JPH0419918B2 - - Google Patents
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- JPH0419918B2 JPH0419918B2 JP22471086A JP22471086A JPH0419918B2 JP H0419918 B2 JPH0419918 B2 JP H0419918B2 JP 22471086 A JP22471086 A JP 22471086A JP 22471086 A JP22471086 A JP 22471086A JP H0419918 B2 JPH0419918 B2 JP H0419918B2
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- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気デイスク用基板や光デイスク用
基板などのように、中心穴を備えたデイスク形の
ワークの洗浄に好適な洗浄装置に関するものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a cleaning device suitable for cleaning a disk-shaped workpiece having a center hole, such as a magnetic disk substrate or an optical disk substrate. It is.
[従来の技術]
近年、コンピユータやオーデイオ機器などの発
達と共に磁気デイスクや光デイスクの需要が急速
に増大し、それに伴つて高品質の磁気デイスクや
光デイスク用の基板を安定供給することが要求さ
れるようになつた。[Prior Art] In recent years, with the development of computers and audio equipment, the demand for magnetic disks and optical disks has rapidly increased, and with this, there has been a demand for a stable supply of high-quality magnetic disk and optical disk substrates. I started to do that.
例えば光デイスク用の合成樹脂基板は、射出成
形により製造されたあと、付着した油分や切粉な
どの汚れを除去するために洗浄されるが、記憶容
量が大きいため、僅かな汚れがあつてもそれが性
能に著しく悪影響を及ぼし、製品として不適切な
ものとなつてしまう。従つて、その洗浄に当つて
は、洗浄精度を高めてより高い清浄度に保つこと
が必要であり、そのためには、基板の両面を均質
に洗浄して洗浄むらをなくすことが必要であるこ
とはもちろんであるが、洗浄後の乾燥を迅速且つ
確実に行うことも非常に重要である。即ち、乾燥
が迅速且つ確実に行われない場合には、洗浄液が
長時間付着したり流れたりした部分がしみとして
残り易く、このしみがデイスクの性能を低下させ
るばかりでなく、外観も悪くして商品価値を著し
く低下させることになる。 For example, after synthetic resin substrates for optical disks are manufactured by injection molding, they are cleaned to remove dirt such as oil and chips, but because of their large storage capacity, even the slightest dirt can be removed. This has a significant negative effect on performance and makes the product unsuitable. Therefore, when cleaning, it is necessary to improve the cleaning accuracy and maintain a higher level of cleanliness, and for this purpose, it is necessary to uniformly clean both sides of the substrate to eliminate cleaning unevenness. Of course, it is also very important to quickly and reliably dry the product after washing. In other words, if drying is not carried out quickly and reliably, the areas where the cleaning liquid has adhered or flowed for a long time tend to remain as stains, and these stains not only reduce the performance of the disk but also deteriorate its appearance. This will significantly reduce the product value.
[発明が解決しようとする問題点]
本発明の課題は、洗浄が終つたワークの乾燥を
迅速且つ確実に行うことのできる洗浄装置を提供
することにある。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide a cleaning device that can quickly and reliably dry a workpiece that has been cleaned.
[問題点を解決するための手段]
上記課題を解決するため、本発明における洗浄
装置は、デイスク形のワークを洗浄する洗浄部
と、洗浄されたワークを乾燥させる乾燥部とを備
えた洗浄装置において、上記洗浄部と乾燥部との
間に洗浄が終つたワークの中心付近に付着した水
分を拭き取るための拭取り機構を設けると共に、
乾燥部に、ワークを高速回転させて水切り乾燥さ
せるための支持回転軸を設けたことを特徴とする
ものである。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, a cleaning device according to the present invention includes a cleaning section that cleans a disk-shaped workpiece, and a drying section that dries the cleaned workpiece. A wiping mechanism is provided between the cleaning section and the drying section for wiping off moisture adhering to the vicinity of the center of the workpiece after cleaning, and
The drying section is characterized by providing a support rotating shaft for rotating the workpiece at high speed to drain and dry the workpiece.
