JPH0336250B2 - - Google Patents
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- JPH0336250B2 JPH0336250B2 JP55187653A JP18765380A JPH0336250B2 JP H0336250 B2 JPH0336250 B2 JP H0336250B2 JP 55187653 A JP55187653 A JP 55187653A JP 18765380 A JP18765380 A JP 18765380A JP H0336250 B2 JPH0336250 B2 JP H0336250B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal oxide
- oxide film
- ink
- weight
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
Landscapes
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、リフトオフ法による金属酸化物被膜
の形成法に関し、さらに詳しくいえば、アルコー
ル系溶剤に不溶性重合体を含有するペースト状イ
ンキを用いて基体上にスクリーン印刷を施し、そ
の上に主溶剤としてアルコール系溶剤を含有する
金属酸化物被膜形成剤を塗布したのち、熱処理し
て基体上に金属酸化物被膜の鮮明なパターンを形
成させる効果的な方法を提供するものである。
の形成法に関し、さらに詳しくいえば、アルコー
ル系溶剤に不溶性重合体を含有するペースト状イ
ンキを用いて基体上にスクリーン印刷を施し、そ
の上に主溶剤としてアルコール系溶剤を含有する
金属酸化物被膜形成剤を塗布したのち、熱処理し
て基体上に金属酸化物被膜の鮮明なパターンを形
成させる効果的な方法を提供するものである。
（従来の技術）
従来から、ガラス、セラミツクス、金属板等の
基体上に各種金属の酸化物被膜を形成させたもの
が使用され、種々の用途に供されてきた。たとえ
ば下記のとおりである。
基体上に各種金属の酸化物被膜を形成させたもの
が使用され、種々の用途に供されてきた。たとえ
ば下記のとおりである。
(1) 透明導電膜としての酸化インジウム
（In2O3）、酸化スズ（SnO2）、 (2) 液晶表示セルの透明電極用絶縁膜、または配
向膜としての酸化シリコン（SiO2）、酸化チタ
ン（TiO2）、酸化アルミニウム（Al2O3）、酸化
セリウム（CeO2）、酸化ジルコニウム
（ZrO2）、酸化タンタル（Ta2O5）、 (3) エレクトロクロミツク表示体としての酸化タ
ングステン（WO3）、酸化モリブデン（MoO3） (4) 湿度センサーとしての酸化チタン−酸化スズ
（TiOx−SnOx） (5) ガスセンサーとしての酸化亜鉛（ZnO）、酸
化スズ（SnO2）、酸化チタン（TiO2）、酸化ジ
ルコニウム（ZrO2）、酸化鉄（Fe2O3）など。
（In2O3）、酸化スズ（SnO2）、 (2) 液晶表示セルの透明電極用絶縁膜、または配
向膜としての酸化シリコン（SiO2）、酸化チタ
ン（TiO2）、酸化アルミニウム（Al2O3）、酸化
セリウム（CeO2）、酸化ジルコニウム
（ZrO2）、酸化タンタル（Ta2O5）、 (3) エレクトロクロミツク表示体としての酸化タ
ングステン（WO3）、酸化モリブデン（MoO3） (4) 湿度センサーとしての酸化チタン−酸化スズ
（TiOx−SnOx） (5) ガスセンサーとしての酸化亜鉛（ZnO）、酸
化スズ（SnO2）、酸化チタン（TiO2）、酸化ジ
ルコニウム（ZrO2）、酸化鉄（Fe2O3）など。
これらの金属酸化物被膜をパターン化する方法
としては、浸漬法、真空蒸着法、CVD
（Chemical Vapor Deposition）法、またはスパ
ツタリング法によつて、まず基体全面に金属酸化
物被膜を被着しておき、不必要部分のみをホトエ
ツチング法によつて除去する方法が一般的に用い
られる。
としては、浸漬法、真空蒸着法、CVD
（Chemical Vapor Deposition）法、またはスパ
ツタリング法によつて、まず基体全面に金属酸化
物被膜を被着しておき、不必要部分のみをホトエ
ツチング法によつて除去する方法が一般的に用い
られる。
しかしながら、これらの方法は金属酸化物被膜
上へのホトレジストの塗布、選択的部分露光、現
像、エツチングと工程数が多く、適正な工程管理
が難かしく、生産コストが高くなるなどの欠点が
ある。
上へのホトレジストの塗布、選択的部分露光、現
像、エツチングと工程数が多く、適正な工程管理
が難かしく、生産コストが高くなるなどの欠点が
ある。
また、ホトエツチング以外の方法としては、ま
ず基板上にステンレス板上に打ち抜かれパターニ
ングされたマスクを置き、その打ち抜かれた部分
にのみ、真空蒸着法またはCVD法により金属酸
化物被膜を形成させる方法がある（特開昭54−
