JPH0339281B2 - - Google Patents
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- JPH0339281B2 JPH0339281B2 JP58023842A JP2384283A JPH0339281B2 JP H0339281 B2 JPH0339281 B2 JP H0339281B2 JP 58023842 A JP58023842 A JP 58023842A JP 2384283 A JP2384283 A JP 2384283A JP H0339281 B2 JPH0339281 B2 JP H0339281B2
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
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- G—PHYSICS
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 産業上の利用分野
本発明は可視光線を透過し赤外線を吸収もしく
は反射する光透過性シートに関する。更に詳しく
は可視光線を透過し近赤外光線から赤外線を吸収
もしくは反射する選択的光透過性シートに関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application The present invention relates to a light-transmitting sheet that transmits visible light and absorbs or reflects infrared rays. More specifically, the present invention relates to a selectively transparent sheet that transmits visible light and absorbs or reflects near-infrared light to infrared light.
一般に金、銀、銅及びそれらを主成分とする各
種合金等の導電性金属薄膜を、透明高屈折率誘電
体層ではさんだ積層体において各構成薄膜の膜厚
をコントロールする事により、特定波長域の光線
を選択的に反射するものが得られる事が知られて
いる。 In general, by controlling the thickness of each component thin film in a laminate in which conductive metal thin films such as gold, silver, copper, and various alloys containing these as main components are sandwiched between transparent high refractive index dielectric layers, specific wavelength ranges can be achieved. It is known that it is possible to obtain a material that selectively reflects the rays of light.
特に可視部に透明で赤外線波長域を選択的に反
射する積層体は熱線反射フイルムとしてビル、住
宅等の省エネルギー、太陽エネルギー利用などの
点から有効である。しかし、ビル、住宅等の省エ
ネルギー、太陽エネルギー遮断の分野において更
に省エネルギー効率を向上させるためには、太陽
光線のエネルギー分布の中で可視光線部(450n
m〜700nm)、近赤外線部(701nm〜2100nm)
の透過特性に更に選択性を持たせた方がより有効
である。つまり太陽エネルギー分布の中で人間の
目には感じないが、太陽反射熱線の約50%が存在
する近赤外線部の透過特性により低下させ、可視
光線部の透過特性をより向上させる事が断熱に更
に有効であり、かつ透視性を何ら損なう事がない
ため、周囲環境及び安全性に影響を与える事なく
各種の分野に応用が可能である。 In particular, a laminate that is transparent in the visible region and selectively reflects the infrared wavelength region is effective as a heat ray reflective film from the viewpoint of energy conservation in buildings, houses, etc., and solar energy utilization. However, in order to further improve energy saving efficiency in the field of energy saving in buildings, houses, etc. and solar energy blocking, it is necessary to
m ~ 700nm), near infrared region (701nm ~ 2100nm)
It is more effective to give more selectivity to the transmission characteristics of the filter. In other words, insulation is achieved by reducing the transmission characteristics of the near-infrared rays, which are not felt by the human eye in the solar energy distribution, but which account for approximately 50% of the sun's reflected heat rays, and further improving the transmission characteristics of the visible rays. Furthermore, since it is effective and does not impair transparency in any way, it can be applied to various fields without affecting the surrounding environment or safety.
応用分野の例として、高温作業における監視窓
等の防熱性向上、建物及び自動車、電車等の乗物
の窓から入射する太陽エネルギーの遮断特性向上
による熱暑感の改善及び冷房効果の更なる向上、
透明食物容器の熱遮断向上及び冷凍、冷蔵シヨー
ケースにおける保冷効果の更なる向上等が挙げら
れる。 Examples of application fields include improving the heat insulation of monitoring windows during high-temperature work, improving the sense of heat and further improving the cooling effect by improving the shielding properties of solar energy that enters through the windows of buildings, cars, trains, and other vehicles.
Examples include improving the heat insulation of transparent food containers and further improving the cold retention effect in freezing and refrigerating cases.
(b) 従来技術
これら選択透過性を有する光学干渉フイルター
としては一般にフアブリ・ペロー・フイルター
(Fabry−Perot filter)がよく知られている。こ
れは相対する半透明性鏡の間に特定の光学膜厚を
有する透明誘電体をはさみ特定波長の光だけを透
過する干渉フイルターとして知られている。この
フアブリ・ペロー・フイルターを応用すると可視
部の透過特性が高く近赤外部の反射特性の高い選
択光透過性シートが得られる事が米国特許第
3682528号明細書に示されている。それによれば、
例えば基板/金属層/誘電体/金属層の構成とし
てガラス/Ni/Ag/Al2O3/Ni/Ag/Al2O3と
いう構成体で400nmから700nmの透過率が70%
以上でありかつ反射率が約10%、700nmから
2500nmでの透過率が10%以下でありかつ反射率
が約90%以上の選択光透過性積層体が得られてい
る。(b) Prior Art Fabry-Perot filters are generally well known as optical interference filters having selective transmission properties. This is known as an interference filter that sandwiches a transparent dielectric material with a specific optical thickness between opposing semi-transparent mirrors and transmits only light of a specific wavelength. The US patent states that by applying this Fabry-Perot filter, it is possible to obtain a selective light transmitting sheet with high transmission characteristics in the visible region and high reflection characteristics in the near-infrared region.
It is shown in the specification of No. 3682528. According to it,
For example, the structure of substrate/metal layer/dielectric/metal layer is glass/Ni/Ag/Al 2 O 3 /Ni/Ag/Al 2 O 3 and the transmittance from 400 nm to 700 nm is 70%.
or more, and the reflectance is approximately 10% from 700nm.
A selective light transmitting laminate having a transmittance of 10% or less at 2500 nm and a reflectance of about 90% or more has been obtained.
また、可視光線部に透明で近赤外光線部を吸収
する選択透過材として知られているFeの酸化物
を含有せしめた熱線吸収ガラス等は5mmの厚さで
可視光線透過率76%、太陽放射透過率57%の特性
を有している。 In addition, heat-absorbing glass containing Fe oxide, which is known as a selectively transmitting material that is transparent in the visible light region and absorbs near-infrared light, has a visible light transmittance of 76% at a thickness of 5 mm, and is transparent to near-infrared light. It has a radiation transmittance of 57%.
また、近年、有機金属錯体を有機物媒体の中に
含有せしめた近赤外光線吸収フイルター(特公昭
46−3452号公報参照)あるいは近赤外光線吸収農
業用シート(特開昭49−31748号公報参照)等も
得られている。 In addition, in recent years, near-infrared light absorption filters containing organometallic complexes in an organic medium (Tokuko Showa) have been developed.
46-3452) or near-infrared light absorbing agricultural sheets (see Japanese Patent Laid-Open No. 49-31748).
(c) 問題点
しかしフアブリ・ペローフイルターを太陽エネ
ルギーの遮断等省エネルギー用途で建物窓等に用
いる場合は大面積への適用が不可欠であり、従来
の金属化合物を透明誘導体として用いたのでは工
業規模での生産は不可能である。(c) Problems However, when Fabry-Perot filters are used in building windows for energy-saving purposes such as blocking solar energy, it is essential to apply them to large areas, and using conventional metal compounds as transparent dielectrics is difficult to achieve on an industrial scale. production is impossible.
これは金属酸化物等によつて金属薄膜層の表面
を均一に大面積にわたつて被覆する技術がいまだ
未完成の技術であるという事を意味する。 This means that the technology for uniformly covering a large area of the surface of a metal thin film layer with metal oxide or the like is still an incomplete technology.
