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JPH0335317B2 - - Google Patents
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JPH0335317B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0335317B2
JPH0335317B2 JP55171490A JP17149080A JPH0335317B2 JP H0335317 B2 JPH0335317 B2 JP H0335317B2 JP 55171490 A JP55171490 A JP 55171490A JP 17149080 A JP17149080 A JP 17149080A JP H0335317 B2 JPH0335317 B2 JP H0335317B2
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JP
Japan
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formula
hydrogen
compound
lower alkyl
benzazolyl
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JP55171490A
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Shuraibaa Uerunaa
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/52Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D263/62Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems having two or more ring systems containing condensed 1,3-oxazole rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/20Two benzimidazolyl-2 radicals linked together directly or via a hydrocarbon or substituted hydrocarbon radical

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はジベンズアゾリル化合物の製造方法に
関する。
有機溶媒と触媒との存在において有機ジカルボ
ン酸とアミノベンゼンとの縮合によりジベンズア
ゾリル化合物を製造する方法は文献から公知であ
る。たとえば、1−アミノ−2−ヒドロキシベン
ゼンと酒石酸またはリンゴ酸とから、キシレンま
たはクロロベンゼンの如き高沸点のベンゼン系ま
たは塩素化ベンゼン誘導体中においてα,β−ジ
−〔アリールオキサゾール−(2)−イル)を製造す
ることは米国特許第2842545号と第2995605号およ
び英国特許第835894号から公知である。硼酸の存
在下、かつ溶媒の不存在下においてフラン−2,
5−ジカルボン酸と1,2−ジアミノベンゼンと
の縮合により2,5−ジ−〔ベンズイミダゾール
(2′)−イル〕−フランを製造することは米国特許
第3103518号に開示されており、該特許において
は高沸点溶媒の存在は良くない収率をもたらすこ
とが述べられている。同様に英国特許第950890号
により、2,5−ジ〔ベンズイミダゾール−(2′)
−イル〕フランが溶媒としての高沸点脂肪族の遊
離のヒドロキシ化合物またはそのエステル化物特
にグリセロールと縮合剤としての硼酸との存在下
におけるフラン−2,5−ジカルボン酸と1,2
−ジアミノベンゼンとの縮合によつて得られる。
塩化亜鉛または硼酸の如き触媒の存在下、かつ任
意には高沸点の極性溶媒中において、Q−ヒドロ
キシアミノベンゼンとジカルボン酸とからビス−
(ベンズオキサゾリル)チオフエンを製造するこ
