JPH035020B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH035020B2 JPH035020B2 JP59125743A JP12574384A JPH035020B2 JP H035020 B2 JPH035020 B2 JP H035020B2 JP 59125743 A JP59125743 A JP 59125743A JP 12574384 A JP12574384 A JP 12574384A JP H035020 B2 JPH035020 B2 JP H035020B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- scanning
- supplied
- electron
- circuits
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 22
- 230000005465 channeling Effects 0.000 claims description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 9
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 7
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/2955—Electron or ion diffraction tubes using scanning ray
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はエレクトロンチヤンネリングパターン
を表示することのできる電子線装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electron beam device capable of displaying electron channeling patterns.
[従来の技術]
第1図に示すように、試料Sに対する電子線の
照射点を入射点Pを固定した状態において、電子
線をθx,θyの方向に順次角度走査すれば、ブラ
ツグ条件を満す角度の軌跡として表示画面上に結
晶面と平行な2本の線が表示される。尚、OLは
対物レンズを示している。このような2本の線の
集合から成る像はエレクトロンチヤンネリングパ
ターンと呼ばれており、このエレクトロンチヤン
ネリングパターンを解析することにより結晶の面
癖、結晶粒界や異相間の結晶方位関係等を知るこ
とができるため、近時エレクトロンチヤンネリン
グパターンの観察が広く行なわれるようになつ
た。[Prior Art] As shown in Fig. 1, if the electron beam is sequentially angularly scanned in the directions of θx and θy while the incident point P is fixed as the irradiation point of the electron beam on the sample S, the bragg condition is satisfied. Two lines parallel to the crystal plane are displayed on the display screen as the trajectory of the angle. Note that OL indicates an objective lens. An image consisting of a set of two lines like this is called an electron channeling pattern, and by analyzing this electron channeling pattern, we can understand the crystal surface habit, grain boundaries, and crystal orientation relationships between different phases. Observation of electron channeling patterns has recently become widespread because it allows us to know things like this.
第2図はエレクトロンチヤンネリングパターン
の観察を行なうための従来装置を示すためのもの
で、図中1は電子銃であり、この電子銃1よりの
電子線EBは集束レンズ2,3により集束された
後、対物絞り4を通過して偏向系に入射する。偏
向系はX(水平)及びY(垂直)方向走査用の第1
段の走査コイル5ax,5ayと、第2段のX及び
Y方向走査用の走査コイル5bx,5by及び走査
コイル5ax,5ayのすぐ外側に配置された第1
段のアライメント用コイル6ax,6ay及び走査コ
イル5bx,5byのすぐ外側に配置されたアライ
メント用コイル6bx,6byより成つている。こ
れらアライメントコイル6ax,6ay,6bx,6
byには、偏向電源7ax,7ay,7bx,7byより
の偏向電流が供給できるようになつている。各走
査コイル及びアライメントコイルによつて偏向さ
れた電子線EBはダイナミツクフオーカスレンズ
8及び対物レンズ9を経て試料10上に照射され
る。11Xは第3図aに示す如きX方向の走査信
号を発生する走査信号発生回路であり、この走査
信号発生回路11Xよりの走査信号はスイツチ回
路12Xを介して走査コイル5ax及び5bxに供給
できるようになつている。11Yは第3図bに示
す如きY方向の走査信号を発生する走査信号発生
回路であり、この走査信号発生回路11Yよりの
走査信号はスイツチ回路12Yを介して走査コイ
ル5ay及び5byに供給できるようになつている。
この走査信号発生回路11X,11YよりのX及
びY方向走査信号は陰極線管CRの走査コイル
CRx,CRyにも供給されており、陰極線管CRは
電子線EBの走査に同期して走査されるようにな
つている。又、走査信号発生回路11X,11Y
よりの走査信号は各々スイツチSx,Syを介して
加算回路13X,13Yに供給されている。これ
ら加算回路13X,13Yには各々ポテンシヨメ
ーター14X,14Yよりの信号が供給されてい
る。加算回路13X,13Yの出力信号は各々二
乗回路15X,15Yに供給されている。これら
二乗回路15X,15Yの出力信号は加算回路1
6に供給されており、加算回路16の出力信号は
増幅率可変増幅器17を介して前記ダイナミツク
フオーカスレンズ8に供給されている。このダイ
ナミツクフオーカスレンズ8は、Csを対物レン
ズの球面収差係数とするとき、対物レンズの焦点
距離Fが球面収差のため見かけ上
ΔF∝Cs(Xi2+Yi2) ……(1)
だけずれてしまうため、(1)式で与えられる量だけ
焦点距離を電子線の走査に同期させてシフトさ
せ、このずれを補正するためのものである。18
は二次電子検出器であり、この検出器18よりの
出力信号は増幅器19を介して陰極線管CRのグ
リツドCRgに供給されている。 Figure 2 shows a conventional device for observing electron channeling patterns. In the figure, 1 is an electron gun, and the electron beam EB from this electron gun 1 is focused by focusing lenses 2 and 3. After that, the light passes through the objective aperture 4 and enters the deflection system. The deflection system is the first one for scanning in the X (horizontal) and Y (vertical) directions.
