JPH0410755B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0410755B2 JPH0410755B2 JP60185400A JP18540085A JPH0410755B2 JP H0410755 B2 JPH0410755 B2 JP H0410755B2 JP 60185400 A JP60185400 A JP 60185400A JP 18540085 A JP18540085 A JP 18540085A JP H0410755 B2 JPH0410755 B2 JP H0410755B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plating
- external connection
- protective layer
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、サーマルヘツド、密着型ラインセン
サー等の配線基板の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board for a thermal head, a contact type line sensor, etc.
(従来の技術)
例えば、サーマルヘツドは、従来、セラミツ
ク、硝子等の絶縁基板上に、クロム、ニツケル
クロム合金等の素材から構成された電気回路形状
の下引き層、下引き層上に正確に位置合わせし
て積層され、ニツケル、銅等の素材から構成され
た中間導電層、中間導電層のパツド部及び外部
接続端子部に位置合わせして積層され、金または
銀等から構成されるメツキ層、及び上記メツキ
層の存在しない部位において中間導電層を被覆
し、二酸化珪素、五酸化タンタル等の素材から構
成される絶縁性保護層から構成されることが通常
であり、下引き層、中間導電層、メツキ層の位置
合わせは、以下のような方法により行われてい
た。(Prior Art) For example, a thermal head has conventionally been manufactured by accurately depositing an undercoat layer on an electric circuit shape made of a material such as chromium or a nickel-chromium alloy on an insulating substrate such as ceramic or glass. An intermediate conductive layer made of a material such as nickel or copper, which is aligned and laminated, and a plating layer made of gold, silver, etc., which is laminated in alignment with the pad part and external connection terminal part of the intermediate conductive layer. , and an intermediate conductive layer covering the areas where the plating layer does not exist, and is usually composed of an insulating protective layer made of a material such as silicon dioxide or tantalum pentoxide, an undercoat layer, and an intermediate conductive layer. The alignment of the layers and plating layers was performed by the following method.
すなわち、下引き層、中間導電層、メツキ層を
絶縁基板上全面に形成した後、同一のエツチング
マスクを用いて電気回路形状にエツチングし、次
いで別のエツチングマスクを使用してメツキ層を
電極端子形状にエツチングする方法である。 That is, after forming an undercoat layer, an intermediate conductive layer, and a plating layer over the entire surface of an insulating substrate, the same etching mask is used to etch the electrical circuit shape, and then another etching mask is used to form the plating layer into an electrode terminal. This is a method of etching the shape.
また、下引き層、中間導電層を絶縁基板上全面
に形成し、メツキマスクを使用してメツキ層を電
極端子形状にメツキした後、エツチングマスクを
使用して下引き層と中間導電層を電気回路形状に
エツチングする方法も知られている。 In addition, the undercoat layer and the intermediate conductive layer are formed on the entire surface of the insulating substrate, and the plating layer is plated in the shape of an electrode terminal using a plating mask, and then the undercoat layer and the intermediate conductive layer are formed into an electrical circuit using an etching mask. Methods of etching into shapes are also known.