金属酸化物の膜厚が薄く50Å以下である様な場
合には簡便に金属膜から金属酸化物膜を熱酸化等
により形成する事も可能ではあるが、フアブリ・
ペローフイルターに必要な1000Å程度の膜厚の酸
化物を均一に大面積に工業的規模で作成する事は
不可能であると言える。 If the metal oxide film is thin, less than 50 Å, it is possible to easily form a metal oxide film from the metal film by thermal oxidation, etc.
It can be said that it is impossible to uniformly produce an oxide film with a thickness of about 1000 Å, which is necessary for a Perot filter, over a large area on an industrial scale.
つまり金属酸化物を中間膜としたフアブリ・ペ
ローフイルターは小さな面積で取り扱う精密光学
用途には適しているものの大きな面積で応用され
る太陽エネルギー遮断、あるいは省エネルギー分
野には適していないと言える。 In other words, the Fabry-Perot filter, which uses a metal oxide as an interlayer, is suitable for precision optical applications that handle small areas, but is not suitable for solar energy shielding or energy conservation applications that require large areas.
また、熱線吸収ガラスにおいてはFeの酸化物
であるFeO、Fe2O3が近赤外光部の吸収のみなら
ず可視部にも吸収を有しており、近赤外光部の吸
収効率を向上させると、可視光部の吸収も増大し
可視光透過率が低下し暗くなるとともに可視部に
着色するという欠点を有していた。 In addition, in heat-absorbing glass, FeO and Fe 2 O 3 , which are oxides of Fe, have absorption not only in the near-infrared region but also in the visible region, which increases the absorption efficiency in the near-infrared region. When the color is improved, the absorption in the visible light region increases, the visible light transmittance decreases, and the visible light region becomes dark and colored.
また、同様の事は近赤外光部に吸収を有する有
機金属錯体にもみられ、やはり近赤外光部の吸収
効果を増加させると可視光透過率が低下し暗くな
るとともに着色が増大するという欠点があつた。 A similar phenomenon is also observed in organometallic complexes that have absorption in the near-infrared region, and as expected, increasing the absorption effect in the near-infrared region decreases the visible light transmittance, making it darker and increasing the coloration. There were flaws.
(d) 問題の解決手段
我々はより選択光透過性にすぐれた構成体を太
陽エネルギー遮断、省エネルギー、有害熱線遮断
等の用途に応用すべく鋭意検討した。(d) Means for solving the problem We have conducted intensive studies to apply a structure with superior selective light transmittance to applications such as blocking solar energy, saving energy, and blocking harmful heat rays.
その結果、有機重合体フイルム上に積層された
Agを主成分とする金属層からなる光選択透過性
構成体と800nmから1200nmの間に吸収ピークを
有する近赤外線吸収剤を含有する薄膜層とを光学
的に組み合せる事によりお互いの欠点を相補的に
向上させる事が可能となり又お互いの長所が相乗
的に増大して可視光線部・近赤外部の選択比が高
くなり可視光線部に透明で近赤外光線部を大部分
反射あるいは吸収し赤外部を反射するという太陽
エネルギー遮断あるいは熱線遮断能にすぐれた光
選択透過性機能性シートを大面積に工業的規模で
生産する事が可能である事を見出し本発明に到達
したものである。すなわち本発明は、
Ag金属を50重量%以上含む厚さ40Åから180Å
の金属層(A);
屈折率1.5以上の誘電体からなる反射防止膜層
(B);
波長800nmから1200nmの間に吸収ピークを有
する近赤外線吸収剤を含有する薄膜層(C);及び
有機重合体フイルム(D)を有する光選択透過機能
性シートであつて、上記各層は
(B)/(A)/(B)/(C)/(D)、又は
(B)/(A)/(C)/(D)、又は
(B)/(A)/(B)/(D)/(C)、又は
(B)/(A)/(D)/(C)、又は
(C)/(B)/(A)/(B)/(D)あるいは
(C)/(B)/(A)/(D)の順に順次積層されてなる事を
特徴とし、
かつ光学特性が積分可視光透過率70%以上、積
分近赤外光透過率50%以下である光選択透過機能
性シートである。 As a result, a
By optically combining a light-selective transmitting structure consisting of a metal layer mainly composed of Ag and a thin film layer containing a near-infrared absorber having an absorption peak between 800 nm and 1200 nm, they compensate for each other's shortcomings. In addition, the mutual advantages increase synergistically, and the selectivity ratio of visible light and near-infrared light increases.It is transparent to visible light and reflects or absorbs most of near-infrared light. The present invention was achieved by discovering that it is possible to produce on an industrial scale a selectively transparent functional sheet with excellent solar energy blocking ability or heat ray blocking ability by reflecting infrared rays over a large area. In other words, the present invention provides a method for forming a film with a thickness of 40 Å to 180 Å containing 50% by weight or more of Ag metal.
Metal layer (A): Anti-reflection film layer made of dielectric material with a refractive index of 1.5 or more
(B); A thin film layer containing a near-infrared absorber having an absorption peak between 800 nm and 1200 nm; (C); and an organic polymer film (D). A light selective transmission functional sheet, which comprises each of the above layers. is (B)/(A)/(B)/(C)/(D), or (B)/(A)/(C)/(D), or (B)/(A)/(B) /(D)/(C), or (B)/(A)/(D)/(C), or (C)/(B)/(A)/(B)/(D) or (C) /(B)/(A)/(D) are sequentially laminated in the order, and the optical properties are an integrated visible light transmittance of 70% or more and an integrated near-infrared light transmittance of 50% or less. This is a permselective functional sheet.
本発明でいう有機重合体フイルム(D)は特に限定
する必要はないが、本発明の積層体を透明な窓等
に貼付して適用するという目的に対しては550n
mにおける透過率が少なくとも50%以上、好まし
くは75%以上である透明性を有する事が必要であ
り、この条件を満たす有機重合体フイルム(D)であ
れば従来公知のいかなるフイルムでもよいが、そ
の内、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポ
リカーボネートフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリエチレンフイルム、ポリエチレンナフタ
レートフイルム、ポリサルホンフイルム、ポリエ
ーテルサルホンフイルム、ナイロンフイルム等が
好ましく用いられる。 The organic polymer film (D) referred to in the present invention does not need to be particularly limited, but for the purpose of applying the laminate of the present invention to a transparent window etc., 550n
It is necessary to have transparency with a transmittance at m of at least 50% or more, preferably 75% or more, and any conventionally known organic polymer film (D) that satisfies this condition may be used. Among them, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film, polypropylene film, polyethylene film, polyethylene naphthalate film, polysulfone film, polyethersulfone film, nylon film, etc. are preferably used.
有機重合体フイルム(D)の厚さは目的によつて適
宜選択可能であるが可撓性の点から10μ〜200μで
ある事が好ましい。又、これらの有機重合体フイ
ルム中にその有機重合体フイルムの機械的特性及
び光学特性を損なわない程度の着色剤、紫外線吸
収剤、安定剤、可塑剤、色素等を含ませても本発
明に用いられる有機重合体フイルムとして何ら差
しつかえない。 The thickness of the organic polymer film (D) can be appropriately selected depending on the purpose, but from the viewpoint of flexibility, it is preferably from 10 μm to 200 μm. Furthermore, the present invention may include coloring agents, ultraviolet absorbers, stabilizers, plasticizers, pigments, etc., to the extent that these organic polymer films do not impair the mechanical properties and optical properties of the organic polymer films. There is no problem with the organic polymer film used.
紫外線吸収剤を添加する場合は積分紫外線光透
過率が10%以下になるように添加する事が好まし
い。 When adding an ultraviolet absorber, it is preferable to add it so that the integrated ultraviolet light transmittance is 10% or less.