[作用]
洗浄の終つたワークは、その中心付近に付着し
た洗浄液などの水分が拭取り機構により拭き取ら
れ、その後で、乾燥部における支持回転軸により
高速回転され、付着した水分が吹き飛ばされるこ
とによつて乾燥される。[Function] After cleaning, the workpiece is wiped off by the wiping mechanism to remove moisture from the cleaning liquid that has adhered to the vicinity of its center, and is then rotated at high speed by the support rotating shaft in the drying section to blow off the adhered moisture. dried by
このとき、中心付近の水分が予め拭き取られて
いるので、この水分が回転によりワークの表面を
伝つて外方へ飛散することがなく、拭き取りを行
わない場合に比べてしみ等の発生する確率は非常
に小さい。しかも、ワークを高速回転させて水切
りと乾燥とを行うようにしているため、加熱によ
る乾燥などに比べて乾燥が非常に速く、且つ確実
である。 At this time, since the moisture near the center has been wiped off in advance, this moisture does not travel along the surface of the workpiece due to rotation and scatter outward, making it more likely that stains will occur than when wiping is not performed. is very small. Moreover, since the workpiece is rotated at high speed for draining and drying, the drying is much faster and more reliable than drying by heating.
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.
第1図及び第2図に示す洗浄装置は、工程の増
減や組み替え等を行うことのできるユニツト形と
して構成した場合を例示するもので、未洗浄ワー
ク1を供給する供給ユニツト2と、供給されたワ
ーク1をブラシにより洗浄する第1及び第2の洗
浄ユニツト3,4、ブラシ洗浄後のワーク1の仕
上げ洗浄と乾燥とを行う乾燥ユニツト5、及び乾
燥後のワーク1を取出し収納する取出ユニツト6
からなつており、これらの各ユニツト2〜6が、
それらの工程中心間距離aが等しくなるよう横一
列に配列されて分離可能に連結されている。 The cleaning apparatus shown in FIGS. 1 and 2 is an example of a case in which it is configured as a unit that can increase or decrease the number of processes and rearrange the parts. A first and second cleaning unit 3, 4 that cleans the workpiece 1 with a brush, a drying unit 5 that performs final cleaning and drying of the workpiece 1 after brush cleaning, and a take-out unit that takes out and stores the workpiece 1 after drying. 6
Each of these units 2 to 6 consists of
They are arranged in a horizontal line and separably connected so that the distance a between their process centers is equal.
上記供給ユニツト2は、図示しない移送手段に
よつてローデイング位置に搬入された容器10内
に竪向きに収容されているワーク1の中心穴1a
内に挿入係合し、該ワーク1を1枚ずつ持上げる
上下動自在の持上げアーム11と、ガイド14に
沿つて前後進自在の基台15上に互いに開閉自在
に取付けられ、上記持上げアーム11で持上げら
れたワーク1の外周面を挟持する2つの溝付きロ
ーラ形の挟持片13,13を備えた上下一対の供
給アーム12,12と、該供給アーム12,12
の前方に設けられ、該供給アーム12,12から
のワーク1を受取つて隣の第1洗浄ユニツト3に
搬送する搬送体16と、該搬送体16の移動を案
内するレール部材17とを備えている。 The supply unit 2 has a center hole 1a of a workpiece 1 which is vertically housed in a container 10 which is carried to a loading position by a transport means (not shown).
A lifting arm 11 that is vertically movable to lift the workpieces 1 one by one, and a lifting arm 11 that is attached to a base 15 that can be freely moved back and forth along a guide 14 so as to be openable and closable from each other. A pair of upper and lower supply arms 12, 12 equipped with two grooved roller-shaped clamping pieces 13, 13 that clamp the outer peripheral surface of the workpiece 1 lifted by the
A conveying body 16 is provided in front of the supply arm 12 and receives the workpiece 1 from the supply arms 12 and conveys it to the adjacent first cleaning unit 3, and a rail member 17 guides the movement of the conveying body 16. There is.
