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JPH0362409B2 - - Google Patents
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JPH0362409B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0362409B2
JPH0362409B2 JP2282318A JP28231890A JPH0362409B2 JP H0362409 B2 JPH0362409 B2 JP H0362409B2 JP 2282318 A JP2282318 A JP 2282318A JP 28231890 A JP28231890 A JP 28231890A JP H0362409 B2 JPH0362409 B2 JP H0362409B2
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JP
Japan
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valve
catheter
pressure
ventricular
cerebrospinal fluid
Prior art date
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JP2282318A
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Japanese (ja)
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Inventor
Yasuo Watanabe
Kenichi Yamakoshi
Hideaki Shimazu
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳
室シヤント装置に関し、特に、水頭症等の患者の
頭蓋内コンプライアンスを測定できるようにした
頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤント装
置に関する。この装置における脳室シヤントは、
水頭症等の患者の体内に手術により埋め込まれる
脳室−腹腔シヤントまたは脳室−心房シヤントと
しての機能をもつものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement, and particularly to an intracranial compliance measurement device capable of measuring intracranial compliance of patients with hydrocephalus, etc. Concerning a dual-purpose ventricular shunt device. The ventricular shunt in this device is
It functions as a ventricle-peritoneal shunt or a ventricle-atrial shunt that is surgically implanted into the body of a patient suffering from hydrocephalus or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、頭蓋内圧の亢進を伴う脳神経外科的疾
患では、これらの病態像の解明のために、頭蓋内
圧の正確な測定が必要である。
Generally, in neurosurgical diseases accompanied by increased intracranial pressure, accurate measurement of intracranial pressure is necessary to elucidate the pathological picture.

特に、頭蓋内系パラメータとして、頭蓋内圧P
下における頭蓋内容積Vの変位を示す頭蓋内コン
プライアンスCを測定することが種々提案されて
いる。
In particular, as an intracranial system parameter, intracranial pressure P
Various proposals have been made to measure the intracranial compliance C, which indicates the displacement of the intracranial volume V below.

すなわち、第20図に示すような頭蓋内系モデ
ルにおいて、頭蓋内35は、髄液産生36、髄液
吸収37、血管系38への静脈洞流入38および
静脈洞流出40によつて、その内容積Vが平衡を
保たれ、頭蓋内コンプライアンスCによつて頭蓋
内圧Pが調整されているのである。
That is, in the intracranial system model as shown in FIG. The product V is kept in balance, and the intracranial pressure P is regulated by the intracranial compliance C.

ここで、髄液吸収37、静脈洞流入39および
静脈洞流出40は、それぞれ抵抗Ri、Rviおよび
Rvoを有する。
Here, cerebrospinal fluid absorption 37, venous sinus inflow 39 and venous sinus outflow 40 have resistances Ri, Rvi and
Has Rvo.

そして、頭蓋内圧−容積(P−V)関係には、
第21,22図に示すように、内圧Pに関して対
数直線関係となることが、Langfitt T.W.et:
Neurology、15、622/641、1965等に発表されて
いるとおり知られており、この直線の勾配をPVI
(pressure−volume idex)という。
And, the intracranial pressure-volume (PV) relationship is
As shown in Figs. 21 and 22, a logarithmic linear relationship with respect to the internal pressure P is obtained by Langfitt TWet:
Neurology, 15, 622/641, 1965, etc., it is known that the slope of this straight line is the PVI
(pressure-volume idex).

したがつて、頭蓋内系で、その産生、各部抵抗
が全く無視できれば、頭蓋内コンプライアンスC
は、頭蓋内圧Pの関数として、次式に示すように
なる。
Therefore, if the production and resistance of each part of the intracranial system can be completely ignored, the intracranial compliance C
is expressed as a function of intracranial pressure P as shown in the following equation.

C≡ΔV/ΔP−PVI/P ……(1) すなわち、所定容積ΔVを一時に注入し、頭蓋
内圧変化ΔPを測定すれば、その時の頭蓋内圧P
におけるコンプライアンスCが測定できる。
C≡ΔV/ΔP−PVI/P……(1) In other words, if a predetermined volume of ΔV is injected at once and the intracranial pressure change ΔP is measured, the intracranial pressure P at that time is
Compliance C can be measured.

しかし、前述の各部の抵抗を無視できるとする
仮定は、実際の系では成り立たず(但し、髄液産
生は、数分内での現象では無視しても良い)、コ
ンプライアンスCの測定に工夫を要する。これま
での研究により、コンプライアンスCの測定に関
しいくつかの手段が試みられてきたが、最も簡易
な手段として既知量の容積ΔVを極めて短時間
(理論的にはt→0)に急速注入する方法[bolus
injection(infusion)method]が汎用され、これ
に対する頭蓋内圧Pの時間応答曲線からコンプラ
イアンスCを求める。
However, the above-mentioned assumption that the resistance of each part can be ignored does not hold true in an actual system (however, cerebrospinal fluid production can be ignored if it occurs within a few minutes), and we have devised ways to measure compliance C. It takes. Previous research has attempted several methods for measuring compliance C, but the simplest method is a method in which a known amount of volume ΔV is rapidly injected in an extremely short period of time (theoretically from t to 0). [bolus
injection (infusion) method] is commonly used, and the compliance C is determined from the time response curve of the intracranial pressure P to this method.

髄液産生を無視し、髄液吸収、静脈洞流入の全
抵抗をRTとすると、頭蓋内系の各パラメータ
PVI、RT、Cは理論的に、次式により求められ
る。
Ignoring cerebrospinal fluid production and assuming that the total resistance of cerebrospinal fluid absorption and venous sinus inflow is R T , each parameter of the intracranial system is
PVI, R T , and C are theoretically determined by the following equations.

PVI=ΔV/log10(Pa/P0)[ml] ……(2) RT=tP2P0/PVI・log10[P2/P
P・PP−P0/P2−P0][mmHg/ml/min]……(3) C=0.4343PVI/P0[ml/mmHg] ……(4) ここで、第23図に示すように、P0、PP、tP2
およびP2はそれぞれ測定可能であり、P0は注入
前の頭蓋内圧、PPは注入時における最大頭蓋内
圧、tP2は時定数、P2はtP2における頭蓋内圧を意
味する。
PVI=ΔV/log 10 (Pa/P 0 ) [ml] ...(2) R T =t P2 P 0 /PVI・log 10 [P 2 /P
P・P P −P 0 /P 2 −P 0 ] [mmHg/ml/min]……(3) C=0.4343PVI/P 0 [ml/mmHg]……(4) Here, in Figure 23 As shown, P 0 , P P , t P2
and P 2 can each be measured, P 0 means the intracranial pressure before injection, P P the maximum intracranial pressure at the time of injection, t P2 the time constant, and P 2 mean the intracranial pressure at t P2 .

そして、この急速注入手段(昇圧手段)とし
て、従来は、第24図に示すようなものが用いら
れており、この埋設物は、患者の脳室に先端部2
bを挿し込まれて同脳室から髄液を放出しうる細
管状の脳室カテーテル2と、同カテーテル2に接
続されたリザーバ70をそなえ且つ頭皮16下で
頭蓋骨17上に固定されたシリコン樹脂製等の軟
質壁からなる埋設物本体と、同埋設物本体の腹腔
や心房を接続する腹腔カテーテル3とから構成さ
れており、リザーバ11の上部には頭蓋内薬液
(蒸留水や生理食塩水等)注入用ドーム70aが
形成されている。
Conventionally, as this rapid injection means (pressure increase means), the one shown in FIG.
A silicone resin is provided with a tubular ventricular catheter 2 into which b is inserted and which can discharge cerebrospinal fluid from the same ventricle, and a reservoir 70 connected to the catheter 2, and which is fixed on the skull 17 under the scalp 16. It consists of an implant main body made of a soft wall made of plastic, etc., and a peritoneal catheter 3 that connects the abdominal cavity and atrium of the implant main body, and an intracranial drug solution (distilled water, physiological saline, etc.) ) An injection dome 70a is formed.

なお、図中の符号71は指18により押圧され
た流路13中の遮断部分を示しており、72はア
ンチサイホン装置、73はダイアフラムないしダ
イアフラムシート、74は注射針を示している。
In addition, the code|symbol 71 in the figure has shown the interruption|blocking part in the flow path 13 pressed by the finger|toe 18, 72 is an anti-siphon device, 73 is a diaphragm or a diaphragm sheet, and 74 is a injection needle.

さらに、図示しない頭蓋内側測定装置が設けら
れており、この頭蓋内圧測定装置として、頭皮下
に埋設される圧力センサと、同圧力センサに接続
されて外部へ導出される電線等と、同電線等から
の信号を出力するメーター等とから構成されてい
る。
Furthermore, an intracranial pressure measuring device (not shown) is provided, and this intracranial pressure measuring device includes a pressure sensor buried under the scalp, an electric wire, etc. connected to the pressure sensor and led out to the outside, and the same electric wire, etc. It consists of a meter, etc. that outputs the signal from the

なお、その測定例を第25図に示す。 An example of the measurement is shown in FIG.

ここで、時刻t0において、3つの異なる所定容
積ΔVの薬液を注入し、(a)〜(c)の各曲線が求めら
れる。
Here, at time t 0 , three different predetermined volumes of chemical solutions ΔV are injected, and each of the curves (a) to (c) is obtained.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

このような従来の頭蓋内コンプライアンス測定
手段では、その急速注入手段において、次のよう
な問題点を生じる。
In such conventional intracranial compliance measuring means, the following problems arise in the rapid injection means.

(1) 薬液注入を頻繁に行なうと、頭皮16が損傷
し、細菌感染の危険がある。
(1) Frequent injection of chemical solutions may damage the scalp 16 and pose a risk of bacterial infection.

(2) 患者の姿勢を保持しなければならず、苦痛を
伴い、数日間以上の長期測定に困難が伴う。
(2) The patient's posture must be maintained, which is painful and makes long-term measurements difficult over several days.