また保護層は、下引き層、中間導電層、メツキ
層を所定形状に加工した後形成されており、この
保護層は下引き層、中間導電層、あるいはメツキ
層と異なり正確な位置合わせが不要なことから、
スパツタリング等の方法により一旦基板の全面に
形成した後、エツチングマスクを被せて、所望形
状にエツチングして形成したり、あるいは電気回
路の形成された基板上にマスクを介してスパツタ
リングする等の方法により形成していた。 In addition, the protective layer is formed after processing the undercoat layer, intermediate conductive layer, and plating layer into a predetermined shape, and unlike the undercoat layer, intermediate conductive layer, or plating layer, this protective layer does not require accurate alignment. Because of that,
After it is formed on the entire surface of the substrate by a method such as sputtering, it is covered with an etching mask and etched into a desired shape, or it is sputtered on a substrate on which an electric circuit is formed through a mask. was forming.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、いずれの場合も、上記メツキ層
の保護層は精度良く位置合わせすることができ
ず、このため、両者の間にメツキ層と保護層のい
ずれにも被覆されず、中間導電層が露出した部位
が生じることが多かつた。また、いずれの方法に
おいても中間導電層の側面はメツキ層に被覆さる
ることなく露出している。上記のように中間導電
層はニツケル、銅等から構成されていることか
ら、中間導電層が露出した部位は酸化等により断
線が生じ易いという問題点があつた。(Problem to be Solved by the Invention) However, in either case, the protective layer of the plating layer cannot be precisely aligned, and therefore, there is no coating between the plating layer and the protective layer. However, there were often areas where the intermediate conductive layer was exposed. Furthermore, in either method, the side surfaces of the intermediate conductive layer are exposed without being covered with the plating layer. As mentioned above, since the intermediate conductive layer is made of nickel, copper, etc., there is a problem in that the exposed portion of the intermediate conductive layer is susceptible to disconnection due to oxidation or the like.
(課題を解決するための手段)
すなわち、本発明は、
絶縁基板上に、実質的に外界に露出して機能す
る機能部と電気部品に接続するワイヤーを固定す
るパツド部及び外部接続端子部を有する形状の電
気回路と、この機能部の電気回路を被覆する電気
絶縁性保護層と、パツド部及び外部接続端子部に
積層され、金、銀、またはこれらの合金から構成
されるメツキ層を有する配線基板の製造方法にお
いて、
絶縁基板上に、全体が電気的に接続し、電気導
電性金属の薄膜による電気回路を形成した後、
パツド部及び外部接続端子部を除いて電気回路
を電気絶縁性無機物質の保護層により被覆し、
次いでこの保護層をメツキマスクとして、表面
に露出したパツド部及び外部接続端子部上に金、
銀またはこれらの合金を電解メツキする、ことを
特徴とする。(Means for Solving the Problems) That is, the present invention provides, on an insulating substrate, a functional part that functions substantially exposed to the outside world, a pad part for fixing a wire connected to an electric component, and an external connection terminal part. an electrical circuit in the shape of an electrical circuit, an electrically insulating protective layer covering the electrical circuit of this functional part, and a plating layer laminated on the pad part and external connection terminal part and made of gold, silver, or an alloy thereof. In a method of manufacturing a wiring board, after forming an electric circuit using a thin film of an electrically conductive metal on an insulating substrate and electrically connecting the whole, the electric circuit is electrically insulated except for pads and external connection terminals. It is coated with a protective layer of an inorganic material, and then using this protective layer as a plating mask, gold and gold are applied to the pads and external connection terminals exposed on the surface.
It is characterized by electrolytically plating silver or an alloy thereof.
かかる技術的手段において、「配線基板」とは
実質的に外界に露出してその機能を発揮する機能
部を有する配線基板をいい、サーマルヘツド、密
着型ラインセンサー等が例としてあげられる。ま
た、「実質的に外界に露出して」とは、その機能
が外界に働きかけ、または外界からの働きかけに
より機能が作動することをいい、サーマルヘツド
における機能部とは熱転写リボンや感熱発色紙と
接触して外界における転写や発色を生じせしめる
機能する発熱低抗体を有する部位であり、密着型
ラインセンサーでは外界の光を受光して機能する
感光部である。 In such technical means, the term "wiring board" refers to a wiring board that has a functional part that is substantially exposed to the outside world and performs its functions, and examples thereof include a thermal head, a contact type line sensor, and the like. In addition, "substantially exposed to the outside world" means that the function acts on the outside world or is activated by an action from the outside world. It is a part that has a thermogenic antibody that functions to cause transfer and color development in the outside world upon contact, and in a contact type line sensor, it is a photosensitive part that functions by receiving light from the outside world.
