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JPH0355875B2 - - Google Patents
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JPH0355875B2 - - Google Patents

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JPH0355875B2
JPH0355875B2 JP57123693A JP12369382A JPH0355875B2 JP H0355875 B2 JPH0355875 B2 JP H0355875B2 JP 57123693 A JP57123693 A JP 57123693A JP 12369382 A JP12369382 A JP 12369382A JP H0355875 B2 JPH0355875 B2 JP H0355875B2
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synthetic resin
thermoplastic synthetic
resin sheet
card
center core
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はIC,LSI等の集積回路(以下単にIC等
若しくはICと称する)を内蔵するカードの製造
方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a card incorporating an integrated circuit such as an IC or an LSI (hereinafter simply referred to as an IC or an IC).

近年、特開昭51−18433号公報、或は特開昭52
−83132号公報にみられるようにIC等を内蔵する
カードが提案され、メモリー容量が現在広く用い
られている磁気カードに比して格段に大きいため
に注目を集めている。
In recent years, Japanese Unexamined Patent Publication No. 18433/1983, or
As seen in Publication No. -83132, a card with a built-in IC, etc. has been proposed, and is attracting attention because its memory capacity is much larger than that of the currently widely used magnetic cards.

而るに、かかるIC等を内蔵するカードに於い
ては、IC部分(ICチツプ、ICチツプが配設され
ているプリント基板、及びこれらを外力、静電
気、又は有害な環境条件から保護するための容器
等を含む)の表面の凹凸をカード表面にそのまま
凹凸として現われないようにする必要がある。な
ぜならば、IC等を内蔵するカードの規格はまだ
無いが前記した磁気カードの場合を例にとると、
エンボス文字以外に許容されているカード表面の
凹凸は50μm未満であり、実際に出まわつている
カードは、表面凹凸は1μm未満のほぼ鏡面状態
で、IC等を内蔵するカードにも同程度の値が望
まれているからである。
However, in cards that incorporate such ICs, it is necessary to protect the IC part (the IC chip, the printed circuit board on which the IC chip is mounted, and other materials from external forces, static electricity, or harmful environmental conditions). It is necessary to prevent the irregularities on the surface of the card (including containers, etc.) from appearing as irregularities on the card surface. This is because there is no standard yet for cards with built-in ICs, etc., but if we take the case of the magnetic card mentioned above as an example,
Other than the embossed characters, the allowed unevenness on the card surface is less than 50 μm, and the cards that are actually in circulation have surface unevenness of less than 1 μm, which is almost mirror-like, and cards with built-in ICs have a similar value. This is because it is desired.

IC部分の凹凸は例えばプリント基板上の銅箔
厚が35μm前後あり、このためこのままカード内
に封入するとかなりの凹凸がカード表面に生じ、
好ましい状態であるとはいえない。
For example, the thickness of the copper foil on the printed circuit board is around 35 μm, so if the IC part is encapsulated in the card as it is, considerable unevenness will occur on the card surface.
This cannot be said to be a favorable situation.

また、IC部分が存在する位置に画像を形成す
る場合、IC部分に凹凸があると良好な画像を得
ることができない。即ち、第1図に断面を示すよ
うに、センターコア1に保持されたIC部分21
はその表面に凹凸形状22を有しているため、こ
のままオーバーシート2を接着剤層3を介して接
着すると、オーバーシート2の裏面に形成された
印刷層(画像形成層)4はIC部分の凹凸により
分断されてしまい、画像が破壊されてしまうこと
になる。
Furthermore, when forming an image at a position where an IC portion exists, it is difficult to obtain a good image if the IC portion is uneven. That is, as shown in cross section in FIG.
has an uneven shape 22 on its surface, so if the oversheet 2 is adhered as is through the adhesive layer 3, the printing layer (image forming layer) 4 formed on the back side of the oversheet 2 will be uneven on the IC part. The image will be divided due to the unevenness, and the image will be destroyed.

従来、このようなIC部分の凹凸を解消する手
段としては、凹部に樹脂等を埋め、事前にIC部
分の表面を平担化することが提案されている。
Conventionally, as a means to eliminate such unevenness of the IC portion, it has been proposed to fill the recesses with resin or the like to flatten the surface of the IC portion in advance.

しかしながら、このような手段に於いて、寸法
的に非常に小さなIC部分に精度良く樹脂を塗布
し、凹部を埋めることは極めて困難であるし、ま
た、作業的にも大変煩しいものである。
However, with such means, it is extremely difficult to accurately apply resin to a dimensionally very small IC portion and fill the recesses, and the work is also extremely troublesome.