本発明は、このような問題点を解決しようとす
るもので、脳室シヤントに簡易な手段を付加する
ことにより、頻繁な頭蓋内コンプライアンス測定
を行うことができるようにするとともに、細菌感
染の危険性を防止して、体内への埋設物等を取り
扱いやすいものとすることができるようにした、
頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤント装
置を提供することを目的とする。
The present invention aims to solve these problems by adding a simple means to the ventricular shunt, making it possible to perform frequent intracranial compliance measurements, and reducing the risk of bacterial infection. This makes it possible to easily handle objects buried in the body by preventing
The purpose of this invention is to provide a ventricular shunt device that can also be used to measure intracranial compliance.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

このため、本発明の頭蓋内コンプライアンス測
定兼用脳室シヤント装置は、脳室に先端部を挿し
込まれて同脳室から髄液を排出しうる脳室カテー
テルと、腹腔または心房に先端部を挿し込まれて
同腹腔または心房へ上記髄液を送出しうる腹腔カ
テーテルまたは心房カテーテルと、上記脳室カテ
ーテルの基端部と上記の腹腔カテーテルまたは心
房カテーテルの基端部とにそれぞれ接続されて各
カテーテルを連通させるシヤント本体と、上記の
腹腔カテーテルまたは心房カテーテルから上記脳
室カテーテルへの髄液の逆流を防止しうる逆止弁
とをそなえるとともに、上記シヤント本体に、上
記脳室カテーテルから上記の腹腔カテーテルまた
は心房カテーテルへの髄液の流れを遮断しうる遮
断弁機構と、同遮断弁機構よりも上記脳室カテー
テル側の流路に介挿され、且つ、上記髄液を導く
頭蓋内コンプライアンス測定用リザーバと、同リ
ザーバに連通し外力を受けてその内部に貯留され
た所定容積の髄液を上記脳室へ向けて還流させう
る髄液還流用リザーバとをそなえ、上記頭蓋内コ
ンプライアンス測定用リザーバの上部に、外方に
突出するように形成されて上記髄液の圧力により
展張され外力からの圧力に応じて撓みうる可撓性
頭蓋内コンプライアンス測定用凸弯曲ドームをそ
なえ、さらに、上記凸弯曲ドームに頭皮を介して
外方から接触しうるガイド部と同ガイド部の先端
とほぼ面一となるように先端を形成された受圧部
とからなる検出端と、同検出端の受圧部に接続す
る圧力センサと、同圧力センサからの検出信号を
受けて表示ないし記録する外部機器とをそなえた
ことを特徴としている。
Therefore, the ventricular shunt device for intracranial compliance measurement of the present invention includes a ventricular catheter whose tip is inserted into the ventricle to drain cerebrospinal fluid from the same ventricle, and a ventricular catheter whose tip is inserted into the abdominal cavity or atrium. a peritoneal catheter or an atrial catheter that can be inserted into the peritoneal cavity or the atrium to deliver the cerebrospinal fluid to the same peritoneal cavity or the atrium; and each catheter connected to the proximal end of the ventricular catheter and the proximal end of the peritoneal catheter or the atrial catheter, respectively. The shunt body is provided with a check valve capable of preventing backflow of cerebrospinal fluid from the peritoneal catheter or the atrial catheter to the ventricular catheter, and the shunt body is provided with a shunt body that allows the ventricular catheter to communicate with the peritoneal cavity. A cutoff valve mechanism capable of blocking the flow of cerebrospinal fluid to a catheter or an atrial catheter, and an intracranial compliance measurement device that is inserted into a flow path closer to the ventricular catheter than the cutoff valve mechanism and that guides the cerebrospinal fluid. a reservoir, and a cerebrospinal fluid reflux reservoir that communicates with the reservoir and is capable of refluxing a predetermined volume of cerebrospinal fluid stored therein toward the cerebral ventricle in response to an external force; The upper part is provided with a flexible convex curved dome for intracranial compliance measurement, which is formed to protrude outward, is expanded by the pressure of the cerebrospinal fluid, and can be bent in response to pressure from an external force; A detection end consisting of a guide part that can be contacted from the outside through the scalp and a pressure receiving part whose tip is formed so as to be substantially flush with the tip of the guide part, and connected to the pressure receiving part of the detection end. It is characterized by comprising a pressure sensor and an external device that receives and displays or records a detection signal from the pressure sensor.

〔作用〕[Effect]

上述の本発明の頭蓋内コンプライアンス測定兼
用脳室シヤント装置では、髄液還流用リザーバを
押圧することにより、脳室へ向けて髄液を還流さ
せ、脳室から脳室カテーテルを通じて頭蓋内コン
プライアンス測定用リザーバへ髄液が導かれると
ともに、この髄液の圧力によりリザーバの弯曲ド
ームが展張されて、同弯曲ドームに頭皮を介して
圧力センサの検出端におけるガイド部および受圧
部が当接され、検出端の押し込み状態に応じた圧
力を、圧力センサが検出して、外部機器が表示な
いし記録し、押し込み深さと検出圧力とからこれ
らの変曲点(すなわち、押し込み深さに応じた検
出圧力が変曲する点)およびその近傍における検
出圧力を頭蓋内圧とする。
In the above-mentioned ventricular shunt device for intracranial compliance measurement of the present invention, by pressing the cerebrospinal fluid reflux reservoir, cerebrospinal fluid is refluxed toward the ventricle, and from the ventricle through the ventricular catheter, it is used for intracranial compliance measurement. As cerebrospinal fluid is guided to the reservoir, the curved dome of the reservoir is expanded by the pressure of this cerebrospinal fluid, and the guide part and pressure receiving part at the detection end of the pressure sensor are brought into contact with the curved dome through the scalp, and the detection end The pressure sensor detects the pressure according to the pushing state, and the external device displays or records it, and the inflection points (i.e., the inflection point of the detected pressure according to the pushing depth) are determined from the pushing depth and the detected pressure. The detected pressure at the point) and its vicinity is the intracranial pressure.

そして、この頭蓋内圧の時間変化を検出するこ
とにより、頭蓋内コンプライアンスを測定する。
Intracranial compliance is then measured by detecting this temporal change in intracranial pressure.

さらに、上述の本発明の頭蓋内コンプライアン
ス測定兼用脳室シヤント装置では、その遮断弁機
構を開放状態にすることにより、通常の脳室シヤ
ントと同様に脳室内の過剰の髄液を腹腔または心
房へ流出させる作用が行なわれる。
Furthermore, in the above-mentioned intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention, by opening its isolation valve mechanism, excess cerebrospinal fluid in the ventricles is discharged to the peritoneal cavity or atrium in the same manner as in a normal ventricular shunt. A draining action is performed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面により本発明の実施例について説明
すると、第1〜6図は本発明の頭蓋内コンプライ
アンス測定兼用脳室シヤント装置における頭蓋内
コンプライアンス測定手段を説明するために示す
ものであり、第7〜14図は本発明の第1実施例
としての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シ
ヤント装置を示すものであり、第15,16図は
本発明の第1実施例における遮断弁機構の変形例
を示すものであり、第17,18図は本発明の第
2実施例としての頭蓋内コンプライアンス測定兼
用脳室シヤント装置における脳室シヤントを示す
ものであり、第19図は本発明の第3実施例とし
ての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤン
ト装置を示すものであり、第1〜19図中、第2
0〜25図と同じ符号はほぼ同様のものを示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 to 6 are shown to explain the intracranial compliance measuring means in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention, and FIGS. Figure 14 shows a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as the first embodiment of the present invention, and Figures 15 and 16 show modified examples of the isolation valve mechanism in the first embodiment of the present invention. 17 and 18 show the ventricular shunt in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device as the second embodiment of the present invention, and FIG. 19 shows the ventricular shunt as the third embodiment of the present invention. This shows a ventricular shunt device that also serves as an intracranial compliance measurement.
The same reference numerals as in FIGS. 0 to 25 indicate substantially the same things.

第1〜6図に示すように、本発明の頭蓋内コン
プライアンス測定兼用脳室シヤント装置における
頭蓋内コンプライアンス測定手段は、患者の体内
に埋設される埋設物Aと、患者の体外に配設され
て、埋設物Aの頭蓋内コンプライアンス測定用リ
ザーバ11に頭皮16を介して接触しうる体外機
器Bとから構成されており、機能的には、急速注
入手段(昇圧手段)80と、頭蓋内圧測定手段9
0とから構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 6, the intracranial compliance measuring means in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention includes an implant A to be implanted inside the patient's body and an implant A to be implanted outside the patient's body. , an extracorporeal device B that can come into contact with the intracranial compliance measurement reservoir 11 of the implant A through the scalp 16, and functionally includes a rapid injection means (pressure increase means) 80 and an intracranial pressure measuring means. 9
It is composed of 0.

埋設物Aは、患者の脳室19に先端部2bを挿
し込まれて同脳室19から髄液を排出しうる細管
状の脳室カテーテル2と、同カテーテル2に接続
されたリザーバ11と、このリザーバ11に連通
路41を介して連通し、外力を頭皮16を介して
受けてその内部に貯留された所定容積V0(=V2
V1)の髄液を脳室19へ向けて還流させうる急
速注入手段(昇圧手段)80としての髄液還流用
リザーバ40とをそなえ且つ頭皮16下で頭蓋骨
17上に固定されたシリコン樹脂製等の軟質壁か
らなる埋設物本体22とから構成されており、リ
ザーバ11の上部には薄膜状の可撓性頭蓋内コン
プライアンス測定用凸弯曲ドーム11aが形成さ
れている。
The implant A includes a tubular ventricular catheter 2 whose tip end 2b can be inserted into a patient's ventricle 19 to drain cerebrospinal fluid from the ventricle 19, and a reservoir 11 connected to the catheter 2. A predetermined volume V 0 (=V 2
V 1 ) made of silicone resin and fixed on the skull 17 below the scalp 16 and equipped with a cerebrospinal fluid reflux reservoir 40 as a rapid injection means (pressure increasing means) 80 capable of refluxing the cerebrospinal fluid toward the cerebral ventricle 19 The reservoir 11 has a flexible convex curved dome 11a for intracranial compliance measurement formed in the upper part of the reservoir 11.

ここで、V2はリザーバ40の上部弯曲ドーム
40aを押圧しないときのリザーバ40内容積、
V1はリザーバ40の上部弯曲ドーム40aを押
圧したときのリザーバ40内容積を示している。
Here, V 2 is the internal volume of the reservoir 40 when the upper curved dome 40a of the reservoir 40 is not pressed;
V 1 indicates the internal volume of the reservoir 40 when the upper curved dome 40a of the reservoir 40 is pressed.

頭蓋内圧測定手段90の要部をなす圧力検出装
置は、圧力検出器23と、同圧力検出器23の圧
力センサ23eからの圧力検出信号をリード線2
4を介して受けて増幅する増幅器25と、同増幅
器25からの増幅された信号をリード線26を介
して受けて記録するためのプリント等の記録計2
7や表示するためのCRT等の表示装置28とか
ら構成されている。
The pressure detection device, which is a main part of the intracranial pressure measurement means 90, includes a pressure detector 23 and a pressure detection signal from a pressure sensor 23e of the pressure detector 23, which is connected to a lead wire 2.
an amplifier 25 for receiving and amplifying the signal via a lead wire 26; and a recorder 2, such as a printer, for receiving and recording the amplified signal from the amplifier 25 via a lead wire 26.
7 and a display device 28 such as a CRT for display.

圧力検出器23は、経皮脳圧センサとして構成
されており、ケース23aと、同ケース23aの
検出端側に連結された所定長さの外筒23bと、
ケース23aの裏面側に連結された押え板23c
と、外筒23b内に摺動可能に内挿された柱状受
圧部23dと、同受圧部23dに接続して同受圧
部23dからの圧力を電気信号に変換してリード
線24を介して出力するための表面にシリコンを
モールドされた拡散型半導体圧力センサ(または
荷重センサ)23eと、ケース23a内の圧力セ
ンサ23eに付勢力与える硬めのスプリング23
fと、圧力センサ23eを位置決めするためのゼ
ロアジヤスタ23gとから構成されている。
The pressure detector 23 is configured as a transcutaneous cerebral pressure sensor, and includes a case 23a, an outer cylinder 23b of a predetermined length connected to the detection end side of the case 23a,
A presser plate 23c connected to the back side of the case 23a
and a columnar pressure receiving part 23d slidably inserted into the outer cylinder 23b, which is connected to the pressure receiving part 23d, converts the pressure from the pressure receiving part 23d into an electrical signal, and outputs it via the lead wire 24. A diffusion-type semiconductor pressure sensor (or load sensor) 23e whose surface is molded with silicon for the purpose of increasing the pressure, and a hard spring 23 that applies a biasing force to the pressure sensor 23e inside the case 23a.
f, and a zero adjuster 23g for positioning the pressure sensor 23e.

なお、図中の符号20は脳、21は硬膜を示し
ている。
In addition, the code|symbol 20 in a figure shows a brain, and 21 shows a dura mater.

本発明の頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室
シヤント装置における頭蓋内コンプライアンス測
定手段は上述のごとく構成されているので、埋設
物Aを所定位置に埋設した状態で、第2〜5図に
示すようにして頭蓋内コンプライアンスCを測定
することができる。
Since the intracranial compliance measuring means in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention is configured as described above, with the buried object A buried in a predetermined position, Intracranial compliance C can be measured.