本発明の積層体に用いられる金属薄膜層(A)の材
料としては可視光領域の吸収損失が少なく、電気
伝導性の高い金属又は合金ならばいかなるもので
も良いが、中でもとりわけ銀を主成分としている
事が好ましい。他に含有させうる金属としては、
金、銅、アルミニウム等が好ましいが銀の有する
特性を低下せしめない含有量であれば、どの様な
金属を含んでいてもさしつかえない。銀の含有量
は得られる積層体の光学特性を支配する重要な因
子であり、少なくとも50重量%以上含有されてい
る事が好ましい。 The metal thin film layer (A) used in the laminate of the present invention may be made of any metal or alloy as long as it has low absorption loss in the visible light region and has high electrical conductivity. It is preferable to be there. Other metals that can be included include:
Gold, copper, aluminum, etc. are preferred, but any metal may be included as long as it does not reduce the properties of silver. The silver content is an important factor governing the optical properties of the resulting laminate, and is preferably at least 50% by weight.
又、特に赤外反射能の高い積層体を得る為には
金、銀、銅の三元素から選ばれた2種又は3種の
金属からなる合金の金属薄膜層(A)あるいはそれら
の単独の金属薄膜層(A)である事が好ましい。 In addition, in order to obtain a laminate with particularly high infrared reflectivity, a metal thin film layer (A) of an alloy consisting of two or three metals selected from the three elements of gold, silver, and copper, or a single layer of these metals may be used. Preferably, it is a metal thin film layer (A).
金属薄膜層(A)の膜厚は、得られた積層体の光学
特性における要求特性を満足すれば特に限定され
るものではないが、赤外光反射能、又は電気伝導
性をもつためには、少なくともある程度の領域で
膜としての連続性をもつことが必要である。金属
薄膜が島状構造から連続構造にうつる膜厚として
約40Å以上、また本発明の目的である可視光の透
過特性を高くするためには、180Å以下である事
が好ましい。 The thickness of the metal thin film layer (A) is not particularly limited as long as it satisfies the required optical properties of the obtained laminate, but in order to have infrared light reflection ability or electrical conductivity, , it is necessary to have continuity as a film in at least a certain area. It is preferable that the metal thin film has a thickness of about 40 Å or more when it changes from an island-like structure to a continuous structure, and that it is 180 Å or less in order to improve the visible light transmission characteristics, which is the object of the present invention.
積層体が充分な可視光透過率を有するために
は、金属薄膜層(A)の膜厚は約150Å以下である事
が特に好ましい。 In order for the laminate to have sufficient visible light transmittance, the thickness of the metal thin film layer (A) is particularly preferably about 150 Å or less.
金属薄膜層(A)を形成する方法は、例えば真空蒸
着法、カソードスパツタリング法、イオンプレー
テイング法等の他に従来公知のいずれかの方法で
も可能であるが、150Å以下の膜厚で安定な膜を
形成せしむるためにはカソードスパツタリング
法、イオンプレーテイング法等の高エネルギー粒
子による膜形成法が好ましい。特に合金薄膜を得
る場合には、形成薄膜合金組成の均一性、形成薄
膜膜厚の均一性の点からカソードスパツタリング
法が好ましい。 The metal thin film layer (A) can be formed by any conventionally known method in addition to vacuum evaporation, cathode sputtering, ion plating, etc.; In order to form a stable film, film forming methods using high energy particles such as cathode sputtering and ion plating are preferred. In particular, when obtaining an alloy thin film, the cathode sputtering method is preferred from the viewpoint of uniformity of the alloy composition of the formed thin film and uniformity of the thickness of the formed thin film.
また、金属薄膜層(A)を形成する際に薄膜である
金属層の安定化を図るために公知の方法で基板と
なる材料に前処理をほどこす事ができる。これら
の方法は、例えばイオンボンバードメントの様な
クリーニング処理、有機シリケート、有機チタネ
ート、有機ジルコネート化合物の塗工等の下塗り
処理及び/又は金属Ni、Ti、Si、Bi、Zr、V、
Ta等及びこれら金属の酸化物等をスパツタリン
グ等によつて前もつて形成する核形成安定化処理
等があり、積層体の光学特性に悪影響を与えない
範囲で適当に選択して使用すれば良い。これらの
前処理が厚みの増加を伴う処理の場合はその厚さ
は100Å以下である事が好ましい。この前処理と
同様の処理を金属層の上に後処理として行つても
良い。 Furthermore, in order to stabilize the thin metal layer when forming the metal thin film layer (A), the material that will become the substrate can be pretreated by a known method. These methods include, for example, cleaning treatments such as ion bombardment, undercoating treatments such as coating with organic silicates, organic titanates, organic zirconate compounds, and/or metals such as Ni, Ti, Si, Bi, Zr, V,
There is a nucleation stabilization treatment in which Ta and oxides of these metals are preformed by sputtering, etc., and it is sufficient to select and use them as long as they do not adversely affect the optical properties of the laminate. . If these pre-treatments involve an increase in thickness, the thickness is preferably 100 Å or less. A treatment similar to this pre-treatment may be performed on the metal layer as a post-treatment.
本発明の反射防止膜層(B)に用いられる誘電体は
屈折率が1.5以上でありかつ透明なものであれば
効果的である。 The dielectric used for the antireflection film layer (B) of the present invention is effective if it has a refractive index of 1.5 or more and is transparent.
これらに適する誘電体としては、有機重合体、
金属酸化物および金属硫化物等が挙げられる。 Dielectric materials suitable for these include organic polymers,
Examples include metal oxides and metal sulfides.
有機重合体としてはポリメチルメタアクリレー
ト等のアクリレート樹脂、ポリメタアクリロニト
リル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、フエ
ノキシ樹脂等の重合体及び共重合体等透明性の高
い樹脂が好ましい。 As the organic polymer, highly transparent resins such as acrylate resins such as polymethyl methacrylate, acrylic resins such as polymethacrylonitrile, polymers and copolymers such as polystyrene resins and phenoxy resins are preferred.
金属酸化物としては酸化チタン、酸化ケイ素、
酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セ
リウム、酸化アルミニウム等が好ましく用いられ
る。金属硫化物としては硫化亜鉛が好ましく用い
られる。 Metal oxides include titanium oxide, silicon oxide,
Zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, aluminum oxide, etc. are preferably used. Zinc sulfide is preferably used as the metal sulfide.
誘電体の形成方法としては、有機重合体の場
合、適当な樹脂を選び溶解せしめうる溶剤に適当
な濃度に希釈溶解せしめ、小面積であればスピン
コーテイング法、バーコーター塗工法等適する塗
工法で、又大面積の場合、リバースロールコータ
法、グラビアロールコーター法等の方法で塗工形
成する事が可能である。 In the case of organic polymers, the dielectric is formed by diluting and dissolving an appropriate resin in a dissolving solvent to an appropriate concentration, and if the area is small, using a suitable coating method such as spin coating or bar coater coating. In addition, in the case of a large area, it is possible to form the coating by a method such as a reverse roll coater method or a gravure roll coater method.
金属酸化物の場合は、スパツタリング法、真空
蒸着法等の物理形成法及び金属アルコキサイド等
の塗工法等化学形成法によつて形成する事ができ
る。スパツタリング法、真空蒸着法では目的の酸
化物をターゲツトあるいは蒸着源とした通常のス
パツタリング法あるいは真空蒸着法又は目的酸化
物を形成する金属あるいは低級酸化物をターゲツ
トあるいは蒸着源として酸化と反応させながら目
的酸化物を形成せしむる反応性スパツタリング
法、反応性真空蒸着法等で目的の酸化物からなる
誘電体層を形成する事が可能である。 In the case of a metal oxide, it can be formed by a physical forming method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method, or a chemical forming method such as a coating method such as a metal alkoxide method. In the sputtering method and vacuum evaporation method, the target oxide is used as a target or a deposition source, and the target oxide is reacted with oxidation. A dielectric layer made of a desired oxide can be formed by a reactive sputtering method, a reactive vacuum deposition method, or the like, which forms an oxide.