とが米国特許第3135762号に開示されている。し
かし、これらのすべての方法は、不十分な収率で
しか最終製品を得られないという欠点を有してい
る。
本発明は、より良い収率で、かつより短い反応
時間でジベンズアゾリル化合物を得ることを可能
にする方法を提供することを目的とする。
驚くべきことに、有機ジカルボン酸とアミノベ
ンゼンとの縮合を特定の溶媒中で行なうことによ
り良好な収率で、かつより短い反応時間でジベン
ズアゾリル化合物を得ることができることを見出
した。
溶媒および触媒の存在下、高温において、 式 HOOC−B (2) (式中、Bは5−カルボキシ−フル−(2)−イル
基、HOOCC−CHOH−CH2−、ベンズフル−(2)
−イル基又は5−カルボキシ−チオフエン−(2)−
イル基である) の有機カルボン酸と、式 及び (式中、R1は水素、低級アルキル又は低級ア
ルコキシ、R2は水素、低級アルキル又は低級ア
ルコキシである)のアミノベンゼンとの縮合によ
り、式 〔式中、Xは酸素又はR3Nであり、このR3
は水素、低級アルキル又はベンジルであり、Aは
2,5−フリレン、2,5−チオフエニレン、ビ
ニレン又は直接結合であり、Qは (式中、X、R1及びR2は上記定義の通りであ
る)であり、Aが直接結合のときは、Qは (式中、R4は水素、低級アルキル又は低級ア
ルコキシである)である〕のベンズアゾリル化合
物を製造する方法において、溶媒としてジフエニ
ルエーテルとジフエニルとの混合物を使用するこ
とを包含する。
溶媒としては、73.5容量パーセントのジフエニ
ルエーテルと26.5容量パーセントのジフエニルと
の共融混合物を使用するのが好適である。
本明細書において置換基を限定するのに用いた
“低級”という語は、これらの置換基が1箇乃至
4箇の炭素原子を有することを意味する。
本発明の方法に適するカルボン酸の例は、フラ
ン−2,5−ジカルボン酸、チオフエン−2,5
−ジカルボン酸、リンゴ酸およびベンゾフラン−
2−カルボン酸である。
本発明の方法に適するアミノベンゼンの例は4
−メチル−1,2−ジアミノベンゼン、4−メト
キシ−1,2−ジアミノベンゼン、4.5−ジメチ
ル−1,2−ジアミノベンゼン、4−イソプロピ
ル−1,2−ジアミノベンゼン、1−アミノ−2
−(メチルアミノ)ベンゼン、Q−フエニレンジ
アミン、1−アミノ−2−(エチルアミノ)ベン
ゼン、1−アミノ−2−(ベンジルアミノ)ベン
ゼン、4−第3ブチル−1,2−ジアミノベンゼ
ン、2−アミノフエノール、2−アミノ−4−メ
チルフエノール、2−アミノ−5−メチルフエノ
ール、2−アミノ−4,6−ジメチルフエノー
ル、2−アミノ−4−第3ブチルフエノール、2
−アミノ−4−メトキシフエノール、及び2−ア
ミノ−4−メトキシフエノールの如く、o−アミ
ノフエノールのみでなく、1箇のアミノ基が第1
級であり、他のアミノ基がせいぜい第2級までで
あるQ−ジアミノベンゼンである。
適当な触媒の例は塩化亜鉛、ポリリン酸、p−
トルエンスルホン酸であり、好適には硼酸であ
る。
本発明の方法は、次式のベンズアゾリル化合物 (式中、R′1は水素または低級アルキル、R′2
水素又は低級アルキル、R3は水素又は低級アル
キルまたはベンジル、A′は2,5−フリレン基
またはビニレン基である)の、式 HOOC−B′−COOH (7) (式中、B′は2,5−フリレン基または−CH2
−CHOH−基である)のジカルボン酸と式 (式中、R′1,R′2およびR3は上記定義の通りで
ある)のアミノベンゼンとの縮合による製造、お
よび次式のベンズアゾリル化合物 (式中、R′1は水素又は低級アルキル、R′2は水
素又は低級アルキル、A″は2,5−チオフエニ
レン基またはビニレン基である)の、式 HOOCC−B′1−COOH (14) (式中、B′1は2,5−チオフエニレン基また
は−CH2−CHOH−基である)のジカルボン酸
と式 (式中、R′1とR′2とは上記定義の通りである)
のアミノベンゼンとの縮合による製造に適してい
る。
本発明の方法は、次式のベンズアゾリル化合物 (式中、R″1は水素又はメチル、R′3は水素、メ
チルまたはベンジル)の、2,5−フラン−ジカ
ルボン酸と式 (式中、R″1とR′3とは上記定義の通りである)
