムが完全に水性
でない場合、例えば水性機械加工液配合物の場
合、水稀釈性切断または粉砕液を用いることがで
きる。本発明の水性機械加工液配合物として、例えば
金属工作配合物（metal working formulations）
があげられる。「金属工作」とは「リーミング、
ブローチング、引抜き（drawing）、スピニング、
切断、粉砕、ボーリング、ミリング、旋削（tur
−ning）、のこ引き、非切断造形またはローリン
グ」を意味する。式の腐食防止化合物を配合する水稀釈性切断
もしくは粉砕液の例として、 (a) １：50〜１：100の稀釈度で使用され、通常
粉砕液として用いられる１種以上の腐食防止
剤、および選択により１種以上の耐摩耗添加剤
よりなる水性コンセントレート； (b) 切断作業のため１：20〜１：40の稀釈度で用
いられ、また粉砕のため１：60〜１：80の稀釈
度で用いられる、殺生物剤、防食剤および耐摩
耗添加剤を含有するポリグリコール； (c) (b)に類似であるが、10〜20％油に加えて水稀
釈生成物を半透明とするに充分な乳化剤を含有
する半合成切断液； (d) 例えば、乳化剤、腐食防止剤、極限圧力
（extreme pressure）／耐摩耗添加剤、殺生物
剤、消泡剤、カツプリング剤等を含有し、通常
水で１：10〜１：50に稀釈されて白色不透明エ
マルシヨンとなる乳化可能鉱油コンセントレー
ト；および (e) より少量の油およびより多量の乳化剤を含有
する(d)に類似の生成物であつて、１：50〜１：
100に稀釈して半透明のエマルシヨンを生じ、
切断または粉砕作業に用いられる該生成物をあ
げることができるナトリウムニトリツトおよびトリエタノールア
ミンの混合物が金属工作における腐食防止に用い
られているが、例えばＮ−ニトロソアミンを形成
する危険性に基づく毒性問題のため、また流出物
について、国によつては法的規制がなされている
ためナトリウムニトリツトの使用に代るものが要
求されている。水性システム成分が水性機械加工液配合物であ
る部分水性システムについて、式の化合物は単
独で用いてもよく、また他の添加剤、例えばさら
に公知の腐食防止剤および／または極限圧力添加
剤と混合して用いてもよい。式の化合物に加えて、これら水性システムに
用いられる他の腐食防止剤の例として、次の群、
すなわち (a) 有機酸、そのエステルまたはアンモニウム、
アミン、アルカノールアミンおよび金属塩、例
えば安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ジナ
トリウムセバケート、トリエタノールアミンラ
ウレート、イソノナン酸、（ｐ−トルエンスル
ホンアミドカプロン酸）のトリエタノールアミ
ン塩、ナトリウムＮ−ラウロイルサルコシネー
トまたはノニルフエノキシ酢酸； (b) 下記の種類のごとき窒素含有物質、すなわち
脂肪酸アルカノールアミド；イミダゾリン、例
えば１−ヒドロキシエチル−２−オレイル−イ
ミダゾリン；オキサゾリン；トリアゾール、例
えばベンゾトリアゾール；トリエタノールアミ
ン；脂肪アミン；および無機塩、例えばナトリ
ウムニトレート； (c) 次の種類のごとき燐含有物質、すなわちアミ
ンホスフエート、ホスホン酸または無機塩、例
えばナトリウム二水素ホスフエートまたは亜鉛
ホスフエート；および (d) 次の種類のごとき硫黄含有化合物、すなわち
ナトリウム、カルシウムまたはバリウム石油ス
ルホネート、または複素環式化合物、例えばナ
トリウムメルカプトベンゾチアゾールをあげる
ことができる。窒素含有物質、特にトリエタノールアミンが好
ましい。本発明のシステムに存在することのできる極限
圧力添加剤（extreme pressure additives）の例
