JPH0370507B2 - - Google Patents
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- JPH0370507B2 JPH0370507B2 JP60074829A JP7482985A JPH0370507B2 JP H0370507 B2 JPH0370507 B2 JP H0370507B2 JP 60074829 A JP60074829 A JP 60074829A JP 7482985 A JP7482985 A JP 7482985A JP H0370507 B2 JPH0370507 B2 JP H0370507B2
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- high frequency
- applicator
- output
- frequency
- oscillation device
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高周波加温による温熱療法装置に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thermotherapy device using high frequency heating.
一般に、高周波加温による温熱療法装置は、高
周波発振装置の出力をアプリケータから被治療体
に放射するように構成されている。この高周波加
温による温熱療法装置は、加温しようとする腫瘍
組織の温度と、その周囲の正常組織の温度とを最
適条件とするため、アプリケータからの出力電力
を可変とする必要がある。
Generally, a thermotherapy device using high-frequency heating is configured to radiate the output of a high-frequency oscillation device from an applicator to a subject to be treated. This thermotherapy device using high-frequency heating needs to make the output power from the applicator variable in order to optimize the temperature of the tumor tissue to be heated and the temperature of the surrounding normal tissue.
従来、高周波発振装置から発振された高周波出
力は、直接アプリケータに供給されていたため、
アプリケータからの出力電力を変えるためには、
高周波発振装置からの高周波出力そのものを変え
る必要があつた。そのため、高周波発振装置自体
の動作点を変えて高周波出力を制御していた。 Conventionally, the high-frequency output oscillated from a high-frequency oscillator was supplied directly to the applicator.
To change the output power from the applicator,
It was necessary to change the high frequency output itself from the high frequency oscillator. Therefore, the high frequency output has been controlled by changing the operating point of the high frequency oscillator itself.
この従来の高周波加温による温熱療法装置は、
アプリケータからの出力を大きく変えようとする
と、高周波発振装置の動作点を大幅に変えてやら
なくてはならないので、その動作が不安定であつ
た。
This conventional thermotherapy device using high frequency heating is
In order to greatly change the output from the applicator, the operating point of the high frequency oscillator must be changed significantly, resulting in unstable operation.
本発明の目的は、このような問題を解決し、安
定に高周波出力を制御できるようにした温熱療法
装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems and provide a thermotherapy device that can stably control high-frequency output.
本発明の温熱療法装置は、高周波発振装置と、
この高周波発振装置の出力を被治療体に放射する
アプリケータと、このアプリケータと前記高周波
発振装置との間に設けられサーキユレータと高周
波可変減衰装置と水負荷とをこの順に接続して前
記高周波発振装置からの出力を前記アプリケータ
および前記水負荷に分割してそれぞれ可変出力す
る出力制御手段とを含むことを特徴とする。
The thermotherapy device of the present invention includes a high frequency oscillation device,
An applicator that radiates the output of this high frequency oscillation device to the treated object, a circulator provided between the applicator and the high frequency oscillation device, a circulator, a high frequency variable attenuation device, and a water load connected in this order to generate the high frequency oscillation. The apparatus is characterized in that it includes output control means that divides the output from the device into the applicator and the water load and outputs a variable output from each.
次に図面により本発明を詳細に説明する。 Next, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
第１図は本発明の一実施例の使用時の構成図で
ある。本実施例において、高周波発振装置１によ
つて発振された高周波は、導波管２を通りサーキ
ユレータ３の作用により、導波管４の方向に曲げ
られ、高周波可変減衰装置５に入る。ここで高周
波は、制御棒８の位置により、水負荷７に吸収さ
れるものと、再び導波管４の方向に反射されるも
のとに分けられる。この導波管４に反射された高
周波は、サーキユレータ３の作用により同軸８の
方向に曲げられ、アプリケータ９に供給される。
このアプリケータ９からの電磁波は被治療体１０
に放射される。 FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention in use. In this embodiment, the high frequency wave oscillated by the high frequency oscillation device 1 passes through the waveguide 2, is bent toward the waveguide 4 by the action of the circulator 3, and enters the high frequency variable attenuation device 5. Here, the high frequency waves are divided into those that are absorbed by the water load 7 and those that are reflected back toward the waveguide 4, depending on the position of the control rod 8. The high frequency wave reflected by the waveguide 4 is bent in the direction of the coaxial 8 by the action of the circulator 3 and is supplied to the applicator 9.
The electromagnetic waves from this applicator 9
is radiated to.
第２図は第１図の高周波可変減衰装置内のイン
ピーダンス及び、相互の距離関係を示してある。
分岐点から水負荷側を見たインピーダンスz1は次
式のようになる。 FIG. 2 shows the impedance within the high frequency variable attenuation device of FIG. 1 and the mutual distance relationship.
The impedance z 1 viewed from the branch point to the water load side is given by the following formula.
z1＝z0×zw＋jz0 tan β l1／z0＋jzw tan β l1…
…(1)
但し、z0は導波管の特性インピーダンス、zw
は水負荷のインピーダス、l1は分岐点から水負荷
までの距離、β＝2π／λ、λは高周波の波長で
ある。 z 1 =z 0 ×zw＋jz 0 tan β l 1 /z 0 +jzw tan β l 1 …
…(1) However, z 0 is the characteristic impedance of the waveguide, zw
is the impedance of the water load, l 1 is the distance from the branch point to the water load, β = 2π/λ, and λ is the wavelength of the high frequency.
