JPH037685B2 - - Google Patents
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- JPH037685B2 JPH037685B2 JP61101926A JP10192686A JPH037685B2 JP H037685 B2 JPH037685 B2 JP H037685B2 JP 61101926 A JP61101926 A JP 61101926A JP 10192686 A JP10192686 A JP 10192686A JP H037685 B2 JPH037685 B2 JP H037685B2
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- mmol
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な立体構造のスチレン系重合体に
関し、詳しくは重合体主鎖に対する側鎖の立体化
学構造が主としてシンジオタクチツク構造である
スチレン系重合体に関する。 〔従来の技術および発明が解決しようとする問題
点〕 一般に、ポリスチレンやポリパラメチルスチレ
ンなどのスチレン系重合体は、ラジカル重合、ア
ニオン重合、カチオン重合あるいはチーグラー型
触媒による重合などによつて製造できることが知
られている。このようにして得られるスチレン系
重合体は、その構造が分子鎖の立体配置によつ
て、理論的にアイソタクチツク構造、シンジオタ
クチツク構造およびアタクチツク構造に分類され
る。今までのところ、通常のラジカル重合、アニ
オン重合、カチオン重合では、主としてアタクチ
ツク構造のスチレン系重合体が得られ、またチー
グラー型触媒による重合では、主としてアイソタ
クチツク構造のスチレン系重合体が得られること
が知られている。 このように、現在までスチレン系重合体につい
て数多くの製造方法とその構造について報告され
てはいるが、高度のシンジオタクチツク構造のス
チレン系重合体は、製造された例がない。 即ち、Makromol.Chem.、Rapid Commun.3、
661−665(1982)には、ラセミダイアツドで54%
のポリスチレンが記載されているが、これはラセ
ミ体とメソ体がほぼ半々で存在する殆ど無秩序状
態(非結晶)のものであり、ラセミペンタツドに
換算しても8.5%にしかならないものである。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで本発明者らは、今まで製造されたことの
ない高度のシンジオタクチツク構造を有するスチ
レン系重合体を製造すべく研究を重ねた。その結
果、ある種の遷移金属化合物と有機金属化合物を
組合せた触媒を用いてスチレン系モノマーを重合
すると、意外にも今まで得られたことのない構造
を有するスチレン系重合体が得られ、これが高度
なシンジオタクチツク構造を有するものであるこ
とがわかり、本発明を完成するに至つた。 すなわち本発明は、 一般式() 〔式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭
素数1〜20のアルキル基を示し、Rの置換位はp
−位及び/又はm−位であり、nは1〜3の整数
を示す。〕 で表わされる繰り返し単位を有する重合度10〜
100000の重合体であり、かつそのタクテイシテイ
ーが 13C−NMRによりラセミペンタツドで30%
以上であるシンジオタクチツク構造のスチレン系
重合体を提供するものである。 本発明におけるスチレン系重合体は上記一般式
()で示される構造単位(繰り返し単位)を有
するものであり、ポリスチレンをはじめ、ポリア
ルキルスチレンやポリハロゲン化スチレンなどの
様々な核置換ポリスチレンがある。 上記一般式()中のR、nは上述した如きも
のである。即ち、核置換基(R)は、水素原子や
塩素、臭素、沃素などのハロゲン原子、あるいは
炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ターシヤリーブチル
基など)である。 また、本発明のスチレン系重合体の具体例をあ
げれば、ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレ
ン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポリ(3,4
−ジメチルスチレン)、ポリ(3,5−ジメチル
スチレン)、ポリ(p−ターシヤリーブチルスチ
レン)などのポリ(アルキルスチレン)、ポリ
(p−クロロスチレン)、ポリ(m−クロロスチレ
ン)、ポリ(p−ブロモスチレン)、ポリ(m−ブ
ロモスチレン)、ポリ(p−フルオロスチレン)、
ポリ(m−フルオロスチレン)、などのポリ(ハ
ロゲン化スチレン)などがあげられる。 本発明のスチレン系重合体は、シンジオタクチ
ツク構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主
鎖に対して側鎖であるフエニル基または置換フエ
ニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有
するものであり、そのタクテイシテイーは核磁気
共鳴法(NMR法)により定量される。 具体的には 13C−NMR(同位体炭素による核
磁気共鳴スペクトル)による芳香環のC1炭素シ
グナル、メチン・メチレン炭素シグナルまたは、
1H−NMRのプロトンシグナルの解析による。
NMRにより測定されるタクテイシテイーは、連
続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアツド、3個の場合はトリアツド、
5個の場合はペンタツドでもつて示すことができ
るが、本発明に言うシンジオタクチツク構造を有
する重合体とは、総じてラセミダイアツドで75%
以上若しくはラセミペンタツドで30%以上、好ま
しくはラセミペンタツドで50%以上のシンジオタ
クチツク構造を有するものを意味する。ここで、
ラセミペンタツドとは、前記一般式で表わされた
繰返し単位が5個連続した、換言すればラセミユ
ニツト(r)
関し、詳しくは重合体主鎖に対する側鎖の立体化
学構造が主としてシンジオタクチツク構造である
スチレン系重合体に関する。 〔従来の技術および発明が解決しようとする問題
点〕 一般に、ポリスチレンやポリパラメチルスチレ
ンなどのスチレン系重合体は、ラジカル重合、ア
ニオン重合、カチオン重合あるいはチーグラー型
触媒による重合などによつて製造できることが知
られている。このようにして得られるスチレン系
重合体は、その構造が分子鎖の立体配置によつ
て、理論的にアイソタクチツク構造、シンジオタ
クチツク構造およびアタクチツク構造に分類され
る。今までのところ、通常のラジカル重合、アニ
オン重合、カチオン重合では、主としてアタクチ
ツク構造のスチレン系重合体が得られ、またチー
グラー型触媒による重合では、主としてアイソタ
クチツク構造のスチレン系重合体が得られること
が知られている。 このように、現在までスチレン系重合体につい
て数多くの製造方法とその構造について報告され
てはいるが、高度のシンジオタクチツク構造のス
チレン系重合体は、製造された例がない。 即ち、Makromol.Chem.、Rapid Commun.3、
661−665(1982)には、ラセミダイアツドで54%
のポリスチレンが記載されているが、これはラセ
ミ体とメソ体がほぼ半々で存在する殆ど無秩序状