上記搬送体16は、第4図からも分るように、
レール部材17上に移動自在に取付けられた台板
18上に、左右一対の挟持アーム21,21をそ
の基端を支点として接離方向へ回動自在に立設
し、これらの挟持アーム21,21にそれぞれ2
つの溝付きローラ形の挟持片22,22を取付け
たもので、上記挟持アーム21,21を回動させ
ることによつてそれらの挟持片22,22間にワ
ーク1の外周を挟持するようになつている。而し
て、供給アーム12,12からのワーク1を挟持
アーム21,21が受取る場合には、第5図に示
すように、挟持アーム21,21における挟持片
22,22は左右方向から、供給アーム12,1
2における挟持片13,13は上下方向からそれ
ぞれワーク1を挟持するため、それらの挟持位置
が競合することはない。 As can be seen from FIG. 4, the carrier 16 is
On a base plate 18 movably mounted on the rail member 17, a pair of left and right clamping arms 21, 21 are erected so as to be rotatable in the approaching and separating directions with their base ends as fulcrums, and these clamping arms 21, 2 each on 21
Two grooved roller-shaped clamping pieces 22, 22 are attached, and by rotating the clamping arms 21, 21, the outer periphery of the workpiece 1 can be clamped between these clamping pieces 22, 22. ing. When the clamping arms 21, 21 receive the workpiece 1 from the supply arms 12, 12, as shown in FIG. Arm 12,1
Since the clamping pieces 13 and 13 in 2 clamp the workpiece 1 from above and below, respectively, their clamping positions do not compete with each other.
また、上記レール部材17は、供給ユニツト2
における第1洗浄ユニツト3側の端部にまで延設
され、該第1洗浄ユニツト3を接続したときにそ
のレール部材36と相互に連結できるようになつ
ている。 Further, the rail member 17 is connected to the supply unit 2
It extends to the end on the first cleaning unit 3 side, and can be interconnected with the rail member 36 when the first cleaning unit 3 is connected.
上記供給ユニツト2に隣接して設けられた第1
洗浄ユニツト3は、洗剤を使用してワーク1の洗
浄を行うもので、第3図に具体的に示すように、
自動開閉する扉30aを前面に備えた洗浄室30
を有し、この洗浄室30内に、ワーク1を竪向き
に支持して回転させる支持回転軸31と、ワーク
1を洗浄するブラシ機構32と、洗浄部位に洗浄
液を供給する洗浄液供給ノズル33,33(第6
図)と、上記支持回転軸31との間でワーク1の
受渡しを行う受渡しアーム34,34とを配設す
ると共に、洗浄室30の前方に、ワーク1を搬送
する搬送体35と、該搬送体35の移動を案内す
るレール部材36とを配設してなるものである。 A first unit provided adjacent to the supply unit 2
The cleaning unit 3 cleans the workpiece 1 using detergent, and as specifically shown in FIG.
Washing room 30 equipped with a door 30a that opens and closes automatically in the front
In the cleaning chamber 30, there are provided a support rotating shaft 31 for vertically supporting and rotating the workpiece 1, a brush mechanism 32 for cleaning the workpiece 1, and a cleaning liquid supply nozzle 33 for supplying cleaning liquid to the cleaning area. 33 (6th
In addition, in front of the cleaning chamber 30, a transport body 35 for transporting the work 1 and a transport body 35 for transporting the work 1 are provided in front of the cleaning chamber 30. A rail member 36 for guiding the movement of the body 35 is provided.
上記支持回転軸31は、洗浄室30の後壁30
bに軸受部材37により水平に支承され、該支持
回転軸31の後端部は、洗浄室30の背後に区画
形成された駆動室38内に突出せしめられ、ベル
ト39によつてモータ40に連結されている。ま
た、該支持回転軸31の先端には、第6図から明
らかなように、複数の爪41aを該回転軸31の
径方向に拡縮自在としたチヤツク部41が形成さ
れ、該チヤツク部41をワーク1の中心穴1a内
に挿入して拡開させることにより、該ワーク1の
支持が行われるようになつている。 The support rotation shaft 31 is connected to the rear wall 30 of the cleaning chamber 30.
b is horizontally supported by a bearing member 37, and the rear end of the support rotating shaft 31 projects into a drive chamber 38 defined behind the cleaning chamber 30, and is connected to a motor 40 by a belt 39. has been done. Further, as is clear from FIG. 6, a chuck portion 41 having a plurality of claws 41a that can be expanded and contracted in the radial direction of the rotary shaft 31 is formed at the tip of the support rotary shaft 31. The workpiece 1 is supported by being inserted into the center hole 1a of the workpiece 1 and expanded.