又、金属酸化物に対応する金属アルコキサイド
化合物が存在する場合には金属アルコキサイド化
合物を塗工する事によつて希望する金属酸化物か
らなる誘電体層を形成する事ができる。 Further, when a metal alkoxide compound corresponding to the metal oxide is present, a dielectric layer made of the desired metal oxide can be formed by coating the metal alkoxide compound.
金属アルコキサイド化合物としては、チタニウ
ムアルコキサイド、ジルコニウムアルコキサイ
ド、アルミニウムアルコキサイド及びアルコキシ
シラン等の化合物が用いられる。チタニウムアル
コキサイド化合物としては例えばテトライソプロ
ピルチタネート、テトラブトキシチタネート、テ
トライソオクチルチタネートがあげられ、ジルコ
ニウムアルコキサイド化合物としては例えばテト
ラブトキシジルコネート、テトライソプロピルジ
ルコネートがあげられ、アルミニウムアルコキサ
イド化合物としては例えばアルミニウムブトキサ
イド、アルミニウムプロポキサイドがあげられ、
アルコキシシラン化合物としては例えばモノメチ
ルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシ
シラン、エチルシリケート等の化合物があげられ
る。 As the metal alkoxide compound, compounds such as titanium alkoxide, zirconium alkoxide, aluminum alkoxide, and alkoxysilane are used. Examples of titanium alkoxide compounds include tetraisopropyl titanate, tetrabutoxytitanate, and tetraisooctyltitanate; examples of zirconium alkoxide compounds include tetrabutoxyzirconate and tetraisopropylzirconate; and aluminum alkoxide compounds. Examples include aluminum butoxide and aluminum propoxide.
Examples of the alkoxysilane compound include compounds such as monomethyltrimethoxysilane, monoethyltriethoxysilane, and ethylsilicate.
更にこれらのアセチルアセトネート化物等のキ
レート化物も用いる事ができるし、又これら金属
アルコキサイド化合物は単量体であつても適当な
縮合体であつても良い(以下総称して「金属アル
コキサイド等」と称する事あり)。 Furthermore, chelated products such as acetylacetonates of these compounds can also be used, and these metal alkoxide compounds may be monomers or appropriate condensates (hereinafter collectively referred to as "metal alkoxides, etc."). ).
これら化合物は金属原子に結合しているアルコ
キシ基を公知の方法によつてエステル交換し、又
縮合させる事が可能である。又これら化合物は、
例えばアルコキシシラン化合物とチタニウムアル
コキサイドの混合物といつた様に適度に多成分を
目的に応じて混合して用いる事も可能であり、こ
れらの操作によつて得られる薄膜の屈折率を制御
する事が可能である。 In these compounds, an alkoxy group bonded to a metal atom can be transesterified or condensed by a known method. Also, these compounds are
For example, it is possible to use a mixture of multiple components depending on the purpose, such as a mixture of an alkoxysilane compound and titanium alkoxide, and the refractive index of the thin film obtained by these operations can be controlled. things are possible.
又、これら金属アルコキサイド等に、その光学
特性を損なわない程度の添加物、例えば縮合触媒
等が含有されていても本発明の効果には何らさし
つかえない。 Further, even if these metal alkoxides and the like contain additives such as condensation catalysts to an extent that does not impair their optical properties, the effects of the present invention will not be affected in any way.
金属アルコキサイドから誘電体を形成する方法
としては、金属アルコキサイド等を溶解しうる溶
剤に適当な濃度の金属アルコキサイド等を溶解せ
しめ、小面積であればスピンコーテイング、バー
コータ又はドクターナイフ等で塗工し大面積であ
ればグラビアロールコーターなどで塗工し、しか
るのち乾燥する事によつて形成することができ
る。 A method for forming a dielectric material from metal alkoxide is to dissolve metal alkoxide, etc. at an appropriate concentration in a solvent that can dissolve metal alkoxide, etc. If the area is small, it can be coated with spin coating, a bar coater, a doctor knife, etc. If the area is large enough, it can be formed by coating with a gravure roll coater or the like and then drying.
かかる方法によつて形成される反射防止膜(B)の
膜厚は金属層(A)に対する反射防止効果が最大にな
る様に設定される事が好ましいが、最適膜厚より
ずれていても反射防止効果が発現されていれば適
宜選択が可能である。反射防止膜(B)を構成する誘
電体の屈折率及び金属層(A)の膜厚にも関連する
が、反射防止膜(B)の膜厚は50Åから1000Åである
事が好ましい。 The thickness of the anti-reflection film (B) formed by this method is preferably set so as to maximize the anti-reflection effect on the metal layer (A), but even if the film thickness deviates from the optimum thickness, the film will not reflect. An appropriate selection can be made as long as the preventive effect is achieved. Although it is related to the refractive index of the dielectric material constituting the anti-reflection film (B) and the thickness of the metal layer (A), the thickness of the anti-reflection film (B) is preferably from 50 Å to 1000 Å.
本発明における波長800nmから1200nmの間に
吸収ピークを有する近赤外線吸収剤を含有する薄
膜層(C)は、近赤外線吸収剤を含有する有機樹脂層
から形成される。 The thin film layer (C) containing a near-infrared absorber having an absorption peak between wavelengths of 800 nm to 1200 nm in the present invention is formed from an organic resin layer containing a near-infrared absorber.
近赤外線吸収剤としては、例えばガラス中の
FeO等の鉄化合物、硫酸銅等のCuイオン化合物、
フタロシアニン銅等の銅錯体等が知られている
が、本発明に好適な近赤外線吸収剤としては特公
昭46−3452号公報に見られる様な下記一般式
C:炭素原子
S:イオウ原子
R:アルキル基
M:金属原子
で示されるビス〔シス−1,2−ビス(アルキ
ル)エチレン−1,2−ジチオレート〕金属錯体
化合物、
あるいはJ.Am,Chem.Soc 88 43(1966)
にH.B.Grayらによつて示される〔ビス(トルエ
ン−3,4−ジチオール)〕金属錯体化合物等が
好ましく用いられる。また、三井東圧フアイン(株)
の近赤外吸収剤〔IR ABSORBERPA−1001、
PA−1002、PA−1003、PA−1005、PA−1006〕
等は簡便に本発明に用いる事ができる。 Examples of near-infrared absorbers include
Iron compounds such as FeO, Cu ion compounds such as copper sulfate,
Copper complexes such as copper phthalocyanine are known, but as near-infrared absorbers suitable for the present invention, the following general formula as seen in Japanese Patent Publication No. 1983-3452 is used. C: carbon atom S: sulfur atom R: alkyl group M: bis[cis-1,2-bis(alkyl)ethylene-1,2-dithiolate] metal complex compound represented by a metal atom, or J.Am, Chem. Soc 88 43 (1966)
The [bis(toluene-3,4-dithiol)] metal complex compound shown by HBGray et al. is preferably used. In addition, Mitsui Toatsu Huain Co., Ltd.
Near-infrared absorber [IR ABSORBERPA-1001,
PA−1002, PA−1003, PA−1005, PA−1006〕
etc. can be easily used in the present invention.