態(非結晶)のものであり、ラセミペンタツドに
換算しても8.5%にしかならないものである。 〔問題点を解決するための手段〕 そこで本発明者らは、今まで製造されたことの
ない高度のシンジオタクチツク構造を有するスチ
レン系重合体を製造すべく研究を重ねた。その結
果、ある種の遷移金属化合物と有機金属化合物を
組合せた触媒を用いてスチレン系モノマーを重合
すると、意外にも今まで得られたことのない構造
を有するスチレン系重合体が得られ、これが高度
なシンジオタクチツク構造を有するものであるこ
とがわかり、本発明を完成するに至つた。 すなわち本発明は、 一般式() 〔式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭
素数1〜20のアルキル基を示し、Rの置換位はp
−位及び/又はm−位であり、nは1〜3の整数
を示す。〕 で表わされる繰り返し単位を有する重合度10〜
100000の重合体であり、かつそのタクテイシテイ
ーが 13C−NMRによりラセミペンタツドで30%
以上であるシンジオタクチツク構造のスチレン系
重合体を提供するものである。 本発明におけるスチレン系重合体は上記一般式
()で示される構造単位(繰り返し単位)を有
するものであり、ポリスチレンをはじめ、ポリア
ルキルスチレンやポリハロゲン化スチレンなどの
様々な核置換ポリスチレンがある。 上記一般式()中のR、nは上述した如きも
のである。即ち、核置換基(R)は、水素原子や
塩素、臭素、沃素などのハロゲン原子、あるいは
炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ターシヤリーブチル
基など)である。 また、本発明のスチレン系重合体の具体例をあ
げれば、ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレ
ン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポリ(3,4
−ジメチルスチレン)、ポリ(3,5−ジメチル
スチレン)、ポリ(p−ターシヤリーブチルスチ
レン)などのポリ(アルキルスチレン)、ポリ
(p−クロロスチレン)、ポリ(m−クロロスチレ
ン)、ポリ(p−ブロモスチレン)、ポリ(m−ブ
ロモスチレン)、ポリ(p−フルオロスチレン)、
ポリ(m−フルオロスチレン)、などのポリ(ハ
ロゲン化スチレン)などがあげられる。 本発明のスチレン系重合体は、シンジオタクチ
ツク構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主
鎖に対して側鎖であるフエニル基または置換フエ
ニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有
するものであり、そのタクテイシテイーは核磁気
共鳴法(NMR法)により定量される。 具体的には 13C−NMR(同位体炭素による核
磁気共鳴スペクトル)による芳香環のC1炭素シ
グナル、メチン・メチレン炭素シグナルまたは、
1H−NMRのプロトンシグナルの解析による。
NMRにより測定されるタクテイシテイーは、連
続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアツド、3個の場合はトリアツド、
5個の場合はペンタツドでもつて示すことができ
るが、本発明に言うシンジオタクチツク構造を有
する重合体とは、総じてラセミダイアツドで75%
以上若しくはラセミペンタツドで30%以上、好ま
しくはラセミペンタツドで50%以上のシンジオタ
クチツク構造を有するものを意味する。ここで、
ラセミペンタツドとは、前記一般式で表わされた
繰返し単位が5個連続した、換言すればラセミユ
ニツト(r)
以上の如く、本発明のスチレン系重合体は従来
にない規則的な分子構造をもつものであり、結晶
化するものにあつては一般に用いられているアタ
クチツクポリスチレンに比べて耐熱性が著しく良
好でまた耐薬品性も優れており、これらの要求さ
れる各分野の成型用素材として利用することがで
きる。また側鎖ベンゼン環へ機能性の置換基の導
入されたものは、機能性高分子として有効にかつ
幅広く利用される。 〔実施例〕 次に本発明の実施例を示すとともに、得られた
スチレン系重合体が主としてシンジオタクチツク
構造を示すものであることを確認する。 実施例 1 (1) 触媒成分の調製 トルエン溶媒200ml中に、トリメチルアルミ
ニウム47.4ml(492ミリモル)を加え、これに
硫酸銅・5水和物(CuSO4・5H2O)を35.5g
(142ミリモル)加えて20℃において24時間反応
させた。反応終了後、溶媒であるトルエンを濾
別により除去して、メチルアルミノキサン12.4
gを得た。 (2) ポリスチレンの製造 内容積500mlの撹拌機付ガラス容器に、トル
エン100mlと上記(1)で得られたメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として40ミリモル加
え、次いでこれにシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリクロリド0.05ミリモルを加えた。続い
て20℃においてスチレン180mlを加え1時間重
合反応を行なつた後、メタノールを注入して反
応を停止した。次に、塩酸とメタノールの混合
液を加えて触媒成分を分解した。 ここで得られたポリスチレンの収量は16.5gで
あり、また重量平均分子量は280000、数平均分子
量は57000であつた。さらに、このポリスチレン
をソツクスレー抽出装置を用い、メチルエチルケ
トンを溶媒として4時間抽出を行なつたところ
97wt%が不溶であつた。また、このメチルエチ
ルケトン不溶のポリスチレンの融点は260℃であ
り、比重は1.043であつた。 なお、このメチルエチルケトン不溶のポリスチ
レンの 13C−NMR(1,2,4−トリクロロベ
ンゼン溶媒中、130℃)の芳香環C1炭素シグナル
を第1図aに、 13C−NMR(1,2,4−トリ
クロロベンゼン溶媒中、130℃)のメチン・メチ
レン炭素シグナルを第2図aに、 1H−NMR(プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル)を第3図aに、X
線回折パターンを第4図aに、赤外線吸収スペク
トルを第5図aにそれぞれ示す。 比較例 1 有機パーオキサイドを用いてスチレンを0℃に
おいてラジカル重合することにより得たアタクチ
ツクポリスチレンについて実施例1(2)と同様にし
てメチルエチルケトンによる抽出を行なつたとこ
ろ全量抽出された。また、このポリスチレンはガ
ラス転移温度が100℃であり、比重は1.05であつ
た。 なお、このポリスチレンの 13C−NMRの芳香
環C1炭素シグナルを第1図bに、 13C−NMRの
メチン・メチレン炭素シグナルを第2図bに、赤
外線吸収スペクトルを第5図bにそれぞれ示す。 比較例 2 マグネシウムジエトキシド10.0gに四塩化チタ
ン50mlを反応させ、チタン化合物を担持したチタ
ン触媒成分1.0ミリモルとトリエチルアルミニウ
ム10ミリモルを組合せたものを触媒として用い、
ヘプタン溶媒中で70℃にて2時間スチレン100ml
の重合反応を行ない、重量平均分子量1000000の
アイソタクチツクポリスチレン48.7gを得た。こ
のポリスチレンを実施例1(2)と同様にメチルエチ
ルケトンで抽出したところ96wt%が不溶であつ
