JPH0334613B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に
関する。 近年短波長記録に適する媒体として、高分子成
形物基板上に強磁性金属薄膜を蒸着にて形成した
蒸着テープが登場し注目されている。 この媒体は、以前から原理的に短波長での損失
を少くできる媒体として注目され、実験室規模で
デイジタル記録用として研究されていたものであ
る。そして最近では、一部オーデイオ用途に実用
化され、現在ビデオ用途の開発が各方面で盛んで
ある。 ビデオ用途をねらつた時、需要の大きさに応じ
られる生産技術を確立することが重要であるが、
まだこの分野は歴史も浅く、今後の進歩に期待し
なければならない面が多く残されている。 本発明は、長尺の媒体を得る上で問題となるシ
ワの発生を防止する方法を提供することを目的と
するものである。 現在実用化されている方法は、回転支持体に沿
つて移動する高分子成形物基板に、Co、CoNi等
の強磁性材料を、微量の酸素を介在させて、電子
ビーム蒸着するものである。 ここで用いる基板は、これまで知られている巻
取蒸着分野で用いている基板の表面性に比べて、
平滑でハンドリング性に劣る。 従つてシワが発生し易い難点を有し、大気中巻
取にしても真空中巻取にしても、良くとられるシ
ワ対策は、わん曲したゴムローラーの利用であ
る。 これは、基板の幅方向の中心から外へ向つて発
生する力の成分の利用であり、基板の厚みが10μ
ｍ以下の場合には、必ず用いられているが、10μ
ｍ以上になると、構造的にメカロスが大きいため
余り用いられていないのが現状である。 本発明者は、蒸着長さを長くした場合は、10μ
ｍ以上であつても、わん曲したゴムローラーの利
用は不可欠であり、単にローラーがあればことた
りるものではない現象に幾度かそう遇した。この
場合、完全な規則性はないが、シワの発生は、
蒸着の開始から追つていくと、後になる程頻度が
高くなる傾向をもつ、同じ位置に発生するもの
ではない、わん曲したゴムローラーの基板との
接触角を調整してもほとんどシワはなくせない。
等の特長がある。 本発明は以上の主原因を基板のもつ静電気にあ
るとの仮説のもとに、DCグロー、ACグロー、高
周波グローなどの弱電離気体に基板をさらしたと
ころ、実用範囲内でシワの発生を抑制することが
できることを見出したことにもとづいてなされた
ものである。 以下に図面を用い本発明の説明を行う。 図は本発明の実施例において用いた巻取蒸着装
置の構成を示す。 図に示すように、送り出し軸１より出た高分子
成形物基板２は中間ローラー３を介して、弱電離
気体に片面又は両面がさらされる。４，５は放電
電極を模式的に示す。弱電離気体の領域は、動作
圧力により壁で囲つて、蒸着雰囲気を所定の真空
度に保持できるように工夫すべきなのは当然であ
る。 弱電離気体の条件は、基板の種類、長さなどに
よると同時に、基板の移動速度に応じて、余裕の
ある値に保持する必要がある。 帯電除去された基板は、わん曲したゴムローラ
ー６を介し、回転支持体７の表面に導かれる。そ
こで例えば電子ビーム蒸発源８から発生する蒸気
流の一部を限定するマスク９により入射角規制を
受けた斜方蒸着が行われる。 蒸着された基板は巻き取り軸１０にて巻き取ら
れる。 この装置を用い、幅50cmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムを巻取りながら本発明を実施し
た。実験結果を下の表に示す。

【表】 更に80cm幅のPETで実施した場合、本発明の
効果はより顕著であつた。 また蒸着長さが10000ｍに至つても本発明は有
効であつた。 さらに、他の基板、スパツタリング、イオンプ
レーテイングなだでのCoCrの垂直磁化膜の形成
に適用しても有効であつた。 以上のように、本発明はシワの発生を防止し、
品質のすぐれた磁気記録媒体を容易に得るもので
その工業的有価値性は大である。

【図面の簡単な説明】

図は本発明を実施するために用いた蒸着装置の
要部の構成例を示す図である。 ２……基板、４，５……放電電極、６……わん
曲したゴムローラー、７……回転支持体、８……
蒸発源。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 回転支持体に沿つて移動する高分子成形物基
   板上に蒸着にて磁性層を形成するとともに、上記
   磁性層の形成に際し、上記基板を弱電離気体にさ
   らしたのち、わん曲したローラーを介して、上記
   基板を上記支持体上に導くことを特徴とする磁気
   記録媒体の製造方法。