また、特に〔ビス(1−メチル−3,4−ジチ
オフエノレート)ニツケル〕テトラブチルアンモ
ニウム、〔ビス(1−メチル−3,4−ジチオフ
エノレート)プラチナ〕テトラブチルアンモニウ
ム、〔ビス(1−クロル−3,4−ジチオフエノ
レート)ニツケル〕テトラブチルアンモニウム、
〔ビス(1−クロル−3,4−ジチオフエノレー
ト)プラチナ〕テトラブチルアンモニウム等の
Ni、Pt、等の金属核とした3,4−ジチオフエ
ノレート系錯体が本発明には好適に用いられる。 In particular, [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)nickel]tetrabutylammonium, [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)platinum]tetrabutylammonium, [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)platinum]tetrabutylammonium, chloro-3,4-dithiophenolate)nickel]tetrabutylammonium,
[Bis(1-chloro-3,4-dithiophenolate)platinum]tetrabutylammonium, etc.
A 3,4-dithiophenolate complex having a metal core such as Ni or Pt is preferably used in the present invention.
かかる近赤外線吸収剤は適当な有機樹脂例えば
アクリレート樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹
脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、アセタール樹脂あるいはそれらの共重合
組成物を適用な溶剤に溶解せしめた溶液に混合あ
るいは溶解せしめ、塗工する事によつて適当な濃
度に近赤外線吸収剤を含有した薄膜層(C)を任意の
膜厚に形成する事が可能である。 Such a near-infrared absorber can be mixed with a solution of a suitable organic resin such as an acrylate resin, an acrylic resin, a urethane resin, a styrene resin, a polyester resin, a vinyl acetate resin, an acetal resin, or a copolymer composition thereof in an appropriate solvent. Alternatively, by dissolving and coating, it is possible to form a thin film layer (C) containing a near-infrared absorber at an appropriate concentration to an arbitrary thickness.
又、近赤外線吸収剤が基板として選ばれた有機
重合体フイルム(D)に可溶な場合には有機重合体フ
イルム(D)に練り込み等の方法で混入せしめる事も
できる。この場合には近赤外吸収剤を含有する薄
膜層(C)は省略しても差し支えない。 Furthermore, if the near-infrared absorber is soluble in the organic polymer film (D) selected as the substrate, it can be mixed into the organic polymer film (D) by kneading or the like. In this case, the thin film layer (C) containing the near-infrared absorber may be omitted.
又、近赤外吸収剤を含有せしめた有機シート、
例えばポリメチルメタアクリレート樹脂板、ポリ
塩化ビニル樹脂板を有機重合体フイルム(D)とラミ
ネートし、両者を合せて有機重合体フイルム(D)と
して基板に用いる事も可能である。 In addition, an organic sheet containing a near-infrared absorber,
For example, it is also possible to laminate a polymethyl methacrylate resin plate or a polyvinyl chloride resin plate with an organic polymer film (D), and use the combination as an organic polymer film (D) as a substrate.
薄膜層(C)あるいは有機重合体(D)に含有せしむる
近赤外吸収剤の濃度は使用する樹脂100重量部に
対して0.01重量部から30重量部〔0.01phr(per
hundred resin)から30phr〕である事が好まし
く、使用する有機樹脂との相溶性との関連、及び
薄膜層(C)との膜厚との関連から適宜濃度を選択し
て使用する必要がある。 The concentration of the near-infrared absorber contained in the thin film layer (C) or the organic polymer (D) is 0.01 to 30 parts by weight [0.01 phr (per
100 resin) to 30 phr], and it is necessary to select an appropriate concentration in relation to the compatibility with the organic resin used and the film thickness with the thin film layer (C).
薄膜層(C)の膜厚は含有せしむる近赤外吸収剤の
濃度によつて近赤外吸収能の効果を考えながら適
宜決定すれば良い。この時好ましくは使用する近
赤外吸収剤の吸収ピーク(800nm〜1200nm)に
おける透過率が30%以下かつ0.5%以上である事
が本発明における相乗効果を考えた場合好まし
い。 The thickness of the thin film layer (C) may be appropriately determined depending on the concentration of the near-infrared absorber contained, taking into consideration the effect of the near-infrared absorbing ability. Considering the synergistic effect in the present invention, it is preferable that the near-infrared absorbent used at this time has a transmittance of 30% or less and 0.5% or more at the absorption peak (800 nm to 1200 nm).
又、かかる薄膜層(C)中に、安定剤、紫外線吸収
剤、酸化防止剤等を含有せしめても良い。 Further, such a thin film layer (C) may contain a stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, etc.
紫外線吸収剤を添加する場合は、積分紫外光透
過率が10%以下になる様に添加することが好まし
い。 When adding an ultraviolet absorber, it is preferably added so that the integrated ultraviolet light transmittance is 10% or less.
かかる本発明の光選択透過機能性シートはその
特長として
(1) 可撓性にすぐれている
(2) 大面積にわたつて光学的に均一である
(3) 積分可視透過率が70%以上と非常に明るくか
つ積分近赤外透過率が50%以下と太陽エネルギ
ー遮断特性にすぐれている
等が挙げられる。 The selective light transmission functional sheet of the present invention has the following characteristics: (1) It has excellent flexibility, (2) It is optically uniform over a large area, and (3) It has an integrated visible transmittance of 70% or more. It is extremely bright, has an integrated near-infrared transmittance of less than 50%, and has excellent solar energy blocking properties.
かかる光選択透過機能性シートは、その用途に
応じて使用されるが、例えば建物窓等に使用され
る場合には窓等の硝子に粘着剤等を介して直接貼
付する方法あるいは被層ガラスの間に展張して使
用する方法等が考えられ、自動車等の窓部に使用
される場合には安全硝子として知られている合せ
硝子の中にポリビニルブチラールを介して入れる
事ができる。 Such selective light transmission functional sheets are used depending on their purpose, but for example, when used for building windows, etc., they can be applied directly to the glass of the window etc. using an adhesive, or they can be applied to the glass as a layer. One possible method is to use it by spreading it between layers, and when it is used in the windows of automobiles, it can be inserted into laminated glass known as safety glass through polyvinyl butyral.
この場合、本発明の光選択透過機能性シートに
対して公知の方法で接着促進剤、接着剤、粘着剤
を付与し使用に供すれば良い。 In this case, an adhesion promoter, an adhesive, or a pressure-sensitive adhesive may be applied to the selectively transmitting light functional sheet of the present invention by a known method before use.
特に本発明の光選択透過機能性シートを自動
車、車輌、航空機及び建物等の安全硝子の中に入
れて使用する場合にはAgを含有する金属層、反
射防止層及び近赤外吸収剤の相乗効果により可視
部の透過率が高く、可視部の反射率も15%以下、
好ましくは12%以下、最も好ましくは10%以下と
ガラスとほぼ同等とすることができ、太陽エネル
ギー遮断率に優れた構成体とすることが可能とな
る。 In particular, when the selective light transmission functional sheet of the present invention is used in safety glass for automobiles, vehicles, aircraft, buildings, etc., the synergy of the metal layer containing Ag, the antireflection layer, and the near-infrared absorber Due to the effect, the transmittance in the visible part is high, and the reflectance in the visible part is less than 15%,
It is preferably 12% or less, most preferably 10% or less, which is almost equivalent to glass, and it is possible to obtain a structure with excellent solar energy shielding rate.
この様に本発明の積層体を使用する事により、
従来技術では到達不可能な優れた特性を有する各
種構成体を得ることが可能である。 By using the laminate of the present invention in this way,
It is possible to obtain various structures with excellent properties that are unattainable with the prior art.