このような配線基板において、電基絶縁性無機
物質の保護層は、例えば機能層の磨耗防止、酸化
防止のために、この機能層を被覆して設けられ
る。配線基板がサーマルヘツドの場合には磨耗防
止のため、五酸化タンタルもしくは二酸化珪素と
五酸化タンタルの二層構造の保護層が使用でき
る。 In such a wiring board, a protective layer made of an electrically insulating inorganic material is provided to cover the functional layer, for example, to prevent wear and oxidation of the functional layer. When the wiring board is a thermal head, a protective layer of tantalum pentoxide or a two-layer structure of silicon dioxide and tantalum pentoxide can be used to prevent wear.
この保護層は、電気部品とワイヤーボンデイン
グされるパツド部及び外部接続端子部を除き、電
気回路を被覆して設けられる。保護層は、電気回
路の設けられた絶縁基板全面に真空蒸着やスパツ
タリング等の方法により形成した後感光性樹脂を
エツチングマスクとして使用してエツチングする
ことによつて形成することができる。あるいはリ
フトオフ法により形成してもよい。また、マスク
を使用して所定形状に真空蒸着またはスパツタリ
ングして(マスク蒸着又はマスクスパツタリング
法)形成してもよく、保護層は精度良く形成する
必要がないことから、このマスク蒸着又はマスク
スパツタリング法によることが好ましい。保護層
は、電気回路を被覆するように形成されればよい
が、電気回路の上面のみならず、側面まで被覆す
るように形成されることが望ましい。 This protective layer is provided to cover the electric circuit except for the pad portion and the external connection terminal portion which are wire-bonded to the electric component. The protective layer can be formed by forming the entire surface of the insulating substrate on which the electric circuit is provided by a method such as vacuum evaporation or sputtering, and then etching it using a photosensitive resin as an etching mask. Alternatively, it may be formed by a lift-off method. Alternatively, the protective layer may be formed by vacuum evaporation or sputtering into a predetermined shape using a mask (mask evaporation or mask sputtering method). Preferably, the sputtering method is used. The protective layer may be formed to cover the electric circuit, but it is desirable to form the protective layer so as to cover not only the top surface but also the side surfaces of the electric circuit.
そして、こうして形成された保護層をメツキマ
スクとし、電気回路全体を電源に接続してパツド
部及び外部接続端子部に金、銀またはその合金を
電解メツキする。金等のメツキは、この電気回路
のパツド部及び外部接続端子上に直接施してもよ
いが、ニツケルメツキ等を介して施してもよい。
パツド部及び外部接続端子部以外の電気回路は保
護層に被覆されており、また電気回路以外は絶縁
基板が露出していて、電解メツキによる金属は付
着しないから、このパツド部及び外部接続端子部
の表面のみに金属が析出する。金属は、パツド部
及び外部接続端子部の上面にみならず、側面にも
析出し、このパツド部及び外部接続端子部を完全
に覆う。なお、この際、断線があれば、断線に伴
つて電源に接続していない部分には金属の析出が
生じないことから、断線の有無の判別も容易であ
る。 Then, using the protective layer thus formed as a plating mask, the entire electric circuit is connected to a power source, and gold, silver, or an alloy thereof is electrolytically plated on the pad portion and the external connection terminal portion. Plating with gold or the like may be applied directly onto the pad portions and external connection terminals of this electric circuit, but it may also be applied through nickel plating or the like.
The electrical circuits other than the pads and external connection terminals are covered with a protective layer, and the insulating substrate is exposed except for the electrical circuits, so metal will not adhere to the pads and external connection terminals. Metal is deposited only on the surface. The metal is deposited not only on the top surface of the pad portion and the external connection terminal portion but also on the side surfaces, completely covering the pad portion and the external connection terminal portion. At this time, if there is a disconnection, it is easy to determine whether or not there is a disconnection, since metal will not be deposited on the portions not connected to the power supply due to the disconnection.
