JPH0334978B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0334978B2 JPH0334978B2 JP56141719A JP14171981A JPH0334978B2 JP H0334978 B2 JPH0334978 B2 JP H0334978B2 JP 56141719 A JP56141719 A JP 56141719A JP 14171981 A JP14171981 A JP 14171981A JP H0334978 B2 JPH0334978 B2 JP H0334978B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- louver
- sub
- main
- particles
- louvers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移動層反応装置に関し、特に粒子を上
方から下方へ移動させる移動層をルーバにより側
方から支持し、該ルーバ間の移動層を横切るよう
にガスを通過させる移動層反応装置に関するもの
である。この種の移動層反応装置は、例えばボイ
ラ等の排ガス中に含まれる亜硫酸ガスを吸着剤移
動層によつて吸着除去するために用いられる。
方から下方へ移動させる移動層をルーバにより側
方から支持し、該ルーバ間の移動層を横切るよう
にガスを通過させる移動層反応装置に関するもの
である。この種の移動層反応装置は、例えばボイ
ラ等の排ガス中に含まれる亜硫酸ガスを吸着剤移
動層によつて吸着除去するために用いられる。
従来、粒子状の吸着剤、触媒あるいはその他の
粒子の充填層にガスを通気し、ガス中の成分と粒
子を接触させ、反応あるいは捕集を行う場合、第
１図に示すようなルーバ１を垂直方向に多数並べ
この一対のルーバ１によつて粒子２を支持した移
動層型の充填層が使われている。排ガス３は、反
応器４内に導入され、ルーバ１の側方から移動層
を通り、粒子と接触反応した後、他方のルーバを
出て反応器４外に排出される。
粒子の充填層にガスを通気し、ガス中の成分と粒
子を接触させ、反応あるいは捕集を行う場合、第
１図に示すようなルーバ１を垂直方向に多数並べ
この一対のルーバ１によつて粒子２を支持した移
動層型の充填層が使われている。排ガス３は、反
応器４内に導入され、ルーバ１の側方から移動層
を通り、粒子と接触反応した後、他方のルーバを
出て反応器４外に排出される。
しかし、このようなルーバ１によつて支持した
移動層では第２図に示すようにルーバ１上に粒子
非移動部分1Aが形成される。そのため、取扱う
ガスが、例えば石炭ボイラの排ガスのように多量
のダストを含んでいる場合には、上記の非移動部
分1Aにダストが次第に蓄積し通風損失を増大さ
せるという欠点がある。また、ガス中の亜硫酸ガ
スを活性炭などの炭素系吸着剤で吸着するような
場合には、非移動部分1Aにある吸着剤は長時間
にわたつて亜硫酸ガスを飽和以上に吸着し、吸着
剤の表面が吸着した亜硫酸ガスより生成した硫酸
で濡れてくるようになり、ルーバ１を腐蝕させる
という問題がある。
移動層では第２図に示すようにルーバ１上に粒子
非移動部分1Aが形成される。そのため、取扱う
ガスが、例えば石炭ボイラの排ガスのように多量
のダストを含んでいる場合には、上記の非移動部
分1Aにダストが次第に蓄積し通風損失を増大さ
せるという欠点がある。また、ガス中の亜硫酸ガ
スを活性炭などの炭素系吸着剤で吸着するような
場合には、非移動部分1Aにある吸着剤は長時間
にわたつて亜硫酸ガスを飽和以上に吸着し、吸着
剤の表面が吸着した亜硫酸ガスより生成した硫酸
で濡れてくるようになり、ルーバ１を腐蝕させる
という問題がある。
本発明の目的は、ルーバ上に粒子が滞留するこ
となく、ルーバ上の粒子を良好に移動させ、ガス
の通風損失を防止することができる移動層反応装
置を提供することにある。
となく、ルーバ上の粒子を良好に移動させ、ガス
の通風損失を防止することができる移動層反応装
置を提供することにある。
本発明は、従来のルーバ１では第２図に示すよ
うに主流の粒子群５が水平方向に及ぼす荷重と非
移動部分1Aの荷重が釣り合うために結果的に非
移動部分1Aにある粒子が主流の粒子群５の中に
流れ込まなくなることを着色粒子の流れにより明
らかにし、この荷重の釣合いを破壊するために、
ルーバ１の内側により傾斜角度の大きいサブルー
バを設け、このサブルーバを介して非移動部分
1Aの粒子を主流の中に効果的に流れ込ませるよ
うにしたものである。
うに主流の粒子群５が水平方向に及ぼす荷重と非
移動部分1Aの荷重が釣り合うために結果的に非
移動部分1Aにある粒子が主流の粒子群５の中に
流れ込まなくなることを着色粒子の流れにより明