として硫黄および／または燐および／またはハロ
ゲン含有物質、例えば硫化マツコウ鯨油、硫化脂
肪、トリトリルホスフエート、塩素化パラフイン
またはエトキシ化ホスフエートエステルをあげる
ことができる。トリエタノールアミンが本発明により処理され
る水性システムに存在する場合、該トリエタノー
ルアミンを式の化合物とトリエタノールアミン
のと比が２：１〜１：20の範囲になるような割合
で存在させるのが好ましい。本発明の方法により処理される部分水性システ
ムは、水性表面塗料組成物、例えばプライマ−エ
マルシヨンペイントおよび金属支持体用水性粉体
塗料であつてもよい。該水性表面塗料組成物は、例えばスチレン−ア
クリルコポリマーエマルシヨンペイントのような
ペイント、樹脂、ラテツクス、または他の水系ポ
リマー表面塗料システムであつてもよい。ナトリウムニトリツトおよびナトリウムベンゾ
エートが水系プライマーペイントのフラツシユラ
スチング（flash rusting）を防止するために用
いられているが、毒性の問題および使用される高
イオン濃度におけるエマルシヨン安定性の問題の
ため、工業上はナトリウムニトリツトおよびナト
リウムベンゾエートより離れる傾向にある。本発明により処理される水性表面塗料組成物に
おいて、式の化合物は単独で用いてもよく、ま
た他の添加剤、例えば公知の腐食防止剤、殺生物
剤、乳化剤および／または顔料と混合して用いて
もよい。使用しうるさらに他の公知の腐食防止剤として
は、例えば前記した(a)，(b)，(c)および(d)の群のも
のをあげることができる。式の化合物に加えて、これらの水性システム
において用いることのできる殺生物剤の例とし
て、フエノール、およびアルキルおよびハロゲン
化フエノール、例えばペンタクロロフエノール、
ｏ−フエニルフエノール、ｏ−フエノキシフエノ
ールおよび塩素化ｏ−フエノキシフエノール、お
よびサリシドアニリド、ジアミン、トリアジン、
および有機水銀化合物および有機錫化合物などの
有機金属化合物をあげることができる。式の化合物に加えて、これら水性システムに
用いることのできる顔料の例として、二酸化チタ
ン、クロム酸亜鉛、酸化鉄およびフタロシアニン
などの有機顔料があげられる。以下の実施例により本発明をさらに説明する。
実施例における部および％は重量基準による。下記の用途実施例２〜６で用いる２−ヒドロキ
シホスホノ酢酸活性成分の製造例を次に示す。す
なわち、実施例１ (A) 50％水性グリオキシル酸16.3部（0.11モル）
およびＯ−亜燐酸8.2部（0.1モル）を撹拌しな
がら98〜100℃で24時間加熱して２−ヒドロキ
シホスホノ酢酸60％水溶液24.5部を得た。 (B) 実施例1Aで得た２−ヒドロキシホスホノ酢
酸の60％水溶液150部を減圧下（20ミリバール）
に蒸発させて粘稠な褐色油104部を得た。次い
で、該油を結晶化させた。次いで、該粗結晶物
をアセトンと共にすり砕いて不純物を除去し
た。得られた鈍黄色結晶２−ヒドロキシホスホ
ノ酢酸を別し、アセトンで洗浄し、乾燥させ
た。得られた結晶２−ヒドロキシホスホノ酢酸を次
いで水で再結晶させて、融点165〜167℃の白色結
晶として純２−ヒドロキシホスホノ酢酸を得た。³¹ P−NMRδ＝−14ppm（外部H₃PO₄に対し
て）；¹ H−NMR Ｐ−CHδ＝4.24ppm ^JＰ−CH＝18Hz IR COOH：1745cm^-1，Ｐ＝Ｏ：1200cm^-1 実施例２式の活性化合物の腐食防止活性について、空
気混和溶液ボトル試験により、下記の組成： 20 ｇ CaSO₄2H₂O 15 ｇ MgSO₄・7H₂O 4.6ｇ NaHCO₃ 7.7ｇ CaCl₂・6H₂O 蒸留水205リツトルよりなる標準腐食水を用いて下記の方法で実験を
行なつた。軟鋼クーポン（５cm×2.5cm）を軽石でこすり、