分岐点から短絡ブロツク側を見たインピーダン
スz2は、終端短絡という条件から次式となる。 The impedance z 2 when looking from the branch point to the short circuit block side is given by the following equation based on the condition that the terminal is short circuit.
z2＝jz0 tan β l2 ……(2)
但し、l2は分岐点から短絡ブロツクまでの距離
である。 z 2 = jz 0 tan β l 2 ...(2) However, l 2 is the distance from the branch point to the short circuit block.
いま、距離l1をλに等しく選び、水負荷のイン
ピーダスzwを導波管の特性インピーダスz0に等
しくすると式(1)から次式が得られる。 Now, if the distance l 1 is chosen equal to λ and the impedance zw of the water load is equal to the characteristic impedance z 0 of the waveguide, the following equation is obtained from equation (1).
z1＝z0×z0＋jz0 tan 2π／z0＋jz0 tan 2π＝z0……
(3)
水負荷での反射係数γ1は次式となる。 z 1 =z 0 ×z 0 +jz 0 tan 2π/z 0 +jz 0 tan 2π=z 0 ……
(3) The reflection coefficient γ 1 under water load is given by the following formula.
γ1＝z1−z0／z0＋z1 ……(4)
式(3)の結果よりγ1は零となり、無反射終端とな
る。そこで、高周波発振装置１からアプリケータ
９へ反射される高周波電力の大きさは、短絡ブロ
ツク側の状態に依存する。まず、l2＝λ／４にと
ると式(2)より次のようになる。 γ 1 =z 1 −z 0 /z 0 +z 1 (4) From the result of equation (3), γ 1 becomes zero, resulting in a non-reflection termination. Therefore, the magnitude of the high frequency power reflected from the high frequency oscillator 1 to the applicator 9 depends on the state of the shorting block side. First, if l 2 =λ/4 is taken, then equation (2) yields the following.
z2＝jz0 tan〓／２＝∞ ……(5)
これは開放状態であるため、高周波発振装置１
からの高周波電力は零となる。 z 2 = jz 0 tan〓/2=∞ ...(5) Since this is an open state, the high frequency oscillator 1
The high frequency power from becomes zero.
次に、l2＝λ／２にとると式(2)より次のように
なる。 Next, if l 2 =λ/2 is taken, the following is obtained from equation (2).
z2＝jz0 tan〓＝０ ……(6) 従つて、ここでの反射係数γ2は次式となる。 z 2 =jz 0 tan = 0 (6) Therefore, the reflection coefficient γ 2 here is given by the following equation.
γ2＝z2−z0／z0＋z1＝−１ ……(7)
この式から全ての高周波電力は、アプリケータ
９側に反射される。以上の説明から短絡ブロツク
の位置をλ／４だけ変えることにより、高周波電
力の反射量、即ちアプリケータ９に供給される高
周波電力の大きさを０から100％にわたつて制御
することができることになる。 γ 2 =z 2 −z 0 /z 0 +z 1 =−1 (7) From this equation, all the high frequency power is reflected to the applicator 9 side. From the above explanation, by changing the position of the shorting block by λ/4, it is possible to control the amount of high-frequency power reflected, that is, the magnitude of the high-frequency power supplied to the applicator 9, from 0 to 100%. Become.
本発明の高周波加温による温熱療法装置は、高
周波発振装置とアプリケータとの間に高周波可変
減衰装置を付加することにより、高周波発振装置
を安定運転させたまま高周波可変減衰装置によ
り、アプリケータへの供給電力を安定に可変する
ことができる効果がある。
The thermotherapy device using high-frequency heating of the present invention has a high-frequency variable attenuation device added between the high-frequency oscillation device and the applicator. This has the effect of stably varying the power supply.
第１図は本発明の一実施例を含む構成図、第２
図は第１図の高周波可変減衰装置の構成を示す正
面図である。図において、１……高周波発振装
置、２，４……導波管、３……サーキユレータ、
５，６……高周波可変減衰装置、７……水負荷、
８……同軸ケーブル、９……アプリケータ、１０
……被治療体、である。
Fig. 1 is a configuration diagram including an embodiment of the present invention;
1 is a front view showing the configuration of the high frequency variable attenuation device shown in FIG. 1. FIG. In the figure, 1...high frequency oscillator, 2, 4... waveguide, 3... circulator,
5, 6...High frequency variable attenuation device, 7...Water load,
8... Coaxial cable, 9... Applicator, 10
...The subject to be treated.
Claims (1)
力を被治療体に放射するアプリケータと、このア
プリケータと前記高周波発振装置との間に設けら
れサーキユレータと高周波可変減衰装置と水負荷
とをこの順に接続して前記高周波発振装置からの
出力を前記アプリケータおよび前記水負荷に分割
してそれぞれ可変出力する出力制御手段とを含む
ことを特徴とする高周波加熱による温熱療法装
置。1. A high-frequency oscillation device, an applicator that radiates the output of this high-frequency oscillation device to a treated object, a circulator provided between this applicator and the high-frequency oscillation device, a high-frequency variable attenuation device, and a water load in this order. A thermotherapy device using high-frequency heating, characterized in that it includes an output control means that is connected to the high-frequency oscillation device and divides the output from the high-frequency oscillation device into the applicator and the water load, and respectively outputs variable output.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7482985A JPS61232865A (en) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | Heat medical treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7482985A JPS61232865A (en) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | Heat medical treatment apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61232865A JPS61232865A (en) | 1986-10-17 |
| JPH0370507B2 true JPH0370507B2 (en) | 1991-11-07 |
Family
ID=13558605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7482985A Granted JPS61232865A (en) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | Heat medical treatment apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61232865A (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58101654A (en) * | 1981-12-14 | 1983-06-16 | 朴 命出 | Processed food and production thereof |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP7482985A patent/JPS61232865A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61232865A (en) | 1986-10-17 |
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