JPH0351768B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0351768B2 JPH0351768B2 JP26278485A JP26278485A JPH0351768B2 JP H0351768 B2 JPH0351768 B2 JP H0351768B2 JP 26278485 A JP26278485 A JP 26278485A JP 26278485 A JP26278485 A JP 26278485A JP H0351768 B2 JPH0351768 B2 JP H0351768B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- molten metal
- degassing
- vacuum chamber
- refractory material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D1/00—Treatment of fused masses in the ladle or the supply runners before casting
- B22D1/002—Treatment with gases
- B22D1/005—Injection assemblies therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C7/00—Treating molten ferrous alloys, e.g. steel, not covered by groups C21C1/00 - C21C5/00
- C21C7/10—Handling in a vacuum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、金属溶湯を真空槽に吸い上げて、
脱ガスを行なう真空脱ガス装置に関する。
脱ガスを行なう真空脱ガス装置に関する。
［従来技術とその問題点］
この種の真空脱ガス装置を第３図及び第４図に
示す。
示す。
第３図は真空吸い上げ脱ガス法（DH法）を示
していて、取鍋１内の溶湯２をこの取鍋１の上方
に倒立して設置した真空槽３に吸い上げて、この
真空槽３内にて溶湯２を脱ガスを行なうようにし
ている。４は真空槽３を真空引きをする真空ポン
プである。
していて、取鍋１内の溶湯２をこの取鍋１の上方
に倒立して設置した真空槽３に吸い上げて、この
真空槽３内にて溶湯２を脱ガスを行なうようにし
ている。４は真空槽３を真空引きをする真空ポン
プである。
第４図は還流式脱ガス法（RH法）を示してい
て、真空槽５に設けた上昇管６及び下降管７とを
介して、溶湯を循環させつつ真空槽５内にて脱ガ
スを行なうようにしている。
て、真空槽５に設けた上昇管６及び下降管７とを
介して、溶湯を循環させつつ真空槽５内にて脱ガ
スを行なうようにしている。
ところが、上述したような脱ガス装置に使用す
る真空槽３，５には塩基性の耐火物が内張りされ
ているので、溶湯が付着し易く、更に、この耐火
材自体が熱衝撃に弱いために前もつて真空槽３，
５を電気抵抗加熱等により高温に加熱しておく必
要があつた。又、このような方法による脱ガス装
置では脱ガス効率があまり良くなく、脱ガス処理
に時間がかかるので、真空槽３，５にアルゴンガ
スを吹き込み、撹拌作用により脱ガス速度を速め
る等の措置が必要であつた。
る真空槽３，５には塩基性の耐火物が内張りされ
ているので、溶湯が付着し易く、更に、この耐火
材自体が熱衝撃に弱いために前もつて真空槽３，
５を電気抵抗加熱等により高温に加熱しておく必
要があつた。又、このような方法による脱ガス装
置では脱ガス効率があまり良くなく、脱ガス処理
に時間がかかるので、真空槽３，５にアルゴンガ
スを吹き込み、撹拌作用により脱ガス速度を速め
る等の措置が必要であつた。
［発明の目的］
この発明は上述した問題点をなくすためになさ
れたものであり、真空槽内の耐火材への溶湯金属
の付着を少なくするとともに、耐火材の寿命を長
くし、かつ脱ガス効果を高めた真空脱ガス装置を
提供することを目的とする。
れたものであり、真空槽内の耐火材への溶湯金属
の付着を少なくするとともに、耐火材の寿命を長
くし、かつ脱ガス効果を高めた真空脱ガス装置を
提供することを目的とする。
［発明の構成］
この発明の真空脱ガス装置は、溶湯金属を真空
槽に吸い上げて真空脱ガスを行なう真空脱ガス装
置において、上記真空槽を導電性でかつぬれ性の
よい耐火材で形成するとともに、上記真空槽の周
囲に誘導コイルを備えたことを特徴とする。
槽に吸い上げて真空脱ガスを行なう真空脱ガス装
置において、上記真空槽を導電性でかつぬれ性の
よい耐火材で形成するとともに、上記真空槽の周
囲に誘導コイルを備えたことを特徴とする。