塩酸中に１分間浸漬し、次いで洗浄、乾燥して秤
量した。所望の割合の添加剤の組合せを標準腐食水200
mlに溶解した。２個の鋼クーポンを該溶液中に吊
し、全体を40℃のサーモスタツトに入れた密閉ボ
トル中に貯蔵した。貯蔵期間中、空気を該溶液中
に500ml／分の割合で通し、空気の通路は鋼クー
ポンからさえぎられており、蒸発により失われた
水は、蒸留水で置換された。 64時間後、鋼クーポンを取り出し、軽石を用い
ないでこすり、１重量％のヘキサミンを加えて防
食した塩酸中に１分間浸漬し、次いで洗浄し、乾
燥して再び秤量した。一定の重量ロスが生じてい
る筈である。空試験、すなわち腐食防止剤として
作用しうるものの不存在下、試験水中への軟鋼試
験片の浸漬試験を各一連の試験と併行して行なつ
た。腐食速度はミリグラム重量ロス／q.デシメー
トル／日（m.d.d.）で計算されるけれども便宜上
結果は保護百分率で示され、該保護百分率は下記
の通り定義される。すなわち保護百分率％＝空試験の腐食速度（m.d.d.）−試料
の腐食速度（m.d.d.）／空試験の腐食速度（m.d.d.）×
100 実施例１(A)で得たヒドロキシホスホノ酢酸をそ
れぞれ100ppm、90ppm、80ppm、70ppm、
60ppm、50ppmおよび40ppm用いて行なつた一連
の試験結果を表−１に示す。

【表】表−１の結果によれば、ヒドロキシホスホノ酢
酸の有効な軟鋼腐食防止特性が示されている。実施例３本発明の水性切断液組成物の耐腐食性を下記の
方法、すなわちInstitute of Petroleum Test287
の変法により評価した。 PH値を９にするに充分なトリエタノールアミン
（TEA）を含有する、試験中の化合物の１％水溶
液を調製した。該溶液をさらに、２倍、４倍、８倍および16倍
稀釈し、これらの溶液のそれぞれをIP287試験方
法に記載の方法により鋳鉄チツプと接触させた。
該試験は、脱イオン水およびIP287硬水を用いて
行なつた。暴露後金属チツプの状態の目視評価は以下のガ
イドラインによつた。錆の程度評価等級錆なし０小斑点５個以下Ｔ（トレース）得られた結果は表−２に記載した通りであり、
水性液組成物中における式の化合物の腐食防止
活性を示している。

【表】＊〓稀釈％〓は該化合物のみの濃度百
分率である。
〓稀釈比〓はトリエタノールアミン
＋化合物の水に対する比である。
実施例４フラツシユラスチング防止における式の化合
物の有効性を以下の方法により示す。代表的なプライマ−スチレン−アクリルコポリ
マーエマルシヨンペイントを高速撹拌機を用い、
次の配合にしたがつて製造した。Ｏ−燐酸亜鉛 190部二酸化チタンRCR−２ 58部 Modocol EK−600（登録商標）（水中４％）（ポリアクリレート） 64部 Vinapol 1640（登録商標）（水中５％）（カリウムポリメタクリレート −ビニル・プロダクツ・リミテツド） 36部アンモニア（0.880） 10部水 92部 Vinacryl Ｍ 175（登録商標）（スチレン／アクリルコポリマー−ビニル・・プロダクツ・リミテツド） 549部 Acticide MPM（登録商標）（有機水銀化合物−トール・ケミカル・リミテツド）１部 1000部実施例１(A)で得た式の化合物およびトリエタ
ノールアミンの水性混合物（式の化合物：
TEA：水重量比＝３：48：２）を撹拌しながら
該プライマーのアリコート100ｇ中に配合して式
の化合物の500，250および100ppmの濃度を得
た。防食剤を含有しない対照を参照のため示し
た。ペイント試料を予めブラスト清掃を行つてSa3
とした二重反復試験片（15.24cm×10.16cm）には
け塗りした。第１の被覆を該パネルの表面に施こ
し、乾燥したら、パネルの半分に第２の被覆を施
