Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH041494B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH041494B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH041494B2
JPH041494B2 JP57206631A JP20663182A JPH041494B2 JP H041494 B2 JPH041494 B2 JP H041494B2 JP 57206631 A JP57206631 A JP 57206631A JP 20663182 A JP20663182 A JP 20663182A JP H041494 B2 JPH041494 B2 JP H041494B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
signal
electron beam
scanning
moment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57206631A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5996725A (en
Inventor
Hideo Kusakabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP57206631A priority Critical patent/JPS5996725A/en
Publication of JPS5996725A publication Critical patent/JPS5996725A/en
Publication of JPH041494B2 publication Critical patent/JPH041494B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、位置合わせマークを電子ビームで走
査してマークの中心位置を検出するマーク位置検
出装置の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an improvement in a mark position detection device that detects the center position of a mark by scanning the alignment mark with an electron beam.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

近時、半導体ウエハやマスク基板等の試料に微
細パターンを形成するものとして各種の電子ビー
ム露光装置が用いられているが、この装置では精
度良い露光を可能とするため試料の高精度な位置
合わせが必要となる。このため、試料、カセツト
或いは試料台等に位置合わせ用マークを設け、こ
のマークを電子ビームで走査して得られる反射電
子、2次電子或いは吸収電子等に基づいてマーク
位置を検出し、これにより試料の位置合わせを行
うようにしている。
Recently, various types of electron beam exposure equipment have been used to form fine patterns on specimens such as semiconductor wafers and mask substrates, but these equipment require highly accurate positioning of the specimen to enable precise exposure. Is required. For this purpose, alignment marks are provided on the sample, cassette, sample stage, etc., and the mark position is detected based on reflected electrons, secondary electrons, or absorbed electrons obtained by scanning this mark with an electron beam. I try to align the sample.

ところで、上記マーク位置の検出に用いられる
マーク位置検出装置として、最近次の(1)(2)に示す
手法を利用したものが考案されている。
By the way, as a mark position detection device used for detecting the mark position, one that utilizes the following methods (1) and (2) has recently been devised.

(1) マークからの反射電子を検出して得られるマ
ーク信号のピークと基準値とから、マーク部が
2値信号の「1」を得るようなレベルでマーク
信号を2値化し、2値信号の「1」と電子ビー
ムの走査位置とから1次モーメントを算出して
マークの中心位置を求める手法。
(1) From the peak of the mark signal obtained by detecting the reflected electrons from the mark and the reference value, the mark signal is binarized at a level such that the mark part obtains a binary signal of "1", and a binary signal is generated. A method of determining the center position of the mark by calculating the first moment from ``1'' and the scanning position of the electron beam.

(2) マーク信号をA/D変換して記憶回路に記憶
すると共に、複数回の電子ビーム走査を行いマ
ーク信号のA/D変換値を平均加算し、ノイズ
成分を除去する。かくして得られたマーク波形
のP・P値(Poak to Peak)からスライスレ
ベルを求め、そのスライスレベル以上のマーク
波形のA/D変換値と電子ビームの走査位置と
から1次モーメントを算出してマークの中心位
置を求める手法。
(2) The mark signal is A/D converted and stored in a storage circuit, and the electron beam is scanned a plurality of times to average the A/D converted values of the mark signal and remove noise components. The slice level is determined from the P·P value (Poak to Peak) of the mark waveform thus obtained, and the first moment is calculated from the A/D conversion value of the mark waveform above the slice level and the scanning position of the electron beam. A method to find the center position of a mark.

しかしながら、この種の手法を用いたマーク位
置検出装置にあつては次のような問題があつた。
すなわち、前記第1の手法では、マーク信号の一
部しか利用していないため、マーク中心位置の検
出精度が劣る。また、前記第2の手法では、A/
D変換したマーク波形を平均加算するために多大
な時間を要し、かつそのための記憶回路が必要と
なりコスト高を招く等の問題があつた。
However, the mark position detection device using this type of method has the following problems.
That is, in the first method, since only a part of the mark signal is used, the detection accuracy of the mark center position is poor. Furthermore, in the second method, A/
It takes a lot of time to average and add the D-converted mark waveforms, and a storage circuit is required for this purpose, which causes problems such as increased costs.