(1) 急速注入を行なう前に、後述のステツプb5
〜b7に示すように、頭蓋内圧Pを1回測定
し、P0とする[ステツプb1,b3および第
5図b中の時刻t1参照]。
(1) Before performing rapid injection, perform step b5 described below.
As shown in ~b7, the intracranial pressure P is measured once and set as P0 [see steps b1, b3 and time t1 in Figure 5b].

(2) 頭皮16下、且つ、頭蓋骨17上に埋設され
た頭蓋内コンプライアンス測定用リザーバ11
および髄液還流用リザーバ40へ脳室カテーテ
ル2を通じて髄液を導くとともに、急速注入手
段80におけるリザーバ40を押圧して、急速
注入法により、所定容積の髄液を脳室19へ向
けて一時に還流させる[ステツプb4および第
5図b中の時刻t0参照]。
(2) Reservoir 11 for intracranial compliance measurement buried under the scalp 16 and above the skull 17
Then, the cerebrospinal fluid is guided to the cerebrospinal fluid circulation reservoir 40 through the ventricular catheter 2, and the reservoir 40 in the rapid injection means 80 is pressed, and a predetermined volume of cerebrospinal fluid is directed toward the cerebral ventricle 19 at once by the rapid injection method. Reflux [see step b4 and time t0 in Figure 5b].

(3) 髄液の圧力により上記リザーバ11の上部ド
ーム11aを外方へ向けて突出するように展張
させる(ステツプb5)。
(3) The upper dome 11a of the reservoir 11 is expanded to protrude outward due to the pressure of the cerebrospinal fluid (step b5).

(4) 圧力検出装置をオンとして、測定を開始する
[第4図aおよび第5図a中の時刻tAにおける
センサ深度LA参照]。このとき、検出端30
は、頭皮16から離隔していて、非接触状態と
なつている。
(4) Turn on the pressure detection device and start measurement [see sensor depth L A at time t A in Figures 4a and 5a]. At this time, the detection end 30
is separated from the scalp 16 and is in a non-contact state.

したがつて、この状態ではドーム11aに圧
力が外部から加わることがない。
Therefore, in this state, no pressure is applied to the dome 11a from the outside.

(5) 圧力検出装置の検出端30を上記上部ドーム
11aに頭皮16を介して当接させることによ
り[第4図bおよび第5図a中の時刻tBにおけ
るセンサ深度LB参照]、圧力Pの計測を開始す
る(ステツプb6)。
(5) By bringing the detection end 30 of the pressure detection device into contact with the upper dome 11a through the scalp 16 [see sensor depth L B at time t B in FIGS. 4b and 5a], the pressure is detected. Measurement of P is started (step b6).

(6) 次いで、検出端30を上部ドーム11aの上
面中央が平らになるまで押し込む[第4図cお
よび第5図a中の時刻tcにおけるセンサ深度Lc
参照]。
(6) Next, push the detection end 30 into the upper dome 11a until the center of the upper surface becomes flat [sensor depth L c at time t c in Fig. 4 c and Fig. 5 a]
reference].

この状態は、受圧部23dの先端面およびガ
イド部23bの先端面と頭皮16を介して弯曲
ドーム11aの上面とが準平面(co−plane)
となつた状態で、押し込み深さLと検出圧力P
との関係において変曲(以下、この変曲点を
「BP1」という。)が生じる。
In this state, the distal end surface of the pressure receiving part 23d and the distal end surface of the guide part 23b and the upper surface of the curved dome 11a via the scalp 16 are in a co-plane.
In this state, the indentation depth L and detected pressure P
An inflection (hereinafter, this inflection point will be referred to as "BP 1 ") occurs in the relationship.

(7) さらに、上部ドーム11aの面がつぶれる状
態まで、押し込みを継続する[第4図dおよび
第5図a中の時刻tDにおけるセンサ深度LD
照]。
(7) Further, the pushing is continued until the surface of the upper dome 11a is crushed [see sensor depth L D at time t D in FIG. 4 d and FIG. 5 a].

この状態は、受圧部23dの先端面が頭皮1
6を介して弯曲ドーム11aによりガイド部2
3bと相対的に押し上げられて同ガイド部23
b内に陥没し始めた状態で、押し込み深さLと
検出圧力Pとの関係において変曲(以下、この
変曲点を「BP2」という。)が生じる。
In this state, the tip end surface of the pressure receiving part 23d is attached to the scalp 1.
6 and the guide portion 2 by the curved dome 11a.
The guide portion 23 is pushed up relative to the guide portion 3b.
In the state in which the indentation point begins to sink into the inside part b, an inflection occurs in the relationship between the indentation depth L and the detected pressure P (hereinafter, this inflection point will be referred to as "BP 2 ").

(8) この押し込み過程における圧力検出装置の検
出圧力を記録計27で記録したり、表示装置2
8で表示することにより測定し、検出端30の
押し込み深さLを少し変化させても検出圧力P
の変化しない区間(変曲点BP1〜BP2)を検出
し、この区間における検出圧力Pを頭蓋内圧と
する(ステツプb7)。
(8) The pressure detected by the pressure detection device during this pushing process is recorded by the recorder 27, and the display device 2
The detection pressure P is measured by displaying 8, and even if the pushing depth L of the detection end 30 is slightly changed, the detection pressure P
A section (inflection points BP 1 to BP 2 ) in which there is no change is detected, and the detected pressure P in this section is taken as the intracranial pressure (step b7).

すなわち、押し込み深さLと検出圧力Pとに
は、2つの変曲点BP1、BP2を有する特性があ
り、ここで変曲点BP1〜BP2間は、検化幅が小
さい。
That is, the indentation depth L and the detected pressure P have a characteristic of having two inflection points BP 1 and BP 2 , and here, the verification width is small between the inflection points BP 1 and BP 2 .

(9) 上述の(3)〜(9)における頭蓋内圧測定手段90
による頭蓋内圧測定を所定時間幅Δt(30秒〜1
分)毎に、所定回数(または所定時間経過する
まで)行ない、検出圧力Pをプロツトする[ス
テツプb3,b8,b9および第5図b中の時
刻t2〜to参照]。
(9) Intracranial pressure measuring means 90 in (3) to (9) above
The intracranial pressure is measured using a predetermined time width Δt (30 seconds to 1
The detection pressure P is plotted every predetermined number of times (or until a predetermined time elapses) (see steps b3, b8, b9 and times t2 to t0 in FIG. 5b).

(10) 上記(9)により、各プロツトを曲線補間して、
応答曲線を推定する。これにより、(2)〜(4)式に
基づき、前記各パラメータPVI、RT、Cを求
めることができる。
(10) According to (9) above, each plot is interpolated by a curve,
Estimate the response curve. Thereby, each of the parameters PVI, RT , and C can be determined based on equations (2) to (4).

このようにして行なわれる経皮的頭蓋内圧測定
の原理は、次の条件が成立することを前提とし、
次の測定対象に対して行なわれる。
The principle of transcutaneous intracranial pressure measurement performed in this way is based on the premise that the following conditions hold:
This is done for the following measurement objects.

まず、その条件は、第1図に示すように、頭蓋
内圧が頭皮16直下に導出され、半径rの“やわ
らかい”ドーム11aに頭蓋内圧と等しい圧力が
存在するものとする。
First, as shown in FIG. 1, the conditions are that intracranial pressure is derived directly below the scalp 16, and that a pressure equal to the intracranial pressure exists in the "soft" dome 11a of radius r.

この場合の測定対象は、頭皮16下に埋め込ま
れている埋設物本体22(脳室シヤント本体1)
内の圧力であり、この圧力を頭皮16の外部より
間接的に測定する。この際、頭皮16およびリザ
ーバ11を軽く圧迫しても頭蓋内圧にほとんど変
動がないものとする。
In this case, the measurement target is the implant body 22 (ventricular shunt body 1) embedded under the scalp 16.
This pressure is measured indirectly from the outside of the scalp 16. At this time, it is assumed that there is almost no change in intracranial pressure even if the scalp 16 and reservoir 11 are lightly compressed.

このときラプラスの定理より、次の測定原理が
導かれる。
At this time, the following measurement principle is derived from Laplace's theorem.

第6図aに示すように、頭皮16および埋設物
本体22(脳室シヤント本体1)のドーム11a
を半径rの球体の一部であると考える場合に、球
体は、内圧(脳圧)Piと、外圧(通常は大気圧)
P0と、頭皮16および埋設物本体22のドーム
11a張力Tとの間にラプラスの定理が成立す
る。
As shown in FIG. 6a, the dome 11a of the scalp 16 and the implant body 22 (ventricular shunt body 1)
is part of a sphere with radius r, the sphere has an internal pressure (brain pressure) Pi and an external pressure (usually atmospheric pressure)
Laplace's theorem is established between P 0 and the tension T of the dome 11a of the scalp 16 and the buried object body 22.

すなわち、次の関係が成立している。 That is, the following relationship holds true.

Pi−P0=2T/r ……(5) ここで、ドーム11aの外より内圧Piを測定す
る場合、Pi=P0となるような条件が(5)式の下で
成立すればよい。
Pi−P 0 =2T/r (5) Here, when measuring the internal pressure Pi from outside the dome 11a, the condition that Pi=P 0 should be satisfied under the equation (5).

そして、このラプラスの定理に基づき、次の測
定原理が成立する。
Based on Laplace's theorem, the following measurement principle is established.

いま、ドーム11aの外部を第6図bに示すよ
うな板29で圧迫してみる。ドーム11aの上面
は板29により平面状になる。この板29の平面
状部分の面積をDとすると、Dの領域では、先の
ラプラスの定理に基づいて考えると、rが無限大
になつたことに相当する。
Now try pressing the outside of the dome 11a with a plate 29 as shown in FIG. 6b. The upper surface of the dome 11a is made flat by the plate 29. Assuming that the area of the planar portion of this plate 29 is D, in the region of D, r is equivalent to infinity when considered based on Laplace's theorem.

すなわち、rを∞とすると、(5)式の右辺は0と
なり、このときPi=P0が成立する。このことか
ら、ドーム11aおよび頭皮16を適当な外圧で
圧迫した場合、平面状になつた部分に加わる外圧
は、内圧と等しくなることがわかる。
That is, if r is ∞, the right side of equation (5) becomes 0, and in this case, Pi=P 0 holds true. From this, it can be seen that when the dome 11a and the scalp 16 are compressed with an appropriate external pressure, the external pressure applied to the flattened portion becomes equal to the internal pressure.

ただし、実際の測定では、ドーム11aを必要
な部分だけ正確に圧迫するために以下の点に注意
する必要がある。
However, in actual measurements, it is necessary to pay attention to the following points in order to accurately compress only the necessary portions of the dome 11a.

ドーム11aを平面状に圧迫すること 上記Dの領域でのみ外圧を検出すること 必要以上にドーム11aをつぶさないこと これらの条件を成立させると、実際の測定を行
なうことができる。
To compress the dome 11a in a flat shape. To detect external pressure only in the region D above. To not crush the dome 11a more than necessary. When these conditions are satisfied, actual measurement can be performed.

このように、本発明の頭蓋内コンプライアンス
測定兼用脳室シヤント装置における頭蓋内コンプ
ライアンス測定手段によれば、埋設物Aが、CT
スキヤナーや核磁気共鳴スキヤナー等の断層像作
成に障害とならないように構成することができ
る。
As described above, according to the intracranial compliance measuring means in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention, the buried object A can be
It can be configured so as not to interfere with the creation of tomographic images using scanners, nuclear magnetic resonance scanners, or the like.