こした（第１の被覆のはけ塗りの方向と直角方向
にはけ塗りした）。ペイントを塗つたパネルを調
節雰囲気中（20℃、関係湿度60％）で乾燥させ、
次いでフラツシユラスチングの目視評価を行なつ
た。目視により、また０〜５の数字による等級、す
なわち０＝フラツシユラスチングなし、５＝著し
いフラツシユラスチングで表わした錆斑点の数お
よび性質にしたがつて該フラツシユラスチングの
評価を行なつた。得られた結果を表−３に示す。

【表】

【表】表−３の結果によれば、対照ペイントに比べて
２−ヒドロキシホスホノ酢酸を含有するエマルシ
ヨンペイントの腐食防止性がすぐれていることが
解る。実施例５および６炭酸カルシウムに対する極限（Threshld）試
験下記の溶液(a)，(b)および(c)を製造した。 (a) 硝酸カルシウム溶液硝酸カルシウム４水和物1470ｇを脱イオン水に
溶解し、その溶液を１とした。 (b) 炭酸ナトリウム溶液炭酸ナトリウム0.646ｇを脱イオン水に溶解し、
その溶液を１とした。 (c) ２−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の溶液実施例１(A)または１(B)で得た２−ヒドロキシ−
ホスホノ酢酸を水に溶解して活性成分1000ppmを
含有する溶液とした。硝酸カルシウム溶液50mlをスクリユーキヤツプ
を備えた120ｇガラス壜に入れた。この溶液に試
験溶液（例えば、溶液(c)の0.1％の1.0mlは該試験
溶液中の２−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸10ppmの
濃度となる）の最終容量（100ml）中それぞれ
5ppm、7.5ppmまたは10ppmの２−ヒドロキシ−
ホスホノ酢酸の濃度となるような容量の溶液(c)を
添加する。溶液(b)の50mlを添加し、該混合物を振
とうする。該試験溶液を25℃の恒温浴中に24時間
貯蔵した。試験溶液25mlを取り出し、Pattonおよび
Reader試薬〔２−ヒドロキシ−１−（2′−ヒドロ
キシ−4′−スルホ−1′−ナフチルアゾ）−３−ナ
フトエ酸〕を加え、次いで水酸化ナトリウム２ペ
レツトを添加した。得られた溶液をエチレンジア
ミン四酢酸二ナトリウム塩の標準0.01M溶液で滴
定した。下記表−４に示したように、空試験滴定量（す
なわち、２−ヒドロキシホスホノ酢酸を含有しな
い場合）に対する炭酸カルシウムの沈でんの防止
％として上記実験結果を示す。防止％＝（滴定量−空試験滴定量）／（7.78−空試験
滴定量）×100 7.78は、100％防止に対する最大可能滴定量で
ある。

【表】実施例７本発明のスケールおよび腐食同時防止特性を蒸
発冷却水リグ（rigs）における以下の方法により
評価した。リグの操作の標準的な方法は、水を所望の程度
まで濃縮することである。一旦濃縮されると、予
め秤量した腐食クーポンおよび熱交換器をリグ中
に入れ、防止剤を添加した。スケール／腐食防止
剤の不動態化用量（dose）を３日間供給水中に
添加した。その後、防止剤の添加量を維持用量水
準まで２日間かけて落した。防止剤用量が所望の
維持水準に達したら、充分なスケール／腐食防止
剤を供給水中に添加してその水準を10日間維持し
た。その後、金属クーポンの重量減として腐食速
度を計算し、熱交換器の重量増により、スケール
沈着速度を測定した。蒸発冷却水リグの標準作業パラメーター：システム容量 20 流量 15／分流速 0.3ｍ／sec システム温度 40℃ 熱交換器温度差ΔT ２℃ 半減期（約） 30時間使用水の代表的な分析例： PH 8.9 PA（＊） 120ppm （CaCO₃として） TA（＊） 470ppm （CaCO₃として） TH（＊） 450ppm （CaCO³として） Cl 75ppm Cl^-