そこで本発明者等は、位置合わせ用マークを電
子ビームで走査して得られる反射電子、2次電子
或いは吸収電子を電子検出器で検出し、この検出
信号の微分波形を所定の振幅閾値XOでスライス
し、閾値XO以上の微分波形の時系列が所定の連
続時系列閾値GO以上連続している場所をマーク
端と判定し、このときの上記検出信号の振幅値
XAを記憶し、該振幅値XAより大きな検出信号の
振幅値と電子ビームの走査位置とから1次モーメ
ントを算出し、この算出結果をマークの中心位置
として検出するマーク位置検出装置を提案した。
Therefore, the present inventors used an electron detector to detect reflected electrons, secondary electrons, or absorbed electrons obtained by scanning alignment marks with an electron beam, and set the differential waveform of this detection signal to a predetermined amplitude threshold X O The place where the time series of the differential waveform of the threshold value X O or more is continuous for a predetermined continuous time series threshold G O or more is determined to be the mark end, and the amplitude value of the above detection signal at this time is determined as the mark end.
We propose a mark position detection device that stores X A , calculates the first moment from the amplitude value of a detection signal larger than the amplitude value X A and the scanning position of the electron beam, and detects this calculation result as the center position of the mark. did.

この提案によれば、マーク信号全体の情報を無
駄なく利用でき、マーク中心位置の検出を精度良
く行うことができる。また、平均加算する必要が
なく、そのためのメモリが不要となり、さらに平
均加算のための時間も不要となる。しかも、電子
ビーム走査と同時に計算するようにしているの
で、マーク中心位置検出のための時間を短縮化し
得る等の利点がある。
According to this proposal, the information of the entire mark signal can be used without waste, and the mark center position can be detected with high accuracy. Further, there is no need to perform average addition, no memory is required for this purpose, and furthermore, no time is required for average addition. Furthermore, since the calculation is performed simultaneously with the electron beam scanning, there are advantages such as the time required to detect the mark center position can be shortened.

しかしながら、このような装置にあつては1次
モーメントの計算範囲を決定するのに複雑な回路
が必要となり、装置構成の複雑化を招いた。ま
た、ノイズの影響を受け易く、ノイズによりマー
ク位置検出精度が低下する等の問題を招いた。
However, in such a device, a complicated circuit is required to determine the calculation range of the first moment, resulting in a complicated device configuration. In addition, it is susceptible to the influence of noise, leading to problems such as a decrease in mark position detection accuracy due to noise.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、ノイズの影響を減らすことが
でき、マーク位置検出精度の向上をはかり得るマ
ーク位置検出装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a mark position detection device that can reduce the influence of noise and improve mark position detection accuracy.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の骨子は、A/D変換されたマーク信号
を一定期間累積加算してノイズの影響を低減し、
累積加算した値の信号分布から1次モーメントを
計算することにある。
The gist of the present invention is to cumulatively add A/D converted mark signals for a certain period of time to reduce the influence of noise,
The purpose is to calculate the first moment from the signal distribution of cumulatively added values.

すなわち本発明は、位置合わせマークの中心位
置を検出するマーク位置検出装置において、マー
クを電子ビームで走査し該走査による反射電子、
2次電子或いは吸収電子を検出してマーク信号を
得、このマーク信号をA/D変換し、このA/D
変換されたマーク信号を一定期間累積加算すると
共にその計算領域を1つずつシフトし、上記累積
加算により得られた信号分布の所定値以上と電子
ビームの走査位置とから1次モーメントを求める
ようにしたものである。
That is, the present invention provides a mark position detection device for detecting the center position of an alignment mark, in which the mark is scanned with an electron beam and reflected electrons due to the scanning are detected.
Secondary electrons or absorbed electrons are detected to obtain a mark signal, this mark signal is A/D converted, and this A/D
The converted mark signals are cumulatively added for a certain period of time, and the calculation area is shifted one by one, and the first moment is calculated from a predetermined value or more of the signal distribution obtained by the cumulative addition and the scanning position of the electron beam. This is what I did.