一方、上記ブラシ機構32は、第3図から明ら
かなように、洗浄室30内に枢軸44を中心にし
て洗浄位置と待機位置とに回動自在に支持アーム
45を設け、この支持アーム45の先端の支軸4
7に、一対のブラシアーム48,48を該支軸4
7を中心に揺動自在且つ互いに接離方向に移動自
在に取付け、これらのブラシアーム48,48に
それぞれ円板形のブラシ50,50を回転自在に
取付けたもので、上記一対のブラシアーム48,
48の揺動及び接離方向への移動は、支持アーム
45に取付けられた図示しない駆動手段により行
われるようになつており、また、上記ブラシ5
0,50の駆動回転は、上記支軸47を貫通する
駆動軸51により、歯車52a〜52cを介して
行われるようになつている。 On the other hand, as is clear from FIG. 3, the brush mechanism 32 has a support arm 45 provided in the cleaning chamber 30 so as to be rotatable about a pivot 44 between a cleaning position and a standby position. Tip support shaft 4
7, the pair of brush arms 48, 48 are attached to the support shaft 4.
The pair of brush arms 48 and 48 have disk-shaped brushes 50 and 50 rotatably attached to these brush arms 48 and 48, respectively. ,
The swinging and movement of the brush 5 in the approaching and separating directions are performed by a drive means (not shown) attached to the support arm 45.
The drive rotation of 0 and 50 is performed by a drive shaft 51 passing through the support shaft 47 via gears 52a to 52c.
従つて、ブラシアーム48,48を移動させて
2つのブラシ50,50間にワーク1を挟持さ
せ、該ブラシ50,50の回転と支軸47を中心
とするブラシアーム48,48の揺動とを生じさ
せることにより、上記ワーク1の洗浄が行われ
る。 Therefore, the brush arms 48, 48 are moved to sandwich the workpiece 1 between the two brushes 50, 50, and the rotation of the brushes 50, 50 and the swinging of the brush arms 48, 48 about the support shaft 47 are performed. By causing this, the workpiece 1 is cleaned.
上記ブラシ50,50は、第7図に示すよう
に、基板50aの対向面にスポンジ状部材や繊維
状部材からなる多数の払拭片50bを取付けるこ
とにより構成されている。 As shown in FIG. 7, the brushes 50, 50 are constructed by attaching a large number of wiping pieces 50b made of a sponge-like member or a fibrous member to opposing surfaces of a substrate 50a.
また、上記ノズル33,33は、第6図に示す
ように、支持回転軸31に支持されたワーク1に
対してそのワーク面内の斜め上方に2個配設さ
れ、その一方から洗剤が、他方から純水が供給さ
れるようになつている。 Further, as shown in FIG. 6, two of the nozzles 33, 33 are disposed diagonally above the work surface within the work surface 1 supported by the support rotation shaft 31, and the detergent is sprayed from one of the nozzles 33, 33. Pure water is supplied from the other side.
さらに、上記受渡しアーム34,34は、第1
図及び第3図から明らかなように、支持回転軸3
1の軸線と平行に設けられたガイド杆55に支持
部材56を移動自在に取付け、この支持部材56
にそれぞれ上下動自在に取付けたもので、これら
の受渡しアーム34,34の先端には、ワーク1
の外周を挟持する2つの溝付きローラ形の挟持片
58,58がそれぞれ設けられ、上記供給アーム
12,12と同様にワーク1を上下から挟持でき
るようになつている。 Furthermore, the delivery arms 34, 34 are
As is clear from the figure and Fig. 3, the support rotation shaft 3
A support member 56 is movably attached to a guide rod 55 provided parallel to the axis of the support member 56.
The transfer arms 34, 34 each have a workpiece 1 attached to the tip thereof so as to be movable up and down.
Two grooved roller-shaped clamping pieces 58, 58 are provided to clamp the outer periphery of the workpiece 1, respectively, so that the workpiece 1 can be clamped from above and below in the same way as the supply arms 12, 12 described above.
また、上記搬送体35は、供給ユニツト2にお
ける搬送体16と実質的に同一構成を有するもの
であるから、同一部分に同一符号を付してその説
明は省略する。 Furthermore, since the conveying body 35 has substantially the same configuration as the conveying body 16 in the supply unit 2, the same parts are given the same reference numerals and the explanation thereof will be omitted.
一方、レール部材36は、その両側に位置する
供給ユニツト2及び第2洗浄ユニツト4のレール
部材17及び36と連結できるようにするため、
洗浄ユニツト3の幅と略々同じに形成されてい
る。 On the other hand, in order to enable the rail member 36 to be connected to the rail members 17 and 36 of the supply unit 2 and the second cleaning unit 4 located on both sides thereof,
It is formed to have approximately the same width as the cleaning unit 3.