電気回路形状が、その全体が電気的に接続して
いない形状である場合には、配線基板の外周また
は適当な位置に仮配線部又は特別配線を設けてお
き、配線基板の製造が完了した時点で、機械的切
断やレーザービームによる切断、部分エツチング
等の方法により仮配線部又は特別配線を除去すれ
ばよい。 If the electric circuit is not electrically connected in its entirety, a temporary wiring section or special wiring is provided on the outer periphery of the wiring board or at an appropriate position, and when the manufacturing of the wiring board is completed. Then, the temporary wiring portion or special wiring may be removed by mechanical cutting, laser beam cutting, partial etching, or the like.
本発明に使用できる絶縁基板としてはセラミツ
ク、ガラス等の基板があげられる。また、電気回
路は、従来と同様に形成することができ、例え
ば、クロム、ニツケル等の下引き層、ニツケル、
銅等の中間導電層をそれぞれ真空蒸着、スパツタ
リング、CVD、イオンプレーテイング等の方法
により絶縁基板上に全面形成した後、感光性樹脂
等をエツチングマスクとして電気回路形状にエツ
チングすることにより形成することができる。 Insulating substrates that can be used in the present invention include substrates made of ceramic, glass, and the like. In addition, the electric circuit can be formed in the same manner as before, for example, by using an undercoat layer such as chromium, nickel, etc.
After forming an intermediate conductive layer such as copper on the entire surface of an insulating substrate by a method such as vacuum evaporation, sputtering, CVD, or ion plating, the layer is etched into the shape of an electric circuit using a photosensitive resin or the like as an etching mask. I can do it.
(作用)
本発明によれば、
予め形成された電気回路上に電気絶縁性無機物
質の保護層が部分的に設けられ、これをメツキマ
スクとしてパツド部と外部接続端子に金または銀
等の電解メツキが施されるので、
このメツキ層は外面に露出した電気回路部分を
完全に被覆して、電気回路部分が外気に露出する
ことがなく、
また金等のメツキ液も必要最小限がよい。(Function) According to the present invention, a protective layer made of an electrically insulating inorganic material is partially provided on a pre-formed electric circuit, and this is used as a plating mask to electrolytically plate the pad portions and external connection terminals with gold or silver. Since this plating layer completely covers the electrical circuit parts exposed on the outside, the electrical circuit parts are not exposed to the outside air, and the plating liquid such as gold should be kept to the minimum necessary.
(実施例)
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明
する。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
図面はサーマルヘツドを示すもので、第1図は
その要部斜視図、第2図はその平面図、第3図は
断面図である。 The drawings show a thermal head; FIG. 1 is a perspective view of the main parts thereof, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a sectional view.
絶縁基板1としてアルミナ基板に3インチ角で
0.82mm厚のグレーズ層13が三面付されているも
のを使用した。 As insulating substrate 1, attach a 3 inch square to an alumina substrate.
The glaze layer 13 having a thickness of 0.82 mm was applied on three sides.
次に発熱抵抗体14をスパツタリング法により
0.1μmの厚さに形成し、クロムを0.5μmの厚さに
真空蒸着して下引き層2を形成し、さらに銅を
1μmの厚さに真空蒸着して中間導電層3を形成
した。 Next, the heating resistor 14 is sputtered.
Chromium is vacuum-deposited to a thickness of 0.5 μm to form an undercoat layer 2, and copper is further deposited to a thickness of 0.1 μm.
The intermediate conductive layer 3 was formed by vacuum deposition to a thickness of 1 μm.
次いで感光性樹脂をエツチングマスクとして使
用してエツチングして、下引き層及び中間導電層
を電気回路形状に加工した。かかる電気回路は、
機能部6、IC実装部7周辺にIC部品接続用ワイ
ヤーを固定するパツド部8a,8b、外部接続端
子9を有する形状であり、しかも全体を電気的に
接続するため、外周に仮配線部10を有する形状
であつた(第2図)。なお、12は小切れ断裁線
であり、メツキ処理を施した後、この小切れ断裁
線12から切断することにより単一の配線基板が
完成する。仮配線部10のこの外周に位置し、断
裁の後機械的に切断除去するものである。 Next, the undercoat layer and the intermediate conductive layer were processed into the shape of an electric circuit by etching using the photosensitive resin as an etching mask. Such an electrical circuit is
It has a shape that includes pad parts 8a and 8b for fixing IC component connection wires around the functional part 6 and IC mounting part 7, and external connection terminals 9. Moreover, in order to electrically connect the whole, there is a temporary wiring part 10 on the outer periphery. (Figure 2). Note that 12 is a small cutting line, and after plating, a single wiring board is completed by cutting from this small cutting line 12. It is located on this outer periphery of the temporary wiring section 10 and is mechanically cut and removed after cutting.