A first stage scanning coil 5ax, 5ay, a second stage scanning coil 5bx, 5by for scanning in the X and Y directions, and a first stage disposed immediately outside the scanning coil 5ax, 5ay.
It consists of alignment coils 6bx, 6by arranged just outside of the stage alignment coils 6ax, 6ay and scanning coils 5bx, 5by. These alignment coils 6ax, 6ay, 6bx, 6
By can be supplied with deflection current from deflection power supplies 7ax, 7ay, 7bx, and 7by. The electron beam EB deflected by each scanning coil and alignment coil is irradiated onto a sample 10 through a dynamic focus lens 8 and an objective lens 9. 11X is a scanning signal generation circuit that generates a scanning signal in the X direction as shown in FIG. It's getting old. 11Y is a scanning signal generation circuit that generates a scanning signal in the Y direction as shown in FIG. It's getting old.
The X and Y direction scanning signals from the scanning signal generation circuits 11X and 11Y are sent to the scanning coil of the cathode ray tube CR.
It is also supplied to CRx and CRy, and the cathode ray tube CR is scanned in synchronization with the scanning of the electron beam EB. Moreover, the scanning signal generation circuits 11X, 11Y
These scanning signals are supplied to adder circuits 13X and 13Y via switches Sx and Sy, respectively. Signals from potentiometers 14X and 14Y are supplied to these adder circuits 13X and 13Y, respectively. The output signals of adder circuits 13X and 13Y are supplied to squaring circuits 15X and 15Y, respectively. The output signals of these square circuits 15X and 15Y are output from the adder circuit 1.
6, and the output signal of the adder circuit 16 is supplied to the dynamic focus lens 8 via a variable gain amplifier 17. In this dynamic focus lens 8, when Cs is the spherical aberration coefficient of the objective lens, the focal length F of the objective lens is apparently shifted by ΔF∝Cs(Xi 2 +Yi 2 )...(1) due to spherical aberration. This is to correct this shift by shifting the focal length by the amount given by equation (1) in synchronization with the scanning of the electron beam. 18
is a secondary electron detector, and the output signal from this detector 18 is supplied via an amplifier 19 to the grid CRg of the cathode ray tube CR.