163055号）。この方法においてはマスクが少しで
も反つたりすると精度の高いパターニングは不可
能になる。
ず基板上にステンレス板上に打ち抜かれパターニ
ングされたマスクを置き、その打ち抜かれた部分
にのみ、真空蒸着法またはCVD法により金属酸
化物被膜を形成させる方法がある（特開昭54−
163055号）。この方法においてはマスクが少しで
も反つたりすると精度の高いパターニングは不可
能になる。
また他の方法として基体上にレジストパターン
を形成し、金属酸化物被膜を全面に塗り高温中で
金属酸化物被膜を硬化させるとともにレジスト上
の金属酸化物被膜に亀裂を発生させ、次にはく離
液で処理することにより、その亀裂からはく離液
が滲透してレジストと該レジスト上の金属酸化物
被膜をはく離除去させる方法がある（特開昭53−
116782号）が、レジストのパターニングに手間が
かかり、またはく離除去が難しいなどの問題があ
る。
を形成し、金属酸化物被膜を全面に塗り高温中で
金属酸化物被膜を硬化させるとともにレジスト上
の金属酸化物被膜に亀裂を発生させ、次にはく離
液で処理することにより、その亀裂からはく離液
が滲透してレジストと該レジスト上の金属酸化物
被膜をはく離除去させる方法がある（特開昭53−
116782号）が、レジストのパターニングに手間が
かかり、またはく離除去が難しいなどの問題があ
る。
また他の方法として基板上に形成たれた金属酸
化物被膜上に、スクリーン印刷法により、レジス
トインキを施し、インキ部をマスクとして金属酸
化物被膜をエツチングする方法もあるが、この方
法は、レジストインキおよび金属酸化物被膜の耐
薬品性を考慮した場合にはかなりの制約を受け、
限られた金属酸化物被膜しか使用できない。
化物被膜上に、スクリーン印刷法により、レジス
トインキを施し、インキ部をマスクとして金属酸
化物被膜をエツチングする方法もあるが、この方
法は、レジストインキおよび金属酸化物被膜の耐
薬品性を考慮した場合にはかなりの制約を受け、
限られた金属酸化物被膜しか使用できない。
このように、金属酸化物被膜の形成方法におい
ては、現在なお種々の困難があり被膜の形成が容
易で、処理工程の少ない効果的な方法が強く要望
されている。
ては、現在なお種々の困難があり被膜の形成が容
易で、処理工程の少ない効果的な方法が強く要望
されている。
（発明の目的）
本発明者らは、処理に要する時間が短かく、し
かも大量に、容易に、汎用性のある金属酸化物被
膜のパターンを形成する効果的な方法を開発する
べく鋭意研究した結果、本発明を完成したもので
ある。
かも大量に、容易に、汎用性のある金属酸化物被
膜のパターンを形成する効果的な方法を開発する
べく鋭意研究した結果、本発明を完成したもので
ある。
（発明の構成）
本発明は、飽和ポリエステル樹脂、環化ゴム、
アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
の単独重合体、アクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルの共重合体から選ばれた１種以上
のアルコール系溶剤に不溶性の重合体を主成分と
するペースト状インキを用い、ガラス、セラミツ
クス、金属等の基体上に所望のパターンに応じた
スクリーン印刷を施し、約100〜300℃の温度で該
インキを乾燥したのち、基体上の全面にアルコー
ル類を主溶媒とする金属酸化物被膜形成剤を塗布
し、約100〜300℃の温度で熱処理し、次いで有機
溶剤を用いて上記のペースト状インキ印刷部を溶
解除去するとともに該インキ印刷部上の金属酸化
物被膜形成剤をも除去し、さらに150℃以上の温
度で焼成して、基体上の非印刷部に金属酸化物の
被膜を形成させることを特徴とする金属酸化物被
膜のパターン形成法である。
アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
の単独重合体、アクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステルの共重合体から選ばれた１種以上
のアルコール系溶剤に不溶性の重合体を主成分と
するペースト状インキを用い、ガラス、セラミツ
クス、金属等の基体上に所望のパターンに応じた
スクリーン印刷を施し、約100〜300℃の温度で該
インキを乾燥したのち、基体上の全面にアルコー
ル類を主溶媒とする金属酸化物被膜形成剤を塗布
し、約100〜300℃の温度で熱処理し、次いで有機
溶剤を用いて上記のペースト状インキ印刷部を溶
解除去するとともに該インキ印刷部上の金属酸化
物被膜形成剤をも除去し、さらに150℃以上の温
度で焼成して、基体上の非印刷部に金属酸化物の
被膜を形成させることを特徴とする金属酸化物被
膜のパターン形成法である。
（金属酸化物被膜形成剤）
本発明において使用する金属酸化物被膜形成剤
は、次の諸条件を満たすものでなければならな
い。
は、次の諸条件を満たすものでなければならな
い。