〔発明の効果〕 本発明によれば、A/D変換されたマーク信号
を一定期間累積加算しているので、ノイズによる
影響を著しく少なくすることができる。このた
め、ノイズによる検出誤差をなくし、マーク位置
検出精度の向上をはかり得る。また、1次モーメ
ントの計算範囲を決定する複雑な回路を必要とす
ることなく、各種の演算器を用いることでマーク
の中心位置を検出することができる。このため、
装置構成の簡略化をはかり得る等の効果を奏す
る。
[Effects of the Invention] According to the present invention, since A/D converted mark signals are cumulatively added over a certain period of time, the influence of noise can be significantly reduced. Therefore, detection errors due to noise can be eliminated and mark position detection accuracy can be improved. Furthermore, the center position of the mark can be detected by using various arithmetic units without requiring a complicated circuit to determine the calculation range of the first moment. For this reason,
This has effects such as simplifying the device configuration.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第1図は本発明の一実施例の概略構成を示すブ
ロツク図である。図中1は位置合わせ用マークで
あり、このマーク1を電子ビーム2で走査したと
きに得られるマーク1からの反射電子は、反射電
子検出器3にて検出される。ここで、反射電子検
出器3の検出信号(マーク信号)4は、第2図に
示す如く電子ビーム2がマーク1を横切るときそ
の振幅が大きいものとなる。マーク信号4はアナ
ログ・デジタル・コンバータ(以下A/Dと略記
する)5に供給され、デジタル信号に変換され
る。そして、この変換出力は直接減算器6に供給
されると共に、遅延回路(以下DLと略記する)
7を介して一定期間dOだけ遅延されて上記減算器
6に供給される。減算器6ではA/D5の出力か
らDL7の出力が減算され、この減算出力は累積
加算器8に供給されている。累積加算器8では上
記減算出力が累積加算され、この累積加算出力は
1次モーメント計算回路9及び1次モーメント設
定器10に供給されている。1次モーメント計算
回路9は上記累積加算出力の信号分布の上記1次
モーメント設定器10に設定した値以上と前記電
子ビームの走査位置を示す信号Xとに基づいて、
上記信号分布の1次モーメントを求めるものであ
り、その出力は減算器11に供給されている。減
算器11では上記出力(1次モーメント値)から
前記DL7の遅延期間dOの1/2に相当するビー
ム走査距離d/2が減算され、この減算結果がマ
ーク信号4の中心位置情報として出力されるもの
となつている。
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a positioning mark, and reflected electrons from the mark 1 obtained when the mark 1 is scanned by an electron beam 2 are detected by a reflected electron detector 3. Here, the detection signal (mark signal) 4 of the backscattered electron detector 3 has a large amplitude when the electron beam 2 crosses the mark 1 as shown in FIG. The mark signal 4 is supplied to an analog-to-digital converter (hereinafter abbreviated as A/D) 5 and converted into a digital signal. This conversion output is directly supplied to the subtracter 6, and is also supplied to a delay circuit (hereinafter abbreviated as DL).
7, the signal is delayed by a certain period of time d O and is supplied to the subtracter 6. The subtracter 6 subtracts the output of the DL7 from the output of the A/D5, and this subtracted output is supplied to the cumulative adder 8. The cumulative adder 8 cumulatively adds the subtracted output, and this cumulative addition output is supplied to the first-order moment calculation circuit 9 and the first-order moment setter 10. The first-order moment calculation circuit 9 calculates, based on the signal distribution of the cumulative addition output equal to or higher than the value set in the first-order moment setter 10 and the signal X indicating the scanning position of the electron beam,
The first moment of the signal distribution is determined, and its output is supplied to the subtracter 11. The subtracter 11 subtracts the beam scanning distance d/2 corresponding to 1/2 of the delay period d O of the DL 7 from the above output (first moment value), and this subtraction result is output as the center position information of the mark signal 4. It has become something that is done.