このような構成の従来装置において、ダイナミ
ツクフオーカスレンズによる補正の効果を発揮さ
せて、極微小領域のエレクトロンチヤンネリング
パターンを観察するため、まず偏向電源7ax,
7ay,7bx,7byより各偏向コイル6ax,6
ay,6bx,6byに供給する偏向電流を調整して、
ダイナミツクフオーカスレンズ8の軸と対物レン
ズ9の軸とを軸合せする。しかる後、試料10と
して例えばメツシユをセツトし、更に集束レンズ
3の励磁強度とスイツチ回路12X,12Yを調
整して、第2図において点線で示すように電子線
EBが対物レンズ9の中心を偏向支点として偏向
され、それにより試料10は二次元的に走査され
て通常の走査像が得られるようにする。その結
果、陰極線管CRの画面には第4図aに示す如き
メツシユ像が得られる。そこで、このメツシユを
構成する格子線の交差点が画面中心に位置するよ
うに試料10を移動した後、集束レンズ3の励磁
強度を切換えると共にスイツチ回路12X,12
Yを介して走査コイル5ax,5ayに走査信号を供
給し、第2図において細線で示されるように電子
線EBが対物レンズ9の前焦点面Sを走査するよ
うにする。その結果、電子線EBは試料10上の
狭い領域に照射された状態で角度走査される。そ
のため、陰極線管CRには第4図に示す如き画像
が表示される。この第4図b及び後述する第4図
cにおいて、イはメツシユを構成している格子線
を示している。そこで、スイツチSx,Syを閉じ
れば、X及びY方向走査信号発生回路11X,1
1Yより第3図a,bに示す如き走査信号が各々
加算回路13X,13Yに供給される。この加算
回路13X,13Yには、各々ポテンシヨメータ
ー14X,14Yより値a、bに対応した信号が
供給されているため、二乗回路15X,15Yの
出力信号は各々(Xi−a)2、(Yi−b)2に比例し
たものとなる。従つて、増幅率可変増幅器17を
介してダイナミツクフオーカスレンズ8にはKを
比例定数とするとき、
K{(Xi−a)2+(Yi−b)2}
なる信号が供給される。そのため、対物レンズの
球面収差に基づく電子線EBの照射領域の移動は
完全にではないが補正され、陰極線管CRに表示
される画像は第4図cに示す如きものとなる。こ
の図から明らかなように、一般に前記ダイナミツ
クフオーカスレンズ8と対物レンズ9の軸合せは
完全に行なうことはできないため、電子線EBを
ロツキングした際の中心点Q(実際には表示され
ない)は画面の中心からずれた種々の位置をと
る。一方、ダイナミツクフオーカスレンズ8によ
る補正の中心点は、前記位相値a、bに対応した
位置にあるから、最初の状態においては、一般に
ロツキング中心点と補正の中心点は一致してい
ず、このまま増幅率可変増幅器17の増幅率を増
大させてもダイナミツクフオーカスレンズ8によ
る補正を有効に行なうことができない。そこで、
ポテンシヨメーター14X,14Yの出力を調節
して、K{(Xi−a)2+(Yi−b)2}が0となる補
正の中心をロツキング中心Qに一致させるように
している。 In the conventional device with such a configuration, in order to utilize the correction effect of the dynamic focus lens and observe the electron channeling pattern in an extremely small area, first, the deflection power source 7ax,
Each deflection coil 6ax, 6 from 7ay, 7bx, 7by
Adjust the deflection current supplied to ay, 6bx, 6by,
The axis of the dynamic focus lens 8 and the axis of the objective lens 9 are aligned. After that, for example, a mesh is set as the sample 10, and the excitation intensity of the focusing lens 3 and the switch circuits 12X and 12Y are adjusted to generate an electron beam as shown by the dotted line in FIG.