(1) 金属酸化物被膜形成剤を塗布した被膜を約
100〜300℃程度の温度で熱処理したさい、ハロ
ゲン化炭化水素系、脂肪族炭化水素系、エステ
ル系、ケトン系、多価アルコールまたはその誘
導体のいずれかの溶剤に不溶性となるもの。
100〜300℃程度の温度で熱処理したさい、ハロ
ゲン化炭化水素系、脂肪族炭化水素系、エステ
ル系、ケトン系、多価アルコールまたはその誘
導体のいずれかの溶剤に不溶性となるもの。
(2) 金属酸化物被膜形成剤を塗布した被膜が150
℃以上の温度で焼成することにより強固な金属
酸化物被膜を形成するもの。
℃以上の温度で焼成することにより強固な金属
酸化物被膜を形成するもの。
(3) 溶剤としてアルコール系溶剤の単独、もしく
はアルコール系溶剤を70重量％以上含有したエ
ステル系、ケトン系、または脂肪族炭化水素系
溶剤からなる混合溶剤が使用できるもの。
はアルコール系溶剤を70重量％以上含有したエ
ステル系、ケトン系、または脂肪族炭化水素系
溶剤からなる混合溶剤が使用できるもの。
これらの条件を満す金属酸化物被膜形成剤とし
ては、例えば下記のようなものがある。
ては、例えば下記のようなものがある。
(1) 酸化シリコンの場合には、テトラアルコキシ
シラン100重量部、水50重量部およびエチルア
ルコール100重量部を塩酸の存在下で加水分解
して得られる反応混合物を塗布しやすいように
アルコールで希釈したもの（特開昭51−42092
号公報）、また他の方法としては、アルコキシ
シラン100重量部と低級カルボン酸120重量部と
エチルアルコール100重量部とを有機酸８重量
部の存在下で反応させて得られる反応混合物を
塗布しやすいようにアルコールで希釈したもの
（特開昭55−34258号公報）、 (2) 酸化チタンの場合には、チタンアルコラート
100重量部、低級カルボン酸40重量部およびエ
チルアルコール260重量部を反応して得られる
もの、 (3) 酸化アルミニウムの場合には、アルミニウム
アルコラート100重量部をエチルアルコール180
重量部および無機酸40重量部の混合液に溶解
し、脂肪酸の無水物60重量部を加えて反応さ
せ、塗布しやすいようにアルコールで希釈した
もの（特願昭55−21382号明細書）、 (4) 酸化セリウムの場合には、硝酸第１セリウム
20重量部、メチルアルコール200重量部、エチ
ルアルコール100重量部、酢酸メチルエステル
20重量部、エチレングリコールモノエチルエー
テル100重量部、ブチラール樹脂（平均重合度
300）40重量部を均一に溶解したもの、 (5) 酸化ジルコニウムの場合には、ジルコニウム
エチラート271.3重量部、エチルアルコール450
重量部および氷酢酸120重量部を混合して反応
させた反応液にエチルアルコールを200重量部
添加してなるもの、 (6) 酸化タンタルの場合には、タンタルエトキシ
ド406重量部にエチルアルコール368重量部と氷
酢酸120重量部および五酸化リン1.4重量部を混
合反応させた混合液からなるもの、 (7) 酸化亜鉛の場合には、ジンクエチラート
155.4重量部をエチルアルコール430重量部と濃
塩酸70重量部の混合液に溶解し、氷酢酸120重
量部を加えて反応させた反応液からなるもの、 (8) 酸化鉄の場合には、硝酸第二鉄100重量部、
アセチルアセトン100重量部、メチルアルコー
ル200重量部、およびエチレングリコールモノ
エチルエーテル500重量部に溶解させた混合液
からなるもの、 (9) 酸化スズの場合には、エチルアルコール100
重量部、ジメチルジ塩化スズ20重量部の混合液
からなるもの（特公昭44−14831号公報）。
シラン100重量部、水50重量部およびエチルア
ルコール100重量部を塩酸の存在下で加水分解
して得られる反応混合物を塗布しやすいように
アルコールで希釈したもの（特開昭51−42092
号公報）、また他の方法としては、アルコキシ
シラン100重量部と低級カルボン酸120重量部と
エチルアルコール100重量部とを有機酸８重量
部の存在下で反応させて得られる反応混合物を
塗布しやすいようにアルコールで希釈したもの
（特開昭55−34258号公報）、 (2) 酸化チタンの場合には、チタンアルコラート
100重量部、低級カルボン酸40重量部およびエ
チルアルコール260重量部を反応して得られる
もの、 (3) 酸化アルミニウムの場合には、アルミニウム
アルコラート100重量部をエチルアルコール180
重量部および無機酸40重量部の混合液に溶解
し、脂肪酸の無水物60重量部を加えて反応さ
せ、塗布しやすいようにアルコールで希釈した
もの（特願昭55−21382号明細書）、 (4) 酸化セリウムの場合には、硝酸第１セリウム
20重量部、メチルアルコール200重量部、エチ
ルアルコール100重量部、酢酸メチルエステル
20重量部、エチレングリコールモノエチルエー
テル100重量部、ブチラール樹脂（平均重合度
300）40重量部を均一に溶解したもの、 (5) 酸化ジルコニウムの場合には、ジルコニウム