のアミノベンゼンとの縮合による製造、および次
式のベンズアゾリル化合物 (式中、R1は水素又は低級アルキルである)
の、2,5−チオフエンジカルボン酸と式 (式中、R1は上記定義の通りである)のア
ミノベンゼンとの縮合による製造に特に重要であ
る。
本発明の方法は、次式のベンズアゾリル化合物 (式中、R″3は水素またはメチルである)の、
2,5−フランジカルボン酸と式 (式中、R″3は上記の意味を有する)のアミノ
ベンゼンとの縮合による製造; 式 (式中、R〓1は水素または第3ブチルである)
の、2,5−チオフエンジカルボン酸と式 (式中、R〓1は上記の意味を有する)のアミノ
ベンゼンとの縮合による製造; (式中、RV 1は水素またはメチルである)の、 式 HOOC−CH2−CHOH−COOH (21) のリンゴ酸と式 (式中、RV 1は上記の意味を有する)のアミノ
ベンゼンとの縮合による製造; 式 (式中、R〓1は水素または低級アルキル、R′3
は水素、メチルまたはベンジル、R4は水素、低
級アルキル又は低級アルコキシである)の、式 のカルボン酸(式中、R4は上記の意味を有する)
と式 (式中、R〓1とR′3とは上記の意味を有する)
のアミノベンゼンとの縮合による製造; および式 (式中R3はメチルまたはベンジル)の、6
−メトキシ−ベンゾフラン−2−カルボン酸と式 (式中、R3は上記の意味を有する)のアミ
ノベンゼンとの縮合による製造に特に好適であ
る。
本発明の方法は対称なベンズアゾリル化合物の
製造のみでなく、非対称なベンズアゾリル化合物
の製造にも適し、これらの化合物を式(2)の有機カ
ルボン酸と式(4)および(5)の2つの異なるアミノベ
ンゼンとの縮合によつて得ることができる。カル
ボン酸はアミノベンゼンと1:2のモル比で反応
して対称なベンズアゾリル化合物を製造し、1:
1:1のモル比で反応して非対称な化合物を製造
し、1:1のモル比で反応して、たとえば式
(23)のベンズゾフラン−ベンズアゾールを製造
する。
式(2)の有機カルボン酸と式(4)および(5)のアミノ
ベンゼンとの縮合を、130乃至250℃の温度、空気
の排除、または窒素雰囲気、かつたとえば25乃至
800ミリバールの如き減圧下において行なう。縮
合には、カルボン酸はそのまま、またはたとえば
酸ハロゲン化物の如き適当な官能性誘導体の形で
使用可能である。
本発明の方法によつて得られるベンズアゾール
化合物は、各種有機物用の公知の螢光増白剤であ
る。
以下の実施例により、本発明を具体的に説明す
るが、ここに述べることに限定されるものではな
い。パーセントは特に断らない限り重量パーセン
トである。
実施例 1 反応容器に15分かけて2−アミノ−4−第3ブ
チルフエノール(100%)を255.1gと、硼酸を
8.7gと、チオフエン−2.5−ジカルボン酸(100
%)を129.1gと73.5容量パーセントのジフエニ
ルエーテルと26.5容量パーセントのジフエニルと
の共融混合物を455mlと入れる。装置を排気し、
真空を窒素で置き換える(15分間)。撹拌しなが
ら1時間かけて反応混合物を190−235℃に加熱
し、同時に水を留去する。30mlの水が留去するや
いなや、装置を800ミリバールに減圧し、さらに
45分間この圧力条件下で縮合を続ける。次に真空
度を上げて400ミリバールとし、反応混合物を230
−235℃に4時間保つ。ジフエニル/ジフエニル
エーテルの共融混合物の300mlを減圧下で留去し
て反応混合物を濃縮し、そこで140−150℃に冷却
する。次に減圧を窒素で置き換え(この間45分)、
生成物が晶出するやいなや、560mlのメタノール
を15分かけて徐々に加える。反応混合物を30分間
還流し、30分間で冷却し、晶出した沈殿を吸引
過し、500mlのメタノールで洗浄し、さらに300ml
のイオン交換水で洗浄し(この間15分)、真空中
100℃にて乾燥して、式 の化合物315g(理論収率の97%)を得た。共融
混合物からの再結晶品は199−200℃の融点を有し
ている。
実施例 2 255.2gの2−アミノ−4−第3ブチルフエノ
ールの代りに、168.6gの2−アミノフエノール
を用いて実施例1の操作を繰返した。融点216−