The EB is deflected using the center of the objective lens 9 as a deflection fulcrum, whereby the sample 10 is two-dimensionally scanned to obtain a normal scanned image. As a result, a mesh image as shown in FIG. 4a is obtained on the screen of the cathode ray tube CR. Therefore, after moving the sample 10 so that the intersection of the grid lines constituting this mesh is located at the center of the screen, the excitation intensity of the focusing lens 3 is switched and the switch circuits 12X, 12
A scanning signal is supplied to the scanning coils 5ax and 5ay via Y, so that the electron beam EB scans the front focal plane S of the objective lens 9, as shown by the thin line in FIG. As a result, the electron beam EB is angularly scanned while being irradiated onto a narrow area on the sample 10. Therefore, an image as shown in FIG. 4 is displayed on the cathode ray tube CR. In FIG. 4b and FIG. 4c, which will be described later, ``A'' indicates the grid lines forming the mesh. Therefore, if the switches Sx and Sy are closed, the X and Y direction scanning signal generation circuits 11X and 1
From 1Y, scanning signals as shown in FIGS. 3a and 3b are supplied to adder circuits 13X and 13Y, respectively. Since the adder circuits 13X and 13Y are supplied with signals corresponding to the values a and b from the potentiometers 14X and 14Y, respectively, the output signals of the square circuits 15X and 15Y are (Xi-a) 2 and ( Yi−b) will be proportional to 2 . Therefore, a signal K{(Xi-a) 2 +(Yi-b) 2 } is supplied to the dynamic focus lens 8 via the variable gain amplifier 17, where K is a proportionality constant. Therefore, the movement of the irradiation area of the electron beam EB due to the spherical aberration of the objective lens is corrected, although not completely, and the image displayed on the cathode ray tube CR becomes as shown in FIG. 4c. As is clear from this figure, it is generally not possible to perfectly align the axes of the dynamic focus lens 8 and objective lens 9, so the center point Q (not actually displayed) when the electron beam EB is locked is takes various positions off the center of the screen. On the other hand, since the center point of correction by the dynamic focus lens 8 is located at a position corresponding to the phase values a and b, in the initial state, the center point of locking and the center point of correction generally do not coincide; Even if the amplification factor of the variable amplification factor amplifier 17 is increased as it is, the correction by the dynamic focus lens 8 cannot be effectively performed. Therefore,
The outputs of the potentiometers 14X and 14Y are adjusted so that the center of correction where K{(Xi-a) 2 +(Yi-b) 2 } becomes 0 coincides with the locking center Q.
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら従来装置におけるこの調節は、ポ
テンシヨメーター14X,14Yの出力を変化さ
せる毎に増幅率可変増幅器17の増幅率を増大さ
せて、それによつて得られる画像が第4図dに示
す如き輝度のムラのあるものから、第4図eに示
す如き輝度ムラの無いものになるまで、繰り返し
試行錯誤により行なわざるを得ず、調節に時間と
熟練を要した。[Problems to be Solved by the Invention] However, in this adjustment in the conventional device, the amplification factor of the variable amplification factor amplifier 17 is increased each time the outputs of the potentiometers 14X, 14Y are changed, and thereby the image obtained is From the uneven brightness shown in Figure 4 (d) to the uniform brightness shown in Figure 4 (e), it was necessary to repeat trial and error, and the adjustment required time and skill. .
本発明はこのような従来の欠点を解決して、簡
単且つ短時間に上記調節を行なうことのできる電
子線装置を提供することを目的としている。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these conventional drawbacks and provide an electron beam apparatus that can perform the above adjustment simply and in a short time.
[発明の構成]
本発明のX方向及びY方向走査信号を各々Xi,
Yiとするとき、X及びY方向電子線偏向器にXi,
Yiを供給して対物レンズの前焦点面を電子線に
より走査すると共に、該対物レンズの近傍に配置
されたダイナミツクフオーカスレンズに、位相値
a、bを含んだ(Xi−a)2+(Yi−b)2になる補
正信号を供給して対物レンズの球面収差に基づく
電子線の照射位置の移動を補正して電子線を角度
走行し、該角度走査に伴う検出信号を該走査に同
期走査されている表示手段に導いてエレクトロン
チヤンネリングパターンを表示するようにした装
置において該位相値a、bの調節に伴つて該表示
手段の画面上の該a及びbの値に対応した位置に
マークを表示するための手段を具備することを特
徴としている。[Configuration of the Invention] The X-direction and Y-direction scanning signals of the present invention are Xi,
When Yi, Xi,
Yi is supplied to scan the front focal plane of the objective lens with an electron beam, and a dynamic focus lens placed near the objective lens contains phase values a and b (Xi - a) 2 + (Yi-b) 2 is supplied to correct the movement of the electron beam irradiation position based on the spherical aberration of the objective lens, the electron beam travels in an angle, and the detection signal accompanying the angular scan is applied to the scan. In a device configured to display an electron channeling pattern by guiding it to a display means that is synchronously scanned, as the phase values a and b are adjusted, the electron channeling pattern corresponds to the values of a and b on the screen of the display means. The apparatus is characterized by comprising means for displaying a mark at a position.