なお、前記1次モーメント計算回路9は、例え
ば第3図に示す如く乗算器21、除算器22及び
累積加算器23,24から構成されている。そし
て、前記累積加算器8の出力信号をaとしたとき
(Σa・x/Σa)を計算し、マーク信号4の重みづ
けした中心位置を求めるものとなつている。
The first-order moment calculation circuit 9 is composed of a multiplier 21, a divider 22, and cumulative adders 23 and 24, as shown in FIG. 3, for example. Then, when the output signal of the cumulative adder 8 is a, (Σa·x/Σa) is calculated, and the weighted center position of the mark signal 4 is determined.

このように構成された本装置の作用について第
4図を参照して説明する。
The operation of the apparatus thus constructed will be explained with reference to FIG. 4.

まず、前記A/D5の出力をA〔i〕、最初のビ
ーム位置から前記DL7の遅延期間dOに相当する
時間経過したのちのビーム位置をdとすると、累
積加算器8の上記期間dOにおける加算出力B〔i〕
は次のように計算される。ただし、i= 1,
2,…,N(i:電子ビーム位置)とする。
First, if the output of the A/D 5 is A[i] and the beam position after a time corresponding to the delay period d O of the DL 7 has elapsed from the initial beam position is d, then the cumulative adder 8 outputs the above period d O Addition output B[i] at
is calculated as follows. However, i=1,
2,...,N (i: electron beam position).

A〔1〕+A〔2〕+……+A〔d〕→B〔d〕 A〔2〕+A〔3〕+……+A〔d+1〕 =B〔d〕−A〔1〕+A〔d+1〕→B〔d+1〕 〜 A〔n+1〕+A〔n+2〕+……+A〔d+n〕 =B〔d+n−1〕−A〔n〕 +A〔d+n〕→B〔d+n〕 ただし、n=0,1,2,……である。 A [1] + A [2] + ... + A [d] → B [d] A[2]+A[3]+...+A[d+1] =B[d]-A[1]+A[d+1]→B[d+1] ~ A[n+1]+A[n+2]+...+A[d+n] =B[d+n-1]-A[n] +A [d+n] → B [d+n] However, n=0, 1, 2, . . . .

減算器6はi=d+1番目から A〔i〕−A〔i−d〕 を計算する。累積加算器8はi<d+1の場合、
A〔i〕を累積加算する。i≧d+1の場合、減
算器6の出力がA〔i〕−A〔i−d〕となり、前
に計算された累積加算値にこれを加算することに
より、期間dOの累積加算値B〔i〕がビーム走査
と連続的に計算される。1次モーメント設定器1
0に設定された値をCとすると B〔i〕≧C の条件で1次モーメント計算回路9により、電子
ビーム位置Xと上記累積加算値B〔i〕の信号分
布とに基づき1次モーメントが計算される。ここ
で、最初の累積加算値B〔d〕はA〔d〕のデータ
を取り込んでから行われる。累積加算値B〔d〕
が計算されるとき電子ビームの位置はdにある。
累積加算値B〔d〕は電子ビームの位置がd/2
のときの値であるから、1次モーメント計算回路
9の出力Mをd/2だけ減算器11で減算した値
がマーク信号の中心位置となる。
The subtracter 6 calculates A[i]-A[i-d] from i=d+1st. If i<d+1, the cumulative adder 8
A[i] is cumulatively added. In the case of i≧d+1, the output of the subtractor 6 becomes A[i]-A[i-d], and by adding this to the previously calculated cumulative addition value, the cumulative addition value B[ of the period d O i] is calculated continuously with the beam scanning. Primary moment setter 1
If the value set to 0 is C, the first moment calculation circuit 9 calculates the first moment based on the electron beam position X and the signal distribution of the cumulative addition value B[i] under the condition of B[i]≧C. calculated. Here, the first cumulative addition value B[d] is performed after taking in the data of A[d]. Cumulative addition value B [d]
When is calculated, the position of the electron beam is at d.
The cumulative addition value B [d] is when the electron beam position is d/2
Therefore, the value obtained by subtracting the output M of the first-order moment calculation circuit 9 by d/2 by the subtracter 11 becomes the center position of the mark signal.