従つて、本発明の目的とするところは、カード
内に封入するIC等の表面の凹凸形状を予め平面
化処理することなくカードにその凹凸の影響を生
ぜしめることのないIC等を内蔵するカードを提
供することにある。
Therefore, the object of the present invention is to provide a card incorporating an IC, etc., which does not have the effect of unevenness on the surface of the IC, etc. enclosed in the card without having to be flattened in advance. Our goal is to provide the following.

このような目的を達成すべくなされた本発明
は、IC等を保持するセンターコアの表面に接着
剤を介して熱可塑性合成樹脂シートを凹凸吸収層
として配し、この熱可塑性合成樹脂シートを加熱
軟化せしめるとともに前記センターコア表面に押
圧して接着せしめることによりIC等の表面の凹
凸形状を前記熱可塑性合成樹脂シートに吸収して
なるIC等を内蔵するカードの製造方法である。
The present invention, which was made to achieve such an object, consists of disposing a thermoplastic synthetic resin sheet as an uneven absorbing layer on the surface of a center core that holds an IC, etc. via an adhesive, and heating the thermoplastic synthetic resin sheet. This is a method of manufacturing a card incorporating an IC, etc., in which the uneven shape of the surface of the IC, etc. is absorbed into the thermoplastic synthetic resin sheet by softening it and adhering it by pressing it to the surface of the center core.

以下、本発明を図面の実施例を参照して詳細に
説明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to embodiments of the drawings.

第2図は本発明方法により製造されたIC等を
内蔵するカードの断面的説明図であり、この図で
はIC部分の凹凸は片面のみに存在するものとし
て描かれているが、当然両面に凹凸が存在してい
るものにも適用可能である。
FIG. 2 is a cross-sectional explanatory diagram of a card containing an IC manufactured by the method of the present invention. In this figure, the unevenness of the IC portion is depicted as existing only on one side, but it is natural that the unevenness is present on both sides. It is also applicable to those where

熱可塑性合成樹脂、例えば硬質塩化ビニルより
なるセンターコア11にIC21を保持する。IC
21はIC本体、IC本体を取りつけるプリント基
板及び付属品等から構成され、また、ICに変え
てLSI、その他の集積回路であつても良い。
The IC 21 is held in a center core 11 made of thermoplastic synthetic resin, for example, hard vinyl chloride. I C
Reference numeral 21 is composed of an IC main body, a printed circuit board to which the IC main body is attached, accessories, etc., and may also be an LSI or other integrated circuit instead of an IC.

IC21は例えば厚さ0.86mmのものが適用可能で
あり、通常その表面には銅箔による配線パターン
23が形成されている。この配線パターン23の
高さはある例では35μmであり、これがIC21の
表面凹凸22の一つ要因を形作つている。なお、
センターコア11はその厚さがIC21の厚さと
同一であるように設定するのが好ましい。
The IC 21 can have a thickness of 0.86 mm, for example, and a wiring pattern 23 made of copper foil is usually formed on its surface. The height of this wiring pattern 23 is 35 μm in one example, and this forms one of the factors for the surface unevenness 22 of the IC 21. In addition,
It is preferable that the thickness of the center core 11 is set to be the same as the thickness of the IC 21.

このようなIC21が保持されたセンターコア
11に接着剤層16を介して熱可塑性合成樹脂シ
ート15を重ね合わせる。この熱可塑性合成樹脂
シート15は前記IC21の表面の凹凸形状22
を吸収する凹凸吸収層として作用させるものであ
り、例えあ硬質塩化ビニルを用いることができ
る。接着剤16としては加熱再活性型塩酢ビ系樹
脂や加熱再活性型アクリルビニル系樹脂等を用い
るのが好ましく、熱可塑性合成樹脂シート15を
積層する前に熱可塑性合成樹脂シート15及びセ
ンターコア11の相対向する各々の面に塗布して
おくのが良い。
A thermoplastic synthetic resin sheet 15 is superimposed on the center core 11 holding such an IC 21 via an adhesive layer 16. This thermoplastic synthetic resin sheet 15 has an uneven shape 22 on the surface of the IC 21.
For example, hard vinyl chloride can be used. As the adhesive 16, it is preferable to use heat-reactivated salt-vinyl acetate-based resin, heat-reactivated acrylic vinyl-based resin, etc., and before laminating the thermoplastic synthetic resin sheets 15, the thermoplastic synthetic resin sheets 15 and the center core. It is preferable to apply it to each of the 11 opposing surfaces.