［実施例］
第１図はこの発明の真空槽脱ガス装置の１実施
例を示している。
例を示している。
１０は、内部に溶湯１１を蓄えた取鍋であり、
入湯口１０ａと出湯口１０ｂとを備えている。１
２は耐火材にてなる円筒形状の真空槽である。こ
の真空槽１２を円筒状に形成して真空槽として用
いている。真空槽１２の材料としては、真空を保
つ必要があるのでち密な材料で通気性の低い材料
であり、また、導電性を有し、かつ溶湯に対して
ぬれ性のよい材料を使用して、溶湯やスラツジ等
が付着しにくいようにする。具体的には電極等に
用いられる黒鉛が適している。その他の材料とし
ては、カーボンランダムや炭化珪素等を使用する
ことができ、通気性の高い材料であればタール等
の含浸処理を行なえばよい。この真空層１２の開
放した下端部は溶湯に直接浸漬させていて、そし
て真空層１２の上端部には真空引き用の通気穴１
２ａが設けられ、この通気穴１２ａは図示しない
真空ポンプに連結される。１３は真空層１２の回
りを囲むようにして設けられた断熱材であり、こ
の断熱材１３の外周には誘導加熱用のコイル１４
が装着される。
入湯口１０ａと出湯口１０ｂとを備えている。１
２は耐火材にてなる円筒形状の真空槽である。こ
の真空槽１２を円筒状に形成して真空槽として用
いている。真空槽１２の材料としては、真空を保
つ必要があるのでち密な材料で通気性の低い材料
であり、また、導電性を有し、かつ溶湯に対して
ぬれ性のよい材料を使用して、溶湯やスラツジ等
が付着しにくいようにする。具体的には電極等に
用いられる黒鉛が適している。その他の材料とし
ては、カーボンランダムや炭化珪素等を使用する
ことができ、通気性の高い材料であればタール等
の含浸処理を行なえばよい。この真空層１２の開
放した下端部は溶湯に直接浸漬させていて、そし
て真空層１２の上端部には真空引き用の通気穴１
２ａが設けられ、この通気穴１２ａは図示しない
真空ポンプに連結される。１３は真空層１２の回
りを囲むようにして設けられた断熱材であり、こ
の断熱材１３の外周には誘導加熱用のコイル１４
が装着される。
上記の構成において、真空層１２を真空引きす
る前に予め誘導コイル１４に交流を通電すると、
導電性の真空層１２に誘導電流が流れ、この真空
層１２自体が加熱される。そして、脱ガスのため
に真空層１２を真空引きをすると、取鍋１０内の
溶湯１１が真空層１２内に上昇する。このとき、
真空層１２は加熱されているので熱衝撃により損
傷する恐れはない。又、脱ガス処理中において
は、真空層１２内の溶湯１１が誘導コイル１４に
より電磁誘導を受けて溶湯の撹拌作用が生じるの
で脱ガス速度が向上し、アルゴンガスの吹き込み
による撹拌は不要となる。更には、溶湯１１が誘
導加熱されるので温度低下が少なく、その後の鋳
込等において有利である。
る前に予め誘導コイル１４に交流を通電すると、
導電性の真空層１２に誘導電流が流れ、この真空
層１２自体が加熱される。そして、脱ガスのため
に真空層１２を真空引きをすると、取鍋１０内の
溶湯１１が真空層１２内に上昇する。このとき、
真空層１２は加熱されているので熱衝撃により損
傷する恐れはない。又、脱ガス処理中において
は、真空層１２内の溶湯１１が誘導コイル１４に
より電磁誘導を受けて溶湯の撹拌作用が生じるの
で脱ガス速度が向上し、アルゴンガスの吹き込み
による撹拌は不要となる。更には、溶湯１１が誘
導加熱されるので温度低下が少なく、その後の鋳
込等において有利である。
第２図は、この発明の別の実施例を示してい
て、第１図と同一部分については同一の番号を付
している。
て、第１図と同一部分については同一の番号を付
している。
この実施例では、真空槽１２を２本設けてい
て、各々の真空層１２には前実施例と同様に、誘
導コイル１４、通気穴１２ａ等を備えている。
て、各々の真空層１２には前実施例と同様に、誘
導コイル１４、通気穴１２ａ等を備えている。
脱ガス処理を行なう場合は、それぞれの真空層
１２を真空引きを行なう真空ポンプあるいは真空
ポンプと真空層１２との真空経路に設けられるバ
ルブ（共に図示せず）を制御して、２本の真空層
１２を交互に真空引きを行なうようにする。この
ような制御により取鍋１０内の溶湯１１の湯面を
一定に保つことができ、真空脱ガス処理の精度を
向上させることができる。又、溶湯１１の温度管
理や、入湯口１０ａ、出湯口１０ｂからの入湯あ
るいは出湯時における制御が容易となるといつた
利点も得られる。
１２を真空引きを行なう真空ポンプあるいは真空
ポンプと真空層１２との真空経路に設けられるバ
ルブ（共に図示せず）を制御して、２本の真空層
１２を交互に真空引きを行なうようにする。この
ような制御により取鍋１０内の溶湯１１の湯面を
一定に保つことができ、真空脱ガス処理の精度を
向上させることができる。又、溶湯１１の温度管
理や、入湯口１０ａ、出湯口１０ｂからの入湯あ