次いで、マスクスパツタ法によりパツド部8
a,8b、外部接続端子9を除く略全面11に二
酸化珪素を厚さ2μmに、更に五酸化タンタルを
厚さ5μmに形成し、保護層5とした。なお、機
能部6の周辺の配線部8c,8dはワイヤーボン
デイングに関係しない領域であるため、この部分
も保護層5を形成して被覆した。 Next, the pad portion 8 is formed using a mask sputtering method.
Protective layer 5 was formed by forming silicon dioxide to a thickness of 2 μm and tantalum pentoxide to a thickness of 5 μm on substantially the entire surface 11 excluding a, 8b and external connection terminals 9. Note that since the wiring parts 8c and 8d around the functional part 6 are areas not related to wire bonding, these parts were also covered with the protective layer 5.
更にこの保護層5をメツキレジストとして、
0.5A/dm2、20分間の条件でニツケルを1μmメ
ツキし、0.7A/dm2、7分間の条件で金をメツ
キした。 Furthermore, this protective layer 5 is used as a plating resist,
Nickel was plated to a thickness of 1 μm at 0.5 A/dm 2 for 20 minutes, and gold was plated at 0.7 A/dm 2 for 7 minutes.
最後に針先により余分なメツキを除去し、レー
ザービームで仮配線部10を切断して配線基板を
製造した。 Finally, excess plating was removed with a needle tip, and the temporary wiring section 10 was cut with a laser beam to produce a wiring board.
得られた配線基板は、電気回路が完全にメツキ
層と保護層に被覆され、長期間にわたつて断線が
生じなかつた。 In the obtained wiring board, the electric circuit was completely covered with the plating layer and the protective layer, and no disconnection occurred for a long period of time.
(効果)
本発明によれば、電気回路がその上面は勿論側
面も完全にメツキ層と保護層に被覆され、電気回
路が外気に露出することがない配線基板が得られ
るから、
外気による酸化に起因する断線も生じ難く、長
期間実質的に外界に露出して使用することのでき
る配線基板を得ることができるという効果を奏す
る。(Effects) According to the present invention, it is possible to obtain a wiring board in which the electric circuit is completely covered with the plating layer and the protective layer not only on the top surface but also on the side surfaces, and the electric circuit is not exposed to the outside air. It is possible to obtain a wiring board that is less likely to cause wire breakage and can be used while being substantially exposed to the outside for a long period of time.
またメツキ液の使用量も最小限で済み、万一断
線があればメツキ工程で容易に発見できるという
効果を奏する。 In addition, the amount of plating liquid used can be kept to a minimum, and if there is a wire breakage, it can be easily discovered during the plating process.
図面は本発明の実施例を示し、第1図はその要
部斜視図、第2図はその平面図、第3図は断面図
である。
1……絶縁基板、2……下引き層、3……中間
導電層、4……メツキ層、5……絶縁性保護層、
6……機能部、7……IC実装部、8……配線部、
9……外部接続端子部、10……仮配線部、11
……保護層部、12……小切れ断裁線、13……
グレーズ層、14……発熱抵抗体層。
The drawings show an embodiment of the present invention; FIG. 1 is a perspective view of the main part thereof, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a sectional view thereof. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Insulating substrate, 2... Undercoat layer, 3... Intermediate conductive layer, 4... Plating layer, 5... Insulating protective layer,
6... Functional section, 7... IC mounting section, 8... Wiring section,
9... External connection terminal section, 10... Temporary wiring section, 11
...Protective layer portion, 12...Small cutting line, 13...
