JPH0336735B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加工片を真空処理装置に搬入したり搬
出したりする方法および装置に関する。

加工片を真空装置に搬入したり搬出したりする
のに必要とする時間および適当な圧力までポンプ
引きするのに必要とする時間はしばしば加工片を
処理することができる速度の制限要因である。こ
れは、個々の基質の被覆時間が被覆室を十分に真
空にするのに必要とする時間と比較してときどき
短いような高速蒸着法において特に当てはまる。
加工片すなわち基質を被覆室すなわち処理室に入
れたり出したりする途中別々の真空ロツク室を通
過させるような被覆装置が開発された。この場
合、ロツク室の容積を最小にすることができ、処
理室を大気圧にすることなしに次々の基質につい
て処理を続けることができるため、生産率を増
す。米国特許第3945903号（スベンダ等）は真空
被覆装置を開示しており、この真空被覆装置は入
口ロツク室と、出口ロツク室と、ガラス板を搬送
してこの装置を通過させるローラコンベヤとを備
えている。

或る状況では、被覆室の入口および出口の両方
に真空ロツク室を備える完全な両端付きの装置の
費用は正当化されない。代案としては、単一のロ
ツク室および可逆コンベヤを設け、加工片がこの
ロツク室経て処理室に入つたり出たりすることが
できるようにすることである。このような装置は
単一端付き塗装装置と呼ばれる。米国特許第
4405435号（タテイシ等）は単一端付き真空被覆
装置を開示しており、この被覆装置はマルチレバ
ー加工片カセツトと、ロツク室およびロツク室と
スパツタ被覆室との間の中間室の両方にカセツト
エレベータとを有している。

発明の概要 本発明は、加工片を単一端付き真空処理装置に
搬入したり搬出したりする方法および装置であ
る。この装置は処理室および第２室を有し、この
第２室は加工片搬送装置を収容し、この搬送装置
は、共通フレームに支持される２つのコンベヤ
と、加工片を第２室を通して両方向に搬送するた
めに各コンベヤを選択的に移動させる装置とを備
えている。第２室は外側への出入口を備える端ロ
ツク室でもよいし、あるいは処理室と端ロツク室
との間の中間ロツク室すなわち保持室でもよい。
好ましくは、コンベヤは、平行な２組の水平ロー
ラ、および各組のローラと移送ラインとを選択的
に整列させるエレベータを備え、加工片を移送ラ
インに沿つて端ロツク室と保持室との間および保
持室と処理室との間を搬送する。

好適な実施例の説明 第１図は単一端付き真空処理装置を示し、この
装置は処理室１０、保持室１６およびロツク室１
８を備えている。真空処理は被覆処理であつて、
この処理では、加工片を入口バツフア１２から処
理室内の多数のスパツタ被覆源１１を通過してオ
ーバランバツフア１４の中へ搬送する。必要に応
じて、加工片を処理室１０を通して前後に搬送し
ても良い。装置の処理領域は第１内部ゲート弁２
０によつて保持室１６から分離され、このゲート
弁２０はアクチユエータ２２によつて所望に応じ
て開閉することができる。保持室１６およびロツ
ク室１８は第２内部ゲート弁２４によつて相互に
連結され、このゲート弁２４はアクチユエータ２
６によつて作動される。加工片積降し領域１９か
らロツク室１８への出入りはアクチユエータ２９
によつて作動できる外部ゲート弁２８によつて行
なわれる。ゲート弁およびアクチユエータは所望
の大きさおよび形状の加工片を移送するのに適し
た従来の設計のものでよい。１つのこのようなゲ
ート弁は米国特許第4065097号（テイミン）に示
されている。

処理装置の室の各々は在来の装置によつて別々
に真空にすることができる。ロツク室１８はブロ
ワまたは他の機械ポンプ３２によつて真空にする
ことができる。スパツタリングまたは電子ビーム
加熱被覆法の場合、保持室１６および処理室１０
は好ましくは拡散ポンプ３０によつて真空にする
ことができる。処理室１０は所望のスパツタリン
グガスの源３４を備えるのがよい。

