JPH0334160B2 - - Google Patents
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- JPH0334160B2 JPH0334160B2 JP63113230A JP11323088A JPH0334160B2 JP H0334160 B2 JPH0334160 B2 JP H0334160B2 JP 63113230 A JP63113230 A JP 63113230A JP 11323088 A JP11323088 A JP 11323088A JP H0334160 B2 JPH0334160 B2 JP H0334160B2
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- test
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Landscapes
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線消去式等の不揮発性半導体メ
モリに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory such as an ultraviolet erasable type.
従来、消去可能な不揮発性半導体メモリ(以下
EPROMという。)の書込み特性に関する不良モ
ードに、ビツト線は選択されているがワード線が
非選択のメモリセルへの“0”データ誤書込みが
有る。この種の不良モードの選別には、一部のワ
ード線上のメモリセルに実際に“0”データの書
込みを行うことにより、残りのワード線上のメモ
リセルへの誤書込みの有無をテストする方法があ
る。
Traditionally, erasable non-volatile semiconductor memory (hereinafter referred to as
It's called EPROM. ) is a failure mode in which "0" data is erroneously written to a memory cell in which the bit line is selected but the word line is not selected. One way to screen out this type of failure mode is to actually write "0" data to memory cells on some word lines, and then test whether there is any erroneous writing to memory cells on the remaining word lines. be.
しかし、この従来よりの方法には、次のような
幾つかの欠点が有る。)実際に“0”データを
書込むため再び消去しなければならない。)
EPROMの容量が大きく成るとビツト線の数が増
え“0”データ書込みに要する時間が長くなる。
)データを書込んだメモリセルのテストはでき
ない。等である。 However, this conventional method has several drawbacks: ) Must be erased again to actually write "0" data. )
As the capacity of EPROM increases, the number of bit lines increases and the time required to write "0" data increases.
) It is not possible to test memory cells to which data has been written. etc.
本発明の目的は、上記の誤書込みの不良モード
に対し、従来のテスト方法の欠点を改良し、実際
にデータの書込みをせずに、すべてのメモリセル
のテストが可能であるところの不揮発性半導体メ
モリを提供することにある。
The purpose of the present invention is to improve the shortcomings of conventional test methods for the above-mentioned erroneous write failure mode, and to provide a non-volatile method that allows testing of all memory cells without actually writing data. Our goal is to provide semiconductor memory.
本発明の不揮発性半導体メモリは、すべてのワ
ード線を非選択にする第1の回路と、すべてのビ
ツト線を読出し回路及び書込み回路から電気的に
切り離し該ビツト線に書込み電圧を印加する第2
の回路と、外部よりのテスト信号を検出して前記
第1及び第2の回路の動作を制御するテスト信号
検出回路とを含むことから構成される。
The nonvolatile semiconductor memory of the present invention includes a first circuit that deselects all word lines, and a second circuit that electrically disconnects all bit lines from the read circuit and the write circuit and applies a write voltage to the bit lines.
and a test signal detection circuit that detects an external test signal and controls the operations of the first and second circuits.
以下、本発明の実施例について図面を用いて説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例の要部を示す回路図
で、メモリセルの周辺部分を表している。 FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the present invention, and shows the peripheral part of a memory cell.
本実施例は、ワード線8を非選択にする第1の
回路14と、ビツト線12を読出し回路10及び
書込みデータ入力用のNチヤネルトランジスタ
(以下、NMOSTという。)1から電気的に切り
離し、このビツト線12に書込み電圧を印加する
第2の回路15、外部よりのテスト信号13を検
出して第1及び第2の回路14及び15の動作を
制御するテスト信号11を送出するテスト信号検
出回路9とを含むことから構成される。そして第
1回路14はすべてのワード線毎に、第2の回路
15はすべてのビツト線毎に対して付加され、結
果としてすべてのメモリセルに対して付加された
ことになる。 In this embodiment, a first circuit 14 that deselects a word line 8 and a bit line 12 are electrically separated from a read circuit 10 and an N-channel transistor (hereinafter referred to as NMOST) 1 for inputting write data. A second circuit 15 applies a write voltage to this bit line 12, and a test signal detection circuit detects an external test signal 13 and sends out a test signal 11 that controls the operation of the first and second circuits 14 and 15. The circuit 9 includes a circuit 9. The first circuit 14 is added to every word line, and the second circuit 15 is added to every bit line, and as a result, they are added to every memory cell.