第7〜14図に示すように、本発明の第1実施
例としての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室
シヤント装置は、患者の体内に埋設される埋設物
として、前述の埋設物Aに脳室シヤントの機能を
もたせた頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シ
ヤントA1が用いられており、体外機器Bや急速
注入手段80、頭蓋内圧測定手段90は、前述の
ものとほぼ同様である。
As shown in FIGS. 7 to 14, the ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as the first embodiment of the present invention is a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as an implant to be implanted in the patient's body. A ventricular shunt A 1 for intracranial compliance measurement and function is used, and the extracorporeal equipment B, rapid injection means 80, and intracranial pressure measurement means 90 are almost the same as those described above.

本実施例で埋設物として用いられる頭蓋内コン
プライアンス測定兼用脳室シヤントA1は、流量
切替式脳室シヤントとしての機能を兼ね備えてお
り、患者の脳室19に先端部2bを挿し込まれて
同脳室19から髄液を排出しうる細管状の脳室カ
テーテル2と、腹腔または心房に先端部を挿し込
まれて腹腔または心房へ上記髄液を送出しうる腹
腔カテーテルまたは心房カテーテル(以下、「腹
腔カテーテル」という。)3と、脳室カテーテル
2の基端部2aと腹腔カテーテル3の基端部3a
とにそれぞれ接続されて各カテーテル2,3を相
互に連通させる主通路10をそなえたシリコン樹
脂製等の軟質壁からならシヤント本体(中継室)
1とをそなえて構成されている。
The intracranial compliance measuring ventricular shunt A 1 used as an implant in this example has the function of a flow rate switching type ventricular shunt, and its tip 2b is inserted into the patient's ventricle 19. A tubular ventricular catheter 2 that can drain cerebrospinal fluid from the ventricle 19, and a peritoneal catheter or atrial catheter (hereinafter referred to as " ) 3, the proximal end 2a of the ventricular catheter 2, and the proximal end 3a of the peritoneal catheter 3.
If the shunt body (relay chamber) is made of a soft wall made of silicone resin or the like, it has a main passage 10 that is connected to the catheters 2 and 3 and communicates with each other.
It is composed of 1.

また、これらのシヤント本体1、脳室カテーテ
ル2および腹腔カテーテル3には、腹腔カテーテ
ル3から脳室カテーテル2への髄液の逆流を防止
しうる逆止弁4が設けられており、この逆止弁4
は、本実施例では後述する流量切替機構5の流量
調整部としてのスリツトリリーフ弁6,7がその
機能を兼用している。
In addition, the shunt main body 1, the ventricular catheter 2, and the peritoneal catheter 3 are provided with a check valve 4 that can prevent backflow of cerebrospinal fluid from the peritoneal catheter 3 to the ventricular catheter 2. valve 4
In this embodiment, slit relief valves 6 and 7 serving as flow rate adjusting sections of a flow rate switching mechanism 5, which will be described later, also serve this function.

これらのスリツト式リリース弁6,7は、第1
4図に示すように、後述の弁座8a,9aとそれ
ぞれ一体に形成されてリリーフ弁付き部材33を
構成しており、このリリーフ弁付き部材33は、
シヤント本体1の上部1Aと下部1Bとの間に挟
持され、接着されるようになつている。
These slit type release valves 6 and 7 are
As shown in FIG. 4, a relief valve equipped member 33 is formed integrally with valve seats 8a and 9a, which will be described later.
It is sandwiched between the upper part 1A and lower part 1B of the shunt main body 1 and is bonded to the latter.

すなわち、シヤント本体1は、第7図に斜線図
示する部分で、上部1Aと下部1Bとに分離して
おり、相互に接着することにより組み立てられる
ようになつている。
That is, the shunt main body 1 is separated into an upper part 1A and a lower part 1B at the hatched portion in FIG. 7, and is assembled by adhering them to each other.

シヤント本体1は、縫糸貫通孔15を貫通する
縫糸等を頭皮16に縫合することにより、頭皮1
6下で頭蓋骨17上に固定されており、上述の脳
室カテーテル2と腹腔カテーテル3とに接続する
主通路10と、主通路10の脳室カテーテル2側
に形成された小室状のリザーバ11と、このリザ
ーバ11に連通路41を介して連通し、外力を頭
皮16を介して受けてその内部に貯留された所定
容積V0(=V2−V1)の髄液を脳室19へ向けて
還流させうる急速注入手段(昇圧手段)80とし
ての髄液還流用リザーバ40と主通路10の腹腔
カテーテル3側に形成された小室12と、リザー
バ11よりも下流側の主通路10における分岐部
10aと小室12とを相互に並列接続する第1の
流路13および第2の流路14とをそなえて構成
されている。
The shunt main body 1 is attached to the scalp 16 by suturing a suture or the like passing through the suture through hole 15 to the scalp 16.
A main passage 10 is fixed on the skull 17 at the bottom of the main passage 10 and is connected to the ventricular catheter 2 and the peritoneal catheter 3, and a small chamber-shaped reservoir 11 is formed on the side of the ventricular catheter 2 of the main passage 10. , communicates with this reservoir 11 via a communication path 41, receives external force through the scalp 16 , and directs a predetermined volume of cerebrospinal fluid stored therein to the ventricle 19 . A cerebrospinal fluid reflux reservoir 40 as a rapid infusion means (pressurization means) 80 that can be refluxed, a small chamber 12 formed on the peritoneal catheter 3 side of the main passage 10, and a branch in the main passage 10 downstream of the reservoir 11. It is configured with a first flow path 13 and a second flow path 14 that connect the small chamber 10a and the small chamber 12 in parallel.

ここで、V2はリザーバ40に上部弯曲ドーム
40aを押圧しないときのリザーバ40内容積、
V1はリザーバ40の上部弯曲ドーム40aを押
圧したときのリザーバ40内容積を示している。
Here, V 2 is the internal volume of the reservoir 40 when the upper curved dome 40a is not pressed against the reservoir 40;
V 1 indicates the internal volume of the reservoir 40 when the upper curved dome 40a of the reservoir 40 is pressed.

第1の流路13には、第14図に示すように、
この第1の流路13の連通状態における流量を所
定流量Q1に調整しうる所定深さD1のスリツト6
aを形成された第1の流量調整部としてのスリツ
ト式リリーフ弁6と、シヤント本体1の外側から
の駆動力を受けてこの第1の流路13を遮蔽しう
る第1の開閉弁としてのボール式開閉弁8とが介
挿されている。
In the first flow path 13, as shown in FIG.
A slit 6 with a predetermined depth D 1 that can adjust the flow rate in the communication state of this first channel 13 to a predetermined flow rate Q 1
a, and a slit type relief valve 6 as a first flow rate adjustment part formed with a slit type relief valve 6 as a first flow rate adjustment part, and as a first opening/closing valve that can receive a driving force from the outside of the shunt body 1 and block this first flow path 13. A ball type on-off valve 8 is inserted.

ボール式開閉弁8は、シヤント本体1の壁面に
形成された円形弁座8aと、同円形弁座8aに対
向する上流側の第1の流路13に形成された弁室
8bと、同弁室8bに封入されて弁室8bの軟質
上壁1aおよび軟質前壁1bと頭皮16との外側
からの指18などによる駆動力を受けて移動しう
る可動球状弁体8cと、弁体8cを着座させるこ
とにより同弁体8cを弁座8aに整合させた位置
において軟質上壁1aとの間に挟持され開閉弁8
を閉鎖し第1の流路13を遮断する閉鎖位置保持
用円座(凹部)8dと、弁体8cを着座させるこ
とにより同弁体8cを弁座8aから離隔した位置
において軟質上壁1aとの間に挟持され開閉弁8
を開放し第1の流路13を連通させる開放位置保
持用円座(凹部)8eとから構成されている。
The ball type on-off valve 8 includes a circular valve seat 8a formed on the wall surface of the shunt main body 1, a valve chamber 8b formed in a first flow path 13 on the upstream side opposite to the circular valve seat 8a, and a valve chamber 8b formed in a first flow path 13 on the upstream side opposite to the circular valve seat 8a. A movable spherical valve body 8c that is enclosed in the chamber 8b and can be moved by receiving a driving force from a finger 18 or the like from the outside of the soft upper wall 1a and the soft front wall 1b of the valve chamber 8b and the scalp 16, and the valve body 8c. When seated, the on-off valve 8 is held between the soft upper wall 1a and the valve body 8c aligned with the valve seat 8a.
A circular seat (recess) 8d for holding the closed position that closes the first flow path 13 and blocks the first flow path 13, and a soft upper wall 1a at a position where the valve body 8c is separated from the valve seat 8a by seating the valve body 8c. The on-off valve 8 is sandwiched between
and a circular seat (recess) 8e for holding the open position, which opens the first flow path 13 and communicates with the first flow path 13.

第2の流路14には、第14図に示すように、
この第2の流路14の連通状態における流量を所
定流量Q2(ここでは、=1/2Q1)に調整しうる所定
深さD2(<D1)のスリツト7aを形成された第2
の流量調整部としてのスリツト式リリーフ弁7
と、シヤント本体1の外側からの駆動力を受けて
第2の流路14を遮断しうる第2の開閉弁として
のボール式開閉弁9とが介挿されている。
In the second flow path 14, as shown in FIG.
A second slit 7a having a predetermined depth D 2 (<D 1 ) that can adjust the flow rate in the communicating state of the second flow path 14 to a predetermined flow rate Q 2 (here, = 1/2Q 1 ) is formed.
Slit type relief valve 7 as a flow rate adjustment part
A ball-type on-off valve 9 serving as a second on-off valve capable of blocking the second flow path 14 by receiving a driving force from the outside of the shunt body 1 is inserted.

ボール式開閉弁9は、シヤント本体1の壁面に
形成された円形弁座9aと、同円形弁座9aに対
向する上流側の第2の流路14に形成された弁室
9bと、同弁室9bに封入されて弁室9bの軟質
上壁1aおよび軟質前壁1cと頭皮16との外側
からの指18などによる駆動力を受けて移動しう
る可動球状弁体9cと、弁体9cを着座させるこ
とにより同弁体9cを弁座9aに整合させた位置
において軟質上壁1aとの間に挟持され開閉弁9
を閉鎖し第2の流路14を遮断する閉鎖位置保持
用円座(凹部)9dと、弁体9cを着座させるこ
とにより同弁体9cを弁座9aから離隔した位置
において軟質上壁1aとの間に挟持され開閉弁9
を開放し第2の流路14を連通させる開放位置保
持用円座(凹部)9eとから構成されていて、こ
のボール式開閉弁9は、上流のボール式開閉弁8
とほぼ同様に構成されている。
The ball type on-off valve 9 includes a circular valve seat 9a formed on the wall surface of the shunt main body 1, a valve chamber 9b formed in a second flow path 14 on the upstream side opposite to the circular valve seat 9a, and a valve chamber 9b formed in a second flow path 14 on the upstream side opposite to the circular valve seat 9a. A movable spherical valve body 9c that is enclosed in the chamber 9b and can be moved by receiving a driving force from a finger 18 or the like from the outside of the soft upper wall 1a and the soft front wall 1c of the valve chamber 9b and the scalp 16, and the valve body 9c. When the valve body 9c is seated, it is held between the soft upper wall 1a and the open/close valve 9 at a position where the valve body 9c is aligned with the valve seat 9a.
and a soft upper wall 1a at a position where the valve body 9c is separated from the valve seat 9a by seating the valve body 9c. The on-off valve 9 is sandwiched between
The ball-type on-off valve 9 is composed of a circular seat (recess) 9e for holding the open position and communicates the second flow path 14 with the upstream ball-type on-off valve 8.
It is structured almost the same way.