真空処理装置の各室は加工片を支持しかつ搬送
するコンベヤを備えている。ガラス板および類似
の基質の場合、各コンベヤは好ましくは一連の平
行な水平ローラ４２を備え、これらのローラ４２
はフレーム４４に設けられ、可逆モータ４６によ
つて駆動される。好ましくは、別々の室のコンベ
ヤは基質を移送ライン４８に沿つて装置に入れた
り出したりするように整列される。

好ましい装置では、保持室１６は垂直方向に移
動するマルチレベル搬送装置５０を備え、この搬
送装置は共通のフレーム６０に互いに上下に取付
けられる２つの水平コンベヤ５２，５４を有して
いる。第２図、第３ａ図および第３ｂ図に示すよ
うに、フレーム６０は多数の横部材６３によつて
相互に連結された２つの平行な長さ方向上部材６
２と、上記横部材と同じ数の横部材６５によつて
相互に連結され、上部材の真下に整列した２つの
平行な長さ方向下部材６４とを備えている。

フレーム６０は、その下方位置（第２図および
第３ｂ図に示す）にあるとき、脚部６８上に位置
し、これらの脚部６８は、フレーム保持室１６の
底壁部１７上のレベルに位置するように必要に応
じて調節できる。加工片搬送装置の長さにより必
要に応じてさらに他の脚部および横部材を側部材
間に設けてもよい。

第２図、第３ａ図および第３ｂ図では、装置５
０の上コンベヤ５２は移送ライン４８と整列して
いる。下コンベヤ５４が移送ライン上にあるよう
にフレーム６０を上昇させるために、エレベータ
が設けられている。図示のように、このエレベー
タは４つのボールねじジヤツキ７０を備え、これ
らのジヤツキ７０は底壁部１７の真空シール組立
体７１を貫いて室１６の外方に延びている。各ジ
ヤツキはシール組立体を潤滑するために注油部７
５を備えている。変形例として、エレベータは液
圧または空気圧シリンダを備えてもよい。

搬送装置５０の垂直方向運動は４つの横案内ホ
イール７２によつて案内され、これらのホイール
のうちの２つは各長さ方向下部材の外面に取付け
られている。これらのホイールは室１６の両側壁
部に設けられた上棒路７３および下棒路７４に沿
つて転動する。装置５０の運動はまた長さ方向下
部材６４の一方と直角な軸７７に設けられている
長さ方向案内ホイール７６によつて案内される。
ホイール７６は室１６の一方の側壁部１５に設け
られた２つ上路７８間と２つの下路７９間を転動
する。案内ホイール７２，７６用の上路および下
路は整列し、従つて、装置５０はその上昇位置お
よび降下位置で夫々適切に整列する。

側レール６２に沿つて整列した支持ブロツク８
２には、多数のローラ８０が回転自在に設けられ
ている（ブロツク８２は第２図から省いてある）。
各ローラの軸８３の一端には２つのプーリ８４，
８５が取付けられている。第３ａ図に示すよう
に、隣接したローラのプーリはベルト８６によつ
て相互に連結され、このベルトにより、ローラは
同じ方向に同時に回転する。

どちらのコンベヤが移送ラインにあつても、そ
のコンベヤの１つのローラの軸は磁気装置９０，
９２によつてシヤフト９４に連結され、このシヤ
フト９４は側壁部１５の回転シールを通つて延び
ている。この回転シヤフトは室１６の外側の可逆
モータ９５によつて駆動される。