第1の回路14は、ドレインがワード線8にソ
ースが接地電位にゲートがテスト信号11にそれ
ぞれ接地されたNMOST4から成つている。 The first circuit 14 consists of an NMOST 4 whose drain is connected to the word line 8, whose source is connected to the ground potential, and whose gate is connected to the test signal 11.
第2の回路15は、ドレインがYデコーダ出力
Yiにソースが接地電位にゲートがテスト信号検
出回路9から出力されるテスト信号11にそれぞ
れ接続されたNMOST2と、入力がテスト信号
11に接続されたバツフア7と、ドレインがビツ
ト線12にソースが書込み電圧端子VPP(書込み
電圧をVPPとする。)にゲートがバツフア7の出
力にそれぞれ接続されたNMOST3から成つて
いる。 The drain of the second circuit 15 is the Y decoder output.
NMOST 2 whose source is connected to the ground potential, gate connected to the test signal 11 output from the test signal detection circuit 9, buffer 7 whose input is connected to the test signal 11, drain connected to the bit line 12, and source connected to the bit line 12. It consists of NMOST3 whose gates are respectively connected to the write voltage terminal VPP (the write voltage is VPP) and the output of the buffer 7.
そして、メモリセル6はNチヤネル型不揮発性
メモリトランジスタからなり、ドレインがビツト
線12にソースは接地電位にゲートはワード線8
にそれぞれ接続され、ビツト線12はゲートがY
デコーダ出力Yiに接続されたビツト線選択用
NMOST5及びゲートが書込み信号Diに接続さ
れた書込みデータ入力用NMOST1を介して書
込み電圧端子VPPに接続され、NMOST5のド
レインには読出し回路10が接続されている。 The memory cell 6 is composed of an N-channel nonvolatile memory transistor, and has a drain connected to the bit line 12, a source connected to the ground potential, and a gate connected to the word line 8.
and the bit line 12 has a gate connected to Y
For selecting bit line connected to decoder output Yi
The NMOST 5 is connected to the write voltage terminal VPP via the write data input NMOST1 whose gate is connected to the write signal Di, and the read circuit 10 is connected to the drain of the NMOST5.
次に、本実施例の動作について説明する。 Next, the operation of this embodiment will be explained.
Aoは通常アドレス信号入力端子であるが、7V
以上の電圧が加わると、テスト信号検出回路9が
動作してハイレベルのテスト信号11を出力し、
NMOST4がオン状態となり、Xデコーダ出力
Xiがローレベルになるのでワード線8が非選択
となる。また、同時にNMOST2もオンするの
で、Yデコーダ出力Yiがローレベルになり
NMOST5がオフする。このため、メモリセル
6は読出し回路10及び書込みデータ入力トラン
ジスタ1から切り離される。テスト信号11はバ
ツフア7にも入力し、バツフア7からは、書込み
電圧VPPに近い電圧が出力され、NMOST3を
オンし、ビツト線12に書込み電圧VPPに近い
電圧が印加される。 Ao is normally an address signal input terminal, but 7V
When the above voltage is applied, the test signal detection circuit 9 operates and outputs a high level test signal 11.
NMOST4 turns on and X decoder output
Since Xi becomes low level, word line 8 becomes unselected. At the same time, NMOST2 is also turned on, so the Y decoder output Yi becomes low level.
NMOST5 turns off. Therefore, memory cell 6 is separated from read circuit 10 and write data input transistor 1. The test signal 11 is also input to the buffer 7, which outputs a voltage close to the write voltage VPP, turns on the NMOST3, and applies a voltage close to the write voltage VPP to the bit line 12.
上記のように、すべてのワード線毎に第1の回
路14が、すべてのビツト線毎に第2の回路15
が付加されているので、すべてのワード線が非選
択され、すべてのビツト線に書込み電圧が印加さ
れる。このとき、すべてのメモリセルがデータ未
書込み状態にあるが、上記の従来技術で説明した
様な不良メモリセルにはデータ“0”が書込まれ
る。 As mentioned above, a first circuit 14 for every word line and a second circuit 15 for every bit line.
is added, all word lines are deselected and write voltages are applied to all bit lines. At this time, all memory cells are in a data unwritten state, but data "0" is written to defective memory cells as described in the above-mentioned prior art.
次にアドレス入力信号端子Aoのレベルが0〜
5Vの電圧に戻ると、テスト信号検出回路9から
は、ローレベルのテスト信号11が出力され、
NMOST2,3,4はオフし、通常の書込み、
読出しが可能になる。そして不良メモリセルが含
まれている場合には、“1”データが読めなくな
つているので不良品が選別される。 Next, the level of address input signal terminal Ao is 0~
When the voltage returns to 5V, the test signal detection circuit 9 outputs a low level test signal 11.