[実施例]
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述す
る。[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第5図は本発明の一実施例を示すためのもの
で、第5図においては第2図と同一の構成要素に
対して同一番号を付している。従来と異なり、前
記ポテンシヨメーター14X,14Yの出力信号
は各々比較回路20X,20Yに供給されてい
る。この比較回路20X,20Yには各々前記X
方向及びY方向走査信号発生回路11X,11Y
よりの走査信号も供給されている。この比較回路
14X,14Yの出力信号は加算回路21に供給
されている。この加算回路21には増幅器19の
出力信号も供給されている。加算回路21の出力
信号は陰極線管CRのグリツドCRgに供給されて
いる。 FIG. 5 is for showing one embodiment of the present invention, and in FIG. 5, the same components as in FIG. 2 are given the same numbers. Unlike the prior art, the output signals of the potentiometers 14X, 14Y are supplied to comparison circuits 20X, 20Y, respectively. The comparison circuits 20X and 20Y each have the
Direction and Y direction scanning signal generation circuits 11X, 11Y
Further scanning signals are also supplied. The output signals of the comparison circuits 14X and 14Y are supplied to the addition circuit 21. The output signal of the amplifier 19 is also supplied to the adder circuit 21 . The output signal of the adder circuit 21 is supplied to the grid CRg of the cathode ray tube CR.
このような構成において、走査信号発生回路1
1X,11Yには第3図a及びbに示す如き走査
信号が供給されているが、これら比較回路20
X,20Yはポテンシヨメーター14X,14Y
の出力信号値とX及びY方向走査信号値が一致し
た際に一致パルスを発生する。この一致パルスは
加算回路19において二次電子検出器20よりの
画像信号と加算されて陰極線管CRのグリツド
CRgに供給されるため、陰極線管CRの画面上に
ポテンシヨメーター14X,14Yの出力信号値
a,bに対応した位置に第6図においてLx,Ly
で示す如き輝線が像に重畳して表示される。そこ
で、スイツチSx,Syを閉じてX及びY方向走査
信号発生回路11X,11Yよりの第3図a,b
に示す如き走査信号を各々加算回路13X,13
Yに供給すれば、増幅率可変増幅器17を介して
ダイナミツクフオーカスレンズ8にはKを比例定
数とするときK{(Xi−a)2+(Yi−b)2}なる信
号が供給されるため、前記第4図Cに示す像と同
様の像を陰極線管10に表示することができる。
そので、この画面が得られたら、ポテンシヨメー
ター14X,14Yの出力信号を調節して、第6
図において点線で示すように、輝線の交点Uがロ
ツキング中心点Qに一致するようにする。その結
果、ロツキング中心点Qにおいて、ダイナミツク
フオーカスレンズ9に供給される補正信号値は0
となり、このロツキング中心を補正中心として対
物レンズ8の球面収差が補正される。そこで、増
幅率可変増幅器17の増幅率を増大させれば、第
4図eに示した像と同様の明るさムラのない像が
得られる。このようにして調節が完了できるの
で、試料を観察すべき試料に交換すれば、ダイナ
ミツクフオーカスレンズ8による補正の中心をロ
ツキングの中心点に一致させて補正が行なわれる
ため、試料上の極めて狭い領域にのみ電子線を照
射した状態でロツキングを行なうことができ、極
微小領域のエレクトロンチヤンネリングパターン
を陰極線管10上に表示することができる。 In such a configuration, the scanning signal generation circuit 1
1X and 11Y are supplied with scanning signals as shown in FIG. 3a and b, and these comparison circuits 20
X, 20Y are potentiometers 14X, 14Y
A coincidence pulse is generated when the output signal value of and the X and Y direction scanning signal values match. This coincidence pulse is added to the image signal from the secondary electron detector 20 in the adder circuit 19, and is added to the grid of the cathode ray tube CR.