第1のリリーフ弁6は第2のリリーフ弁7より
も大きい規制流量を有しており、本実施例では各
リリーフ弁6,7がいずれも単一スリツト型の逆
止弁として構成されているが、これらを十字スリ
ツト型のものや、スプリング付きのものあるいは
メンブレン式のものなどに変更してもよい。
The first relief valve 6 has a larger regulated flow rate than the second relief valve 7, and in this embodiment, each of the relief valves 6 and 7 is configured as a single-slit check valve. However, these may be changed to a cross-slit type, a spring-equipped type, or a membrane type.

可動球状弁体8c,9cの材質としては、プラ
スチツク系のものや金属材が用いられるが、金属
球にシリコン樹脂の被覆を施したものでもよい。
プラスチツク製可動球状弁体の場合は、金属製の
場合と同様にレントゲン写真による可動球状弁体
8c,9cの位置確認を行なえるように、そのプ
ラスチツク材に造影剤を混入しておくことが望ま
しい。
The movable spherical valve bodies 8c, 9c may be made of plastic or metal, but metal balls coated with silicone resin may also be used.
In the case of movable spherical valve bodies made of plastic, it is desirable to mix a contrast medium into the plastic material so that the position of the movable spherical valve bodies 8c, 9c can be confirmed by X-ray photography as in the case of metal. .

流量切替機構5は、上述のごとく、所定流量
Q1の流量を制御するため流路13に介挿された
スリツト式リリーフ弁6とボール式開閉弁8とを
そなえた第1の流量切替部5aと、所定流量Q2
(=1/2Q1)の流通を制御するため流路14に介
挿されたスリツト式リリーフ弁7とボール式開閉
弁9とをそなえた第2の流量切替部5bとから構
成されていて、これらの開閉弁8,9における弁
体8c,9cの移動方向F1,F2は相互に平行と
なるとともに、シヤント本体1の中心線C.Lに平
行となるように構成されている。
As mentioned above, the flow rate switching mechanism 5 controls the predetermined flow rate.
A first flow rate switching section 5a includes a slit type relief valve 6 and a ball type on-off valve 8 inserted in the flow path 13 to control the flow rate of Q1, and a predetermined flow rate Q2.
(=1/2Q 1 ), the second flow rate switching section 5b includes a slit type relief valve 7 inserted in the flow path 14 and a ball type on-off valve 9. The moving directions F 1 and F 2 of the valve bodies 8c and 9c in these on-off valves 8 and 9 are parallel to each other and parallel to the center line CL of the shunt body 1.

さらに、ボール式開閉弁8,9の弁室8b,9
bに面する弁座8a,9aの向きが、弁体8c,
9cの移動方向F1,F2から中央へ向けて傾くよ
うに設定されている。
Furthermore, the valve chambers 8b, 9 of the ball type on-off valves 8, 9
The orientation of the valve seats 8a and 9a facing b is the same as that of the valve body 8c,
It is set to tilt toward the center from the moving directions F 1 and F 2 of 9c.

すなわち、小室12の中心部と円座8d,9d
の中心位置とをそれぞれ直線で結ぶように第1の
流路13,14が形成されていて、円座8d,9
dから弁体8c,9cの移動方向上を円座8e,
9eとは逆の向きへ辿ると、すぐシヤント本体1
の外壁をなす軟質後壁1d,1eが配置されてい
る。
That is, the center of the small chamber 12 and the circular seats 8d, 9d
The first channels 13 and 14 are formed so as to connect the center positions of the circular seats 8d and 9 with a straight line, respectively.
d to the circular seat 8e, on the moving direction of the valve bodies 8c, 9c.
If you follow the direction opposite to 9e, you will immediately see the shunt body 1.
Soft rear walls 1d and 1e forming the outer walls of the vehicle are arranged.

また、第1および第2の流量切替部5a,5b
は同時に閉鎖状態にすることにより、遮断弁機構
34としての機能を有する。
Moreover, the first and second flow rate switching parts 5a, 5b
has a function as a shutoff valve mechanism 34 by simultaneously closing the valve.

本発明の第1実施例としての頭蓋内コンプライ
アンス測定兼用脳室シヤント装置は上述のごとく
構成されているので、頭蓋内コンプライアンス測
定用脳室シヤントAを所定位置に埋設した状態
で、前述の第2〜5図について述べた(1)〜(10)で示
される手順の前に次の(0)の手順が行なわれる
ことにより、頭蓋内コンプライアンスを測定する
ことができる。
Since the ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as the first embodiment of the present invention is constructed as described above, the ventricular shunt device A for intracranial compliance measurement is buried in a predetermined position, and the Intracranial compliance can be measured by performing the following procedure (0) before the procedures (1) to (10) described in FIGS.

(0)シヤント本体1に、脳室カテーテル2か
ら腹腔カテーテル3への髄液の流れを遮断しうる
遮断弁機構34を閉作動させて、髄液の流れを遮
断する[第2図中に鎖線図示のステツプb2参
照]。
(0) Closing the shutoff valve mechanism 34 that can shut off the flow of cerebrospinal fluid from the ventricular catheter 2 to the peritoneal catheter 3 in the shunt body 1 to shut off the flow of cerebrospinal fluid [dashed line in FIG. See step b2 in the figure].

この場合の遮断弁機構34の作動は、第1およ
び第2の流量切替部5a,5bを同時に閉状態と
することにより行なう。
In this case, the shutoff valve mechanism 34 is operated by simultaneously closing the first and second flow rate switching sections 5a and 5b.

本実施例の頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳
室シヤント装置は、上述の頭蓋内コンプライアン
スを測定する機能のほか、次のように流量を切替
える機能を有する。
The intracranial compliance measurement/ventricular shunt device of this embodiment has the function of measuring the intracranial compliance described above, as well as the function of switching the flow rate as described below.

第11図dに示すように、可動球状弁体8c,
9cをそれぞれ開放位置保持用円座8e,9e上
に着座させると、患者の脳室19から脳室カテー
テル2を通つてリザーバ11へ流入してきた髄液
が、主通路10ならびに第1および第2の流路1
3,14を通過して弁室8b,9b内に入り、2
つの開放状態の開放弁8,9を通過してリリーフ
弁6,7の上流側に入る。
As shown in FIG. 11d, the movable spherical valve body 8c,
9c are seated on the open position retaining seats 8e and 9e, respectively, the cerebrospinal fluid that has flowed from the patient's ventricle 19 through the ventricular catheter 2 into the reservoir 11 flows through the main passage 10 and the first and second flow path 1
3 and 14, enters the valve chambers 8b and 9b, and enters the valve chambers 8b and 9b.
It passes through the open valves 8 and 9 and enters the upstream side of the relief valves 6 and 7.

このとき、リリーフ弁6,7の上流側髄液の圧
力と下流側髄液の圧力との差が所定以上であれ
ば、リリーフ弁6,7は開放状態となり、小室1
2に髄液が流出し、この小室12内の髄液は、さ
らに腹腔カテーテル3を通つて、患者の腹腔や心
房内へ流入する。
At this time, if the difference between the pressure of the cerebrospinal fluid upstream of the relief valves 6 and 7 and the pressure of the cerebrospinal fluid downstream of the relief valves 6 and 7 is equal to or greater than a predetermined value, the relief valves 6 and 7 become open, and the small chamber 1
The cerebrospinal fluid flows into the small chamber 12, and the cerebrospinal fluid in the small chamber 12 further flows into the patient's abdominal cavity and atrium through the peritoneal catheter 3.

このようにして、脳室からの髄液は、2つのリ
リーフ弁6,7の各規制流量の和(Q1+Q2)と
しての最大流量で流れる。
In this way, the cerebrospinal fluid from the ventricle flows at the maximum flow rate as the sum (Q 1 +Q 2 ) of the respective regulated flow rates of the two relief valves 6 and 7.

次に、流量を中程度のQ1にしたい場合は、第
7図中に鎖線で示すように、可動球状弁体8cを
円座8eに着座させて第1の開閉弁8を開放させ
るとともに、可動球状弁体9cを円座9dに着座
させて同第2の開閉弁9を閉鎖させればよく、こ
れにより髄液は規制流量の比較的大きい第1のリ
リーフ弁6のみを通つて流れることができる。
Next, if you want the flow rate to be medium Q1 , as shown by the chain line in FIG. It is sufficient to seat the movable spherical valve body 9c on the circular seat 9d and close the second on-off valve 9, thereby allowing the cerebrospinal fluid to flow only through the first relief valve 6, which has a relatively large regulated flow rate. I can do it.

また流量を一層小さいQ2にしたい場合には、
第7図中に実線で示すように、可動球状弁体8c
を円座8dに着座させて第1の開閉弁8を閉鎖さ
せるとともに、可動球状弁体9cを円座9eに着
座させて第2の開閉弁9を閉鎖させればよく、こ
れにより髄液は規制流量の比較的小さい第2のリ
リーフ弁7のみを通つて流れることができる。
Also, if you want to make the flow rate even smaller, Q2 ,
As shown by the solid line in FIG. 7, the movable spherical valve body 8c
The movable spherical valve body 9c is seated on the circular seat 8d to close the first on-off valve 8, and the second on-off valve 9 is closed by placing the movable spherical valve body 9c on the circular seat 9e. It can flow only through the second relief valve 7, which has a relatively small regulated flow rate.

上述のごとく、本実施例では第1のリリーフ弁
6と第2のリリーフ弁7とが相互に異なる規制流
量を有しているので、2個のリリーフ弁6,7に
より3段階の流量切替えおよび遮断が行なわれる
が、両リリーフ弁6,7が同一の規制流量を有し
ている場合でも、その一方のみに流通させる場合
と、両方に流通させる場合との2段階の流量切替
えを行なうことができる。
As described above, in this embodiment, the first relief valve 6 and the second relief valve 7 have different regulated flow rates, so the two relief valves 6 and 7 can switch the flow rate in three stages and Although shutoff is performed, even if both relief valves 6 and 7 have the same regulated flow rate, the flow rate can be switched in two stages: when the flow is allowed to flow only to one of them, and when the flow is allowed to flow to both. can.

この脳室シヤントを経由する髄液の流出を停止
させたい場合には、可動球状弁体8c,9cをそ
れぞれ閉鎖位置保持用円座8d,9dへ導き第1
および第2の開閉弁8,9をともに閉鎖して、リ
ザーバ11から主通路10と第1および第2の流
路13,14とを通じてリリーフ弁6,7へ至る
髄液の流れをともに遮断すればよい。
When it is desired to stop the outflow of cerebrospinal fluid via this ventricular shunt, the movable spherical valve bodies 8c and 9c are guided to the closed position holding seats 8d and 9d, respectively, and the first
Then, both the second on-off valves 8 and 9 are closed to block the flow of cerebrospinal fluid from the reservoir 11 to the relief valves 6 and 7 through the main passage 10 and the first and second flow passages 13 and 14. Bye.

また、この実施例では、第11図a〜dに示す
ように、弁体8c,9cを閉鎖位置保持用円座8
d,9dから開放位置保持用円座8e,9eへ向
けて移動させる際に、軟質上壁1aおよび軟質後
壁1d,1eを頭皮16越しに指18で押圧すれ
ばよい。
In addition, in this embodiment, as shown in FIGS. 11a to 11d, the valve bodies 8c and 9c are held in the closed position by
d, 9d toward the open position holding circular seats 8e, 9e, the soft upper wall 1a and the soft rear wall 1d, 1e may be pressed with the fingers 18 through the scalp 16.