らかにし、この荷重の釣合いを破壊するために、
ルーバ１の内側により傾斜角度の大きいサブルー
バを設け、このサブルーバを介して非移動部分
1Aの粒子を主流の中に効果的に流れ込ませるよ
うにしたものである。
本発明は、粒子を上方から下方へ移動させる移
動層をメインルーバとその内側に設けられたサブ
ルーバにより側方から支持し、該ルーバ間の移動
層を横切るようにガスを通過させる移動層反応装
置において、上下方向に垂直に一列に並んだメイ
ンルーバの内側に、同じく上下方向に垂直に並ん
だサブルーバを前記メインルーバの高さ方向の中
間に位置するように配置し、前記メインルーバお
よびサブルーバの水平となす角度が40〜80°で、
かつサブルーバの水平となす角度がメインルーバ
のそれより大きく、前記サブルーバの長さがメイ
ンルーバのそれの2/3〜4/5であることを特徴とす
る。
動層をメインルーバとその内側に設けられたサブ
ルーバにより側方から支持し、該ルーバ間の移動
層を横切るようにガスを通過させる移動層反応装
置において、上下方向に垂直に一列に並んだメイ
ンルーバの内側に、同じく上下方向に垂直に並ん
だサブルーバを前記メインルーバの高さ方向の中
間に位置するように配置し、前記メインルーバお
よびサブルーバの水平となす角度が40〜80°で、
かつサブルーバの水平となす角度がメインルーバ
のそれより大きく、前記サブルーバの長さがメイ
ンルーバのそれの2/3〜4/5であることを特徴とす
る。
本発明において、サブルーバの傾斜角度をメイ
ンルーバより大きくしたのは、粒子の滞留が特に
メインルーバ下部で生じ易いため、サブルーバを
下方に向つてメインルーバにより近接するように
配置し、メインルーバ下部の粒子の荷重を上部よ
り軽減するためである。上記サブルーバの長さＢ
は、メインルーバの2/3〜4/5程度（特に3/4前後）
が好適である。なお前記両ルーバの水平となす角
度は、粒子の安息角より以上、通常は約40〜80°
の範囲が適当である。
ンルーバより大きくしたのは、粒子の滞留が特に
メインルーバ下部で生じ易いため、サブルーバを
下方に向つてメインルーバにより近接するように
配置し、メインルーバ下部の粒子の荷重を上部よ
り軽減するためである。上記サブルーバの長さＢ
は、メインルーバの2/3〜4/5程度（特に3/4前後）
が好適である。なお前記両ルーバの水平となす角
度は、粒子の安息角より以上、通常は約40〜80°
の範囲が適当である。
以下、本発明を図面によりさらに詳細に説明す
る。
る。
第３図は非煙脱硫用の吸着剤充填層に本発明の
反応装置を適用した実施例を示す説明図、第４図
は、そのルーバ部の拡大側面図である。吸着塔20
の中には塔の底部から頂部まで垂直にメインルー
バ６およびサブルーバ７が組になつて配列されて
おり、この組が一定の距離を置いて２列配置さ
れ、この２列のルーバの間に吸着剤８が充填され
ている。さらに吸着塔底部の最下端ルーバには垂
直案内板１４が、さらにその下部には案内板１５
が設けられ、デツドスペースによる吸着剤の滞留
が防止される。なお、整流体１６がホツパ部に設
けられ、流れの円滑化を促進している。ボイラ等
の排ガス９はガス入口10から吸着塔２０に流入
し、ルーバの間隙から吸着剤充填層に入り、もう
一方のルーバの間隙を経てガス出口１１から流出
する。この間にガス中の亜硫酸ガスが吸着除去さ
れる。時間の経過に伴い吸着剤は飽和に達するの
で、吸着塔底部に達した吸着剤は、抜き出し器１
２により一定量ずつ連続的に抜き出され、再生装
置（ここでは図示していない）で再生された後、
ホツパから充填層内へ供給され、循環再使用され
る。
反応装置を適用した実施例を示す説明図、第４図
は、そのルーバ部の拡大側面図である。吸着塔20
の中には塔の底部から頂部まで垂直にメインルー
バ６およびサブルーバ７が組になつて配列されて
おり、この組が一定の距離を置いて２列配置さ
れ、この２列のルーバの間に吸着剤８が充填され
ている。さらに吸着塔底部の最下端ルーバには垂
直案内板１４が、さらにその下部には案内板１５
が設けられ、デツドスペースによる吸着剤の滞留
が防止される。なお、整流体１６がホツパ部に設
けられ、流れの円滑化を促進している。ボイラ等
の排ガス９はガス入口10から吸着塔２０に流入
し、ルーバの間隙から吸着剤充填層に入り、もう
一方のルーバの間隙を経てガス出口１１から流出
する。この間にガス中の亜硫酸ガスが吸着除去さ
れる。時間の経過に伴い吸着剤は飽和に達するの
で、吸着塔底部に達した吸着剤は、抜き出し器１
２により一定量ずつ連続的に抜き出され、再生装
置（ここでは図示していない）で再生された後、
ホツパから充填層内へ供給され、循環再使用され
る。
このルーバシステムの詳細は、第４図に示すよ
うに、上下方向に垂直に一列に並んだメインルー
バ６の内側に、同じく上下方向に垂直に並んだサ