かくして減算器11の出力からマーク信号の中
心位置が検出されることになる。なお、マーク1
の中心位置を求めるには、前記マーク1上のビー
ム走査を少なくともX方向で2回行いマーク1の
Y方向中心線を求め、さらにビーム走査を少なく
ともY方向で2回行いX方向中心線を求め、これ
ら各中心線の交点座標を求めればよい。
In this way, the center position of the mark signal is detected from the output of the subtracter 11. In addition, mark 1
To find the center position of mark 1, scan the mark 1 with the beam at least twice in the X direction to find the center line of mark 1 in the Y direction, and then scan the mark 1 at least twice in the Y direction to find the center line in the X direction. , the coordinates of the intersection of these center lines can be found.

このように本装置によれば、A/D5によりデ
ジタル化されたマーク信号を減算器6、DL7及
び累積加算器8により一定期間dで累積加算して
いるので、上記マーク信号のノイズ成分を減少さ
せることができる。そして、ノイズ成分の少ない
上記累積加算値から得られる信号分布の所定値C
以上の1次モーメントを計算してマーク信号の中
心位置を求めているので、マーク位置検出精度の
向上をはかり得る。また、1次モーメントの計算
範囲を決定する複雑な回路を必要とすることな
く、各種の演算器を用いるのみでマーク中心位置
を検出できるので、装置構成の簡略化をはかり得
る。
In this way, according to this device, the mark signal digitized by the A/D 5 is cumulatively added by the subtracter 6, the DL 7, and the cumulative adder 8 for a certain period of time d, so that the noise component of the mark signal is reduced. can be done. Then, a predetermined value C of the signal distribution obtained from the cumulative addition value with few noise components.
Since the center position of the mark signal is determined by calculating the above-mentioned first order moment, it is possible to improve the mark position detection accuracy. Furthermore, the mark center position can be detected simply by using various arithmetic units without requiring a complicated circuit for determining the calculation range of the first moment, so that the apparatus configuration can be simplified.

なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、前記反射電子検出器の代り
には、マークを電子ビームで走査したときに得ら
れる2次電子或いは吸収電子を検出するものを用
いてもよい。また、前記累積加算値B〔i〕を前
記遅延期間dOに相当する累積回数(=d)で除算
し、1次モーメントの計算桁数を少なくして周辺
回路の簡素化をはかることも可能である。さら
に、累積回数を2のn乗に設定すれば、除算は累
積加算出力をn乗分だけシフトすればよい。ま
た、前記遅延回路7の遅延期間dOは、マークの幅
やビーム走査速度等の条件に応じて適宜定めれば
よい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で、種々変形して実施することができる。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, instead of the reflected electron detector, one that detects secondary electrons or absorbed electrons obtained when a mark is scanned with an electron beam may be used. Furthermore, it is also possible to simplify the peripheral circuit by dividing the cumulative addition value B[i] by the cumulative number of times (=d) corresponding to the delay period d O to reduce the number of digits in calculating the first moment. It is. Furthermore, if the number of accumulations is set to the nth power of 2, the division may be performed by shifting the cumulative addition output by the nth power. Further, the delay period d O of the delay circuit 7 may be determined as appropriate depending on conditions such as the width of the mark and the beam scanning speed. In addition, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す概略構成図、
第2図は上記実施例に係わるビーム走査とマーク
信号波形との関係を示す模式図、第3図は上記実
施例の要部構成を示すブロツク図、第4図は上記
実施例の作用を説明するためのものでマーク信号
波形と累積加算による信号分布との関係を示す模
式図である。 1…マーク、2…電子ビーム、3…反射電子検
出器、4…マーク信号、5…アナログ・デジタ
ル・コンバータ(A/D)、6…減算器、7…遅
延回路(D/L)、8…累積加算器、9…1次モ
ーメント計算回路、10…1次モーメント設定
器、11…減算器。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a schematic diagram showing the relationship between beam scanning and mark signal waveforms according to the above embodiment, FIG. 3 is a block diagram showing the main structure of the above embodiment, and FIG. 4 explains the operation of the above embodiment. FIG. 3 is a schematic diagram showing the relationship between a mark signal waveform and a signal distribution obtained by cumulative addition. 1... Mark, 2... Electron beam, 3... Backscattered electron detector, 4... Mark signal, 5... Analog-to-digital converter (A/D), 6... Subtractor, 7... Delay circuit (D/L), 8 ...cumulative adder, 9...first-order moment calculation circuit, 10...first-order moment setter, 11...subtractor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 位置検出に供されるマークを電子ビームで走
査し該走査による反射電子、2次電子或いは吸収
電子を検出してマーク信号を得る手段と、上記マ
ーク信号をアナログ・デジタル変換する手段と、
上記アナログ・デジタル変換されたマーク信号を
一定期間累積加算すると共にその計算領域を1つ
ずつシフトする手段と、この手段により得られた
信号分布の所定値以上と前記電子ビームの走査位
置とに基づいて1次モーメントを求める手段とを
具備してなることを特徴とするマーク位置検出装
置。
1. means for scanning a mark used for position detection with an electron beam and detecting reflected electrons, secondary electrons, or absorbed electrons resulting from the scanning to obtain a mark signal; and means for converting the mark signal from analog to digital;
means for accumulatively adding the analog-to-digital converted mark signals for a certain period of time and shifting the calculation area one by one; and based on the signal distribution obtained by the means exceeding a predetermined value and the scanning position of the electron beam. 1. A mark position detecting device comprising: means for determining a first moment.
JP57206631A 1982-11-25 1982-11-25 Device for detection of marking position Granted JPS5996725A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57206631A JPS5996725A (en) 1982-11-25 1982-11-25 Device for detection of marking position

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57206631A JPS5996725A (en) 1982-11-25 1982-11-25 Device for detection of marking position

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5996725A JPS5996725A (en) 1984-06-04
JPH041494B2 true JPH041494B2 (en) 1992-01-13

Family

ID=16526558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57206631A Granted JPS5996725A (en) 1982-11-25 1982-11-25 Device for detection of marking position

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5996725A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62229939A (en) * 1986-03-31 1987-10-08 Advantest Corp Mark-position detecting circuit in electric-charged-particle-beam exposure device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5996725A (en) 1984-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH041494B2 (en)
JPH0645941A (en) Inspection equipment
JPH029281B2 (en)
JPH05296754A (en) Edge detection method
JPH0656293B2 (en) Defect detection method
JP2755885B2 (en) Method for detecting the position of a light beam incident on a CCD
JPS6233735B2 (en)
JPH0363213B2 (en)
JPH058498Y2 (en)
JP2000292127A (en) Object shape measurement method
JPH0261133B2 (en)
JPS58223326A (en) Measuring device for mark width
JPS61225604A (en) Dimension measurement apparatus
JPH0554605B2 (en)
JPH11142109A (en) Three-dimensional measuring device and three-dimensional measuring method
JPS641857B2 (en)
JPH0423419B2 (en)
SU1619198A1 (en) Device for measuring modulus of gain ratio of four-terminal networks
JPH052111B2 (en)
JP3240175B2 (en) Speckle length meter
JP2758979B2 (en) Mark position detection method
JP2639276B2 (en) Signal waveform peak value detection method
KR820002144B1 (en) Method of detecting flaws on surfaces
CN118089582A (en) Profile measurement equipment, profile measurement device and measurement method
JPH05273349A (en) Signal processor for laser doppler speed meter