さらに、弁体8c,9cを開放位置保持用円座
8e,9eから閉鎖位置保持用円座8d,9dへ
向けて移動させる際には、軟質上壁1aおよび軟
質前壁1b,1cを頭皮16越しに指18で押圧
すればよい。
Further, when moving the valve bodies 8c, 9c from the open position holding seats 8e, 9e to the closed position holding seats 8d, 9d, the soft upper wall 1a and the soft front wall 1b, 1c are moved from the scalp 16. All you have to do is press it with your finger 18.

本実施例によれば、弁体8c,9cの移動方向
F1,F2が相互に平行となるように構成されてい
るので、開閉弁8,9の開閉状態を視認ないし触
認しやすい。
According to this embodiment, the moving direction of the valve bodies 8c, 9c
Since F 1 and F 2 are configured to be parallel to each other, it is easy to see or touch the open/close states of the on-off valves 8 and 9.

第15,16図に示すように、本発明の第1実
施例としての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳
室シヤント装置における遮断弁機構の変形例で
は、脳室シヤントA2における流路13中に、脳
室カテーテル2から腹腔カテーテル3へ向けて、
リザーバ11を介して連通する遮断弁開放用ポン
プ室31と、流路13を遮断しうる遮断弁機構3
4としてのボタン式遮断弁32とが順次配設され
ている。
As shown in FIGS. 15 and 16, in the modified example of the cutoff valve mechanism in the ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as the first embodiment of the present invention, there is a From the ventricular catheter 2 to the peritoneal catheter 3,
A pump chamber 31 for opening a shutoff valve that communicates with the reservoir 11 and a shutoff valve mechanism 3 that can shut off the flow path 13.
Button type cutoff valves 32 shown in FIG. 4 are sequentially arranged.

このボタン式遮断弁32は、上記シヤント本体
1の遮断弁開放用ポンプ室31に連通するととも
に上記腹腔カテーテル3側流路13に開口32e
を介して連通する弁室(空所)32fと、同弁室
32fの上部壁面を形成し、指18等の外力を受
けて凹みうる可撓膜32aと、上記開口32eの
周囲に形成された弁座32cと、上記可撓膜32
aの上記弁室32f側壁面に取り付けられて同可
撓膜32aの下方への押圧時に上記開口32eを
閉鎖しうる突起状弁体32bとをそなえたプツシ
ユ式開閉弁として構成されている。
This button-type cutoff valve 32 communicates with the pump chamber 31 for opening the cutoff valve of the shunt main body 1, and has an opening 32e in the channel 13 on the side of the peritoneal catheter 3.
A flexible membrane 32a is formed around the opening 32e and a flexible membrane 32a that forms the upper wall surface of the valve chamber 32f and can be dented by receiving an external force from a finger 18 or the like. Valve seat 32c and the flexible membrane 32
It is configured as a push-type on-off valve including a protruding valve body 32b that is attached to the side wall surface of the valve chamber 32f and can close the opening 32e when the flexible membrane 32a is pressed downward.

この変形例の遮断弁機構34を作動させるに
は、第15図に鎖線で示すように、指18で頭皮
16を介してボタン式遮断弁32の可撓膜32a
を押圧して、同可撓膜32aの中央下側に付設さ
れた突起状弁体32bを弁座32cである中間仕
切り膜32dの開口32eに押し込むことによ
り、開口32eを閉鎖する。
In order to operate the cutoff valve mechanism 34 of this modified example, as shown by the chain line in FIG.
is pressed to push the protruding valve element 32b attached to the lower center of the flexible membrane 32a into the opening 32e of the intermediate partition membrane 32d, which is the valve seat 32c, thereby closing the opening 32e.

なお、遮断弁機構34を開放状態にするには、
遮断弁開放用ポンプ室31の上流側の流路13を
頭皮16を介して指18で押圧して、流路13を
遮断した状態で、上部可撓膜31aを押圧するこ
とにより、弁室32f内の圧力が高められて、弁
体32bが開口32eから情報へ離脱することに
より、遮断弁機構34が開放状態となる。
Note that in order to open the shutoff valve mechanism 34,
By pressing the flow path 13 on the upstream side of the pump chamber 31 for opening the cutoff valve with a finger 18 through the scalp 16, and pressing the upper flexible membrane 31a while the flow path 13 is blocked, the valve chamber 32f is opened. The pressure inside is increased and the valve body 32b is separated from the opening 32e, thereby opening the shutoff valve mechanism 34.

第17,18図に示すように、本発明の第2実
施例としての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳
室シヤント装置では、頭蓋内圧測定手段90が、
第1実施例と異なつており、第1実施例と同様の
機能を発揮する髄液還流用リザーバ40が、脳室
カテーテル2の基端部2aの直上に設けられてお
り、頭蓋内コンプライアンス測定用リザーバ11
が省略されていて、ほかに次に示す装置が設けら
れている。
As shown in FIGS. 17 and 18, in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device as the second embodiment of the present invention, the intracranial pressure measuring means 90 is
A cerebrospinal fluid circulation reservoir 40, which is different from the first embodiment and has the same function as the first embodiment, is provided directly above the proximal end 2a of the ventricular catheter 2, and is used for intracranial compliance measurement. Reservoir 11
is omitted, and the following devices are also provided.

すなわち、第17,18図に示すように、埋設
物としての脳室シヤントA3と体外機器Bとが設
けられており、この脳室シヤントA3は、脳室内
へ挿し込まれる細管状の脳室カテーテル2と、こ
の脳室カテーテル2に接続してリザーバやポンプ
室により構成されるシヤント本体(中継室)52
と、このシヤント本体52の接続されて腹腔や心
房へ挿し込まれるチユーブ状の腹腔カテーテルま
たは心房カテーテル3とで構成されている。
That is, as shown in FIGS. 17 and 18, a ventricular shunt A 3 as an implant and an extracorporeal device B are provided, and this ventricular shunt A 3 is a tubular brain inserted into the ventricle. A shunt body (relay chamber) 52 consisting of a ventricular catheter 2 and a reservoir and a pump chamber connected to the ventricular catheter 2
The shunt main body 52 is connected to a tube-shaped peritoneal catheter or an atrial catheter 3 which is inserted into the abdominal cavity or atrium.

そして、上記シヤント本体52は、頭皮16下
で頭蓋骨17上に埋設され、同シヤント本体52
の内部には、脳室からの排出液である髄液の圧力
により押し開かれうるマイター弁等により構成さ
れるリリーフ弁54および遮断弁機構34が設け
られている。
The shunt main body 52 is buried on the skull 17 under the scalp 16, and the shunt main body 52
A relief valve 54 and a shutoff valve mechanism 34 are provided inside the ventricle, and are constructed of a miter valve or the like that can be pushed open by the pressure of cerebrospinal fluid, which is fluid discharged from the ventricles.

さらに、シヤント本体52には、その流路13
の上部に形成されて、同流路13内を流れる髄液
の圧力に応じて上方へ膨張しうる可撓性ダイアフ
ラム55と、上記流路13の下部に形成されて可
撓性ダイアフラム55に対向するように配設され
るダイアフラム用ストツパー56が設けられてお
り、このシヤント本体52の流路13中には頭蓋
内圧測定手段(圧力検出装置)90の一部を構成
する埋設型圧力センサ57が介挿されていて、こ
の埋設型圧力センサ57は、このダイアフラム用
ストツパー56を形成するシヤイント本体52内
に埋設されてコイル等の共振回路を有する同調回
路58と、上記可撓性ダイアフラム55の流路側
に付設されて同調回路58との間の距離に応じて
同調回路58における共振周波数を変化させる同
調エレメント59とから構成されている。
Further, the shunt main body 52 has a flow path 13 therein.
A flexible diaphragm 55 is formed at the upper part of the flow path 13 and can expand upward according to the pressure of the spinal fluid flowing in the flow path 13, and a flexible diaphragm 55 is formed at the lower part of the flow path 13 and faces the flexible diaphragm 55. A diaphragm stopper 56 is provided, and an embedded pressure sensor 57 constituting a part of an intracranial pressure measuring means (pressure detection device) 90 is provided in the flow path 13 of this shunt body 52. This embedded pressure sensor 57 is embedded in the shaft main body 52 forming the diaphragm stopper 56 and has a tuning circuit 58 having a resonant circuit such as a coil, and a tuning circuit 58 which is embedded in the shaft main body 52 forming the diaphragm stopper 56 and is connected to a tuning circuit 58 having a resonant circuit such as a coil, The tuning element 59 is attached to the roadside and changes the resonance frequency of the tuning circuit 58 according to the distance between the tuning element 59 and the tuning circuit 58.

そして、頭蓋内圧測定手段(圧力検出装置)9
0は、患者の体内に埋設された上述の埋設型圧力
センサ57と、患者の体外に設けられる次の部材
とから構成されている。すなわち、体外には、圧
力センサ57における共振周波数を検出すべく同
圧力センサ57へ電磁波を送るアンテナ61と、
アンテナ61へ送られる信号の変化を受けて共振
周波数であることを表示する電子機器62とが設
けられるとともに、上述の可撓性ダイアフラム5
5を頭皮16を介して押圧することにより、埋設
型圧力センサ57の同調エレメント59を同調回
路58へ近づけさせるべく空気圧により膨らむ非
金属製加圧体63が、頭皮16とアンテナ61と
の間に介挿されており、この加圧体63へ圧縮空
気を供給する圧縮空気供給装置64と、この圧縮
空気供給装置64から供給される圧縮空気の圧力
を検出する圧力計65とが設けられている。
And intracranial pressure measuring means (pressure detection device) 9
0 is comprised of the above-mentioned embedded pressure sensor 57 embedded within the patient's body and the following members provided outside the patient's body. That is, outside the body, there is an antenna 61 that sends electromagnetic waves to the pressure sensor 57 in order to detect the resonance frequency in the pressure sensor 57;
An electronic device 62 that receives a change in the signal sent to the antenna 61 and indicates that it is at a resonant frequency is provided, and the above-mentioned flexible diaphragm 5
5 through the scalp 16 , a non-metallic pressurizing body 63 , which is inflated by air pressure in order to bring the tuning element 59 of the embedded pressure sensor 57 closer to the tuning circuit 58 , is inserted between the scalp 16 and the antenna 61 . A compressed air supply device 64 that supplies compressed air to the pressurizing body 63 and a pressure gauge 65 that detects the pressure of the compressed air supplied from the compressed air supply device 64 are provided. .

そして、本実施例では、次の手順により頭蓋内
圧を測定している。
In this example, intracranial pressure is measured by the following procedure.

〈1〉 アンテナ61を検出位置に配置して、指
18でダイアフラム55を頭皮16を介して押
圧し、同調回路58と同調エレメント59とを
近接させて、アンテナ61からの信号を受けた
電子機器62のキヤリブレーシヨンを行なう。
<1> An electronic device receiving a signal from the antenna 61 by placing the antenna 61 at the detection position, pressing the diaphragm 55 with the finger 18 through the scalp 16, and bringing the tuning circuit 58 and the tuning element 59 close together. 62 calibration is performed.

〈2〉 〈1〉の状態で、指18を離し、ダイア
フラム55が外方へ膨らみ、同調回路58と同
調エレメント59とが離隔してアンテナ61か
らの信号により電子機器62の表示がキヤリブ
レーシヨン域から離れるのを確認する。
<2> In the state of <1>, the finger 18 is released, the diaphragm 55 expands outward, the tuning circuit 58 and the tuning element 59 are separated, and the display of the electronic device 62 is calibrated by the signal from the antenna 61. Make sure you leave the area.