エチラート271.3重量部、エチルアルコール450
重量部および氷酢酸120重量部を混合して反応
させた反応液にエチルアルコールを200重量部
添加してなるもの、 (6) 酸化タンタルの場合には、タンタルエトキシ
ド406重量部にエチルアルコール368重量部と氷
酢酸120重量部および五酸化リン1.4重量部を混
合反応させた混合液からなるもの、 (7) 酸化亜鉛の場合には、ジンクエチラート
155.4重量部をエチルアルコール430重量部と濃
塩酸70重量部の混合液に溶解し、氷酢酸120重
量部を加えて反応させた反応液からなるもの、 (8) 酸化鉄の場合には、硝酸第二鉄100重量部、
アセチルアセトン100重量部、メチルアルコー
ル200重量部、およびエチレングリコールモノ
エチルエーテル500重量部に溶解させた混合液
からなるもの、 (9) 酸化スズの場合には、エチルアルコール100
重量部、ジメチルジ塩化スズ20重量部の混合液
からなるもの（特公昭44−14831号公報）。
（ペースト状インキ）
市販のスクリーン印刷用インキまたは、エポキ
シ樹脂、フエノール樹脂、フエノール樹脂、メラ
ミン樹脂などの熱硬化性樹脂からなるペースト状
インキを基体上に施こした後、その上に前述した
ような金属酸化物被膜形成剤を塗布して熱処理し
た場合には次のような問題が生じる。
シ樹脂、フエノール樹脂、フエノール樹脂、メラ
ミン樹脂などの熱硬化性樹脂からなるペースト状
インキを基体上に施こした後、その上に前述した
ような金属酸化物被膜形成剤を塗布して熱処理し
た場合には次のような問題が生じる。
(1) 塗布したときに、被膜形成剤中の有機溶剤に
インキ層が溶解する。
インキ層が溶解する。
(2) 金属酸化物被膜ににじみや白濁を生ずる。
(3) インキ層が熱処理中にひび割れを起こす。
(4) インキ層が熱処理中に熱架橋を起こし、イン
キ層のはく離が困難となる。
キ層のはく離が困難となる。
いずれの問題も、インキ層の上に、金属酸化物
被膜形成剤を塗布したときに、該形成剤中の有機
溶剤がインキ層と接触して悪影響をおよぼしてい
るものと想像される。
被膜形成剤を塗布したときに、該形成剤中の有機
溶剤がインキ層と接触して悪影響をおよぼしてい
るものと想像される。
本発明においては、金属酸化物被膜形成剤の主
溶剤をアルコール系溶剤に限定し、アルコール系
溶剤に不溶性の重合体を含有するペースト状イン
キを使用することにより、この問題を解決した。
溶剤をアルコール系溶剤に限定し、アルコール系
溶剤に不溶性の重合体を含有するペースト状イン
キを使用することにより、この問題を解決した。
すなわち、本発明に使用するペースト状インキ
は飽和ポリエステル樹脂、環化ゴム、アクリル酸
エステルまたはメタクリル酸エステルの単独重合
体、およびアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルの共重合体から選ばれた１種以上のア
ルコール系溶剤に不溶の重合体を主成分とするも
のである。
は飽和ポリエステル樹脂、環化ゴム、アクリル酸
エステルまたはメタクリル酸エステルの単独重合
体、およびアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルの共重合体から選ばれた１種以上のア
ルコール系溶剤に不溶の重合体を主成分とするも
のである。
ペースト状インキを調製するためには、上記重
合体を有機溶剤に溶解させる必要がある。そのた
めの有機溶剤としては、大気圧中での沸点が140゜
〜300℃の範囲のものが使用でき、170゜〜260℃で
あるとさらに好都合である。その沸点が140℃以
下であると、スクリーン印刷後のインキの乾燥が
速すぎて塗膜の平滑化に悪影響を及ぼすし、スク
リーンの版を乾燥させて、スクリーンメツシユの
目詰りを惹起する。またその沸点が300℃以上で
あると、平滑性は良いが、乾燥性が悪く、次工程
に至るまでに長時間を要し、作業上好ましくな
い。こうした種々の点を満足させる適切な有機溶
剤としては、例えばメチルカルビト−ルアセター
ト、エチルカルビト−ルアセタート、ブチルカル
ビト−ルアセタート エチレングリコールモノメ
チルエーテルアセタート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセタート、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセタート、イソホロン、
ジイソブチルケトン、安息香酸メチルエステル、
パイン油、テレピン油、テトラリン、デカリン、
２−エチルヘキシルアセタート等々の高沸点の単
独もしくは混合溶剤が用いられうる。また所望に
より、密着性向上剤、無機バインダー、インキ特
性助成剤を添加しても良い。
合体を有機溶剤に溶解させる必要がある。そのた
めの有機溶剤としては、大気圧中での沸点が140゜
〜300℃の範囲のものが使用でき、170゜〜260℃で
あるとさらに好都合である。その沸点が140℃以