CRg, Lx and Ly are placed on the screen of the cathode ray tube CR at positions corresponding to the output signal values a and b of the potentiometers 14X and 14Y in Fig. 6.
Bright lines as shown are displayed superimposed on the image. Therefore, the switches Sx and Sy are closed, and the signals from the X and Y direction scanning signal generation circuits 11X and 11Y are
Addition circuits 13X and 13 add scanning signals as shown in FIG.
If it is supplied to Y, a signal of K{(Xi-a) 2 +(Yi-b) 2 } is supplied to the dynamic focus lens 8 via the variable amplification factor amplifier 17, where K is a proportionality constant. Therefore, an image similar to the image shown in FIG. 4C can be displayed on the cathode ray tube 10.
So, once this screen is obtained, adjust the output signals of potentiometers 14X and 14Y to
As shown by the dotted line in the figure, the intersection point U of the bright lines is made to coincide with the locking center point Q. As a result, at the locking center point Q, the correction signal value supplied to the dynamic focus lens 9 is 0.
The spherical aberration of the objective lens 8 is corrected using this rocking center as the correction center. Therefore, by increasing the amplification factor of the variable amplification factor amplifier 17, an image with uniform brightness similar to the image shown in FIG. 4e can be obtained. Adjustment can be completed in this way, so when the sample is replaced with the sample to be observed, the center of correction by the dynamic focus lens 8 is aligned with the center point of locking, so that the Locking can be performed with the electron beam irradiated only in a narrow area, and an electron channeling pattern in an extremely small area can be displayed on the cathode ray tube 10.
[発明の効果]
上述した説明から明らかなように、本発明に基
づく装置によれば、ダイナミツクフオーカスレン
ズによる補正の中心をロツキングの中心に一致さ
せるための調節を簡単且つ短時間に行なうことが
でき、この種の電子線装置の操作性を向上させる
ことができる。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the apparatus based on the present invention, adjustment for aligning the center of correction by the dynamic focus lens with the center of locking can be easily and quickly performed. This makes it possible to improve the operability of this type of electron beam device.
第1図は、エレクトロンチヤンネリングパター
ンを得るための装置の基本的な構成を示すための
図、第2図は従来装置を例示するための図、第3
図は第2図及び第5図に示す装置の各回路よりの
出力信号を例示するための図、第4図は従来にお
ける陰極線管の表示像を説明するための図、第5
図は本発明の一実施例を説明するための図であ
る。第6図は一実施例装置の動作を説明するため
の図である。
1:電子銃、EB:電子線、2,3:集束レン
ズ、4:対物絞り、5ax,5ay,5bx,5by:
走査コイル、6ax,6ay,6bx,6by:アライ
メント用コイル、7ax,7ay,7bx,7by:偏
向電源、8:ダイナミツクフオーカスレンズ、
9:対物レンズ、10:試料、11X,11Y:
走査信号発生回路、12X,12Y:スイツチ回
路、CR:陰極線管、Sx,Sy:スイツチ、13
X,13Y,16,21:加算回路、14X,1
4Y:ポテンシヨメーター、15X,15Y:二
乗回路、17:増幅率可変増幅器、18:二次電
子検出器、19:増幅器、20X,20Y:比較
回路。
FIG. 1 is a diagram showing the basic configuration of a device for obtaining an electron channeling pattern, FIG. 2 is a diagram illustrating a conventional device, and FIG.