【表】＊PAは「フエノールアルカリ度」を表わし、 TAは「全アルカリ度」を表わし、 THは「全硬度」を表わす。

Claims

【特許請求の範囲】１式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなることを特
徴とする水性または部分水性システム。２接触する金属の腐食防止および／またはスケ
ール沈積防止の特許請求の範囲第１項記載のシス
テム。３腐食防止および選択によりスケール沈積防止
のシステムであつて、式の化合物の割合が該シ
ステムに対して１〜500ppmである特許請求の範
囲第２項記載のシステム。４式の化合物が該システムに対して１〜
100ppmである特許請求の範囲第３項記載のシス
テム。５スケール沈積防止のシステムであつて、式
の化合物が該システムに対して１〜200ppmであ
る特許請求の範囲第２項記載のシステム。６式の化合物が該システムに対して１〜
30ppmである特許請求の範囲第５項記載のシステ
ム。７式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなる水性また
は部分水性システムを使用する方法であつて、該
システムが冷却水システム、スチーム発生システ
ム、海水蒸発器、静水がま、ガススクラビングシ
ステムまたは完全循環加熱システムであることを
特徴とする腐食およびスケール沈積を同時に防止
する方法。８式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなる水性また
は部分水性システムを使用する方法であつて、該
システムが水性機械加工液配合物、水性磨きシス
テム、水性グリコール不凍液システム、水／グリ
コール静水液または水系塗料組成物であることを
特徴とする腐食防止方法。９該水性機械加工液配合物が水稀釈性切断また
は粉砕液である特許請求の範囲第８項記載の方
法。１０式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなる水性シス
テムを使用する方法であつて、該システムが冷却
水システム、スチーム発生システム、海水蒸発
器、静圧がま、ガススクラビングシステムまたは
完全循環加熱システムであり、且式の化合物と
共に他の腐食防止剤、分散および／又は極限剤、
沈でん剤、脱酸素剤、金属イオン封鎖剤、消泡剤
および殺生物剤の１種又はそれ以上を併用するこ
とを特徴とする腐食および／またはスケール沈積
防止方法。１１式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなる部分水性
システムを使用する方法であつて、該システムが
水性機械加工液配合物であり、且式の化合物と
共に他の腐食防止剤および／または極限圧力添加
剤の１種またはそれ以上を併用することを特徴と
する腐食および／またはスケール沈積防止方法。１２該他の腐食防止剤がトリエタノールアミン
である特許請求の範囲第１１項記載の方法。１３トリエタノールアミンが式の化合物とト
リエタノールアミンとの比が２：１〜１：20であ
るような量だけ存在する特許請求の範囲第１２項
記載の方法。１４式で表わされる２−ヒドロキシホスホノ酢酸または
その水溶性塩の0.1〜50000ppmよりなる部分水性
表面塗料組成物であつて、且式の化合物と共に
防食剤、殺生物剤、乳化剤および／または顔料の
１種またはそれ以上を併用することを特徴とする
腐食および／またはスケール沈積防止方法。１５ (a)水性システム、(b)２−ヒドロキシホスホ
ノ酢酸またはその水溶性塩の少比率、および選択
により(c)トリエタノールアミンからなることを特
徴とする、それと接触する金属の腐食を防止する
水性システム。