また、第2洗浄ユニツト4は、純水のみを使用
してワーク1を洗浄するもので、上記第1洗浄ユ
ニツト3は、搬送体60がワーク1に付着した洗
浄液の拭取り機構61を有している点、及び、2
つの洗浄液供給ノズル33,33が、第8図に示
すように、ワーク1に対してその軸線方向の斜め
上方に配設され、その両方から純水が供給される
ようになつている点が相違するのみで、その他の
基本構成は実質的に同一である。従つて、基本構
成については同一部分に同一符号を付してその説
明を省略する。 Further, the second cleaning unit 4 cleans the workpiece 1 using only pure water, and the first cleaning unit 3 has a mechanism 61 for wiping off the cleaning liquid attached to the workpiece 1 by the carrier 60. and 2
The difference is that, as shown in FIG. 8, two cleaning liquid supply nozzles 33, 33 are arranged diagonally above the workpiece 1 in its axial direction, and pure water is supplied from both of them. However, the other basic configurations are substantially the same. Therefore, regarding the basic configuration, the same parts are given the same reference numerals and the explanation thereof will be omitted.
上記拭取り機構61は、洗浄が終了したワーク
1を次の乾燥ユニツト5に搬送する間に、ワーク
1の中心孔1aに近い部分に付着した洗浄液を拭
取るもので、第9図及び第10図に具体的に示す
ように、ワーク1の両側に配設された第1テープ
ユニツト61a及び第2テープユニツト61bか
らなつており、これらのテープユニツト61a,
61bは、台板18上に取付けられたプレート6
2a,62b上に、両端を巻取ローラ64a,6
4bと供給ローラ65a,65bとに巻掛けら
れ、且つ中間位置を複数のガイドローラ66a,
66bに巻掛けられた拭取りテープ63a,63
bを配設すると共に、該拭取りテープ63a,6
3bをワーク1に押付ける押圧子67a,67b
及びその押付用シリンダ68a,68bを配設す
ることにより構成されており、第1テープユニツ
ト61aは台板18上に固定され、第2テープユ
ニツト61bは、図示しないシリンダ等の駆動手
段によつて、第9図に示すように拭取りテープ6
3bが他方の拭取りテープ63aと相対向する拭
取り位置と、第10図に示すように拭取りテープ
63bが起立する待機位置とに回動自在に取付け
られている。そして、通常はこの待機位置に回動
保持せしめられている。なお、第2図において
は、分り易くするために第2テープユニツト61
bを拭取り位置に回動させて示しているが、実際
にこの状態では、第2テープユニツト61bは上
記待機位置にある。 The wiping mechanism 61 is for wiping off the cleaning liquid adhering to the part of the work 1 near the center hole 1a while the work 1 that has been cleaned is transported to the next drying unit 5, as shown in FIGS. 9 and 10. As specifically shown in the figure, it consists of a first tape unit 61a and a second tape unit 61b arranged on both sides of the workpiece 1, and these tape units 61a,
61b is the plate 6 mounted on the base plate 18;
2a, 62b, winding rollers 64a, 6 are placed at both ends.
4b and supply rollers 65a, 65b, and the intermediate position is wrapped around a plurality of guide rollers 66a, 65b.
Wiping tape 63a, 63 wrapped around 66b
b, and the wiping tapes 63a, 6
3b onto the workpiece 1
The first tape unit 61a is fixed on the base plate 18, and the second tape unit 61b is driven by a driving means such as a cylinder (not shown). , the wiping tape 6 as shown in FIG.
3b is rotatably attached to a wiping position where it faces the other wiping tape 63a and a standby position where the wiping tape 63b stands up as shown in FIG. Normally, it is rotatably held at this standby position. In addition, in FIG. 2, the second tape unit 61 is shown for the sake of clarity.
Although the second tape unit 61b is shown rotated to the wiping position, in reality, in this state, the second tape unit 61b is in the above-mentioned standby position.
なお、上記押圧子67a,67bの押圧面は、
ワーク1の中心穴1aや溝1b(第5図)など、
表面の凹凸形状に合わせた形状に形成しておくこ
ともできる。 Note that the pressing surfaces of the pressing elements 67a and 67b are as follows:
The center hole 1a and groove 1b (Fig. 5) of the workpiece 1, etc.
It can also be formed into a shape that matches the uneven shape of the surface.