この様に本発明の選択光透過機能性シートは使
用目的に応じて適宜最適の使用形態を選択する事
が可能であり、太陽エネルギーの入射制御のみな
らずあらゆる熱線輻射防止の分野において有効に
使用することができる。 In this way, the selective light transmission functional sheet of the present invention can be used in an optimal manner depending on the purpose of use, and can be effectively used not only in controlling the incidence of solar energy but also in all fields of heat radiation prevention. can do.
本発明に於ける光学性能は、日立製作所(株)製自
記分光光度計330型で測定し、
丸硝子研究報告 1971年第21巻
「窓ガラスの冷房負荷計算法について」
積分紫外透過率 300〜390nm
積分可視透過率 400〜700nm
積分近赤外透過率 750〜2100nm
で計算した。 The optical performance in the present invention was measured with a self-recording spectrophotometer model 330 manufactured by Hitachi, Ltd., and was determined by the integral ultraviolet transmittance of 300 ~ Calculated using 390nm, integrated visible transmittance, 400-700nm, and integrated near-infrared transmittance, 750-2100nm.
また、特に積分可視透過率はJIS−R3212法に
よつても計算(400〜760nm)し、得られた値の
大きい方を採用した。 Moreover, in particular, the integral visible transmittance was also calculated by the JIS-R3212 method (400 to 760 nm), and the larger value obtained was adopted.
以下、本発明の具体例について実施例を説明す
る。 Examples of specific examples of the present invention will be described below.
実施例 1
2軸延伸した厚さ50μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムを基板とし、その上に第1層と
して厚さ80Åの銀銅合金薄膜層(銅を10重量%含
有)、第2層として厚さ200Åのテトラブトキシジ
ルコネートから形成された透明誘電体層、第3層
として厚さ2μのポリメタアクリロニトリルから
なる近赤外吸収剤を含む(近赤外吸収剤を10phr
含有)薄膜層からなる選択光透過性シートを形成
した。Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 50 μm was used as a substrate, and on top of that a silver-copper alloy thin film layer with a thickness of 80 Å (containing 10% by weight copper) as the first layer, and a 200 Å thick layer as the second layer. a transparent dielectric layer formed from tetrabutoxyzirconate, and a near-infrared absorber made of polymethacrylonitrile with a thickness of 2μ as the third layer (near-infrared absorber was added at 10 phr).
A selectively transparent sheet consisting of a thin film layer was formed.
銅を10重量%含む銀銅合金薄膜層は、銅を10重
量%含む銀−銅合金をターゲツトとしArガス圧
力5×10-3TorrにおけるDCマグネトロンスパツ
タリングによつて形成した。 A silver-copper alloy thin film layer containing 10% by weight of copper was formed by DC magnetron sputtering at an Ar gas pressure of 5×10 -3 Torr, targeting a silver-copper alloy containing 10% by weight of copper.
投入電力は、ターゲツトの単位面積あたり
2W/cm2であつた。 The input power is per unit area of the target.
It was 2W/ cm2 .
透明誘電体層は、テトラブトキシジルコネート
の単量体をブタノール3部、ノルマルヘキサン2
部からなる溶剤に7重量%溶解せしめ更にテトラ
ブトキシジルコネートと等モル量のアセチルアセ
トンを添加した溶液をバーコータを用いて塗工
し、120℃で3分間乾燥する事によつて得た。 The transparent dielectric layer is made by mixing tetrabutoxyzirconate monomers with 3 parts of butanol and 2 parts of n-hexane.
A solution containing 7% by weight of acetylacetone dissolved in a solvent consisting of 50% of tetrabutoxyzirconate and an equimolar amount of tetrabutoxyzirconate was coated using a bar coater and dried at 120°C for 3 minutes.
ポリメタアクロニトリルからなる近赤外吸収剤
を含む薄膜層はポリメタアクロリニトリル10部と
10phrの〔ビス(1−メチル−3,4ジチオフエ
ノレート)ニツケル〕テトラ−n−ブチルアンモ
ニウムを重量比1:1のシクロヘキサノン/メチ
ルエチルケトン混合溶剤に溶解せしめてポリメタ
アクロニトリル10重量%の溶液を作成し、バーコ
ーターで塗工後、130℃で2分乾燥せしめて厚さ
2μの近赤外吸収剤を含む薄膜層を形成した。 The thin film layer containing the near-infrared absorber made of polymethacronitrile is made of 10 parts of polymethacronitrile.
10 phr of [bis(1-methyl-3,4 dithiophenolate)nickel]tetra-n-butylammonium was dissolved in a mixed solvent of cyclohexanone/methyl ethyl ketone at a weight ratio of 1:1 to form a 10% by weight solution of polymethacronitrile. After coating with a bar coater, dry at 130℃ for 2 minutes to obtain the desired thickness.
A thin film layer containing a 2μ near-infrared absorber was formed.
得られた積層体の積分可視透過率(JIS−
R3212)は82%、近赤外光透過率は37%であつ
た。 The integrated visible transmittance (JIS-
R3212) was 82%, and near-infrared light transmittance was 37%.
比較例 1
実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に実施例1と同様の方法で第1層とし
て厚さ80ÅのAg・Cu金属薄膜層を第2層として
厚さ200Åのテトラブトキシジルコニウムから形
成された酸化ジルコニウム層を形成した。Comparative Example 1 On the polyethylene terephthalate film used in Example 1, a first layer of an 80 Å thick Ag/Cu metal thin film layer was formed using the same method as in Example 1, and a 200 Å thick tetrabutoxyzirconium second layer was formed. A zirconium oxide layer was formed.
得られた積層体の積分可視透過率は86%、近赤
外光透過率は65%であつた。 The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 86% and a near-infrared light transmittance of 65%.
比較例 2
実施例1で用いたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に実施例1と同様の方法で厚さ2μの
ポリメタアクリロニトリルからなる近赤吸収剤
〔ビス(1メチル−3,4ジチオフエノレート)
ニツケル〕テトラブチルアンモニウムを含有する
薄膜層を形成した。得られた積層体の積分可視透
過率は87%、近赤外透過率は77%であつた。Comparative Example 2 A near-red absorber made of polymethacrylonitrile [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)] having a thickness of 2μ was applied on the polyethylene terephthalate film used in Example 1 in the same manner as in Example 1.
A thin film layer containing tetrabutylammonium (nickel) was formed. The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 87% and a near-infrared transmittance of 77%.
実施例 2
厚さ75μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム上に、厚さ10Åの金属チタンから形
成された前処理層、厚さ120Åの銅を5重量%含
む銀銅合金薄膜層、厚さ20Åの金属チタンから形
成された後処理層、厚さ150Åのテトラブトキシ
チタネートから形成された酸化チタンからなる透
明誘電体層を順次積層してなる積層体を得た。銅
を5重量%含む銀銅合金薄膜層は銅を5重量%含
む銀銅合金層をターゲツトとしてDCマグネトロ
ンスパツタリング法により実施例1と同様の方法
で形成した。金属チタンから形成された前処理層
及び後処理層は金属チタンをターゲツトとした
RFマグネトロンスパツタリングで金属チタンの
薄膜として形成した。テトラブトキシチタンネー
トから形成された透明誘電体層は、ブタノール3
部、トルエン1部からなる溶剤に5重量%のテト
ラブトキシチタネートを溶解せしめ、バーコータ
ーで塗工し130℃で3分間乾燥して得た。Example 2 On a 75 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a 10 Å thick pretreatment layer formed of metallic titanium, a 120 Å thick silver-copper alloy thin film layer containing 5% by weight of copper, a 20 Å thick A laminate was obtained by sequentially laminating a post-treatment layer made of metallic titanium and a 150 Å thick transparent dielectric layer made of titanium oxide made of tetrabutoxy titanate. A silver-copper alloy thin film layer containing 5% by weight of copper was formed in the same manner as in Example 1 by DC magnetron sputtering using the silver-copper alloy layer containing 5% by weight of copper as a target. The pre-treatment layer and post-treatment layer formed from metallic titanium target metallic titanium.