た。 なお、このメチルエチルケトン不溶のポリスチ
レンの 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第
1図cに、 13C−NMRのメチン・メチレン炭素
シグナルを第2図cに、 1H−NMRを第3図b
に、X線回折パターンを第4図bに、赤外線吸収
スペクトルを第5図cにそれぞれ示す。 次に、実施例1(2)で得られたポリスチレンがシ
ンジオタクチツク構造を有するものであること
を、このポリスチレンの分析結果と比較例1で得
られたアタクチツクポリスチレンおよび比較例2
で得られたアイソタクチツクポリスチレンの分析
結果を比較しながら確認する。 (1) 13C−NMRの結果 (i) 芳香環C1シグナル 芳香環C1炭素シグナルの分裂が高分子ミ
クロ構造に対応することはよく知られてい
る。文献値と実施例1で得られたポリスチレ
ンおよびアタクチツクポリスチレン、アイソ
タクチツクポリスチレンの実測値(第1図
a,b,c)を整理して第1表に示す。 第1表から実施例1のポリスチレンは、シ
ンジオタクチツク構造をとつており、かつ第
1図aのピーク面積から算出するとラセミペ
ンタツドにおいて96%以上、ほぼ100%に近
いタクテイシテイーを有するものであつた。
にない規則的な分子構造をもつものであり、結晶
化するものにあつては一般に用いられているアタ
クチツクポリスチレンに比べて耐熱性が著しく良
好でまた耐薬品性も優れており、これらの要求さ
れる各分野の成型用素材として利用することがで
きる。また側鎖ベンゼン環へ機能性の置換基の導
入されたものは、機能性高分子として有効にかつ
幅広く利用される。 〔実施例〕 次に本発明の実施例を示すとともに、得られた
スチレン系重合体が主としてシンジオタクチツク
構造を示すものであることを確認する。 実施例 1 (1) 触媒成分の調製 トルエン溶媒200ml中に、トリメチルアルミ
ニウム47.4ml(492ミリモル)を加え、これに
硫酸銅・5水和物(CuSO4・5H2O)を35.5g
(142ミリモル)加えて20℃において24時間反応
させた。反応終了後、溶媒であるトルエンを濾
別により除去して、メチルアルミノキサン12.4
gを得た。 (2) ポリスチレンの製造 内容積500mlの撹拌機付ガラス容器に、トル
エン100mlと上記(1)で得られたメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として40ミリモル加
え、次いでこれにシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリクロリド0.05ミリモルを加えた。続い
て20℃においてスチレン180mlを加え1時間重
合反応を行なつた後、メタノールを注入して反
応を停止した。次に、塩酸とメタノールの混合
液を加えて触媒成分を分解した。 ここで得られたポリスチレンの収量は16.5gで
あり、また重量平均分子量は280000、数平均分子
量は57000であつた。さらに、このポリスチレン
をソツクスレー抽出装置を用い、メチルエチルケ
トンを溶媒として4時間抽出を行なつたところ
97wt%が不溶であつた。また、このメチルエチ
ルケトン不溶のポリスチレンの融点は260℃であ
り、比重は1.043であつた。 なお、このメチルエチルケトン不溶のポリスチ
レンの 13C−NMR(1,2,4−トリクロロベ
ンゼン溶媒中、130℃)の芳香環C1炭素シグナル
を第1図aに、 13C−NMR(1,2,4−トリ
クロロベンゼン溶媒中、130℃)のメチン・メチ
レン炭素シグナルを第2図aに、 1H−NMR(プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル)を第3図aに、X
線回折パターンを第4図aに、赤外線吸収スペク
トルを第5図aにそれぞれ示す。 比較例 1 有機パーオキサイドを用いてスチレンを0℃に
おいてラジカル重合することにより得たアタクチ
ツクポリスチレンについて実施例1(2)と同様にし
てメチルエチルケトンによる抽出を行なつたとこ
ろ全量抽出された。また、このポリスチレンはガ
ラス転移温度が100℃であり、比重は1.05であつ
た。 なお、このポリスチレンの 13C−NMRの芳香
環C1炭素シグナルを第1図bに、 13C−NMRの
メチン・メチレン炭素シグナルを第2図bに、赤
外線吸収スペクトルを第5図bにそれぞれ示す。 比較例 2 マグネシウムジエトキシド10.0gに四塩化チタ
ン50mlを反応させ、チタン化合物を担持したチタ
ン触媒成分1.0ミリモルとトリエチルアルミニウ
ム10ミリモルを組合せたものを触媒として用い、
ヘプタン溶媒中で70℃にて2時間スチレン100ml
の重合反応を行ない、重量平均分子量1000000の
アイソタクチツクポリスチレン48.7gを得た。こ
のポリスチレンを実施例1(2)と同様にメチルエチ
ルケトンで抽出したところ96wt%が不溶であつ
た。 なお、このメチルエチルケトン不溶のポリスチ
レンの 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第
1図cに、 13C−NMRのメチン・メチレン炭素
シグナルを第2図cに、 1H−NMRを第3図b
に、X線回折パターンを第4図bに、赤外線吸収
スペクトルを第5図cにそれぞれ示す。 次に、実施例1(2)で得られたポリスチレンがシ
ンジオタクチツク構造を有するものであること
を、このポリスチレンの分析結果と比較例1で得
られたアタクチツクポリスチレンおよび比較例2
で得られたアイソタクチツクポリスチレンの分析
結果を比較しながら確認する。 (1) 13C−NMRの結果 (i) 芳香環C1シグナル 芳香環C1炭素シグナルの分裂が高分子ミ
クロ構造に対応することはよく知られてい
る。文献値と実施例1で得られたポリスチレ
ンおよびアタクチツクポリスチレン、アイソ
タクチツクポリスチレンの実測値(第1図
a,b,c)を整理して第1表に示す。 第1表から実施例1のポリスチレンは、シ
ンジオタクチツク構造をとつており、かつ第
1図aのピーク面積から算出するとラセミペ
ンタツドにおいて96%以上、ほぼ100%に近
いタクテイシテイーを有するものであつた。
【表】
【表】
(ii) メチン・メチレン炭素シグナル
メチン・メチレン炭素シグナルノ分裂が、
高分子のミクロ構造に対応することはよく知
られており、ポリスチレンの場合、この分裂
の帰属を報告する文献が数多く見られる。文
献値と実施例1で得られたポリスチレンおよ
びアタクチツクポリスチレン、アイソタクチ
ツクポリスチレンの実測値(第2図a,b,
c)を整理して第2表に示す。
高分子のミクロ構造に対応することはよく知
られており、ポリスチレンの場合、この分裂
の帰属を報告する文献が数多く見られる。文
献値と実施例1で得られたポリスチレンおよ
びアタクチツクポリスチレン、アイソタクチ
ツクポリスチレンの実測値(第2図a,b,
c)を整理して第2表に示す。
【表】
【表】
*1、*2は前記と同じ
なお、表中の数字の単位はppm(TMS基
準)である。この第2表から明らかなよう
に、実施例1で得られるポリスチレンはシン
ジオタクチツクポリスチレンであり、単一ピ
ークであることから、ほぼ100%に近いシン
ジオタクテイシテイーを有するものであるこ
とがわかる。 (2) 1H−NMRの結果 1H−NMRからも 13C−NMRと同様にミク
ロ構造に関する情報が得られることはよく知ら
れている(S.Brownstein、S.Bywater、D.T.