217℃の式 の化合物232g(理論収率の97%)を得た。
実施例 3 反応容器に2−アミノ−4−メチルフエノール
を123.1gと、リンゴ酸を67.7gと、ジフエニル
エーテルを367.5gとジフエニルを132.5gと入れ
る。反応容器を90ミリバールに排気し、反応混合
物を135℃に加熱し、この温度に3時間保持する。
真空を窒素で置換し、硼酸を3g加える。反応容
器を再び排気し、混合物を155℃に加熱する。こ
の温度において50ミリバールの圧力下、13時間バ
ツチを縮合する。次に反応混合物を濃縮し、冷却
する。晶出生成物に500mlのメタノールを加えて
混合物を30分間還流し、次に20℃に冷却し、この
温度で1時間撹拌する。沈殿を吸引過し、100
mlずつのメタノールで4回洗浄し、次に400mlの
イオン交換水で洗浄し、式 の化合物127g(理論収率の86%)を得た。キシ
レンからの再結晶品は183−184℃の融点を有して
いる。
実施例 4 チオフエン−2,5−ジカルボン酸の代りに
117gのフラン−2.5−ジカルボン酸と、2−アミ
ノ−第3ブチル−フエノールの代りに166.5gの
フエニレンジアミンまたは188.5gのN−メチル
フエニレンジアミンとを用いて実施例1の操作を
繰返した。得られた生成物は、それぞれ、融点
310℃の式 の化合物、または融点272℃の式 の化合物である。
実施例 5 反応容器に6−メトキシ−ベンゾフラン−2−
カルボン酸を96.1gと、N−ベンジル−O−フエ
ニレンジアミンを99.2gと、硼酸を5gと、ジフ
エニル/ジフエニルエーテルの共融混合物を400
mlと入れる。この懸濁物を窒素雰囲気中、50乃至
150ミリバールで170−180℃に加熱し、この温度
範囲に6時間保持する。次に反応溶液を濃縮し、
その後、生成物が晶出し融点142℃の式 の化合物147gを得た。
比較例 反応容器に15分かけて2−アミノ−4−第3ブ
チルフエノール(100%)を255.1gと、硼酸を
8.7gと、チオフエン−2,5−ジカルボン酸
(100%)を129.1gと1,2,4−トリクロロベ
ンゼンを300mlと入れる。装置を排気し、真空を
窒素で置き換える(15分間)。撹拌しながら窒素
雰囲気下で反応混合物を45分間で160℃に加熱す
る。温度を5時間かけて段階的に160℃から220℃
に上げる。撹拌を220℃で12時間続ける。水が分
離する。反応が完了したら、250mlの1,2,4
−トリクロロベンゼンを減圧下で留去し、45分間
で140〜150℃に冷却する。生成物が晶出するやい
なや、減圧を窒素で換き換え、500mlのメタノー
ルを15分かけて徐々に加える。反応混合物を30分
間還流し、30分間冷却し、晶出した沈殿を吸引
過し、500mlのメタノールで洗浄し、さらに400ml
のイオン交換水で洗浄し(この間15分)、真空中
100℃にて乾燥して、式 融点199〜200℃の化合物296g(理論収率の91%)
を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 溶媒と触媒との存在において、式 HOOC−B (式中、Bは5−カルボキシ−フル−(2)−イル
    基、HOOC−CHOH−CH2−、ベンズフル−(2)
    −イル基又は5−カルボキシ−チオフエン−(2)−
    イル基である)の有機カルボン酸と、式 及び (式中、R1は水素、低級アルキル又は低級ア
    ルコキシ、R2は水素、低級アルキル又は低級ア
    ルコキシである)のアミノベンゼンとの縮合によ
    り、式 〔式中、Xは酸素又はR3Nであり、このR3
    は水素、低級アルキル又はベンジルであり、Aは
    2,5−フリレン、2,5−チオフエニレン、ビ
    ニレン又は直接結合であり、Qは (式中、X、R1及びR2は上記定義の通りであ
    る)であり、Aが直接結合のときは、Qは (式中、R4は水素、低級アルキル又は低級ア
    ルコキシである)である〕のベンズアゾリル化合
    物を製造する方法において、溶媒としてジフエニ
    ルエーテルとジフエニルとの混合物を使用するこ
    とを特徴とする(1)式のベンズアゾリル化合物を製