It was formed as a thin film of metallic titanium by RF magnetron sputtering. The transparent dielectric layer formed from tetrabutoxy titanate is made from butanol 3
5 wt.
得られた積層体の未加工面(ポリエステル裏
面)に〔ビス(1メチル3,4ジチオフエノレー
ト)ニツケル〕テトラブチルアンモニウムを近赤
外線吸収剤として含むポリスチレンからなる厚さ
4μの薄膜層を形成した。近赤外線吸収剤を含有
する薄膜層は、ビス(1メチル3,4ジチオフエ
ノレート)ニツケルテトラブチルアンモニウムを
5phr、ポリスチレン20部をメチルエチルケトン
60部、トルエン20部に溶解しバーコータで塗工
後、120℃で1分乾燥せしめて得た。 The unprocessed surface (polyester back surface) of the obtained laminate has a thickness of polystyrene containing [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)nickel]tetrabutylammonium as a near-infrared absorber.
A 4μ thin film layer was formed. The thin film layer containing the near-infrared absorber is made of bis(1 methyl 3,4 dithiophenolate) nickel tetrabutylammonium.
5phr, 20 parts polystyrene to methyl ethyl ketone
60 parts of toluene, coated with a bar coater, and dried at 120°C for 1 minute.
得られた光選択透過性積層体の積分可視光透過
率は82%、近赤外光透過率は35%であつた。 The integrated visible light transmittance of the obtained light selectively transmitting laminate was 82%, and the near-infrared light transmittance was 35%.
実施例 3
厚さ50μの二軸延伸ポリエステルフイルム上に
厚さ100Åの酸化チタン層、厚さ100ÅのAg金属
層、厚さ200Åの酸化チタン層を順次積層しかつ
ポリエステルフイルムの裏面に近赤外線吸収剤を
含むポリメタアクリロニトリル層を厚さ2μ設け
た積層体を得た。Example 3 A titanium oxide layer with a thickness of 100 Å, an Ag metal layer with a thickness of 100 Å, and a titanium oxide layer with a thickness of 200 Å were sequentially laminated on a biaxially stretched polyester film with a thickness of 50 μ, and near-infrared absorption was applied to the back side of the polyester film. A laminate was obtained in which a polymethacrylonitrile layer containing the agent was provided with a thickness of 2 μm.
厚さ100Å、200Åの酸化チタン層は、酸化チタ
ンをターゲツトとしたRFマグネトロンスパツタ
リング法でAr圧力5×10-3Torr,RFパワー
2W/cm2を投入してそれぞれ折出時間を変化させ
て得た。厚さ100ÅのAg金属層はAg金属をター
ゲツトとしたDCマグネトロンスパツタリング法
で、Ar圧力5×10-3Torr,DCパワー3W/cm2を
投入して得た。 Titanium oxide layers with thicknesses of 100 Å and 200 Å were created using RF magnetron sputtering using titanium oxide as a target at an Ar pressure of 5×10 -3 Torr and RF power.
The samples were obtained by adding 2 W/cm 2 and varying the precipitation time. The Ag metal layer with a thickness of 100 Å was obtained by DC magnetron sputtering using Ag metal as a target at an Ar pressure of 5×10 −3 Torr and a DC power of 3 W/cm 2 .
近赤外線吸収剤を含有したポリメタアクリロニ
トリル層は、〔ビス(1メチル−3,4ジチオフ
エノレート)ニツケル〕テトラブチルアンモニウ
ム10phr、ポリメタアクロニトリル10部、シクロ
ヘキサノン40部、メチルエチルケトン50部からな
る溶液をバーコータで塗工し130℃に2分間乾燥
して得た。 The polymethacrylonitrile layer containing the near-infrared absorber was prepared using a solution consisting of 10 phr of [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate)nickel]tetrabutylammonium, 10 parts of polymethacrylonitrile, 40 parts of cyclohexanone, and 50 parts of methyl ethyl ketone. was coated with a bar coater and dried at 130°C for 2 minutes.
得られた積層体の積分可視透過率は80%であり
近赤透過率は32%であつた。 The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 80% and a near-red transmittance of 32%.
実施例 4
実施例3で得られた選択透過性シートの両側に
厚さ380μmのポリビニルブチラールシートをラ
ミネートししかるのち厚さ3mmの硝子板で両側を
サンドイツチした。かかる積層物を90℃の温度で
1Kg/cm2の圧力を印加しながら60分間保持し完全
に接着せしめた後、更に120℃15Kg/cm2の高温高
圧条件で処理した。得られた積層物の積分可視透
過率は75%であり、近赤外光透過率は28%、積分
可視反射率は11%であつた。Example 4 A polyvinyl butyral sheet having a thickness of 380 μm was laminated on both sides of the permselective sheet obtained in Example 3, and then both sides were sandwiched with a glass plate having a thickness of 3 mm. The laminate was held at a temperature of 90° C. for 60 minutes while applying a pressure of 1 kg/cm 2 to completely adhere, and then further treated at a high temperature and pressure of 15 kg/cm 2 at 120° C. The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 75%, a near-infrared light transmittance of 28%, and an integrated visible reflectance of 11%.
実施例 5
2軸延伸した厚さ100μmのポリエチレンテレ
フタレートフイルムを基板とし、第1層として厚
さ4μのアクリロニトリル−スチレン共重合体か
らなる近赤外吸収剤を含む薄膜層、第2層として
金を20重量%含む厚さ100Åの銀金属層、第3層
として厚さ800Åのポリスチレンからなる透明誘
電体層を形成した。Example 5 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 100 μm was used as a substrate, the first layer was a thin film layer containing a near-infrared absorber made of acrylonitrile-styrene copolymer with a thickness of 4 μm, and the second layer was gold. A silver metal layer with a thickness of 100 Å containing 20% by weight, and a transparent dielectric layer made of polystyrene with a thickness of 800 Å as the third layer were formed.
近赤外吸収剤を含む薄膜層は、アクリロニトリ
ル−スチレン共重合体(アクリロニトリル30モル
%)10部、メチルエチルケトン60部、シクロヘキ
サノン30部、〔ビス(1メチル3,4ジチオフエ
ノレート)白金〕テトラール−ブチルアンモニウ
ム10phrを混合溶解せしめ、バーコータで塗工し
120℃で2分間乾燥して得た。 The thin film layer containing the near-infrared absorber was made of 10 parts of acrylonitrile-styrene copolymer (acrylonitrile 30 mol%), 60 parts of methyl ethyl ketone, 30 parts of cyclohexanone, [bis(1-methyl-3,4-dithiophenolate) platinum] tetral- Mix and dissolve butylammonium 10 phr and coat with a bar coater.
It was obtained by drying at 120°C for 2 minutes.
金を20重量%含む銀金属層は、金を20重量%含
む銀金属板をターゲツトとしDCマグネトロンス
パツタリング法でAr圧力8×10-3Torr,DCパワ
ー3W/cm2を投入して得た。 A silver metal layer containing 20% by weight of gold was obtained by using a DC magnetron sputtering method with an Ar pressure of 8×10 -3 Torr and a DC power of 3W/cm 2 using a silver metal plate containing 20% by weight of gold as a target. Ta.