Worsfold、J.Phys.Chem.、66、2067(1962))。 実施例1で得られたポリスチレンは、第3図
a,bを比べると、メチンプロトンシグナルで
はアイソタクチツクポリスチレンのメチンプロ
トンより、実施例1のポリスチレンのメチンプ
ロトンの方が高磁場に現われており、アイソタ
クチツクポリスチレンとは明らかに異なるもの
である。さらに、実施例1で得られたポリスチ
レンは微細構造を示しており、微細構造を示さ
ないアタクチツクポリスチレン(F.A.Bovey、
F.P.Hood、J.Chem.Phys.、38、1026
(1963))とは明らかに異なり、分子鎖中のメチ
レンおよびメチレンプロトンは各々一種類しか
観測されないことから、ほぼ100%のシンジオ
タクチツク構造をとつているものと判定した。 以上(1)、(2)の結果を総合的に判断して、実施
例1で得られたポリスチレンは、立体構造がペ
ンタツドにて96%以上で100%に近いシンジオ
タクチツク構造の重合体であることを確認し
た。 (3) X線回折パターン 実施例1で得られたポリスチレンは結晶性を
示すが、結晶化物のX線回折パターン(第4図
a)とアイソタクチツクポリスチレンのX線回
折パターン(第4図b)(G.Natta、P.
Corradini、Nuovo Cimento15、Suppl.1、40
(1960))を比べると両者は著しく異なる。した
がつて、実施例1のポリスチレンはアイソタク
チツクポリスチレンとは結晶構造が異なること
がわかる。 なお、第4図aの結果から、実施例1のポリ
スチレンの繊維周期は5.04Åであつた。この繊
維周期は重合体鎖がジグザグ構造であり、かつ
フエニル環が交互に配列している構造を示唆し
ており、実施例1のポリスチレンは、NMRの
結果に加え、さらにシンジオタクチツク構造を
支持するのである。 (4) 赤外線吸収スペクトル 第5図a,b,cのグラフのピークを整理す
ると、第3表のようになる。
なお、表中の数字の単位はppm(TMS基
準)である。この第2表から明らかなよう
に、実施例1で得られるポリスチレンはシン
ジオタクチツクポリスチレンであり、単一ピ
ークであることから、ほぼ100%に近いシン
ジオタクテイシテイーを有するものであるこ
とがわかる。 (2) 1H−NMRの結果 1H−NMRからも 13C−NMRと同様にミク
ロ構造に関する情報が得られることはよく知ら
れている(S.Brownstein、S.Bywater、D.T.
Worsfold、J.Phys.Chem.、66、2067(1962))。 実施例1で得られたポリスチレンは、第3図
a,bを比べると、メチンプロトンシグナルで
はアイソタクチツクポリスチレンのメチンプロ
トンより、実施例1のポリスチレンのメチンプ
ロトンの方が高磁場に現われており、アイソタ
クチツクポリスチレンとは明らかに異なるもの
である。さらに、実施例1で得られたポリスチ
レンは微細構造を示しており、微細構造を示さ
ないアタクチツクポリスチレン(F.A.Bovey、
F.P.Hood、J.Chem.Phys.、38、1026
(1963))とは明らかに異なり、分子鎖中のメチ
レンおよびメチレンプロトンは各々一種類しか
観測されないことから、ほぼ100%のシンジオ
タクチツク構造をとつているものと判定した。 以上(1)、(2)の結果を総合的に判断して、実施
例1で得られたポリスチレンは、立体構造がペ
ンタツドにて96%以上で100%に近いシンジオ
タクチツク構造の重合体であることを確認し
た。 (3) X線回折パターン 実施例1で得られたポリスチレンは結晶性を
示すが、結晶化物のX線回折パターン(第4図
a)とアイソタクチツクポリスチレンのX線回
折パターン(第4図b)(G.Natta、P.
Corradini、Nuovo Cimento15、Suppl.1、40
(1960))を比べると両者は著しく異なる。した
がつて、実施例1のポリスチレンはアイソタク
チツクポリスチレンとは結晶構造が異なること
がわかる。 なお、第4図aの結果から、実施例1のポリ
スチレンの繊維周期は5.04Åであつた。この繊
維周期は重合体鎖がジグザグ構造であり、かつ
フエニル環が交互に配列している構造を示唆し
ており、実施例1のポリスチレンは、NMRの
結果に加え、さらにシンジオタクチツク構造を
支持するのである。 (4) 赤外線吸収スペクトル 第5図a,b,cのグラフのピークを整理す
ると、第3表のようになる。
【表】
○…吸収有り、×…吸収なし
また実施例1のポリスチレンには、1220cm-1
にアイソタクチツク構造、アタクチツク構造の
ポリスチレンにない特有の吸収ピークが存在す
る。 (5) 融点 実施例1で得られたポリスチレンの融点は
260〜270℃であつて、アイソタクチツクポリス
チレンの融点(220℃〜230℃)よりはるかに高
い。 (6) メチルエチルケトンの抽出物のタクテイシテ
イー一般にポリスチレンにおいて立体規則性を
判断する場合、メチルエチルケトンを溶媒に用
いてソツクスレー抽出を行ない、不溶である場
合にアイソタクチツクポリスチレンとし、可溶
である場合にアタクチツクポリスチレンである
と判断している。(中田忠志、木下泰男、大津
隆行、井本稔、工業化学、68、858〜864
(1965))。 実施例1で得られたポリスチレンのメチルエチ
ルケトンに不溶部分はシンジオタクチツク構造で
あつたが、メチルエチルケトンに可溶の部分もラ
セミペンタツトで82%以上のシンジオタクテイシ
テイーを有していた。 実施例 2 触媒として、四塩化チタン1ミリモル、メチル
アルミノキサンを用い、スチレン100mlを50℃で
8時間重合し、以下は、実施例1の(2)と同様にし
て、ポリスチレン0.1gを得た。 得られたポリスチレンのシンジオタクテイシテ
イーは、 13C−NMRのラセミペンタツトで36%
であり、重量平均分子量は(Mw)544000、数平
均分子量(Mn)は223000であつた。 また、このポリスチレンをメチルエチルケトン
で抽出したところ、79wt%が抽出され、抽出残
のシンジオタクテイシテイーは、 13C−NMRの
ラセミペンタツドで86%を有し、重量平均分子量
(Mw)は678000であり、数平均分子量(Mn)
272000であつた。ここで抽出されたもののシンジ
オタクテイシテイーは、 13C−NMRのラセミペ
ンタツドで23%であつた。 実施例 3 触媒成分の四塩化チタンの使用量を0.05ミリモ
ルとしたこと、スチレンの使用量を180mlとした
こと、および重合時間を2時間としたこと以外
は、実施例2と同様にして、ポリスチレン6.7g
を得た。 このポリスチレンは、メチルエチルケトンで抽
出したところ、8%が抽出された。抽出残のポリ
スチレンのシンジオタクテイシテイーはラセミペ
ンタツドで99%以上であり、重量平均分子量
(Mw)は348000数平均分子量(Mn)は156000で
あつた。 実施例 4 触媒成分として四塩化チタンに代えてイソプロ
ポキシチタニウムトリクロライド1ミリモルを用
いたことおよび重合時間を2時間としたこと以外
は実施例2と同様にして、ポリスチレン0.4gを
得た。このポリスチレンのシンジオタクテイシテ
イーは 13C−NMRのラセミペンタツドで96%を
有し、重量平均分子量(Mw)は92000、数平均
分子量(Mn)は31000であつた。 このポリスチレンをメチルエチルケトンで抽出
したところ、58wt%が抽出された。抽出残ポリ
スチレンのシンジオタクテイシテイーは 13C−
NMRのラセミペンタツドで96%を有し、重量平
均分子量(Mw)100000、数平均分子量(Mn)
36000であつた。また抽出物のシンジオタクテイ
シテイーはペンタツドで23%であつた。 実施例 5 触媒としてエトキシチタニウムトリクロライド
0.02ミリモルおよびメチルアルミノキサン10ミリ
モルを用い、さらに第4表に示す条件としたこと
以外は、実施例2と同様にしてポリスチレンを得
た。その後、得られたポリスチレンを実施例2と
同様にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ
スチレンの性状を第4表に示す。 実施例 6 触媒として四塩化チタンをマグネシウムジエト
キシドに担持(146mg/g・担体)したもの0.2ミ
リモル(四塩化チタンとして)およびメチルアル
ミノキサン10ミリモルを用い、さらに第4表に示
す条件としたこと以外は、実施例2と同様にして
ポリスチレンを得た。その後、得られたポリスチ
レンを実施例2と同様にメチルエチルケトンで抽
出した。このポリスチレンの性状を第4表に示
す。 実施例 7 触媒としてテトラエトキシチタンを塩化マグネ
シウムに担持(80mg/g・担体)したもの0.2ミ
リモル(テトラエトキシチタンとして)およびメ
チルアルミノキサン10ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 8 触媒として大過剰の四塩化チタンを用い、塩化
マグネシウムに担持したものをチタンとして0.02
ミリモルおよびメチルアルミノキサン10ミリモル
を用い、さらに第4表に示す条件としたこと以外
は、実施例2と同様にしてポリスチレンを得た。
その後、得られたポリスチレンを実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリスチ
レンの性状を第4表に示す。 実施例 9 触媒として四塩化チタンおよび安息香酸エチル
を用い、塩化マグネシウムに担持したものをチタ
ンとして0.02ミリモルおよびメチルアルミノキサ
ン10ミリモルを用い、さらに第4表に示す条件と
したこと以外は、実施例2と同様にしてポリスチ
レンを得た。その後、得られたポリスチレンを実
施例2と同様にメチルエチルケトンで抽出した。
このポリスチレンの性状を第4表に示す。 実施例 10 触媒として三塩化チタン0.02ミリモルおよびメ
チルアルミノキサン20ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 11 触媒として四塩化チタン1ミリモルとトリブト
キシバナジル(VO(O・C4H9)3)1ミリモルお
よびメチルアミノキサン40ミリモルを用い、さら
に第4表に示す条件としたこと以外は、実施例2
と同様にしてポリスチレンを得た。その後、得ら
れたポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチ
ルケトンで抽出した。このポリスチレンの性状を
第4表に示す。 実施例 12、13 触媒としてイソプロポキシチタニウムクロライ
ド1ミリモルとトリブトキシバナジル1ミリモル
およびメチルアミノキサン40ミリモルを用い、さ
らに第4表に示す条件としたこと以外は、実施例
2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、得
られたポリスチレンを実施例2と同様にメチルエ
チルケトンで抽出した。このポリスチレンの性状
を第4表に示す。 実施例 14〜16 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン5ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 17 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン10ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 18〜20 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン25ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 21 触媒としてテトライソプロポキシチタン1ミリ
モルとトリブトキシバナジル1ミリモルおよびメ
チルアルミノキサン40ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 22 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.02ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン10ミリモルを用い、原料モノマーとしてスチ
レンp−メチルスチレンを用い、さらに第4表に
示す条件としたこと以外は、実施例2と同様にし
てスチレンとp−メチルスチレンの共重合体を得
た。その後、得られた共重合体を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。この共重合体
の性状を第4表に示す。 実施例 23 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.025ミリモルおよびメチルアルミノ
キサン40ミリモルを用い、原料モノマーとしてp
−メチルスチレンを用い、さらに第4表に示す条
件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−メチルスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(p−メチルスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(p
−メチルスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(p−メチルスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図dに、 13
−NMRのメチン・メチレン炭素シグナルを第2
図dに、 1H−NMRを第3図cに、X線回折パ
ターンを第4図cに、赤外線吸収スペクトルを第
5図dにそれぞれ示す。 実施例 24 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてm−
メチルスチレンを用い、さらに第4表に示す条件
としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(m−メチルスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(m−メチルスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(m
−メチルスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(m−メチルスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図eに示
す。 実施例 25 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
t−ブチルスチレンを用い、さらに第4表に示す
条件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポ
リ(p−t−ブチルスチレン)を得た。その後、
得られたポリ(p−t−ブチルスチレン)を実施
例2と同様にメチルエチルケトンで抽出した。こ
のポリ(p−t−ブチルスチレン)の性状を第4
表に示す。なお、このポリ(p−t−ブチルスチ
レン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを
第1図fに示す。 実施例 26 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン40ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
クロロスチレンを用い、さらに第4表に示す条件
としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−クロロスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(p−クロロスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(p
−クロロスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(p−クロロスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図gに、ま
た、参考としてアタクチツク(p−クロロスチレ
ン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第
1図hに示す。 実施例 27 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン5ミリモルを用い、
原料モノマーとしてm−クロロスチレンを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリ(m−クロロスチレン)を
得た。その後、得られたポリ(m−クロロスチレ
ン)を実施例2と同様にメチルエチルケトンで抽
出した。このポリ(m−クロロスチレン)の性状
を第4表に示す。なお、このポリ(m−クロロス
チレン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナル
を第1図iに示す。 実施例 28 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
フルオロスチレンを用い、さらに第4表に示す条
件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−フルオロスチレン)を得た。その後、得ら
れたポリ(p−フルオロスチレン)を実施例2と
同様にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ
(p−フルオロスチレン)の性状を第4表に示す。
なお、このポリ(p−フルオロスチレン)の 13C
−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図jに示
す。
また実施例1のポリスチレンには、1220cm-1
にアイソタクチツク構造、アタクチツク構造の
ポリスチレンにない特有の吸収ピークが存在す
る。 (5) 融点 実施例1で得られたポリスチレンの融点は
260〜270℃であつて、アイソタクチツクポリス
チレンの融点(220℃〜230℃)よりはるかに高
い。 (6) メチルエチルケトンの抽出物のタクテイシテ
イー一般にポリスチレンにおいて立体規則性を
判断する場合、メチルエチルケトンを溶媒に用
いてソツクスレー抽出を行ない、不溶である場
合にアイソタクチツクポリスチレンとし、可溶
である場合にアタクチツクポリスチレンである
と判断している。(中田忠志、木下泰男、大津
隆行、井本稔、工業化学、68、858〜864
(1965))。 実施例1で得られたポリスチレンのメチルエチ
ルケトンに不溶部分はシンジオタクチツク構造で
あつたが、メチルエチルケトンに可溶の部分もラ
セミペンタツトで82%以上のシンジオタクテイシ
テイーを有していた。 実施例 2 触媒として、四塩化チタン1ミリモル、メチル
アルミノキサンを用い、スチレン100mlを50℃で
8時間重合し、以下は、実施例1の(2)と同様にし
て、ポリスチレン0.1gを得た。 得られたポリスチレンのシンジオタクテイシテ
イーは、 13C−NMRのラセミペンタツトで36%
であり、重量平均分子量は(Mw)544000、数平
均分子量(Mn)は223000であつた。 また、このポリスチレンをメチルエチルケトン
で抽出したところ、79wt%が抽出され、抽出残
のシンジオタクテイシテイーは、 13C−NMRの
ラセミペンタツドで86%を有し、重量平均分子量
(Mw)は678000であり、数平均分子量(Mn)
272000であつた。ここで抽出されたもののシンジ
オタクテイシテイーは、 13C−NMRのラセミペ
ンタツドで23%であつた。 実施例 3 触媒成分の四塩化チタンの使用量を0.05ミリモ
ルとしたこと、スチレンの使用量を180mlとした
こと、および重合時間を2時間としたこと以外
は、実施例2と同様にして、ポリスチレン6.7g
を得た。 このポリスチレンは、メチルエチルケトンで抽
出したところ、8%が抽出された。抽出残のポリ
スチレンのシンジオタクテイシテイーはラセミペ
ンタツドで99%以上であり、重量平均分子量
(Mw)は348000数平均分子量(Mn)は156000で
あつた。 実施例 4 触媒成分として四塩化チタンに代えてイソプロ
ポキシチタニウムトリクロライド1ミリモルを用
いたことおよび重合時間を2時間としたこと以外
は実施例2と同様にして、ポリスチレン0.4gを
得た。このポリスチレンのシンジオタクテイシテ
イーは 13C−NMRのラセミペンタツドで96%を
有し、重量平均分子量(Mw)は92000、数平均
分子量(Mn)は31000であつた。 このポリスチレンをメチルエチルケトンで抽出
したところ、58wt%が抽出された。抽出残ポリ
スチレンのシンジオタクテイシテイーは 13C−
NMRのラセミペンタツドで96%を有し、重量平
均分子量(Mw)100000、数平均分子量(Mn)
36000であつた。また抽出物のシンジオタクテイ
シテイーはペンタツドで23%であつた。 実施例 5 触媒としてエトキシチタニウムトリクロライド
0.02ミリモルおよびメチルアルミノキサン10ミリ
モルを用い、さらに第4表に示す条件としたこと
以外は、実施例2と同様にしてポリスチレンを得
た。その後、得られたポリスチレンを実施例2と
同様にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ
スチレンの性状を第4表に示す。 実施例 6 触媒として四塩化チタンをマグネシウムジエト
キシドに担持(146mg/g・担体)したもの0.2ミ
リモル(四塩化チタンとして)およびメチルアル
ミノキサン10ミリモルを用い、さらに第4表に示
す条件としたこと以外は、実施例2と同様にして
ポリスチレンを得た。その後、得られたポリスチ
レンを実施例2と同様にメチルエチルケトンで抽
出した。このポリスチレンの性状を第4表に示
す。 実施例 7 触媒としてテトラエトキシチタンを塩化マグネ
シウムに担持(80mg/g・担体)したもの0.2ミ
リモル(テトラエトキシチタンとして)およびメ
チルアルミノキサン10ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 8 触媒として大過剰の四塩化チタンを用い、塩化
マグネシウムに担持したものをチタンとして0.02
ミリモルおよびメチルアルミノキサン10ミリモル
を用い、さらに第4表に示す条件としたこと以外
は、実施例2と同様にしてポリスチレンを得た。
その後、得られたポリスチレンを実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリスチ
レンの性状を第4表に示す。 実施例 9 触媒として四塩化チタンおよび安息香酸エチル
を用い、塩化マグネシウムに担持したものをチタ
ンとして0.02ミリモルおよびメチルアルミノキサ
ン10ミリモルを用い、さらに第4表に示す条件と
したこと以外は、実施例2と同様にしてポリスチ
レンを得た。その後、得られたポリスチレンを実
施例2と同様にメチルエチルケトンで抽出した。
このポリスチレンの性状を第4表に示す。 実施例 10 触媒として三塩化チタン0.02ミリモルおよびメ
チルアルミノキサン20ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 11 触媒として四塩化チタン1ミリモルとトリブト
キシバナジル(VO(O・C4H9)3)1ミリモルお
よびメチルアミノキサン40ミリモルを用い、さら
に第4表に示す条件としたこと以外は、実施例2
と同様にしてポリスチレンを得た。その後、得ら
れたポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチ
ルケトンで抽出した。このポリスチレンの性状を
第4表に示す。 実施例 12、13 触媒としてイソプロポキシチタニウムクロライ
ド1ミリモルとトリブトキシバナジル1ミリモル
およびメチルアミノキサン40ミリモルを用い、さ
らに第4表に示す条件としたこと以外は、実施例
2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、得
られたポリスチレンを実施例2と同様にメチルエ
チルケトンで抽出した。このポリスチレンの性状
を第4表に示す。 実施例 14〜16 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン5ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 17 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン10ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 18〜20 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン25ミリモルを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリスチレンを得た。その後、
得られたポリスチレンを実施例2と同様にメチル
エチルケトンで抽出した。このポリスチレンの性
状を第4表に示す。 実施例 21 触媒としてテトライソプロポキシチタン1ミリ
モルとトリブトキシバナジル1ミリモルおよびメ
チルアルミノキサン40ミリモルを用い、さらに第
4表に示す条件としたこと以外は、実施例2と同
様にしてポリスチレンを得た。その後、得られた
ポリスチレンを実施例2と同様にメチルエチルケ
トンで抽出した。このポリスチレンの性状を第4
表に示す。 実施例 22 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.02ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン10ミリモルを用い、原料モノマーとしてスチ
レンp−メチルスチレンを用い、さらに第4表に
示す条件としたこと以外は、実施例2と同様にし
てスチレンとp−メチルスチレンの共重合体を得
た。その後、得られた共重合体を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。この共重合体
の性状を第4表に示す。 実施例 23 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.025ミリモルおよびメチルアルミノ
キサン40ミリモルを用い、原料モノマーとしてp
−メチルスチレンを用い、さらに第4表に示す条
件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−メチルスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(p−メチルスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(p
−メチルスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(p−メチルスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図dに、 13
−NMRのメチン・メチレン炭素シグナルを第2
図dに、 1H−NMRを第3図cに、X線回折パ
ターンを第4図cに、赤外線吸収スペクトルを第
5図dにそれぞれ示す。 実施例 24 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてm−
メチルスチレンを用い、さらに第4表に示す条件
としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(m−メチルスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(m−メチルスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(m
−メチルスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(m−メチルスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図eに示
す。 実施例 25 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
t−ブチルスチレンを用い、さらに第4表に示す
条件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポ
リ(p−t−ブチルスチレン)を得た。その後、
得られたポリ(p−t−ブチルスチレン)を実施
例2と同様にメチルエチルケトンで抽出した。こ
のポリ(p−t−ブチルスチレン)の性状を第4
表に示す。なお、このポリ(p−t−ブチルスチ
レン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを
第1図fに示す。 実施例 26 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン40ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
クロロスチレンを用い、さらに第4表に示す条件
としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−クロロスチレン)を得た。その後、得られ
たポリ(p−クロロスチレン)を実施例2と同様
にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ(p
−クロロスチレン)の性状を第4表に示す。な
お、このポリ(p−クロロスチレン)の 13C−
NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図gに、ま
た、参考としてアタクチツク(p−クロロスチレ
ン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第
1図hに示す。 実施例 27 触媒としてテトラエトキシチタン0.05ミリモル
およびメチルアルミノキサン5ミリモルを用い、
原料モノマーとしてm−クロロスチレンを用い、
さらに第4表に示す条件としたこと以外は、実施
例2と同様にしてポリ(m−クロロスチレン)を
得た。その後、得られたポリ(m−クロロスチレ
ン)を実施例2と同様にメチルエチルケトンで抽
出した。このポリ(m−クロロスチレン)の性状
を第4表に示す。なお、このポリ(m−クロロス
チレン)の 13C−NMRの芳香環C1炭素シグナル
を第1図iに示す。 実施例 28 触媒としてシクロペンタジエニルチタニウムト
リクロリド0.05ミリモルおよびメチルアルミノキ
サン30ミリモルを用い、原料モノマーとしてp−
フルオロスチレンを用い、さらに第4表に示す条
件としたこと以外は、実施例2と同様にしてポリ
(p−フルオロスチレン)を得た。その後、得ら
れたポリ(p−フルオロスチレン)を実施例2と
同様にメチルエチルケトンで抽出した。このポリ
(p−フルオロスチレン)の性状を第4表に示す。
なお、このポリ(p−フルオロスチレン)の 13C
−NMRの芳香環C1炭素シグナルを第1図jに示
す。
【表】
【表】
*1 ラセミペンタツドで
*2 スチレン構造単位中のラセミペンタツドを示す
。
*2 スチレン構造単位中のラセミペンタツドを示す
。
第1図a〜jはそれぞれ実施例1で得られたポ
リスチレン、比較例1で得られたアタクチツクポ
リスチレン、比較例2で得られたアイソタクチツ
クポリスチレン、実施例23で得られたポリ(p−
メチルスチレン)、実施例24で得られたポリ(m
−メチルスチレン)、実施例25で得られたポリ
(p−t−ブチルスチレン)、実施例26で得られた
ポリ(p−クロロスチレン)、アタクチツクポリ
(p−クロロスチレン)、実施例27で得られたポリ
(m−クロロスチレン)、および実施例28で得られ
たポリ(p−フルオロスチレン)の 13C−NMR
の芳香環C1炭素シグナルを示す。第2図a〜d
はそれぞれ実施例1で得られたポリスチレン、比
較例1で得られたアタクチツクポリスチレン、比
較例2で得られたアイソタクチツクポリスチレ
ン、および実施例23で得られたポリ(p−メチル
スチレン)の 13C−NMRのメチン・メチレン炭
素シグナルを示す。第3図a〜cはそれぞれ実施
例1で得られたポリスチレン、比較例2で得られ
たアイソタクチツクポリスチレン、および実施例
23で得られたポリ(p−メチルスチレン)の 1H
−NMRを示す。第4図a〜cはそれぞれ実施例
1で得られたポリスチレン、比較例2で得られた
アイソタクチツクポリスチレン、および実施例23
で得られたポリ(p−メチルスチレン)のX線回
折パターンを示す。第5図a〜dはそれぞれ実施
例1で得られたポリスチレン、比較例1で得られ
たアタクチツクポリスチレン、比較例2で得られ
たアイソタクチツクポリスチレン、および実施例
23で得られたポリ(p−メチルスチレン)の赤外
線吸収スペクトルを示す。 なお、第4図中、θはブラツグ角(゜)を示
す。
リスチレン、比較例1で得られたアタクチツクポ
リスチレン、比較例2で得られたアイソタクチツ
クポリスチレン、実施例23で得られたポリ(p−
メチルスチレン)、実施例24で得られたポリ(m
−メチルスチレン)、実施例25で得られたポリ
(p−t−ブチルスチレン)、実施例26で得られた
ポリ(p−クロロスチレン)、アタクチツクポリ
(p−クロロスチレン)、実施例27で得られたポリ
(m−クロロスチレン)、および実施例28で得られ
たポリ(p−フルオロスチレン)の 13C−NMR
の芳香環C1炭素シグナルを示す。第2図a〜d
はそれぞれ実施例1で得られたポリスチレン、比
較例1で得られたアタクチツクポリスチレン、比
較例2で得られたアイソタクチツクポリスチレ