るいは出湯時における制御が容易となるといつた
利点も得られる。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明は、真空脱ガス
槽を導電性で通気性が低く、かつぬれ性の良い耐
火材で形成するとともに、この脱ガス槽の周囲に
誘導加熱コイルを設け、耐火材自体を予め誘導加
熱するようにしたので、耐火材が熱衝撃により損
傷するといつた恐れはなく、耐火材に溶湯金属等
の付着を防ぐこともできる。そして脱ガス処理中
においては、溶湯が誘導コイルにより電磁誘導を
受けて溶湯の撹拌作用が生じるので脱ガス速度が
向上し、従来のようにアルゴンガスの吹き込みに
よる撹拌は不要となる。更には、溶湯が誘導加熱
されるので温度低下が少なく、その後の鋳込等に
おいて有利である。
槽を導電性で通気性が低く、かつぬれ性の良い耐
火材で形成するとともに、この脱ガス槽の周囲に
誘導加熱コイルを設け、耐火材自体を予め誘導加
熱するようにしたので、耐火材が熱衝撃により損
傷するといつた恐れはなく、耐火材に溶湯金属等
の付着を防ぐこともできる。そして脱ガス処理中
においては、溶湯が誘導コイルにより電磁誘導を
受けて溶湯の撹拌作用が生じるので脱ガス速度が
向上し、従来のようにアルゴンガスの吹き込みに
よる撹拌は不要となる。更には、溶湯が誘導加熱
されるので温度低下が少なく、その後の鋳込等に
おいて有利である。
第１図はこの発明の１実施例である真空脱ガス
装置の断面図、第２図はこの発明の別の実施例を
示す断面図、第３図及び第４図は従来の真空脱ガ
ス装置の断面図である。 １０……取鍋、１０ａ……入湯口、１０ｂ……
出湯口、１１……溶湯、１２……真空層、１２ａ
……通気穴、１３……断熱材、１４……誘導コイ
ル。
装置の断面図、第２図はこの発明の別の実施例を
示す断面図、第３図及び第４図は従来の真空脱ガ
ス装置の断面図である。 １０……取鍋、１０ａ……入湯口、１０ｂ……
出湯口、１１……溶湯、１２……真空層、１２ａ
……通気穴、１３……断熱材、１４……誘導コイ
ル。
Claims (1)
- １ 溶湯金属を真空槽に吸い上げて真空脱ガスを
行なう真空脱ガス装置において、上記真空槽を導
電性でかつ溶湯に対してぬれ性のよい耐火材で形
成するとともに、上記真空槽の周囲に誘導コイル
を備えたことを特徴とする真空脱ガス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26278485A JPS62124212A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 真空脱ガス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26278485A JPS62124212A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 真空脱ガス装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62124212A JPS62124212A (ja) | 1987-06-05 |
| JPH0351768B2 true JPH0351768B2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=17380551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26278485A Granted JPS62124212A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 真空脱ガス装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62124212A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0830222B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1996-03-27 | 日立電線株式会社 | 溶銅の連続真空脱ガス装置 |
| CN109252054A (zh) * | 2018-09-13 | 2019-01-22 | 洛阳新远大冶金成套设备有限公司 | 金属液除气箱及其箱体的制造方法 |
-
1985
- 1985-11-21 JP JP26278485A patent/JPS62124212A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62124212A (ja) | 1987-06-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |