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JPH039079B2 - - Google Patents
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JPH039079B2 - - Google Patents

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JPH039079B2
JPH039079B2 JP8540081A JP8540081A JPH039079B2 JP H039079 B2 JPH039079 B2 JP H039079B2 JP 8540081 A JP8540081 A JP 8540081A JP 8540081 A JP8540081 A JP 8540081A JP H039079 B2 JPH039079 B2 JP H039079B2
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JP
Japan
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film
garnet
magnetic
substrate
bubble
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JP8540081A
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Inventor
Taketoshi Hibya
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP8540081A priority Critical patent/JPS57200295A/en
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は非磁性(110)ガリウムガーネツト基
板上に育成され膜面に垂直な方向が磁化容易軸で
あるオルソロンビツク異方性を有する磁性ガーネ
ツト液相エピタキシヤル膜に関する。 ベル・システムテクニカル・ジヤーナル(Bell
System Technical Journal)第58巻第6号第2
部1453ページ(1979年)にボーベツクらによつて
発表された二重導体パターン(デユアル・コンダ
クタ・パターン)を用いたバブル磁区素子は、従
来のバブル磁区素子と異なり、()回転磁場発
生用のコイルが不要である、()バブル磁区の
高周波駆動が可能である、()バブル磁区の径
を微小化できるので素子の記憶密度を向上でき
る、などの特徴を有している。 この素子を実現するためには、膜面に垂直な方
向が磁化容易軸であると同時に、膜面内にも磁気
異方性を有するオルソロンビツク異方性を持つ材
料の採用が提案されている。オルソロンビツク異
方性を有する材料においては、膜面内の異方性磁
界が十分に大きければ、磁壁にこの面内異方性磁
界が働き、磁壁の移動速度の飽和値を通常の材料
におけるそれと比べ著しく大きくできる。また、
オルソロンビツク材料ではハードバブルが生ぜ
ず、磁壁のS状態を低く保てるという特徴を有し
ている。したがつて、導体パターンではなく、通
常のパーマロイパターンを用いた素子においても
()ハード・バブル抑制の工程を省略できる。
()バブルの高周波駆動が可能である、などの
有利な点を有している。 また、磁気記録媒体の情報を磁気転写・光読み
出しによつて再生される素子として磁性ガーネツ
ト膜を用いる場合、電子通信学会技術研究報告
MR80−6(1980年)第15ページに述べられてい
るように、従来の材料を用いる限りその磁壁移動
速度に限界があることによつて磁気記録媒の移動
速度にガーネツトの磁壁移動速度が追随できな
い。このような素子にオルソロンビツク異方性材
料が用いられれば磁壁の最高移動速度は通常の材
料の25〜30m/secよりも格段に大きくなり、磁
気転写・光読み出し技術における動特性を格段に
改善できる。 また、レーザー光偏向素子においもオルソロン
ビツク材料を用いれば、駆動周波数を改善でき
る。オルソロンビツク異方性を有する材料は、通
常のバブル材料である(111)ガーネツト膜から
は得られない。(110)ガーネツト液相エピタキシ
ヤル膜においては、オルソロンビツク異方性が生
ずる。ウオルフエらによつてアブライド・フィジ
ツクス・レターズ第29巻第12号815ページ(1976
年)の論文に示されている如く(110)ガーネツ
ト膜がオルソロンビツク異方性を有し、しかも膜
面と垂直な方向に磁化容易軸を有するためには、
二つの異方性エネルギー定数が次の第1式、第2
式および第3式に示す、いづれの関係をも満足す
る必要がある。 KU>0 (1)、 KU+Δ>0 (2) Δ≠0 (3) しかしながら、多くのガーネツトにおいては、
Ku<0あるいはKU+Δ>0であり、(110)面を
もつ非磁性ガーネツト基板上に成長させたときに
膜面に垂直な〔110〕方向が磁化容易軸とはなら
ない。したがつて、第1式および第2式を同時に
満たすようなオルソロンビツク異方性を有する
(110)ガーネツト膜を提供できるようなガーネツ
ト膜組成及びその製造条件を見出すことが二重導
体パターンバブル素子や周波数帯域の広い磁気転
写・光読み出し素子又は高い周波数域で駆動可能
なレーザー光偏光素子を実用化する上で何よりも
大切である。 さらに、アイ・イー・イー・イー・トランザク
シヨンズ・オン・マグネテイクス(I E E
E Trans Mag)第MAG13巻第1087ページ
(1977年)にブリードらが発表した論文および第
25回応用物理学関係連合講演会講演予稿集講演番
号30a−F−5(1978年)第558ページに牧野およ
び桧高が発表した論文に知られているように、一
般に(110)ガーネツト膜では抗磁力(Hc)が大
きく、バブル素子として用いるときの安定性を保
証しえないことがある。 また、上記のブリードらが発表した材料では、
膜面に垂直な異方性エネルギーKuおよび膜面内
の異方性エネルギーΔのいずれもが主として歪誘
導異方性によつている。このためには、膜と基板
との格子定数差をきわめて大きくしなければなら
ない。このことは抗磁力の原因となるばかりでな
く、ガーネツト膜の上に付着させる種々の素子用
パターンによつて生ずる歪みによつて磁気特性が
変化しやすくなることを意味する。ガーネツト膜
中に局部的に存在する歪みは、バブルの誤動作の
原因となる。 本発明の目的は、二重導体パターンバブル素子
周波数帯域の広い磁気転写・光読み出し素子およ
び高い周波数で駆動可能なレーザー光偏向素子に
不可欠である。膜面に垂直な磁化容易軸を有し、
かつ抗磁力が低く、しかも膜に歪みを導入するこ
となく、主として成長誘導異方性により必要とす
る磁気異方性を生ぜしめることができる(110)
ガーネツト膜を提供することである。 本発明者は、特願昭54−158334に開示されるよ
うなPbOおよびBi2O3を主成分とするフラツクス
から(110)非磁性ガーネツト基板上に育成した
(YBi)3(FeGa)5O12に、希土類イオンを添加した
膜組成のガーネツト、すなわち、Y3-W-x-yRWR′x
BiyFe5-zGazO12(但し、0<W≦2.0、0≦x≦
1.7、0.05≦y≦0.7、0.5≦z≦1.45、RはLa、
Ho、Sm、Eu、Gd、Er、Ybよりなる群より選ば
れる1元素もしくは複数元素の組合せ、R′は
Tm、Luよりなる群より選ばれる1元素もしくは
2元素の組合せ)であらわされる組成のガーネツ
ト液相エピタキシヤル膜が、膜面と垂直方向に磁
化容易軸を有するオルソロンビツク異方性を見出
し、しかも(YBi)3(FeGa)5O12よりもKUおよび
Δを大きく出来ることがわかり、本発明をなすに
至つた。 以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明す
る。 実施例 1 第1表に示す融液1を用い、837℃の温度にお
いて(110)Gd3Ga5O12基板上にY2.425−Sm0.075
Bi0.5Fe4.3Ga0.7O12ガーネツト液相エピタキシヤル
膜を育成したところ、膜厚が1.8μmであり、膜面
と垂直な〔110〕軸を磁化容易軸とするオルソロ
ンビツク異方性バブル材料となつた。本LPE膜
における磁気特性は第2表に示すものであり、磁
化容易軸〔110〕と磁化中間軸〔001〕との間の異
方性エネルギーKUおよび磁化中間軸と磁化困難
軸との間の異方性エネギーΔを強磁性共鳴装置を
用いて測定したところ、それぞれKU
12000erg/cm3およびΔ=40000erg/cm3と求まつ
た。これらの値は特開昭54−158334に開示され
る。(YBi)3(FeGa)5O12におけるいづれの値より
も大きかつた。これらは膜と基板との格子定数差
が殆どゼロであることから成長誘導によるもので
あつた。この材料におけるバブル径は1.7μmであ
り、ハード・バブルは存在していなかつた。材料
の抗磁力は充分に小さく、最小駆動磁場ΔH=
20oeでバブルを効かすことができた。バブルの
飽和移動速度は、140m/soc、磁壁移動度は、25
m/sec−oeであつた。この材料を用いて二重導
体パターン素子を作つたところ、バブルを10MHz
の周波数で駆動することが可能であつた。パーマ
ロイパターンを用いた従来型の素子に本材料を用
いた場合にも、ハードバブルの抑制の工程が省略
できたために素子の歩留りが向上した。のみなら
ず、従来型のバブル素子において最大の磁壁移動
速度を要求される。一部でのストライブ磁区転送
時の転送速度のブレーク・ダウンは生じなかつ
た。 この材料をレーザー光偏向素子として用いたと
ころ高速駆動が可能なばかりでなく、Bi3+を置換
させたことによりフアラデー回転角が大きく(−
4000deg/cm)信号のS/N比が向上した。この
材料を40m/secの速度で移動する磁気記録媒体
中の情報を磁気転写し、レーザー光によつて読み
出す素子に用いたところ、本材料の飽和磁壁移動
速度が140m/secであるため、磁気記録情報の移
動速度に充分追随可能であり、記録再生周波数を
7MHzまで拡張させることができた。さらに本材
料はBi3+を置換させてあることから、フアラデー
回転角を大きくすることができ信号のS/N比を
45dB以上に高めることができた。なお、ガーネ
ツト組成式中のGaの一部をAlで置換した場合に
も同様の結果が得られた。 実施例 2 第1表に示す融液2を用い953℃において
(110)Dy3Ga5O12基板上にY2.91EU0.04Bi0.05
Fe3.55Ga1.45O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜
を育成したところ、第2表に示すように膜面と垂
直な方向が磁化容易軸であるオルソロンビツク材
料となつた。この材料では磁化中間軸〔110〕
にあり、したがつてΔ<0となつた。 実施例 3 第1表に示す融液3を用いて、790℃において
(110)Sm3Ga5O12基板上にY2.24Sm0.03Gd0.03Bi0.7
Fe3.8Ga1.2O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特性が得ら
れた。 実施例 4 第1表に示す融液4を用いて、850℃において
(110)Gd3Ga5O12基板上にY2.53Gd0.07Bi0.4Fe4.4
Ga0.6O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を育成
したところ、第2表に示すような特性が得られ
た。 実施例 5 第1表に示す融液5を用いて、760℃において
(110)Sm3Ga5O12基板上にY2.27Sm0.02Eu0.01Bi0.7
Fe4.5Ga0.5O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特性が得ら
れた。 実施例 6 第1表に示す融液6を用い、950℃において
(110)Dy3Ga5O12基板上にY2.89Yb0.06Bi0.05Fe3.55
Ga1.45O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を育
成したところ第2表に示すように膜面と垂直な
〔110〕方向が磁化容易軸であるオルソロンビツク
異方性材料となつた。この材料では磁化中間軸は
〔110〕にあり、したがつてΔ<0となつた。 実施例 7 第1表に示す融液7を用いて、810℃において
(110)Sm3Ga5O12基板上にY2.00Yb0.15Ho0.15Bi0.7
Fe4.3Ga0.7O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特徴が得ら
れた。 実施例 8 第1表に示す融液8を用い、946℃において
(110)Dy3Ga5O12基板上にY2.90Er0.05Bi0.05Fe3.55
Ga1.45O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を育
成したところ、第2表に示すように膜面と垂直な
方向が磁化容易軸であるオルソロンビツク異方性
材料となつた。この材料では磁化中間軸は〔11
0〕にあり、したがつてΔ<0となつた。 実施例 9 第1表に示す融液3を用いて、803℃において
(110)Sm3Ga5O12基板上にY2.00Er0.17Ho0.13Bi0.7
Fe4.3Ga0.7O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特性が得ら
れた。 実施例 10 第1表に融液10を用いて、770℃において
(110)DyGd2Ga5O12基板上にY0.2Yb0.4Lu1.7Bi0.7
Fe4.5Ga0.5O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特性が得ら
れた。 実施例 11 第1表に示す溶融11を用いて、770℃において
(110)Gd3Ga5O12基板上にY0.1Er2.0Tm0.2Bi0.7
Fe4.5Ga0.5O12ガーネツト液相エピタキシヤル膜を
育成したところ、第2表に示すような特性が得ら
れた。 実施例 12 第1表に示す融液12を用いて、828℃において
(110)Gd3Ga5O12基板上にY1.95La0.08Tm0.02
LU0.35Bi0.6Fe4.50Ga0.50O12液相エピタキシヤル膜
を育成したところ、第2表に示すような特性が得
られた。
The present invention relates to a magnetic garnet liquid phase epitaxial film grown on a non-magnetic (110) gallium garnet substrate and having orthorombic anisotropy in which the axis of easy magnetization is perpendicular to the film surface. Bell System Technical Journal
System Technical Journal) Volume 58 No. 6 No. 2
The bubble magnetic domain element using a dual conductor pattern (dual conductor pattern) announced by Bobetsk et al. on page 1453 (1979) is different from the conventional bubble magnetic domain element. It has the following characteristics: () high frequency drive of the bubble magnetic domain is possible; () the diameter of the bubble magnetic domain can be miniaturized, so the storage density of the device can be improved. In order to realize this element, it has been proposed to use a material having orthorombic anisotropy, which has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface and also has magnetic anisotropy within the film surface. In a material with orthorombic anisotropy, if the in-plane anisotropic magnetic field is large enough, this in-plane anisotropic magnetic field acts on the domain wall, and the saturation value of the domain wall movement speed is compared to that in a normal material. Can be made significantly larger. Also,
Orthorombic materials do not produce hard bubbles and are characterized by the fact that the S state of the domain wall can be maintained at a low level. Therefore, even in an element using a normal permalloy pattern instead of a conductor pattern, the hard bubble suppression process can be omitted.
(2) It has advantages such as the possibility of high-frequency driving of bubbles. In addition, when using a magnetic garnet film as an element for reproducing information from a magnetic recording medium by magnetic transfer and optical readout, the Institute of Electronics and Communication Engineers Technical Research Report
As stated on page 15 of MR80-6 (1980), as long as conventional materials are used, there is a limit to the domain wall motion speed of the garnet, which causes the domain wall motion speed of garnet to follow the motion speed of the magnetic recording medium. Can not. If an orthorombic anisotropic material is used in such an element, the maximum movement speed of the domain wall will be much higher than the 25 to 30 m/sec of ordinary materials, and the dynamic characteristics of magnetic transfer and optical readout technologies can be significantly improved. . Furthermore, if an orthorombic material is used in the laser beam deflection element, the driving frequency can be improved. Materials with orthorombic anisotropy cannot be obtained from (111) garnet films, which are common bubble materials. (110) Orthorombic anisotropy occurs in garnet liquid-phase epitaxial films. Ablide Physics Letters, Vol. 29, No. 12, p. 815 (1976) by Wolfe et al.
As shown in the paper of 2010, in order for the (110) garnet film to have orthorombic anisotropy and to have an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface,
The two anisotropic energy constants are the following equations 1 and 2.
It is necessary to satisfy both the relationships shown in the formula and the third formula. K U >0 (1), K U +Δ>0 (2) Δ≠0 (3) However, in many garnets,
K u <0 or K U +Δ>0, and when grown on a nonmagnetic garnet substrate with a (110) plane, the [110] direction perpendicular to the film plane does not become the axis of easy magnetization. Therefore, it is important to find a garnet film composition and manufacturing conditions that can provide a (110) garnet film having orthorombic anisotropy that satisfies the first and second equations at the same time. This is most important for the practical application of magnetic transfer/optical readout elements with a wide frequency band or laser beam polarization elements that can be driven in a high frequency range. Furthermore, I.E.E. Transactions on Magnetics (I.E.E.
E Trans Mag) Volume 13, page 1087 (1977) and the paper published by Breed et al.
As is known from the paper published by Makino and Hidaka in the Proceedings of the 25th Union of Applied Physics Lectures, Lecture No. 30a-F-5 (1978), page 558, (110) garnet films generally have a The magnetic force (Hc) is large, and stability may not be guaranteed when used as a bubble element. In addition, in the material published by Breed et al.
Both the anisotropy energy Ku perpendicular to the film plane and the anisotropy energy Δ in the film plane are mainly caused by strain-induced anisotropy. For this purpose, the difference in lattice constant between the film and the substrate must be made extremely large. This not only causes coercive force, but also means that the magnetic properties are likely to change due to distortion caused by various element patterns deposited on the garnet film. Localized distortion in the garnet film causes bubble malfunction. The object of the present invention is essential for a double conductor pattern bubble element, a magnetic transfer/optical readout element with a wide frequency band, and a laser beam deflection element that can be driven at a high frequency. It has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface,
Moreover, it has a low coercive force, and can generate the required magnetic anisotropy mainly through growth-induced anisotropy without introducing strain into the film (110).
The object of the present invention is to provide a garnet film. The present inventor has developed (YBi) 3 (FeGa) 5 O grown on a (110) nonmagnetic garnet substrate from a flux containing PbO and Bi 2 O 3 as main components as disclosed in Japanese Patent Application No. 54-158334. 12 , garnet with a film composition doped with rare earth ions, that is, Y 3-Wxy R W R′ x
Bi y Fe 5-z Ga z O 12 (However, 0<W≦2.0, 0≦x≦
1.7, 0.05≦y≦0.7, 0.5≦z≦1.45, R is La,
One element or combination of elements selected from the group consisting of Ho, Sm, Eu, Gd, Er, Yb, R' is
It was discovered that a garnet liquid phase epitaxial film with a composition represented by one element or a combination of two elements selected from the group consisting of Tm and Lu exhibits orthorombic anisotropy with an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface. It was found that K U and Δ could be made larger than that of YBi) 3 (FeGa) 5 O 12 , and the present invention was completed. The present invention will be explained in detail below using Examples. Example 1 Melt 1 shown in Table 1 was used to deposit Y 2.425 −Sm 0.075 on a (110)Gd 3 Ga 5 O 12 substrate at a temperature of 837°C.
When a Bi 0.5 Fe 4.3 Ga 0.7 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the film thickness was 1.8 μm, and it became an orthorombic anisotropic bubble material with the [110] axis perpendicular to the film surface as the axis of easy magnetization. Ta. The magnetic properties of this LPE film are shown in Table 2, and the anisotropic energy K U between the easy magnetization axis [110] and the intermediate magnetization axis [001] and the anisotropic energy K U between the magnetization intermediate axis and the hard magnetization axis When we measured the anisotropic energy Δ using a ferromagnetic resonance device, we found that K U =
It was determined that 12000erg/cm 3 and Δ=40000erg/cm 3 . These values are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 158334/1983. (YBi) 3 (FeGa) 5 O 12 was larger than either value. These were attributed to growth induction since the difference in lattice constant between the film and the substrate was almost zero. The bubble diameter in this material was 1.7 μm, and no hard bubbles were present. The coercive force of the material is sufficiently small that the minimum driving magnetic field ΔH=
I was able to make a bubble work with 20oe. The saturated moving speed of the bubble is 140 m/soc, and the domain wall mobility is 25
It was m/sec-oe. When we made a double conductor pattern element using this material, we found that the bubble was 10MHz.
It was possible to drive at a frequency of Even when this material was used in conventional devices using permalloy patterns, the yield of devices was improved because the process of suppressing hard bubbles could be omitted. In addition, the maximum domain wall movement speed is required in conventional bubble elements. There was no breakdown in transfer speed during stripe magnetic domain transfer in some areas. When this material is used as a laser beam deflection element, not only is high-speed driving possible, but the Faraday rotation angle is large (-
4000deg/cm) The S/N ratio of the signal has been improved. When this material was used in an element that magnetically transfers information in a magnetic recording medium moving at a speed of 40 m/sec and reads it out using laser light, the saturation domain wall movement speed of this material is 140 m/sec, so the magnetic It is possible to sufficiently follow the moving speed of recorded information, and the recording and playback frequency can be
I was able to expand it to 7MHz. Furthermore, since Bi 3+ is substituted in this material, the Faraday rotation angle can be increased and the S/N ratio of the signal can be increased.
I was able to increase it to over 45dB. Note that similar results were obtained when a portion of Ga in the garnet composition formula was replaced with Al. Example 2 Melt 2 shown in Table 1 was used to deposit Y 2.91 E U0.04 Bi 0.05 on a (110) Dy 3 Ga 5 O 12 substrate at 953°C.
When a Fe 3.55Ga 1.45O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, it became an orthorombic material whose axis of easy magnetization was perpendicular to the film surface, as shown in Table 2. In this material, the magnetization intermediate axis [110]
Therefore, Δ<0. Example 3 Using melt 3 shown in Table 1, Y 2.24 Sm 0.03 Gd 0.03 Bi 0.7 was deposited on a (110) Sm 3 Ga 5 O 12 substrate at 790°C.
When a Fe 3.8 Ga 1.2 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 4 Using melt 4 shown in Table 1, Y 2.53 Gd 0.07 Bi 0.4 Fe 4.4 was deposited on a (110) Gd 3 Ga 5 O 12 substrate at 850°C.
When a Ga 0.6 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 5 Using melt 5 shown in Table 1, Y 2.27 Sm 0.02 Eu 0.01 Bi 0.7 was deposited on a (110) Sm 3 Ga 5 O 12 substrate at 760°C.
When a Fe 4.5 Ga 0.5 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 6 Using melt 6 shown in Table 1, Y 2.89 Yb 0.06 Bi 0.05 Fe 3.55 was deposited on a (110) Dy 3 Ga 5 O 12 substrate at 950°C.
When a Ga 1.45 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, it became an orthorombic anisotropic material whose easy magnetization axis was in the [110] direction perpendicular to the film surface, as shown in Table 2. In this material, the intermediate axis of magnetization was at [110], so Δ<0. Example 7 Using melt 7 shown in Table 1, Y 2.00 Yb 0.15 Ho 0.15 Bi 0.7 was deposited on a (110) Sm 3 Ga 5 O 12 substrate at 810°C.
When a Fe 4.3 Ga 0.7 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the characteristics shown in Table 2 were obtained. Example 8 Using melt 8 shown in Table 1, Y 2.90 Er 0.05 Bi 0.05 Fe 3.55 was deposited on a (110) Dy 3 Ga 5 O 12 substrate at 946°C.
When a Ga 1.45 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, it became an orthorombic anisotropic material whose axis of easy magnetization was perpendicular to the film surface, as shown in Table 2. In this material, the intermediate axis of magnetization is [11
0], therefore Δ<0. Example 9 Using melt 3 shown in Table 1, Y 2.00 Er 0.17 Ho 0.13 Bi 0.7 was deposited on a (110) Sm 3 Ga 5 O 12 substrate at 803°C.
When a Fe 4.3 Ga 0.7 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 10 Using melt 10 shown in Table 1, Y 0.2 Yb 0.4 Lu 1.7 Bi 0.7 was deposited on a (110) DyGd 2 Ga 5 O 12 substrate at 770°C.
When a Fe 4.5 Ga 0.5 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 11 Y 0.1 Er 2.0 Tm 0.2 Bi 0.7 was deposited on a (110)Gd 3 Ga 5 O 12 substrate at 770°C using the melt 11 shown in Table 1 .
When a Fe 4.5 Ga 0.5 O 12 garnet liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained. Example 12 Using the melt 12 shown in Table 1, Y 1.95 La 0.08 Tm 0.02 was deposited on a (110) Gd 3 Ga 5 O 12 substrate at 828°C.
When a LU 0.35 Bi 0.6 Fe 4.50 Ga 0.50 O 12 liquid phase epitaxial film was grown, the properties shown in Table 2 were obtained.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 以上、本発明を用いることにより、バブル素子
材料として用いる場合には、MHz領域で駆動可能
な二重導体パタンを用いたバブル磁区素子が得ら
れ従来型のパーマロイ素子として用いる場合に
は、ハード・バブルが存在しないために、その抑
制の工程を省略できる。磁気転写・光読み出し素
子として用いる場合には、周波数帯域の広い素子
が得られる。レーザー光偏素子と用いる場合に
は、高周波駆動が可能となる。
[Table] As described above, by using the present invention, a bubble magnetic domain element using a double conductor pattern that can be driven in the MHz region can be obtained when used as a bubble element material, and when used as a conventional permalloy element. Since there are no hard bubbles, the process of suppressing them can be omitted. When used as a magnetic transfer/optical readout element, an element with a wide frequency band can be obtained. When used with a laser beam polarizer, high frequency driving becomes possible.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 非磁性ガーネツト基板上に形成されこの基板
と同一結晶学的方位をもち、膜面に垂直な方向が
磁化容易軸である磁気および磁気光学素子用単結
晶ガーネツト膜において、膜組成がY3-W-X-yRW
R′XBiyFe5-ZGaZO12(但し、0<W≦2.0、0≦X
≦1.7、0.05≦y≦0.7、0.5≦Z≦1.45、RはLa、
Ho、Sm、Eu、Gd、Er、Ybよりなる群より選ば
れる1元素もしくは複数元素の組合せ、R′は
Tm、Luよりなる群より選ばれる1元素もしくは
2元素の組合せ)で示され、膜面方位が(110)
であることを特徴とする磁気および磁気光学素子
用単結晶ガーネツト膜。
1. In a single crystal garnet film for magnetic and magneto-optical elements, which is formed on a non-magnetic garnet substrate, has the same crystallographic orientation as the substrate, and has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, the film composition is Y 3- WXy R W
R′ X Bi y Fe 5-Z Ga Z O 12 (However, 0<W≦2.0, 0≦X
≦1.7, 0.05≦y≦0.7, 0.5≦Z≦1.45, R is La,
One element or combination of elements selected from the group consisting of Ho, Sm, Eu, Gd, Er, Yb, R' is
(one element or a combination of two elements selected from the group consisting of Tm and Lu), and the film surface orientation is (110).
A single crystal garnet film for magnetic and magneto-optical elements, characterized in that:
JP8540081A 1981-06-03 1981-06-03 Bi-substituted garnet liquid-phase epitaxial film Granted JPS57200295A (en)

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JP2712138B2 (en) * 1993-06-10 1998-02-10 工業技術院長 Magneto-optical thin film

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