第４図は本発明の方法を示している。この図の
各部分は処理室１００、保持室１６およびロツク
室１８を示している。処理室は入口バツフアおよ
びオーバランバツフアを備えるのがよい。処理室
１００および保持室１６は第１ゲート弁２０によ
つて相互に連結されている。保持室１６およびロ
ツク室１８は第２ゲート弁２４によつて相互に連
結されている。ロツク室１８への加工片の出入り
は第３ゲート弁２８によつて行われる。処理室１
００は第１コンベヤ１０１を収容しており、ロツ
ク室１８お第２コベヤ１０２を収容している。前
記のように、保持室１６は加工片搬送装置５０を
収容しており、この搬送装置５０は上レベルのコ
ンベヤ５２および下レベルのコンベヤ５４の２つ
を有し、かつ各コンベヤを真空処理装置を通る移
送ライン４８と整列させるエレベータを有してい
る。

第４ａ図では、弁２０，２４は閉じている。１
つの加工片１１０が室１００で処理を受けてい
て、未処理加工片１１２が保持室１６に搬送装置
５０の下レベルのコンベヤ５４の上に待機してい
る。弁２０，２４は閉じているので、所望に応じ
て、室１６を拡散ポンプによつて真空にし、処理
室１００内の圧力を別個に設定する。弁２８は開
いており、第２未処理加工片１１４を第４ｂ図に
示すように積降し領域のコンベヤ１０４からロツ
ク室の中のコンベヤ１０２上に搬送する。次い
で、弁２８を閉じ、ロツク室１８を荒引きポンプ
により真空にする。

空のコンベヤ５２が移送ラインにあるように搬
送装置５０を整列させる。加工片１１０の処理が
終了するとき、弁２０を開き、加工片１１０を空
の上コンベヤ５２の上に搬送する。次いで、搬送
装置５０は上方に移動し、従つて第４ｃ図に示す
ように、下コンベヤ５４が移送ラインに位置し、
未処理加工片１１２を処理室内のコンベヤ１０１
の上に搬送する。弁２０を閉じると、加工片１１
２の処理が進行する。弁２４，２８は閉じたまま
であり、ロツク室１８のポンプ荒引きが続く。

第４ｄ図に示すように、弁２４を開き、未処理
加工片１１４を保持室１６へ中へ装置５０の下コ
ンベヤ５４の上に搬送する。次いで、装置５０を
下方に移動させて、上コンベヤ５２を第４ｅ図に
示すように移送ラインに整列させ、処理された加
工片１１０を第４ｆ図に示すように弁２４からロ
ツク室１８内のコンベヤ１０２の上に搬送する。
弁２０は閉じたままであり、従つて室１００では
加工片112の処理が続く。ロツク室１８を通気し、
ゲート弁２８を開くと、処理された加工片１１０
をロツク室１８からコンベヤ１０４の上に移送す
ることができる。弁２０，２４を閉じ、保持室１
６のポンプ作用および室１００での処理を続け
る。処理された加工片１１０をコンベヤから降し
未処理加工片と交換し、サイクルを続けて第４ａ
図で再び始める。

保持室を使用することにより、ゲート２０を開
くとき、処理室へのガスの噴入を減らすことがで
き、かつ第４ａ図および第４ｆ図に指示するよう
に加工片をゲート２８通して搬送するのに必要と
する時間を除いて、ロツク室１８のポンプ作用を
可能にする。第４ｂ図および第４ｃ図に指示する
ように、加工片を処理室１００と保持室１６との
間で搬送するのに必要とする短い時間を除いて処
理を続け得るので、処理室の効率的な利用が図か
れる。

第４図と併させて説明すると、処理された加工
片を下コンベヤ５２に載せ、未処理加工片を下コ
ンベヤ５４に載せる。落下破片が問題であれば、
処理された加工片を下コンベヤ５４に未処理加工
片より下に載せるように方法を変形することが好
ましい。