〈3〉 ここで、前述の頭蓋内コンプライアンス
測定装置の操作手順における(2)の手順と同様
に、頭皮16下、且つ、頭蓋骨17上に埋設さ
れた急速注入手段80としての髄液還流用リザ
ーバ40へ脳室カテーテル2を通じて髄液を導
くとともに、このリザーバ40を押圧して、急
速注入法により、所定容積の髄液を脳室19へ
向けて一時に還流させる。
<3> Here, similarly to step (2) in the operation procedure of the intracranial compliance measuring device described above, the cerebrospinal fluid reflux reservoir as the rapid injection means 80 buried under the scalp 16 and on the skull 17 40 through the ventricular catheter 2, the reservoir 40 is pressed, and a predetermined volume of cerebrospinal fluid is refluxed at once toward the ventricle 19 by rapid injection.

〈4〉 頭皮16とアンテナ61との間に、加圧
体63を挿入して、電子機器62の表示がキヤ
リブレーシヨン域になるまで加圧し、このとき
圧力計65で計測された圧力を頭蓋内圧とす
る。
<4> Insert the pressurizing body 63 between the scalp 16 and the antenna 61 and apply pressure until the display on the electronic device 62 is in the calibration range. At this time, the pressure measured by the pressure gauge 65 is applied to the skull. Let it be the internal pressure.

〈5〉 ここで、前述の操作手順における(9)、(10)
の手順と同様にして、各パラメータPVI、RT
Cを求めることができる。
<5> Here, (9) and (10) in the above operating procedure
In the same way as above, each parameter PVI, R T ,
C can be found.

第19図に示すように、本発明の第3実施例と
しての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤ
ント装置では、頭蓋内圧測定手段90が第1実施
例と異なつており、第1実施例と同様の機能を発
揮する急速注入手段80としての髄液還流用リザ
ーバ40が、後述センサ本体66に連通路41を
介して接続していて、ほかに次に示す装置が設け
られている。
As shown in FIG. 19, in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device as the third embodiment of the present invention, an intracranial pressure measuring means 90 is different from that in the first embodiment, and is similar to that in the first embodiment. A cerebrospinal fluid circulation reservoir 40 serving as a functional rapid injection means 80 is connected to a sensor main body 66, which will be described later, via a communication path 41, and the following devices are also provided.

すなわち、本実施例における頭蓋内圧測定装置
は、頭皮16下に埋設された脳室シヤントA4
体外機器Bとから構成され、この脳室シヤント
A4には、流路13に介挿されて頭蓋内圧に応じ
て受動素子を変位させるセンサ本体66が設けら
れていて、体外機器Bは、このセンサ本体66に
おける受動素子を取り囲むように頭皮16上に接
近させるプローブ(アンテナ)67と、同プロー
ブ67から発信される電磁波の受動素子における
吸収率等に応じて、頭蓋内圧を測定するメーター
(制御装置)69とをそなえて構成されている。
That is, the intracranial pressure measuring device in this embodiment is composed of a ventricular shunt A 4 buried under the scalp 16 and an extracorporeal device B.
A 4 is provided with a sensor main body 66 that is inserted into the flow path 13 and displaces the passive element according to intracranial pressure, and the extracorporeal device B is arranged so as to surround the passive element in the sensor main body 66. It includes a probe (antenna) 67 that approaches the top, and a meter (control device) 69 that measures intracranial pressure according to the absorption rate of electromagnetic waves emitted from the probe 67 in passive elements.

なお、図中の符号68は、プローブ67とメー
ター69とを接続する配線を示しており、既述の
符号は、上述の実施例と同様のものを示してい
る。
In addition, the code|symbol 68 in the figure has shown the wiring which connects the probe 67 and the meter 69, and the code|symbol already mentioned has shown the same thing as the above-mentioned Example.

本実施例でも、第1、2実施例において詳述し
た作用効果を得ることができ、その頭蓋内圧測定
装置において、頭蓋内圧を連続して求めることが
でき、記録計27や表示装置28において記録し
表示するデータに基づき、頭蓋内コンプライアン
スCを測定することができる。
In this embodiment as well, the effects detailed in the first and second embodiments can be obtained, and the intracranial pressure can be continuously determined with the intracranial pressure measuring device, and the intracranial pressure can be recorded with the recorder 27 and the display device 28. Based on the data displayed, the intracranial compliance C can be measured.

また、各実施例における流量切替部を3個以上
にして、相互に異なる規制流量に設定してもよ
く、例えば、順次最小流量Qに関し、nを自然数
とする2n倍に設定された規制流量をもたせれば、
(2n−1)段階の流量切替えを行なえるとともに、
遮断弁機構34としての機構をそなえることがで
きる。
Furthermore, the number of flow rate switching units in each embodiment may be three or more, and the regulated flow rates may be set to be different from each other. For example, the regulated flow rate may be set to 2n times the minimum flow rate Q, where n is a natural number. If you have
It is possible to switch the flow rate in (2 n -1) steps, and
A mechanism as a shutoff valve mechanism 34 can be provided.

なお、上述の各実施例において、リリーフ弁
6,7に替えて流量の異なるオリフイスを配設し
てもよく、この場合、第1および第2の流路1
3,14にそれぞれ逆止弁を介挿したり、主通路
10に単一の逆止弁を介挿することが行なわれ
る。
In addition, in each of the above-mentioned embodiments, orifices with different flow rates may be provided in place of the relief valves 6 and 7, and in this case, the first and second flow paths 1
3 and 14, respectively, or a single check valve is inserted in the main passage 10.

また、弁体8c,9cの移動方向F1,F2がシ
ヤント本体1の中心線C.Lに対し直交するように
第1および第2の流量切替部5a,5bを構成し
てもよい。
Further, the first and second flow rate switching sections 5a and 5b may be configured such that the moving directions F 1 and F 2 of the valve bodies 8c and 9c are orthogonal to the center line CL of the shunt body 1.

さらに、弁室8b,9bと小室12とを上下方
向に配設するように形成してもよい。
Furthermore, the valve chambers 8b, 9b and the small chamber 12 may be arranged vertically.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述したように、本発明の頭蓋内コンプラ
イアンス測定兼用脳室シヤント装置によれば、次
のような効果ないし利点を得ることができる。
As described above in detail, the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention provides the following effects and advantages.

(1) コンプライアンス測定のために外部から薬液
注入等を行なう必要がなく、細菌感染の危険や
患者の姿勢保持等の苦痛を生じることがない。
(1) There is no need to inject chemicals from the outside for compliance measurement, and there is no risk of bacterial infection or pain in maintaining the patient's posture.

(2) 患者の体液である髄液を脳室へ向けて還流さ
せるので、薬液注入に伴う障害を生ずる恐れが
全くない。
(2) Since cerebrospinal fluid, which is a patient's body fluid, is refluxed toward the cerebral ventricles, there is no risk of problems associated with drug injection.

(3) 取り扱いが行ないやすく、非測定時における
脳損傷等の侵襲も生じない。
(3) It is easy to handle and does not cause invasiveness such as brain damage when not being measured.

(4) 埋設手術等も容易に行なえる。(4) Burial surgery etc. can be performed easily.

(5) 低コストで実現できる。(5) Can be realized at low cost.