Glaze layer, 14... heating resistor layer.
Claims (1)
する機能部と電気部品に接続するワイヤーを固定
するパツド部及び外部接続端子部を有する形状の
電気回路と、この機能部の電気回路を被覆する電
気絶縁性保護層と、パツド部及び外部接続端子部
に積層され、金、銀、またはこれらの合金から構
成されるメツキ層を有する配線基板の製造方法に
おいて、 絶縁基板上に、全体が電気的に接続し、電気導
電性金属の薄膜による電気回路を形成した後、 パツド部及び外部接続端子部を除いて電気回路
を電気絶縁性無機物質の保護層により被覆し、 次いでこの保護層をメツキマスクとして、表面
に露出したパツド部及び外部接続端子部上に金、
銀またはこれらの合金を電解メツキすることを特
徴とする、 配線基板の製造方法。[Scope of Claims] 1. An electric circuit having a shape on an insulating substrate, which has a functional part that is substantially exposed to the outside and functions, a pad part for fixing a wire connected to an electric component, and an external connection terminal part; In a method for manufacturing a wiring board, the wiring board has an electrically insulating protective layer that covers an electrical circuit in a functional part, and a plating layer that is laminated on a pad part and an external connection terminal part and is made of gold, silver, or an alloy thereof. After an electrical circuit is formed on the board using a thin film of electrically conductive metal, the entire part is electrically connected, and then the electrical circuit is covered with a protective layer of electrically insulating inorganic material, except for the pads and external connection terminals. Next, using this protective layer as a plating mask, gold and gold were applied to the pads and external connection terminals exposed on the surface.
A method for manufacturing a wiring board, characterized by electrolytically plating silver or an alloy thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18540085A JPS6245199A (en) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | Wiring substrate and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18540085A JPS6245199A (en) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | Wiring substrate and manufacture thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245199A JPS6245199A (en) | 1987-02-27 |
| JPH0410755B2 true JPH0410755B2 (en) | 1992-02-26 |
Family
ID=16170130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18540085A Granted JPS6245199A (en) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | Wiring substrate and manufacture thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6245199A (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5017205B2 (en) * | 1971-10-08 | 1975-06-19 |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP18540085A patent/JPS6245199A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6245199A (en) | 1987-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2809088B2 (en) | Protruding electrode structure of semiconductor device and method for forming the protruding electrode | |
| JP2622156B2 (en) | Contact method and structure for integrated circuit pads | |
| US4613404A (en) | Materials which exhibit a surface active effect with vacuum baked photoresists and method of using the same | |
| JPH10117063A (en) | Manufacture of circuit board having at least one metal layer, circuit board and its use method | |
| JPH0410755B2 (en) | ||
| JP2002231502A (en) | Fillet-less chip resistor and method for manufacturing the same | |
| JPH03101234A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JP3573894B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JP2610083B2 (en) | Ferromagnetic magnetoresistive element | |
| TWI801227B (en) | Chip parts | |
| JPS60171616A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPH10172806A (en) | Temperature sensor and its manufacture | |
| JPH0770024B2 (en) | Thin film magnetic head | |
| JP2796864B2 (en) | Manufacturing method of electrical connection member | |
| JPH0344933A (en) | Semiconductor device | |
| JPH073663Y2 (en) | Printed wiring board | |
| JPH0546708B2 (en) | ||
| JPS60171615A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPS61216372A (en) | Hall element | |
| JPS61121963A (en) | Thermal head | |
| JPS61144034A (en) | Manufacture of transfer bump substrate | |
| JPH0344934A (en) | Semiconductor device | |
| JPH0230554A (en) | Thermal head and production thereof | |
| JPH0344935A (en) | Semiconductor device | |
| JPH06140560A (en) | Lead frame and manufacturing method thereof |