このような状態から熱可塑性合成樹脂シート1
5を加熱し、かつセンターコア11に押圧する。
加熱された熱可塑性合成樹脂シート15は軟化
し、従つてこのシート15をセンターコア11に
押しつけることにより第2図から明らかなように
IC21の表面の凹凸22がこの熱可塑性合成樹
脂シート15に吸収され、同時に熱可塑性合成樹
脂シート15とセンターコア11及びIC21と
は接着剤16により接着することになる。
From this state, thermoplastic synthetic resin sheet 1
5 is heated and pressed onto the center core 11.
The heated thermoplastic synthetic resin sheet 15 is softened, so that by pressing the sheet 15 against the center core 11, as shown in FIG.
The unevenness 22 on the surface of the IC 21 is absorbed by the thermoplastic synthetic resin sheet 15, and at the same time, the thermoplastic synthetic resin sheet 15, the center core 11, and the IC 21 are bonded together by the adhesive 16.

熱可塑性合成樹脂シート15として硬質塩化ビ
ニルシートを用いた場合の例を述べると、硬質塩
化ビニルシートを用いた場合の例を述べると、硬
質塩化ビニルシートを軟化させるために60〜120
℃の範囲の値に加熱することができ、またセンタ
ーコア11への押圧力はIC21が破壊されず、
かつ十分にIC21の表面の凹凸22を吸収する
ことができる相反する条件の下で決定されるもの
であるが、10〜25Kg/cm2の範囲内に設定すること
が好ましい。
To describe an example in which a hard vinyl chloride sheet is used as the thermoplastic synthetic resin sheet 15, in order to soften the hard vinyl chloride sheet, 60 to 120
It can be heated to a value in the range of ℃, and the pressing force on the center core 11 will not destroy the IC 21.
Although it is determined under contradictory conditions that can sufficiently absorb the unevenness 22 on the surface of the IC 21, it is preferably set within the range of 10 to 25 kg/cm 2 .

さらにまた、IC21は熱に弱いため、加熱加
圧時間は熱容量の関係で制限を受ける。従つて、
この関係を考慮して加熱加圧時間は5〜10分間と
するのが良い。
Furthermore, since the IC 21 is sensitive to heat, the heating and pressurizing time is limited by its heat capacity. Therefore,
Considering this relationship, the heating and pressurizing time is preferably 5 to 10 minutes.

このようにしてIC21の表面の凹凸形状21
が吸収されたカードはさらに熱可塑性合成樹脂シ
ート15上に接着剤13を介して印刷等により裏
面に画像14が形成されたオーバーシート12を
重ね合わせ接着することによりIC等が内蔵され
たカードを製造することができる。
In this way, the uneven shape 21 on the surface of the IC 21 is
The card with the absorbed ions is further bonded to a thermoplastic synthetic resin sheet 15 with an oversheet 12 on which an image 14 is formed on the back side by printing or the like via an adhesive 13, thereby forming a card with a built-in IC, etc. can be manufactured.

なお、接着剤13としては前述した接着剤16
と同様のものを用いることができ、オーバーシー
ト12は例えば透明な硬質塩化ビニルを用いるこ
とができる。
Note that the adhesive 13 may be the adhesive 16 described above.
The oversheet 12 can be made of, for example, transparent hard vinyl chloride.

また、オーバーシートには上述のように凹凸形
状が吸収された後設けても良いが、予めオーバー
シート21と熱可塑性合成樹脂シート15とを積
層しておき、これを一体的に加熱加圧してIC2
1の凹凸をこの熱可塑性合成樹脂シート15に吸
収させることもできる。
Although the oversheet may be provided after the irregularities have been absorbed as described above, the oversheet 21 and the thermoplastic synthetic resin sheet 15 may be laminated in advance and then heated and pressed together. IC2
The thermoplastic synthetic resin sheet 15 can also absorb the unevenness of the thermoplastic synthetic resin sheet 15.

本発明は以上に述べたとおりであり、IC等の
表面の凹凸形状をカードの製造工程中で吸収する
ようになしたため、従来のものに比べて簡単に凹
凸形状の平担化を行ない得、カード表面にIC等
の表面の凹凸形状の影響による凹凸が発生するこ
とを防止することができ、またオーバーシートの
裏面に形成されることの多い画像も凹凸吸収層で
ある熱可塑性合成樹脂シートの表面が平担である
ので破壊される惧れもない。
The present invention is as described above, and since the uneven shape on the surface of an IC or the like is absorbed during the manufacturing process of the card, the uneven shape can be flattened more easily than the conventional one. It is possible to prevent unevenness from occurring on the card surface due to the uneven shape of the surface of an IC, etc., and the image that is often formed on the back side of the oversheet can also be removed by using the thermoplastic synthetic resin sheet that is the unevenness absorbing layer. Since the surface is flat, there is no risk of it being destroyed.