下であると、スクリーン印刷後のインキの乾燥が
速すぎて塗膜の平滑化に悪影響を及ぼすし、スク
リーンの版を乾燥させて、スクリーンメツシユの
目詰りを惹起する。またその沸点が300℃以上で
あると、平滑性は良いが、乾燥性が悪く、次工程
に至るまでに長時間を要し、作業上好ましくな
い。こうした種々の点を満足させる適切な有機溶
剤としては、例えばメチルカルビト−ルアセター
ト、エチルカルビト−ルアセタート、ブチルカル
ビト−ルアセタート エチレングリコールモノメ
チルエーテルアセタート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセタート、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセタート、イソホロン、
ジイソブチルケトン、安息香酸メチルエステル、
パイン油、テレピン油、テトラリン、デカリン、
２−エチルヘキシルアセタート等々の高沸点の単
独もしくは混合溶剤が用いられうる。また所望に
より、密着性向上剤、無機バインダー、インキ特
性助成剤を添加しても良い。
密着性向上剤の添加により、インキと基体との
密着性が強固となるばかりでなく、インキの乾燥
時に発生するヒビ割れの防止効果もある。これに
適したものとしては、ケトン樹脂、キシレン樹
脂、液状ブタジエン樹脂等があり、その添加量は
重合体に対し、０〜35重量％の範囲が好ましい。
密着性が強固となるばかりでなく、インキの乾燥
時に発生するヒビ割れの防止効果もある。これに
適したものとしては、ケトン樹脂、キシレン樹
脂、液状ブタジエン樹脂等があり、その添加量は
重合体に対し、０〜35重量％の範囲が好ましい。
無機バインダーの添加により、密着性向上剤と
同様にヒビ割れ防止の効果がある。その好適な添
加量は重合体に対して０〜100重量％であり、酸
化アルミニウム、酸化チタン、酸化シリコン等の
酸化物の微粉末が用いられうる。
同様にヒビ割れ防止の効果がある。その好適な添
加量は重合体に対して０〜100重量％であり、酸
化アルミニウム、酸化チタン、酸化シリコン等の
酸化物の微粉末が用いられうる。
インキ特性助成剤としては、例えば、ニトロセ
ルロース、エチルセルロース、アクリル系樹脂微
粉末、酸化ケイ素微粉末、モダフロー（モンサン
ト社製）がある。これらは増粘剤、チキソトロピ
ー効果剤、レベリング剤、発泡抑制剤としての効
果を有する。その使用量は重合体100重量部に対
し０〜150、好ましくは０〜50重量部である。
ルロース、エチルセルロース、アクリル系樹脂微
粉末、酸化ケイ素微粉末、モダフロー（モンサン
ト社製）がある。これらは増粘剤、チキソトロピ
ー効果剤、レベリング剤、発泡抑制剤としての効
果を有する。その使用量は重合体100重量部に対
し０〜150、好ましくは０〜50重量部である。
（有機溶剤）
本発明において、基体上に金属酸化物被膜形成
剤を塗布し熱処理したのち、ペースト状インキ印
刷部および該インキ印刷部上の金属酸化物被膜を
除去するために用いる有機溶剤としては、使用す
る金属酸化物被膜形成剤の種類に応じてハロゲン
化炭化水素系、脂肪族炭化水素系、エステル系、
ケトン系、多価アルコールおよびその誘導体のう
ちのいずれかが適宜に選定使用される。
剤を塗布し熱処理したのち、ペースト状インキ印
刷部および該インキ印刷部上の金属酸化物被膜を
除去するために用いる有機溶剤としては、使用す
る金属酸化物被膜形成剤の種類に応じてハロゲン
化炭化水素系、脂肪族炭化水素系、エステル系、
ケトン系、多価アルコールおよびその誘導体のう
ちのいずれかが適宜に選定使用される。
（実施の態様）
次に添付の図面を参照して本発明の方法を更に
具体的に説明する。基材１上の金属酸化物の非形
成部分にペースト状インキ２をスクリーン印刷法
にて施し、100〜300℃の雰囲気中で10〜30分間加
熱してインキを乾燥させる（第１図参照）。
具体的に説明する。基材１上の金属酸化物の非形
成部分にペースト状インキ２をスクリーン印刷法
にて施し、100〜300℃の雰囲気中で10〜30分間加
熱してインキを乾燥させる（第１図参照）。
次に金属酸化物被膜形成剤を常用のスプレー
法、刷毛塗り法、ロール法、浸漬引上げ法等によ
り塗布する。例えば浸漬引上げ法を用いた場合に
は、10〜50cm／分の引上げ速度で上記形成剤を塗
布し、100〜300℃の雰囲気中で10〜30分間加熱し
て金属酸化物被膜形成剤を乾燥させ、耐溶剤性を
付与する。浸漬引上げ法によつて塗布した場合に
は、第２図に示すように基体の表裏両面に金属酸
化物被膜形成剤の層が得られる。またこの加熱処
理段階において、インキ層と金属酸化物被膜形成
剤との膨張係数の差によると推察されるのである
が、インキ層上の金属酸化物被膜部のみ微細なク
ラツク５が生じる。
法、刷毛塗り法、ロール法、浸漬引上げ法等によ
り塗布する。例えば浸漬引上げ法を用いた場合に
は、10〜50cm／分の引上げ速度で上記形成剤を塗
布し、100〜300℃の雰囲気中で10〜30分間加熱し
て金属酸化物被膜形成剤を乾燥させ、耐溶剤性を
付与する。浸漬引上げ法によつて塗布した場合に
は、第２図に示すように基体の表裏両面に金属酸
化物被膜形成剤の層が得られる。またこの加熱処
理段階において、インキ層と金属酸化物被膜形成
剤との膨張係数の差によると推察されるのである
が、インキ層上の金属酸化物被膜部のみ微細なク
ラツク５が生じる。
続いて有機溶剤に接触させる。例えば、撹拌さ
れている有機溶剤中への浸漬、超音波を当てられ
た有機溶剤中への浸漬、有機溶剤の蒸気に曝すな
どすると、該クラツクから有機溶剤が浸透してイ
ンキ層と、クラツクの入つた金属酸化物被膜とを
除去し、しかる後150〜1000℃、好ましくは、300
〜600℃の焼成炉内で30〜60分間焼成を行なうと、
金属酸化物被膜４のパターンを得る（第３図参
照） （作用・効果） 本発明は以上に記述したとおり、アルコール系
溶剤に不溶性の重合体を含有するペースト状イン
キを用いて、基体上にスクリーン印刷を施し、そ
の上に主溶剤としてアルコール系溶剤を含有する
金属酸化物被膜形成剤を塗布してから熱処理し、
しかる後金属酸化物被膜不用部のみを有機溶剤で
除去するため、金属酸化物被膜のパターンの乱
れ、にじみ、白濁、ヒビ割れが生じることはな
い。さらに本発明によれば被膜不用部分は有機溶
剤で洗われるから、汚れがなく、金属酸化物被膜
形成が容易かつ鮮明なパターンが得られる。
れている有機溶剤中への浸漬、超音波を当てられ
た有機溶剤中への浸漬、有機溶剤の蒸気に曝すな
どすると、該クラツクから有機溶剤が浸透してイ
ンキ層と、クラツクの入つた金属酸化物被膜とを
除去し、しかる後150〜1000℃、好ましくは、300
〜600℃の焼成炉内で30〜60分間焼成を行なうと、
金属酸化物被膜４のパターンを得る（第３図参
照） （作用・効果） 本発明は以上に記述したとおり、アルコール系
溶剤に不溶性の重合体を含有するペースト状イン
キを用いて、基体上にスクリーン印刷を施し、そ
の上に主溶剤としてアルコール系溶剤を含有する
金属酸化物被膜形成剤を塗布してから熱処理し、
しかる後金属酸化物被膜不用部のみを有機溶剤で
除去するため、金属酸化物被膜のパターンの乱
れ、にじみ、白濁、ヒビ割れが生じることはな
い。さらに本発明によれば被膜不用部分は有機溶
剤で洗われるから、汚れがなく、金属酸化物被膜
形成が容易かつ鮮明なパターンが得られる。
次に、本発明の実施例を記載して、さらに具体
的に説明するが、以下の実施例は本発明を何ら限
定するものではない。
的に説明するが、以下の実施例は本発明を何ら限
定するものではない。
実施例 １
パターン形成された透明電極を有する基板上
に、外部端子との接続リード端子部を除いて
SiO2膜の絶縁膜をパターン形成する例。
に、外部端子との接続リード端子部を除いて
SiO2膜の絶縁膜をパターン形成する例。
（使用インキ組成）
アクリルレジンBR−75（三菱レイヨン社製）
18重量部 エチレングリコールモノエチルエーテルアセター
ト 54重量部 エチルカルビトールアセタート 18重量部 アエロジールＲ−972（日本アエロジール社製酸化
ケイ素微粉末） 10重量部 （SiO2被膜の形成） 特開昭51−42092の手法に基き、オルト−ケイ
酸エチル42ｇに水11ｇ及びメチルアルコール115
ｇを加え塩酸0.08mlの存在のもとに５時間撹拌
し、加水分解反応せしめた生成物を金属酸化物形
成剤（以下塗布液という）とし、上記組成のイン
キを基板上のリード端子部にスクリーン印刷し、
160℃で10分間乾燥後、前記塗布液を36cm／min
の引き上げ速度で浸漬塗布し、160℃で15分間プ
リベイクして被膜を硬化させ、これをトリクロロ
エチレン液にて２分間超音波洗浄後、トリクロロ
エチレンにて蒸気洗浄してインク部及びインク部
上の被膜をも除去し、パターン化をなした。さら
にこれを500℃にて30分間焼成したところ、膜厚
1300Åの絶縁膜がパターン化され、リード端子部
は絶縁膜形成前と何ら変りない良好な導電性を示
した。
18重量部 エチレングリコールモノエチルエーテルアセター
ト 54重量部 エチルカルビトールアセタート 18重量部 アエロジールＲ−972（日本アエロジール社製酸化
ケイ素微粉末） 10重量部 （SiO2被膜の形成） 特開昭51−42092の手法に基き、オルト−ケイ
酸エチル42ｇに水11ｇ及びメチルアルコール115
ｇを加え塩酸0.08mlの存在のもとに５時間撹拌
し、加水分解反応せしめた生成物を金属酸化物形
成剤（以下塗布液という）とし、上記組成のイン
キを基板上のリード端子部にスクリーン印刷し、
160℃で10分間乾燥後、前記塗布液を36cm／min
の引き上げ速度で浸漬塗布し、160℃で15分間プ
リベイクして被膜を硬化させ、これをトリクロロ
エチレン液にて２分間超音波洗浄後、トリクロロ
エチレンにて蒸気洗浄してインク部及びインク部
上の被膜をも除去し、パターン化をなした。さら
にこれを500℃にて30分間焼成したところ、膜厚
1300Åの絶縁膜がパターン化され、リード端子部
は絶縁膜形成前と何ら変りない良好な導電性を示
した。
実施例 ２
透明電極を有する基板上に部分的に窓あけをし
て、TiO2膜をパターン形成する例。
て、TiO2膜をパターン形成する例。
（使用インク組成）
飽和ポリエステル樹脂
バイテルPE−200（グツドイヤー・タイヤアン
ド・ラバー社） 32重量部 ケトン樹脂ハイラツク111（日立化成社） ８重量部 エチレングリコールモノエチルエーテルアセター
ト ８重量部 エチルカルビトールアセタート 48重量部 モダフロー（モンサント社） １重量部 アエロジールＲ−972（日本アエロジール社）
３重量部 （TiO2被膜の形成） チタンイソ−プロピラート57ｇと氷酢酸24ｇと
エチルアルコール148ｇを３時間撹拌反応した後、
１日静置して得られた液を塗布液とし、上記組成
よりなるインキを基板上にスクリーン印刷し、
140℃で15分間乾燥後、前記塗布液を20cm／min
の引き上げ速度で浸漬塗布し、180℃で20分間プ
リベイクして被膜を硬化させ、これをトリクロロ
エチレンにて２分間超音波洗浄した後、トリクロ
ロエチレンにて蒸気洗浄してインク部及びインク
部上の被膜をも除去しパターン化をなした。さら
にこれを500℃にて30分間焼成したところ膜厚約
700Åの絶縁膜がパターン化されており、窓あけ
部分の透明電極は良好な導電性を示した。
ド・ラバー社） 32重量部 ケトン樹脂ハイラツク111（日立化成社） ８重量部 エチレングリコールモノエチルエーテルアセター
ト ８重量部 エチルカルビトールアセタート 48重量部 モダフロー（モンサント社） １重量部 アエロジールＲ−972（日本アエロジール社）
３重量部 （TiO2被膜の形成） チタンイソ−プロピラート57ｇと氷酢酸24ｇと
エチルアルコール148ｇを３時間撹拌反応した後、
１日静置して得られた液を塗布液とし、上記組成
よりなるインキを基板上にスクリーン印刷し、
140℃で15分間乾燥後、前記塗布液を20cm／min
の引き上げ速度で浸漬塗布し、180℃で20分間プ
リベイクして被膜を硬化させ、これをトリクロロ
エチレンにて２分間超音波洗浄した後、トリクロ
ロエチレンにて蒸気洗浄してインク部及びインク
部上の被膜をも除去しパターン化をなした。さら
にこれを500℃にて30分間焼成したところ膜厚約
700Åの絶縁膜がパターン化されており、窓あけ
部分の透明電極は良好な導電性を示した。
実施例 ３
透明電極を要する基板上に、SiO2膜をパター
ン形成する例。
ン形成する例。
（使用インキ組成）
環化ゴム（Alpex Ck−514）ヘキストジヤパン
社 36部 安息香酸メチル 54部 TiO2微粉末 ７部 アエロジール380（日本アエロジール社） ３部 （SiO2被膜の形成） 特開昭55−34258の手法に基づき、オルトケイ
酸メチル152ｇと氷酢酸240ｇとメチルアルコール
128ｇとの混合物にシユウ酸10ｇを加えて反応さ
せて得た酢酸メチルとメチルアルコールとヒドロ
キシシランの混合液をエチルアルコールにて固形
分濃度が5.0重量％になるように希釈した液を塗
布液とし、上記組成よりなるインキを基板上にス
クリーン印刷し、120℃で15分間乾燥硬化し、前
記塗布液を30cm／minの引き上げ速度で浸漬塗布
し、140℃で10分間プリベイクして被膜を硬化さ
せ、これをトリクロロエチレンにて３分間調音波
洗浄して、インキ部及びインキ部上の被膜をも除
去し、パターン化をなした。さらにこれを500℃
にて30分間焼成したところ膜厚約800ÅのSiO2膜
がパターン化された。
社 36部 安息香酸メチル 54部 TiO2微粉末 ７部 アエロジール380（日本アエロジール社） ３部 （SiO2被膜の形成） 特開昭55−34258の手法に基づき、オルトケイ
酸メチル152ｇと氷酢酸240ｇとメチルアルコール
128ｇとの混合物にシユウ酸10ｇを加えて反応さ
せて得た酢酸メチルとメチルアルコールとヒドロ
キシシランの混合液をエチルアルコールにて固形
分濃度が5.0重量％になるように希釈した液を塗
布液とし、上記組成よりなるインキを基板上にス
クリーン印刷し、120℃で15分間乾燥硬化し、前
記塗布液を30cm／minの引き上げ速度で浸漬塗布
し、140℃で10分間プリベイクして被膜を硬化さ
せ、これをトリクロロエチレンにて３分間調音波
洗浄して、インキ部及びインキ部上の被膜をも除
去し、パターン化をなした。さらにこれを500℃
にて30分間焼成したところ膜厚約800ÅのSiO2膜
がパターン化された。
第１図ないし第３図は、本発明の金属酸化物被
膜のパターン形成法の行程を示す説明図である。
第１図は、金属酸化物被膜を形成したくない部分
にペースト状インキをスクリーン印刷法により施
した状態、第２図は、第１図におけるペースト状
インキを乾燥させた後に金属酸化物被膜形成剤を
浸漬引上げ法により塗布後加熱処理した状態、第
３図は第２図における状態のものを有機溶剤と接
触させ、インキ層およびその上の金属酸化物被膜