The figures are diagrams for illustrating output signals from each circuit of the apparatus shown in Figures 2 and 5, Figure 4 is a diagram for explaining the display image of a conventional cathode ray tube, and Figure 5
The figure is a diagram for explaining one embodiment of the present invention. FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the device of one embodiment. 1: Electron gun, EB: Electron beam, 2, 3: Focusing lens, 4: Objective aperture, 5ax, 5ay, 5bx, 5by:
Scanning coil, 6ax, 6ay, 6bx, 6by: Alignment coil, 7ax, 7ay, 7bx, 7by: Deflection power supply, 8: Dynamic focus lens,
9: Objective lens, 10: Sample, 11X, 11Y:
Scanning signal generation circuit, 12X, 12Y: switch circuit, CR: cathode ray tube, Sx, Sy: switch, 13
X, 13Y, 16, 21: addition circuit, 14X, 1
4Y: potentiometer, 15X, 15Y: square circuit, 17: variable gain amplifier, 18: secondary electron detector, 19: amplifier, 20X, 20Y: comparison circuit.
Claims (1)
するとき、X及びY方向電子線偏向器にXi,Yi
を供給して対物レンズの前焦点面を電子線により
走査すると共に、該対物レンズを近傍に配置され
たダイナミツクフオーカスレンズに、位相値a、
bを含んだ(Xi−a)2+(Yi−b)2なる補正信号
を供給して対物レンズの球面収差に基づく電子線
の照射位置の移動を補正して電子線を角度走査
し、該角度走査に伴う検出信号を該走査に同期走
査されている表示手段に導いてエレクトロンチヤ
ンネリングパターンを表示するようにした装置に
おいて、該位相値a、bの調節に伴つて該表示手
段の画面上の該a及びbの値に対応した位置にマ
ークを表示するための手段を具備することを特徴
とする電子線装置。1 When the X-direction and Y-direction scanning signals are Xi and Yi, respectively, the X- and Y-direction electron beam deflectors have Xi and Yi.
The front focal plane of the objective lens is scanned by an electron beam, and the phase value a,
A correction signal of (Xi-a) 2 + (Yi-b) 2 including In a device configured to display an electron channeling pattern by guiding a detection signal associated with angular scanning to a display means scanned in synchronization with the scan, the screen of the display means changes as the phase values a and b are adjusted. An electron beam apparatus comprising means for displaying a mark at a position corresponding to the above values of a and b.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125743A JPS614145A (en) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | Electron beam device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125743A JPS614145A (en) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | Electron beam device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614145A JPS614145A (en) | 1986-01-10 |
| JPH035020B2 true JPH035020B2 (en) | 1991-01-24 |
Family
ID=14917693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59125743A Granted JPS614145A (en) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | Electron beam device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614145A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112236837B (en) | 2018-06-04 | 2024-03-15 | 株式会社日立高新技术 | electron beam device |
-
1984
- 1984-06-19 JP JP59125743A patent/JPS614145A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS614145A (en) | 1986-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4983832A (en) | Scanning electron microscope | |
| JP3101114B2 (en) | Scanning electron microscope | |
| JPH0313700B2 (en) | ||
| JPS6134221B2 (en) | ||
| JP4928987B2 (en) | Charged particle beam adjustment method and charged particle beam apparatus | |
| JPS614144A (en) | Diffraction pattern display method by electron microscope | |
| US3801784A (en) | Scanning electron microscope operating in area scan and angle scan modes | |
| JPH035020B2 (en) | ||
| JP2964873B2 (en) | Electron beam alignment system | |
| US6573502B2 (en) | Combined electron microscope | |
| JP3499690B2 (en) | Charged particle microscope | |
| US5258617A (en) | Method and apparatus for correcting axial coma in electron microscopy | |
| JPH07302564A (en) | Scanning electron microscope | |
| US4439681A (en) | Charged particle beam scanning device | |
| JPH035022B2 (en) | ||
| JPH035019B2 (en) | ||
| JP2737220B2 (en) | Scanning reflection diffraction electron microscope | |
| JP7208212B2 (en) | Transmission Electron Microscope and Optical System Adjustment Method | |
| JP3802525B2 (en) | Charged particle microscope | |
| JPH0238367Y2 (en) | ||
| JPS6134222B2 (en) | ||
| JPS5914222B2 (en) | Magnification control device for scanning electron microscopes, etc. | |
| JPH0542102B2 (en) | ||
| JPS5847825B2 (en) | electronic microscope | |
| JPS63114035A (en) | Beam centering |