ン、および実施例23で得られたポリ(p−メチル
スチレン)の 13C−NMRのメチン・メチレン炭
素シグナルを示す。第3図a〜cはそれぞれ実施
例1で得られたポリスチレン、比較例2で得られ
たアイソタクチツクポリスチレン、および実施例
23で得られたポリ(p−メチルスチレン)の 1H
−NMRを示す。第4図a〜cはそれぞれ実施例
1で得られたポリスチレン、比較例2で得られた
アイソタクチツクポリスチレン、および実施例23
で得られたポリ(p−メチルスチレン)のX線回
折パターンを示す。第5図a〜dはそれぞれ実施
例1で得られたポリスチレン、比較例1で得られ
たアタクチツクポリスチレン、比較例2で得られ
たアイソタクチツクポリスチレン、および実施例
23で得られたポリ(p−メチルスチレン)の赤外
線吸収スペクトルを示す。 なお、第4図中、θはブラツグ角(゜)を示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() 〔式中、Rは水素原子、ハロゲン原子あるいは炭
素数1〜20のアルキル基を示し、Rの置換位はp
−位及び/又はm−位であり、nは1〜3の整数
を示す。〕 で表わされる繰り返し単位を有する重合度10〜
100000の重合体であり、かつそのタクテイシテイ
ーが 13C−NMRによるラセミペンタツドで30%
以上であるシンジオタクチツク構造のスチレン系
重合体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CA000514471A CA1276748C (en) | 1985-07-29 | 1986-07-23 | Styrene polymers |
| DE8686110324T DE3675599D1 (de) | 1985-07-29 | 1986-07-26 | Styrolpolymere. |
| EP19860110324 EP0210615B1 (en) | 1985-07-29 | 1986-07-26 | Styrene polymers |
| US07/728,005 US5189125A (en) | 1985-07-29 | 1991-07-01 | Process for producing syndiotactic styrene copolymer |
| US08/046,752 US5502133A (en) | 1985-07-29 | 1993-04-15 | Syndiotactic styrene polymers |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-165881 | 1985-07-29 | ||
| JP16588185 | 1985-07-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104818A JPS62104818A (ja) | 1987-05-15 |
| JPH037685B2 true JPH037685B2 (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15820750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10192686A Granted JPS62104818A (ja) | 1985-07-29 | 1986-05-06 | スチレン系重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104818A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2663399B2 (ja) * | 1987-05-18 | 1997-10-15 | 出光興産 株式会社 | 熱安定性ポリスチレン系樹脂組成物 |
| JPH06104337B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1994-12-21 | 出光興産株式会社 | スチレン系樹脂延伸フィルム及びその製造方法 |
| IT1201715B (it) * | 1986-12-15 | 1989-02-02 | Montedison Spa | Polimeri stirenici cristallini essenzialmente sindiotattici e procedimento per la loro preparazione |
| JP2657261B2 (ja) * | 1987-02-03 | 1997-09-24 | 住友化学工業株式会社 | 芳香族ビニル化合物重合用触媒及びそれを用いた芳香族ビニル化合物重合体の製造方法 |
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| JPH0784503B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1995-09-13 | 出光興産株式会社 | 新規スチレン系重合体およびその製造方法 |
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| US5200454A (en) * | 1988-01-14 | 1993-04-06 | Idemitsu Kosan Company Limited | Flame-retardant resin composition |
| JPH07115451B2 (ja) * | 1988-04-13 | 1995-12-13 | 出光興産株式会社 | 樹脂積層体 |
| JP2597392B2 (ja) * | 1988-06-30 | 1997-04-02 | 出光興産株式会社 | 不織布 |
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| US5006296A (en) * | 1988-09-01 | 1991-04-09 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of fibers of stereoregular polystyrene |
| US5089353A (en) * | 1988-10-14 | 1992-02-18 | Kuraray Co., Ltd. | Multi-layer material having gas barrier properties |
| US5476899A (en) * | 1989-09-14 | 1995-12-19 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for produce a readily slidable film |
| JPH07112729B2 (ja) * | 1989-10-13 | 1995-12-06 | 出光興産株式会社 | 容 器 |
| JPH03136796A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 帯状部材のスリット方法 |
| JPH07100723B2 (ja) * | 1990-03-27 | 1995-11-01 | 三井東圧化学株式会社 | シンジオタクチックビニルシクロヘキサン重合体 |
| DE69119889T2 (de) * | 1990-11-21 | 1996-10-02 | Idemitsu Kosan Co | Styrol-copolymer und seine herstellung |
| DE69219932T2 (de) * | 1991-03-29 | 1997-09-11 | Idemitsu Kosan Co | Verfahren zur Herstellung eines Homo- oder Copolymerisates des Styrols |
| KR100656001B1 (ko) * | 1999-01-29 | 2006-12-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스티렌 중합용 촉매 및 스티렌계 중합체의 제조방법 |
| KR100349071B1 (ko) | 2000-02-02 | 2002-08-14 | 삼성종합화학주식회사 | 생성물 순환 방식을 이용한 신디오탁틱 스티렌계 중합체의제조방법 |
| US7026406B1 (en) | 2000-02-10 | 2006-04-11 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Syndiotactic styrene polymers and process for the production thereof |
| WO2006004068A1 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Riken | メタロセン錯体を含む重合触媒組成物、およびそれを用いて製造される重合体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835602A (ja) * | 1981-08-25 | 1983-03-02 | Omron Tateisi Electronics Co | プログラマブル・コントロ−ラ |
| JPS6026011A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-08 | Idemitsu Kosan Co Ltd | プロピレン・スチレン共重合体の製造方法 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP10192686A patent/JPS62104818A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62104818A (ja) | 1987-05-15 |
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