本発明の精神から逸脱することなしに方法およ
び装置に種々の他の変形を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を組込んだ真空被覆装置の概略
側面図；第２図は本発明による２レベル加工片搬
送装置を組込んだ保持室の部分横断面側面図；第
３ａ図は第２図の保持室および加工片搬送装置の
平面図；第３ｂ図は第２図の保持室および加工片
搬送装置の部分横断面端面図；第４図は本発明に
よる方法を示す処理室、保持室および真空ロツク
室を備える真空処理装置の概略図である。 １０……処理室、１６……保持室、１８……ロ
ツク室、２０，２４，２８……ゲート弁、２６，
２９……アクチユエータ、３０……拡散ポンプ、
４２……ローラ、４４……フレーム、４８……移
送ライン、５０……搬送装置、５２，５４……コ
ンベヤ、６０……フレーム、７２……ホイール、
８０……ローラ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 真空引き可能な第１室及び第２室と、 第１室及び第２室を相互に連結する第１ゲート
   弁と、 第２室への出入りを行わせるための第２ゲート
   弁と、 第１室内の第１コンベヤと、 第１室及び第２室の外側の第２コンベヤと、 第２室内の加工片搬送装置と、からなり、 前記加工片搬送装置は、共通のフレームに互に
   隣接して支持された第３コンベヤ及び第４コンベ
   ヤと、 第３コンベヤ及び第４コンベヤの各々を、第１
   ゲート弁が開いているときに第１コンベアと第３
   コンベヤ及び第４コンベヤの各々との間を加工片
   を搬送するために第１コンベヤと整列させ、かつ
   第２ゲート弁が開いているときに第３コンベヤ及
   び第４コンベヤの各々と第２コンベヤとの間を加
   工片を搬送するために第２コンベヤと整列させる
   ように、第３コンベヤ及び第４コンベヤを選択的
   に移動させる装置と、を備える、真空処理装置。 ２ 真空引き可能な第３室を更に備え、第２ゲー
   ト弁は第２室及び第３室を相互に連結する、特許
   請求の範囲第１項に記載の真空処理装置。 ３ 第３コンベヤ及び第４コンベヤが平行であ
   る、特許請求の範囲第１項に記載の真空処理装
   置。 ４ 各コンベヤは多数の平行で実質的に水平なロ
   ーラ及びこれらのローラを同時に回転させる手段
   を備えている、特許請求の範囲第３項に記載の真
   空処理装置。 ５ 第３コンベヤ及び第４コンベヤは互いに上下
   に支持され、コンベヤ移動装置はフレームを垂直
   方向に移動させるエレベータからなる、特許請求
   の範囲第４項に記載の真空処理装置。 ６ 加工片搬送装置は、フレームに設けられフレ
   ームの移動を案内するためのホイールを更に備え
   ている、特許請求の範囲第５項に記載の真空処理
   装置。 ７ 加工片を真空処理装置に搬入したり搬出した
   りする方法において、 加工片を処理し、 処理した加工片を第１室内の第１コンベヤから
   第２室内のマルチレベルコンベヤの第１レベルま
   で搬送し、 マルチレベルコンベヤを移動してマルチレベル
   コンベヤの第２レベルを第１コンベヤと整列さ
   せ、 始めの未処理加工片を第２レベルから第１コン
   ベヤの上に搬送し、次いで第１室を第２室に対し
   て密封し、 ２番目の未処理加工片を第２室の外側の第２コ
   ンベヤから第２レベルに搬送し、 マルチレベルコンベヤを移動して第１レベルを
   第２コンベヤと整列させ、 処理した加工片を第１レベルから第２コンベヤ
   まで搬送し、 第２室を密封する、ことを特徴とする方法。 ８ 第２コンベヤが密封可能な第３室の中にあ
   り、処理した各加工片を装置外へ第２コンベヤか
   ら搬出し、 各未処理加工片を装置の外側から第３室の中へ
   第２コンベヤ上に搬送し、 第３室を密封しかつ真空引きすることを更に含
   む、特許請求の範囲第７項に記載の方法。