ブルーバ７を前記メインルーバの高さ方向の中間
に位置するように配置し、かつ前記サブルーバの
水平方向となす角度θ2をメインルーバの角度θ1よ
りも大きくしたものである。上記ルーバ各部の寸
法は、メインルーバ６のＡ部が200mm、サブルー
バ７のＢ部が150mm、θ1が60度、θ2が74度、メイ
ンルーバ６の間隙Ｃが200mm、メインルーバ６の
下端とサブルーバ上端の垂直距離Ｄが28.1mm、メ
インルーバ６の下端とサブルーバ７の上端の水平
距離Ｅが０〜10mm、メインルーバ６の下端とサブ
ルーバ７の下端の水平距離Ｆが35.5mmである。こ
のルーバーの間に、粒径５〜10mmの破砕した炭素
系吸着剤を充填して、下方より抜き出し、移動を
行つたところ、メインルーバ上の非移動部分は全
くなく、サブルーバ上にも非移動部分はほとんど
認められなかつた。またサブルーバをメインルー
バと平行に配置した場合と比較しても、吸着剤粒
子のルーバ上の移動がより円滑になることが認め
られた。また第３図に示すように案内板１４、１
５を設けたことにより、この部分のデツドスペー
スがなくなり、塔底部の粒子堆積も防止すること
ができた。
うに、上下方向に垂直に一列に並んだメインルー
バ６の内側に、同じく上下方向に垂直に並んだサ
ブルーバ７を前記メインルーバの高さ方向の中間
に位置するように配置し、かつ前記サブルーバの
水平方向となす角度θ2をメインルーバの角度θ1よ
りも大きくしたものである。上記ルーバ各部の寸
法は、メインルーバ６のＡ部が200mm、サブルー
バ７のＢ部が150mm、θ1が60度、θ2が74度、メイ
ンルーバ６の間隙Ｃが200mm、メインルーバ６の
下端とサブルーバ上端の垂直距離Ｄが28.1mm、メ
インルーバ６の下端とサブルーバ７の上端の水平
距離Ｅが０〜10mm、メインルーバ６の下端とサブ
ルーバ７の下端の水平距離Ｆが35.5mmである。こ
のルーバーの間に、粒径５〜10mmの破砕した炭素
系吸着剤を充填して、下方より抜き出し、移動を
行つたところ、メインルーバ上の非移動部分は全
くなく、サブルーバ上にも非移動部分はほとんど
認められなかつた。またサブルーバをメインルー
バと平行に配置した場合と比較しても、吸着剤粒
子のルーバ上の移動がより円滑になることが認め
られた。また第３図に示すように案内板１４、１
５を設けたことにより、この部分のデツドスペー
スがなくなり、塔底部の粒子堆積も防止すること
ができた。
次に第５図は、本発明の他の実施例を示す吸着
剤充填塔のルーバ部の側面図を示したものである
が、第４図の実施例と異なる点は、サブルーバ７
の傾斜角度θ2を76°として若干下方に移動し、ま
た垂直距離Ｄを30mm、水平距離Ｆを40mmとしたこ
とである。このようなルーバ配置とすることによ
り、メインルーバ上の吸着剤の移動がより円滑に
なり、粒子の滞留は全く見られなくなつた。
剤充填塔のルーバ部の側面図を示したものである
が、第４図の実施例と異なる点は、サブルーバ７
の傾斜角度θ2を76°として若干下方に移動し、ま
た垂直距離Ｄを30mm、水平距離Ｆを40mmとしたこ
とである。このようなルーバ配置とすることによ
り、メインルーバ上の吸着剤の移動がより円滑に
なり、粒子の滞留は全く見られなくなつた。
なお、第６図は、サブルーバの長さＢ、および
メインルーバ６下端とサブルーバ上端の垂直距離
Ｄと充填水平圧との関係を示すが、ルーバ長Ｂが
大きく、また垂直距離Ｄが小さくなる程、充填水
平圧が増加することが分かる。上記実施例では充
填水平圧が約500Kg／m2になるように上記ルーバ
長Ｂおよび垂直距離Ｄが選定された。
メインルーバ６下端とサブルーバ上端の垂直距離
Ｄと充填水平圧との関係を示すが、ルーバ長Ｂが
大きく、また垂直距離Ｄが小さくなる程、充填水
平圧が増加することが分かる。上記実施例では充
填水平圧が約500Kg／m2になるように上記ルーバ
長Ｂおよび垂直距離Ｄが選定された。
以上、本発明によれば、移動層型充填層におい
てメインルーバの上方に水平角度のより大きいサ
ブルーバを配置することにより、ルーバ上の粒子
の非移動部をなくすことができ、特にサブルーバ
を平行に配置した場合よりも粒子の移動をより円
滑化することができる。このため、ルーバ上に排
ガス中のダストが堆積し続けることなく、また、
吸着剤でガス中の亜硫酸ガスを吸着させる場合に
も、吸着剤が飽和以上に亜硫酸ガスを吸着しない
うちに下方へ移動させることができるので、ルー
バの腐食を防止することができる。
てメインルーバの上方に水平角度のより大きいサ
ブルーバを配置することにより、ルーバ上の粒子
の非移動部をなくすことができ、特にサブルーバ
を平行に配置した場合よりも粒子の移動をより円
滑化することができる。このため、ルーバ上に排
ガス中のダストが堆積し続けることなく、また、
吸着剤でガス中の亜硫酸ガスを吸着させる場合に
も、吸着剤が飽和以上に亜硫酸ガスを吸着しない
うちに下方へ移動させることができるので、ルー
バの腐食を防止することができる。
第１図はルーバーを支持体とする粒子状物質の
充填層の従来の構造を示す説明図、第２図は従来
のルーバーを使用した場合の充填層内の粒子の流
れを示す説明図、第３図は本発明の一実施例を示
す説明図、第４図は第３図の実施例におけるルー
バ部のひとつの実施例を示す説明図、第５図はル
ーバ部の他の実施例を示す説明図である。第６図
は、本発明の実施例における充填水平とルーバ長
等との関係を示す図である。 ６……メインルーバ、７……サブルーバ、８…
…吸着剤、９……排ガス、２０……吸着塔。
充填層の従来の構造を示す説明図、第２図は従来
のルーバーを使用した場合の充填層内の粒子の流
れを示す説明図、第３図は本発明の一実施例を示
す説明図、第４図は第３図の実施例におけるルー
バ部のひとつの実施例を示す説明図、第５図はル
ーバ部の他の実施例を示す説明図である。第６図
は、本発明の実施例における充填水平とルーバ長
等との関係を示す図である。 ６……メインルーバ、７……サブルーバ、８…
…吸着剤、９……排ガス、２０……吸着塔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 粒子を上方から下方へ移動させる移動層をメ
インルーバとその内側に設けられたサブルーバに
より側方から支持し、該ルーバ間の移動層を横切
るようにガスを通過させる移動層反応装置におい
て、上下方向に垂直に一列に並んだメインルーバ
の内側に、同じく上下方向に垂直に並んだサブル
ーバを前記メインルーバの高さ方向の中間に位置
するように配置し、前記メインルーバおよびサブ
ルーバの水平となす角度が40〜80°で、かつサブ
ルーバの水平となす角度がメインルーバのそれよ
りも大きく、前記サブルーバの長さがメインルー
バのそれの2/3〜4/5であることを特徴とする移動
層反応装置。 ２ 特許請求の範囲第１項において、前記垂直に
配置されたメインルーバ下端に案内板を設けたこ
とを特徴とする移動層反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171981A JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171981A JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5843231A JPS5843231A (ja) | 1983-03-12 |
| JPH0334978B2 true JPH0334978B2 (ja) | 1991-05-24 |
Family
ID=15298602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14171981A Granted JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843231A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620509B2 (ja) * | 1988-07-27 | 1994-03-23 | 住友重機械工業株式会社 | 乾式脱硫又は脱硝装置 |
| JP4653423B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2011-03-16 | 新日本製鐵株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JP4563129B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2010-10-13 | 株式会社タクマ | ガス化システム |
| US20080152551A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Senetar John J | Screenless moving bed reactor |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51143738U (ja) * | 1975-05-12 | 1976-11-18 |
-
1981
- 1981-09-10 JP JP14171981A patent/JPS5843231A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5843231A (ja) | 1983-03-12 |
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