形成剤を除去して、焼成後に金属酸化物被膜が基
体上に残留した状態を示す。 図面における符号は、下記のものを示す。１…
…基体、２……ペースト状インキ、３……金属酸
化物被膜形成剤の層、４……金属酸化物被膜、５
……クラツク。
膜のパターン形成法の行程を示す説明図である。
第１図は、金属酸化物被膜を形成したくない部分
にペースト状インキをスクリーン印刷法により施
した状態、第２図は、第１図におけるペースト状
インキを乾燥させた後に金属酸化物被膜形成剤を
浸漬引上げ法により塗布後加熱処理した状態、第
３図は第２図における状態のものを有機溶剤と接
触させ、インキ層およびその上の金属酸化物被膜
形成剤を除去して、焼成後に金属酸化物被膜が基
体上に残留した状態を示す。 図面における符号は、下記のものを示す。１…
…基体、２……ペースト状インキ、３……金属酸
化物被膜形成剤の層、４……金属酸化物被膜、５
……クラツク。
Claims (1)
- １ 飽和ポリエステル樹脂、環化ゴム、アクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単独重
合体、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルの共重合体から選ばれた１種以上のアルコ
ール系溶剤に不溶性の重合体を主成分とするペー
スト状インキを用いて基体上に所望のパターンに
応じてスクリーン印刷を施したのち、全面にアル
コール類を主溶剤とする金属酸化物被膜形成剤を
塗布し、約100〜300℃の温度で熱処理し、ついで
有機溶剤を用いて上記のペースト状インキ印刷部
を溶解除去するとともに該インキ印刷部上の金属
酸化物被膜形成剤をも除去し、さらに150℃以上
の温度で焼成して非印刷部に金属酸化物の被膜を
形成させることを特徴とする金属酸化物被膜のパ
ターン形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55187653A JPS57112713A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Formation of pattern of metallic oxide film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55187653A JPS57112713A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Formation of pattern of metallic oxide film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57112713A JPS57112713A (en) | 1982-07-13 |
| JPH0336250B2 true JPH0336250B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=16209854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55187653A Granted JPS57112713A (en) | 1980-12-29 | 1980-12-29 | Formation of pattern of metallic oxide film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57112713A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59227743A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-12-21 | Mitsubishi Metal Corp | 透明着色膜の形成法 |
| JPS618378A (ja) * | 1984-06-22 | 1986-01-16 | Hisao Taki | 展示用パネルの製造方法 |
| JPS6255244A (ja) * | 1985-09-05 | 1987-03-10 | Toyota Motor Corp | 透明導電性薄膜の電極形成方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5929926B2 (ja) * | 1975-09-30 | 1984-07-24 | 株式会社東芝 | 液晶表示器の製造方法 |
-
1980
- 1980-12-29 JP JP55187653A patent/JPS57112713A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57112713A (en) | 1982-07-13 |
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