(6) 遮断弁機構を開放状態にすることにより、通
常の脳室シヤントとして使用することができ
る。
(6) By opening the isolation valve mechanism, it can be used as a normal ventricular shunt.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1〜6図は本発明の頭蓋内コンプライアンス
測定兼用脳室シヤント装置における頭蓋内コンプ
ライアンス測定手段を説明するために示すもの
で、第1図はその計測状態を示す模式的縦断面
図、第2図はその測定要領を説明するためのフロ
ーチヤート、第3図a,bおよび第4図a〜dは
いずれもその測定手順を示す模式的側面図、第5
図a,bはいずれもその作用を説明するためのグ
ラフ、第6図a,bはいずれもその測定原理を説
明するための模式的斜視図および側面図であり、
第7〜14図は本発明の第1実施例としての頭蓋
内コンプライアンス測定兼用脳室シヤント装置を
示すもので、第7図は本装置における脳室シヤン
トを示す横断面図(第8図の−矢視断面図)、
第8図はその計測状態を示す模式的縦断面図(脳
室シヤントは第7図の−矢視断面図)、第9
図は第7図の−矢視断面図、第10図は第7
図の−矢視断面図、第11図aは第7図のXI
−XI矢視断面図、第11図b〜dはいずれもその
埋設時における作用を説明するための模式図、第
12図は第7図のXII−XII矢視断面図、第13図は
第7図のX−X矢視断面図、第14図は第7
図のX部を拡大して示す平面図であり、第1
5,16図は本発明の第1実施例における遮断弁
機構の変形例を示すもので、第15図はその模式
的縦断面図、第16図はその模式的平面図であ
り、第17,18図は本発明の第2実施例として
の頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤント
装置を示すもので、第17図はその全体構成を示
す模式図、第18図はその検出部分を示す拡大断
面図であり、第19図は本発明の第3実施例とし
ての頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤン
ト装置の全体構成を示す模式図であり、第20〜
25図は従来の頭蓋内コンプライアンス測定手段
を示すもので、第20図はその頭蓋内系モデルを
示す模式図、第21〜23図はいずれもその作用
を示すグラフ、第24図はその頭蓋内コンプライ
アンス測定装置の要部を示す縦断面図、第25図
はその作用を示すグラフである。 1……シヤント本体(中継室)、1a……軟質
上壁、1b,1c……軟質前壁、1d,1e……
軟質後壁、2……脳室カテーテル、2a……基端
部、2b……先端部、3……腹腔カテーテル、3
a……基端部、4……逆止弁、5……流量切替機
構、5a……第1の流量切替部、5b……第2の
流量切替部、6……第1の流量調整部としてのス
リツト式リリーフ弁、6a……スリツト、7……
第2の流量調整部としてのスリツト式リリーフ
弁、7a……スリツト、8……第1の開閉弁とし
てのボール式開閉弁、8a……円形弁座、8b…
…弁室(上流側区画室)、8c……可動球状弁体、
8d……閉鎖位置保持用円座、8e……開放位置
保持用円座、9……第2の開閉弁としてのボール
式開閉弁、9a……円形弁座、9b……弁室(上
流側区画室)、9c……可動球状弁体、9d……
閉鎖位置保持用円座、9e……開放位置保持用円
座、10……主通路、10a……分岐部、11…
…リザーバ、11a……薄膜状可撓性頭蓋内圧測
定用弯曲ドーム、12……小室(下流側区画室)、
13……第1の流路、14……第2の流路、15
……縫糸貫通孔、16……頭皮、17……頭蓋
骨、18……指、19……脳室、20……脳、2
1……硬膜、22……埋設物本体、23……圧力
検出器、23a……ケース、23b……ガイド部
としての外筒、23c……押え板、23d……柱
状受圧部、23e……拡散型半導体圧力センサ
(荷重センサ)、23f……ゼロアジヤスタ、24
……リード線、25……増幅器、26……増幅
器、27……外部機器としての記録計、28……
外部機器としての表示装置、29……板、30…
…検出端、31……遮断弁開放用ポンプ室、31
a……可撓膜、32……ボタン式遮断弁(プツシ
ユ式開閉弁)、32a……可撓膜、32b……突
起状弁体、32c……弁座、32d……中間仕切
り膜、32e……開口、32f……弁室(空所)、
33……リリーフ弁付き部材、34……遮断弁機
構、35……頭蓋内、38……血管系、40……
髄液還流用リザーバ、41……連通路、50……
脳室シヤント、52……シヤント本体(中継室)、
53……腹腔カテーテルまたは心房カテーテル、
54……リリーフ弁、55……可撓性ダイアフラ
ム、56……ストツパー、57……埋設型圧力セ
ンサ、58……同調回路、59……同調エレメン
ト、60……圧力検出装置、61……アンテナ、
62……電子機器、63……加圧体、64……圧
縮空気供給装置、65……圧力計、66……セン
サ本体、67……プローブ、68……配線、69
……メーター、80……急速注入手段(昇圧手
段)、90……頭蓋内圧測定手段、A……埋設物、
A1〜A4……埋設物としての頭蓋内コンプライア
ンス測定用脳室シヤント、B……体外機器、C,
L……中心線。
1 to 6 are shown to explain the intracranial compliance measuring means in the intracranial compliance measuring and ventricular shunt device of the present invention, and FIG. 1 is a schematic longitudinal cross-sectional view showing its measurement state, and FIG. The figure is a flowchart for explaining the measurement procedure, Figures 3a, b and 4a to d are schematic side views showing the measurement procedure, and Figure 5 is a flowchart for explaining the measurement procedure.
Figures a and b are graphs for explaining the action, and Figures a and b are schematic perspective views and side views for explaining the measurement principle.
7 to 14 show a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as a first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing the ventricular shunt in this device (- arrow sectional view),
Figure 8 is a schematic longitudinal cross-sectional view showing the measurement state (the ventricular shunt is a cross-sectional view taken in the direction of the − arrow in Figure 7);
The figure is a sectional view taken along the - arrow in Figure 7, and Figure 10 is a cross-sectional view of Figure 7.
Figure 11a is a sectional view taken along the - arrow in the figure.XI in Figure 7
-XI arrow sectional view, Figures 11 b to d are all schematic diagrams for explaining the action at the time of burial, Figure 12 is a XII-XII arrow sectional view of Figure 7, and Figure 13 is a schematic diagram for explaining the action at the time of burial. 7 is a sectional view taken along the line X-X, and FIG.
FIG.
5 and 16 show modified examples of the shutoff valve mechanism in the first embodiment of the present invention, FIG. 15 is a schematic vertical sectional view thereof, FIG. 16 is a schematic plan view thereof, and FIG. Fig. 18 shows a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as a second embodiment of the present invention, Fig. 17 is a schematic diagram showing its overall configuration, and Fig. 18 is an enlarged sectional view showing its detection part. FIG. 19 is a schematic diagram showing the overall configuration of a ventricular shunt device for intracranial compliance measurement as a third embodiment of the present invention, and FIG.
Figure 25 shows a conventional intracranial compliance measuring means, Figure 20 is a schematic diagram showing its intracranial system model, Figures 21 to 23 are graphs showing its action, and Figure 24 shows its intracranial compliance measurement method. FIG. 25, which is a vertical cross-sectional view showing the main parts of the compliance measuring device, is a graph showing its operation. 1... Shunt main body (relay room), 1a... Soft upper wall, 1b, 1c... Soft front wall, 1d, 1e...
Soft posterior wall, 2...ventricular catheter, 2a... proximal end, 2b... distal end, 3... peritoneal catheter, 3
a... Base end portion, 4... Check valve, 5... Flow rate switching mechanism, 5a... First flow rate switching section, 5b... Second flow rate switching section, 6... First flow rate adjustment section Slit type relief valve as 6a...slit, 7...
Slit type relief valve as second flow rate adjustment section, 7a...Slit, 8...Ball type on/off valve as first on/off valve, 8a...Circular valve seat, 8b...
... Valve chamber (upstream compartment), 8c... Movable spherical valve body,
8d...Circular seat for holding closed position, 8e...Circular seat for holding open position, 9...Ball type on-off valve as second on-off valve, 9a...Circular valve seat, 9b...Valve chamber (upstream side) compartment), 9c...movable spherical valve body, 9d...
Closed position holding circular seat, 9e...open position holding circular seat, 10...main passage, 10a...branch, 11...
...Reservoir, 11a... Thin film-like flexible curved dome for intracranial pressure measurement, 12... Small chamber (downstream compartment),
13...first channel, 14...second channel, 15
... Suture hole, 16 ... Scalp, 17 ... Skull, 18 ... Finger, 19 ... Ventricle, 20 ... Brain, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Dura mater, 22... Buried object main body, 23... Pressure detector, 23a... Case, 23b... Outer cylinder as a guide part, 23c... Holding plate, 23d... Column pressure receiving part, 23e... ...Diffusion type semiconductor pressure sensor (load sensor), 23f...Zero adjuster, 24
... Lead wire, 25 ... Amplifier, 26 ... Amplifier, 27 ... Recorder as an external device, 28 ...
Display device as external device, 29... board, 30...
...Detection end, 31...Pump chamber for opening the shutoff valve, 31
a...Flexible membrane, 32...Button type cutoff valve (push type on/off valve), 32a...Flexible membrane, 32b...Protruding valve body, 32c...Valve seat, 32d...Intermediate partition membrane, 32e ...Opening, 32f...Valve chamber (empty space),
33... Member with relief valve, 34... Shutoff valve mechanism, 35... Intracranial, 38... Vascular system, 40...
Cerebrospinal fluid reflux reservoir, 41... communication path, 50...
Ventricular shunt, 52...shunt body (relay room),
53...peritoneal catheter or atrial catheter,
54... Relief valve, 55... Flexible diaphragm, 56... Stopper, 57... Buried pressure sensor, 58... Tuning circuit, 59... Tuning element, 60... Pressure detection device, 61... Antenna ,
62... Electronic equipment, 63... Pressurizing body, 64... Compressed air supply device, 65... Pressure gauge, 66... Sensor body, 67... Probe, 68... Wiring, 69
... Meter, 80 ... Rapid injection means (boosting means), 90 ... Intracranial pressure measuring means, A ... Buried object,
A 1 to A 4 ... Ventricular shunt for intracranial compliance measurement as an implant, B ... Extracorporeal device, C,
L...Center line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 脳室に先端部を挿し込まれて同脳室から髄液
を排出しうる脳室カテーテルと、腹腔または心房
に先端部を挿し込まれて同腹腔または心房へ上記
髄液を送出しうる腹腔カテーテルまたは心房カテ
ーテルと、上記脳室カテーテルの基端部と上記の
腹腔カテーテルまたは心房カテーテルの基端部と
にそれぞれ接続されて各カテーテルを連通させる
シヤント本体と、上記の腹腔カテーテルまたは心
房カテーテルから上記脳室カテーテルへの髄液の
逆流を防止しうる逆止弁とをそなえるとともに、
上記シヤント本体に、上記脳室カテーテルから上
記の腹腔カテーテルまたは心房カテーテルへの髄
液の流れを遮断しうる遮断弁機構と、同遮断弁機
構よりも上記脳室カテーテル側の流路に介挿さ
れ、且つ、上記髄液を導く頭蓋内コンプライアン
ス測定用リザーバと、同リザーバに連通し外力を
受けてその内部に貯留された所定容積の髄液を上
記脳室へ向けて還流させうる髄液還流用リザーバ
とをそなえて、上記頭蓋内コンプライアンス測定
用リザーバの上部に、外方に突出するように形成
されて上記髄液の圧力により展張され外力からの
圧力に応じて撓みうる可撓性頭蓋内コンプライア
ンス測定用凸弯曲ドームをそなえ、さらに、上記
凸弯曲ドームに頭皮を介して外方から接触しうる
ガイド部と同ガイド部の先端とほぼ面一となるよ
うに先端を形成された受圧部とからなる検出端
と、同検出端の受圧部に接続する圧力センサと、
同圧力センサからの検出信号を受けて表示ないし
記録する外部機器とをそなえたことを特徴とす
る、頭蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤン
ト装置。 2 上記遮断弁機構が、上記シヤント本体の壁面
に形成された弁座と、同弁座より上流側の上記シ
ヤント本体に形成された弁室と、上記弁座に整合
することにより同開閉弁を閉鎖しうる位置まで上
記シヤント本体の外側からの駆動力を受けて移動
しうるように上記弁室に封入された球状可動弁体
とをそなえたボール式開閉弁として構成された、
特許請求の範囲第1項に記載の頭蓋内コンプライ
アンス測定兼用脳室シヤント装置。 3 上記遮断弁機構が、上記シヤント本体の上記
頭蓋内コンプライアンス測定用リザーバに連通す
るとともに上記腹腔カテーテル側流路に開口を介
して連通する空所と、同空所の上部壁面を形成す
る可撓膜と、上記開口の周囲に形成された弁座
と、上記可撓膜の上記空所側壁面に取り付けられ
て同可撓膜の下方への押圧時に上記弁座を閉鎖し
うる突起状弁体とをそなえたボタン式開閉弁とし
て構成された、特許請求の範囲第1項に記載の頭
蓋内コンプライアンス測定兼用脳室シヤント装
置。
[Scope of Claims] 1. A ventricular catheter whose distal end is inserted into the ventricle of the brain to drain cerebrospinal fluid from the ventricle, and a catheter whose distal end is inserted into the abdominal cavity or atrium to drain the cerebrospinal fluid from the same ventricle. a peritoneal catheter or an atrial catheter capable of delivering fluid; a shunt body connected to the proximal end of the ventricular catheter and the proximal end of the peritoneal catheter or the atrial catheter, respectively, to communicate the catheters; and the peritoneal catheter. A check valve capable of preventing backflow of cerebrospinal fluid from the catheter or the atrial catheter to the ventricular catheter, and
The shunt body includes a cutoff valve mechanism capable of blocking the flow of cerebrospinal fluid from the ventricular catheter to the peritoneal catheter or the atrial catheter, and a flow path inserted into the ventricular catheter side of the cutoff valve mechanism. , and an intracranial compliance measurement reservoir for guiding the cerebrospinal fluid, and a cerebrospinal fluid reflux device that communicates with the reservoir and allows a predetermined volume of cerebrospinal fluid stored therein to be refluxed toward the cerebral ventricle in response to an external force. A flexible intracranial compliance is formed above the reservoir for intracranial compliance measurement so as to protrude outward, and is expanded by the pressure of the cerebrospinal fluid and can be bent in response to pressure from an external force. It is provided with a convex curved dome for measurement, and further includes a guide part that can come into contact with the convex curved dome from the outside through the scalp, and a pressure receiving part whose tip is formed so as to be substantially flush with the tip of the guide part. a detection end, a pressure sensor connected to the pressure receiving part of the detection end,
A ventricular shunt device for intracranial compliance measurement, characterized by comprising an external device that receives and displays or records detection signals from the same pressure sensor. 2. The shutoff valve mechanism operates the on-off valve by aligning a valve seat formed on the wall surface of the shunt body, a valve chamber formed in the shunt body upstream of the valve seat, and the valve seat. The valve is configured as a ball-type on-off valve having a spherical movable valve body enclosed in the valve chamber so as to be able to move to a closed position in response to a driving force from the outside of the shunt body.
The intracranial compliance measuring and ventricular shunt device according to claim 1. 3. A space in which the shutoff valve mechanism communicates with the intracranial compliance measurement reservoir of the shunt main body and also communicates with the peritoneal catheter side channel through an opening, and a flexible wall forming an upper wall surface of the space. a membrane, a valve seat formed around the opening, and a protruding valve body that is attached to the side wall surface of the cavity of the flexible membrane and can close the valve seat when the flexible membrane is pressed downward. The intracranial compliance measuring and ventricular shunt device according to claim 1, which is configured as a button-type on-off valve having the following.
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