ポリスチレンからなる透明誘電体層は、ポリス
チレン4部をトルエン16部、メチルエチルケトン
70部、アセトン10部からなる溶剤に混合溶解せし
め、かかる溶液をバーコータで塗工後120℃で2
分間乾燥せしめて得た。 The transparent dielectric layer made of polystyrene is made by mixing 4 parts of polystyrene with 16 parts of toluene and methyl ethyl ketone.
Mix and dissolve in a solvent consisting of 70 parts and 10 parts of acetone, coat the solution with a bar coater, and then coat at 120℃ for 2 hours.
It was obtained by drying for a minute.
得られた積層体の積分可視透過率は75%、近赤
透過率は36%であつた。 The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 75% and a near-infrared transmittance of 36%.
実施例 6
2軸延伸した厚さ7μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムを基板とし、第1層として厚さ
90Åの銅を10重量%含有する銀金属層を、第2層
として厚さ300Åの酸化ジルコニウム層、第3層
として厚さ15μのポリビニルブチラールからなる
近赤外吸収剤を含有する層を順次積層してなる積
層体を構成した。Example 6 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 7 μm was used as the substrate, and the thickness was
A 90 Å silver metal layer containing 10% copper by weight is laminated in sequence, followed by a 300 Å thick zirconium oxide layer as the second layer, and a 15 μ thick layer containing a near-infrared absorber made of polyvinyl butyral as the third layer. A laminate was constructed.
厚さ90Åの銅を10重量%含有する銀金属層は、
銅を10重量%含有する銀銅合金からなるターゲツ
トを使用しDCマグネトロンスパツタリング法で
形成した。 A silver metal layer containing 10 wt% copper with a thickness of 90 Å is
It was formed by DC magnetron sputtering using a target made of a silver-copper alloy containing 10% by weight of copper.
厚さ300Åの酸化ジルコニウム層は、テトラブ
トキシジルコニウム単量体5部、アセチルアセト
ン2部、n−ブタノール50部、ノルマルヘキサン
33部、イソプロパノール10部からなる溶液をバー
コータで塗工し130℃で3分間乾燥して得た。 The zirconium oxide layer with a thickness of 300 Å was made of 5 parts of tetrabutoxyzirconium monomer, 2 parts of acetylacetone, 50 parts of n-butanol, and n-hexane.
A solution consisting of 33 parts and 10 parts of isopropanol was coated using a bar coater and dried at 130°C for 3 minutes.
厚さ15μのポリビニルブチラールからなる近赤
外吸収剤を含有する層は、ポリビニルブチラール
20部、エタノール15部、シクロヘキサノン65部か
らなる溶液に〔ビス(1−メチル−3,4ジチオ
フエノレート)白金〕テトラ−n−ブチルアンモ
ニウムを2phr溶解せしめた後、バーコーターで
塗工し100℃で2分間乾燥して得た。 The layer containing a near-infrared absorber made of polyvinyl butyral with a thickness of 15μ is made of polyvinyl butyral.
After dissolving 2 phr of [bis(1-methyl-3,4 dithiophenolate) platinum]tetra-n-butylammonium in a solution consisting of 20 parts of ethanol, 15 parts of ethanol, and 65 parts of cyclohexanone, the solution was coated with a bar coater to 100 parts of cyclohexanone. It was obtained by drying at ℃ for 2 minutes.
得られた積層体の積分可視透過率は82%、近赤
外光透過率は32%であつた。 The resulting laminate had an integrated visible transmittance of 82% and a near-infrared light transmittance of 32%.
Claims (1)
Åの金属層(A); 屈折率1.5以上の誘電体からなる反射防止膜層
(B); 波長800nmから1200nmの間に吸収ピークを有
する近赤外線吸収剤を含有する薄膜層(C);及び 有機重合体フイルム(D)を有する光選択透過機能
性シートであつて、上記各層は (B)/(A)/(B)/(C)/(D)、又は (B)/(A)/(C)/(D)、又は (B)/(A)/(B)/(D)/(C)、又は (B)/(A)/(D)/(C)、又は、 (C)/(B)/(A)/(B)/(D)あるいは (C)/(B)/(A)/(D)の順に順次積層されてなる事を
特徴とし、 かつ光学特性が積層可視光透過率70%以上、積
分近赤外光透過率50%以下である光選択透過機能
性シート。[Claims] 1. Thickness from 40 Å to 180 Å containing 50% by weight or more of Ag metal
Å metal layer (A); anti-reflection coating layer made of dielectric material with a refractive index of 1.5 or more
(B); A thin film layer containing a near-infrared absorber having an absorption peak between 800 nm and 1200 nm; (C); and an organic polymer film (D). A light selective transmission functional sheet, which comprises each of the above layers. is (B)/(A)/(B)/(C)/(D), or (B)/(A)/(C)/(D), or (B)/(A)/(B) /(D)/(C), or (B)/(A)/(D)/(C), or (C)/(B)/(A)/(B)/(D) or (C ) / (B) / (A) / (D) are sequentially laminated in the order, and the optical properties are that the laminated visible light transmittance is 70% or more and the integrated near-infrared light transmittance is 50% or less. Selective light transmission functional sheet.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2384283A JPS59151108A (en) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | Sheet having optically selective transmittability |
| US06/581,001 US4590118A (en) | 1983-02-17 | 1984-02-16 | Selective light transmission sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2384283A JPS59151108A (en) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | Sheet having optically selective transmittability |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59151108A JPS59151108A (en) | 1984-08-29 |
| JPH0339281B2 true JPH0339281B2 (en) | 1991-06-13 |
Family
ID=12121650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2384283A Granted JPS59151108A (en) | 1983-02-17 | 1983-02-17 | Sheet having optically selective transmittability |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59151108A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09140275A (en) * | 1995-11-22 | 1997-06-03 | Kureha Chem Ind Co Ltd | Heat ray absorber |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH09208863A (en) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Kureha Chem Ind Co Ltd | Heat-absorbing coating composition and method for imparting heat-absorbing property |
| JP3764069B2 (en) * | 1996-04-18 | 2006-04-05 | カネボウ株式会社 | Multi-layer panel including near-infrared absorbing film and video output device using the same |
| US5811923A (en) * | 1996-12-23 | 1998-09-22 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Plasma display panel with infrared absorbing coating |
| US6262830B1 (en) | 1997-09-16 | 2001-07-17 | Michael Scalora | Transparent metallo-dielectric photonic band gap structure |
| US5907427A (en) | 1997-10-24 | 1999-05-25 | Time Domain Corporation | Photonic band gap device and method using a periodicity defect region to increase photonic signal delay |
| US6304366B1 (en) | 1998-04-02 | 2001-10-16 | Michael Scalora | Photonic signal frequency conversion using a photonic band gap structure |
| US6396617B1 (en) | 1999-05-17 | 2002-05-28 | Michael Scalora | Photonic band gap device and method using a periodicity defect region doped with a gain medium to increase photonic signal delay |
| US6538794B1 (en) | 1999-09-30 | 2003-03-25 | D'aguanno Giuseppe | Efficient non-linear phase shifting using a photonic band gap structure |
| US6414780B1 (en) | 1999-12-23 | 2002-07-02 | D'aguanno Giuseppe | Photonic signal reflectivity and transmissivity control using a photonic band gap structure |
| US6339493B1 (en) | 1999-12-23 | 2002-01-15 | Michael Scalora | Apparatus and method for controlling optics propagation based on a transparent metal stack |
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5752829A (en) * | 1980-09-13 | 1982-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | Optical sensor |
| JPS6033006Y2 (en) * | 1980-12-22 | 1985-10-02 | 帝人株式会社 | Selective light transmitting laminate |
-
1983
- 1983-02-17 JP JP2384283A patent/JPS59151108A/en active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59151108A (en) | 1984-08-29 |
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