〔実施例〕〔Example〕

厚さ0.86mmの白色硬質塩化ビニルをセンターコ
アに用い、このセンターコアで厚さ0.86mmのICを
保持する。このICにはその表面に高さ35μmの銅
箔による配線パターンが形成されている。このよ
うなセンターコアと0.1mm厚の透明硬質塩化ビニ
ルからなる凹凸吸収層に加熱再活性型塩化酢ビ系
樹脂である大日本インキ製造(株)製のDタイト
HAX−1500SK、又は加熱再活性型アクリルビニ
ル系樹脂である東洋モートン(株)製の
ADCOTE35KLを塗布し、これらをラミネート
した。
A 0.86 mm thick white hard vinyl chloride is used for the center core, and the 0.86 mm thick IC is held in this center core. A copper foil wiring pattern with a height of 35 μm is formed on the surface of this IC. D-Tight, a heat-reactivated vinyl chloride acetate-based resin manufactured by Dainippon Ink Mfg. Co., Ltd., is used for the center core and the uneven absorption layer made of 0.1 mm thick transparent hard vinyl chloride.
HAX-1500SK, or heat-reactivated acrylic vinyl resin manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.
ADCOTE35KL was applied and these were laminated.

ラミネート条件は平圧プレスにより温度80℃、
圧力20Kg/cm2で7分間加熱加圧した。
Lamination conditions are flat press at 80℃.
The mixture was heated and pressurized for 7 minutes at a pressure of 20 kg/cm 2 .

これによりICの表面の凹凸は完全に透明硬質
塩化ビニルに吸収され、その表面にはICの表面
の凹凸に起因する凹凸は現れず、平担であつた。
As a result, the unevenness on the surface of the IC was completely absorbed by the transparent hard vinyl chloride, and the surface was flat without any unevenness caused by the unevenness on the surface of the IC.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のカードの断面的説明図、第2図
は本発明方法により製造されたカードの断面的説
明図である。 11……センコーコア、12……オーバーシー
ト、13……接着剤、14……画像形成層、15
……熱可塑性合成樹脂シート、16……接着剤、
21……IC、22……凹凸形状。
FIG. 1 is a cross-sectional illustration of a conventional card, and FIG. 2 is a cross-sectional illustration of a card manufactured by the method of the present invention. 11... Senko core, 12... Oversheet, 13... Adhesive, 14... Image forming layer, 15
...Thermoplastic synthetic resin sheet, 16...Adhesive,
21...IC, 22...Uneven shape.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 オーバーシート及びIC等を保持するセンタ
ーコア等から構成されるカードを製造する方法に
於いて、表面に配線パターンからなる凹凸形状を
有するIC等を保持するセンターコアの表面に接
着剤を介して中間層として熱可塑性合成樹脂シー
トを積層し、この熱可塑性合成樹脂シートは前記
凹凸形状の高さより十分に厚く、この熱可塑性合
成樹脂シートを加熱押圧してIC等の表面の凹凸
形状を吸収させるとともに前記IC等及びセンタ
ーコアに接着せしめてなるIC等を内蔵するカー
ドの製造方法。 2 前記熱可塑性合成樹脂シートに一体的にオー
バーシートが積層された状態で加熱押圧すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のIC等
を内蔵するカードの製造方法。 3 前記熱可塑性合成樹脂シートを加熱押圧した
後、さらにオーバーシートを積層することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のIC等を内蔵
するカードの製造方法。
[Claims] 1. In a method for manufacturing a card comprising an oversheet and a center core holding an IC, etc., the surface of the center core holding an IC etc. has an uneven shape made of a wiring pattern on the surface. A thermoplastic synthetic resin sheet is laminated as an intermediate layer using an adhesive, and this thermoplastic synthetic resin sheet is sufficiently thicker than the height of the uneven shape, and the thermoplastic synthetic resin sheet is heated and pressed to form the surface of the IC, etc. A method for manufacturing a card incorporating an IC, etc., which absorbs the uneven shape of the IC and is bonded to the IC, etc. and a center core. 2. A method for manufacturing a card incorporating an IC or the like according to claim 1, characterized in that an oversheet is integrally laminated on the thermoplastic synthetic resin sheet and then heated and pressed. 3. The method for manufacturing a card incorporating an IC or the like according to claim 1, further comprising laminating an oversheet after heating and pressing the thermoplastic synthetic resin sheet.
JP57123693A 1982-07-15 1982-07-15 Production of card incorporating ic or the like Granted JPS5914084A (en)

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