    造する方法。 2 縮合を減圧下において行なう特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 3 式 HOOC−B′−COOH (式中B′は2,5−フリレン基又は−CH2
    CHOH−基である)のジカルボン酸と、式 (式中、R′1は水素又は低級アルキル、R′2は水
    素又は低級アルキル、R3は水素、低級アルキル
    又はベンジルである)のアミノベンゼンの縮合を
    含む式 (式中、A′は2,5−フリレン基又はビニレ
    ン基であり、R′1、R′2及びR3は上記定義の通りで
    あり)のベンズアゾリル化合物を製造する特許請
    求の範囲第2項記載の方法。 4 2,5−フランジカルボン酸と式 (式中、R″1は水素又はメチル、R′3は水素、メ
    チル又はベンジルである)のアミノベンゼンとの
    縮合を含む式 (式中、R″1とR′3は上記定義の通りである)の
    ベンズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲
    第3項記載の方法。 5 2,5−フランジカルボン酸と式 (式中、R″3は水素又はメチルである)のアミ
    ノベンゼンとの縮合を含む式 (式中、R″3は上記定義の通りである)のベン
    ズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲第4
    項記載の方法。 6 式 HOOC−B″−COOH (式中、B″は2,5−チオフエニレン基又は
    −CH2−CHOH−基である)のジカルボン酸と
    (式中、R′1は水素、低級アルキル、R′2は水素
    又は低級アルキルである)のアミノベンゼンとの
    縮合を含む式 (式中、R′1とR′2とは上記定義の通りであり、
    A″は2,5−チオフエニレン基又はビニレン基
    である)のベンズアゾリル化合物を製造する特許
    請求の範囲第2項記載の方法。 7 2,5−チオフエンジカルボン酸と式 (式中、R1は水素又は低級アルキルである)
    のアミノベンゼンとの縮合を含む式 (式中、R1は上記定義の通りである)のベ
    ンズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲第
    2項記載の方法。 8 2,5−チオフエンジカルボン酸と式 (式中、R〓1は水素又は第3ブチルである)の
    アミノベンゼンとの縮合を含む式 (式中、R〓1は上記定義の通りである)のベン
    ズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲第7
    項記載の方法。 9 式 HOOC−CH2−CHOH−COOH のリンゴ酸と式 (式中、RV 1は水素又はメチル)のアミノベン
    ゼンとの縮合を含む式 (式中、RV 1は上記定義の通りである)のベン
    ズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲第6
    項記載の方法。 10 式 (式中、R4は水素、低級アルキル又は低級ア
    ルコキシである)のカルボン酸と式 (式中、R〓1は水素又は低級アルキル、R′3
    水素、メチル又はベンジルである)のアミノベン
    ゼンとの縮合を含む式 (式中、R4、R〓1及びR′3は上記定義の通りで
    ある)のベンズアゾリル化合物を製造する特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 11 6−メトキシベンゾフラン−2−カルボン
    酸と式 (式中、R3はメチル又はベンジルである)
    のアミノベンゼンとの縮合を含む式 (式中、R3は上記定義の通りである)のベ
    ンズアゾリル化合物を製造する特許請求の範囲第
    10項記載の方法。
JP17149080A 1979-12-06 1980-12-06 Manufacture of dibenzazolyl compound Granted JPS5692278A (en)

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