NMOST2, 3, 4 are turned off, normal writing,
Reading becomes possible. If a defective memory cell is included, it is no longer possible to read "1" data, so defective products are selected.
すなわち、本実施例によると、従来のように不
良メモリセルを検出するためにわざわざ“0”デ
ータの書込みをする必要がなく、すべてのメモリ
セルをテストすることが可能となる。 That is, according to this embodiment, there is no need to take the trouble to write "0" data in order to detect defective memory cells as in the prior art, and it is possible to test all memory cells.
なお、以上の実施例においてはトランジスタと
してNチヤネルMOSトランジスタを用いたが、
PチヤネルMOSトランジスタを用いても同様の
効果が得られることはもち論である。 Note that in the above embodiments, an N-channel MOS transistor was used as the transistor, but
It goes without saying that similar effects can be obtained by using a P-channel MOS transistor.
以上、説明したとおり、本発明によれば、すべ
てのワード線を非選択にする第1の回路と、すべ
てのビツト線を読出し回路及び書込み回路から電
気的に切り離しすべてのビツト線に書込み電圧を
印加する第2の回路及び外部よりのテスト信号を
検出するテスト信号検出回路とを有し、このテス
ト信号検出回路がテスト信号を検出すると、前記
第1、第2の回路が動作して、すべてのワード線
を非選択にすると共にすべてのビツト線に書込み
電圧が加わり、不良メモリセルには“0”データ
が書込まれ、“1”データの読出しテストをする
ことにより、不良品を選別することが可能である
ところの不揮発性半導体メモリが得られ、その効
果は大である。
As explained above, according to the present invention, a first circuit that deselects all word lines, and a first circuit that electrically disconnects all bit lines from the read circuit and the write circuit and applies a write voltage to all bit lines. It has a second circuit for applying a test signal and a test signal detection circuit for detecting a test signal from the outside. When this test signal detection circuit detects a test signal, the first and second circuits operate and all The word line is deselected and a write voltage is applied to all bit lines, "0" data is written to the defective memory cell, and a "1" data read test is performed to select defective products. A non-volatile semiconductor memory is obtained in which it is possible to do this, and its effects are significant.
第1図は、本発明の一実施例の要部を示す回路
図である。
1〜5…NチヤネルMOSトランジスタ、6…
メモリセル、7…バツフア、8…ワード線、9…
テスト信号検出回路、10…読出し回路、11…
テスト信号、12…ビツト線、13…テスト信
号、14…第1の回路、15…第2の回路、Ao
…アドレス入力信号端子、VPP…書込み電圧端
子、Xi…Xデコーダ出力、Yi…Yデコーダ出力。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the present invention. 1 to 5...N channel MOS transistor, 6...
Memory cell, 7... Buffer, 8... Word line, 9...
Test signal detection circuit, 10...Readout circuit, 11...
Test signal, 12...Bit line, 13...Test signal, 14...First circuit, 15...Second circuit, Ao
...Address input signal terminal, VPP...Write voltage terminal, Xi...X decoder output, Yi...Y decoder output.
Claims (1)
と、すべてのビツト線を読出回路及び書込み回路
から電気的に切り離し該ビツト線に書込み電圧を
印加する第2の回路と、外部よりのテスト信号を
検出して前記第1及び第2の回路の動作を制御す
るテスト信号を送出するテスト信号検出回路とを
含むことを特徴とする不揮発性半導体メモリ。1 A first circuit that deselects all word lines, a second circuit that electrically disconnects all bit lines from the read circuit and write circuit and applies a write voltage to the bit lines, and an external test. A nonvolatile semiconductor memory comprising: a test signal detection circuit that detects a signal and sends out a test signal for controlling operations of the first and second circuits.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113230A JPS63302500A (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | Nonvolatile semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113230A JPS63302500A (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | Nonvolatile semiconductor memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63302500A JPS63302500A (en) | 1988-12-09 |
| JPH0334160B2 true JPH0334160B2 (en) | 1991-05-21 |
Family
ID=14606862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113230A Granted JPS63302500A (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | Nonvolatile semiconductor memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63302500A (en) |
-
1988
- 1988-05-09 JP JP63113230A patent/JPS63302500A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63302500A (en) | 1988-12-09 |
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