このような拭取り機構61を搬送体60上に設
けることは、専用の拭取り機構設置空間を設ける
場合に比してスペースの節約になるばかりでな
く、ワーク1の搬送途中でその拭取りを行うこと
により、作業時間の短縮にもつながる。また、ワ
ーク1の中心孔1aに近い部分に付着した洗浄液
を拭取ることにより、次の乾燥工程で、ワークの
回転によりその中心孔1aに近い部分に付着した
洗浄液が該ワークの表面を伝つて周囲に飛散し、
しみを作るのが防止される。 Providing such a wiping mechanism 61 on the transport body 60 not only saves space compared to providing a dedicated wiping mechanism installation space, but also makes it possible to wipe the workpiece 1 while it is being transported. By doing so, it will also lead to a reduction in work time. In addition, by wiping off the cleaning liquid that has adhered to the part of the workpiece 1 near the center hole 1a, in the next drying process, the cleaning liquid that has adhered to the part of the workpiece 1 near the center hole 1a can be transferred along the surface of the workpiece due to rotation of the workpiece. scattered around,
The formation of stains is prevented.
上記第2の洗浄ユニツト4に隣接して配設され
た乾燥ユニツト5は、第1図及び第2図に示すよ
うに、他と区画された乾燥室70を有し、該乾燥
室70内にワーク1を縦向きに支持して回転させ
る支持回転軸71と、回転するワーク1の両面に
洗浄用の温純水及び冷純水を供給するための供給
ノズル72,72と、水の飛散を防止するカバー
73と、ワーク1の受渡しアーム74とが配設さ
れ、乾燥室70の前方には、搬送体75とレール
部材76とが配設されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the drying unit 5 disposed adjacent to the second cleaning unit 4 has a drying chamber 70 separated from the others. A support rotation shaft 71 that vertically supports and rotates the workpiece 1, supply nozzles 72, 72 for supplying warm pure water and cold pure water for cleaning to both sides of the rotating workpiece 1, and preventing water from scattering. A cover 73 and a transfer arm 74 for the workpiece 1 are provided, and a transport body 75 and a rail member 76 are provided in front of the drying chamber 70.
上記支持回転軸71は、上記洗浄ユニツト3,
4における支持回転軸31と同一構造を有するも
のであるから、対応部分に洗浄ユニツト3,4と
同一の符号を付してその説明は省略する。 The support rotation shaft 71 is connected to the cleaning unit 3,
Since it has the same structure as the support rotating shaft 31 in cleaning units 3 and 4, corresponding parts are given the same reference numerals as those in cleaning units 3 and 4, and a description thereof will be omitted.
また、上記供給ノズル72,72は、第11図
にも示すように、上記拭取り機構61により拭き
取りが行われた部位よりも外側の位置、即ち信号
面上の位置にワーク1の半径方向へ変移可能に配
設され、該信号面にまず温純水を、続いて冷純水
を供給して仕上げ洗浄を行うものである。この場
合、温純水用と冷純水用に別々の供給ノズルを設
けてもよい。 Further, as shown in FIG. 11, the supply nozzles 72, 72 are arranged in a radial direction of the workpiece 1 at a position outside the area wiped by the wiping mechanism 61, that is, at a position on the signal surface. It is disposed movably and performs final cleaning by first supplying hot pure water and then cold pure water to the signal surface. In this case, separate supply nozzles may be provided for warm pure water and cold pure water.
さらに、上記カバー73は、支持回転軸71の
軸線方向に移動自在に配設され、ワーク1を仕上
げ洗浄及び乾燥する際に前進してそれを被うよう
になつており、その内部には、第11図からも明
らかなように、傾斜する多数の遮蔽板78が一定
間隔で円周状に設けられ、ワーク1から四散して
カバー73に衝突した洗浄液がはね返つてワーク
1に付着するのを防止している。 Further, the cover 73 is disposed to be movable in the axial direction of the support rotating shaft 71, and moves forward to cover the workpiece 1 when finishing cleaning and drying it. As is clear from FIG. 11, a large number of inclined shielding plates 78 are provided circumferentially at regular intervals, and the cleaning liquid that scatters from the workpiece 1 and collides with the cover 73 bounces back and adheres to the workpiece 1. It prevents
また、上記受渡しアーム74及び搬送体75、
レール部材76は、第1洗浄ユニツト3のものと
実質的に同一構成を有している。 In addition, the delivery arm 74 and the transport body 75,
The rail member 76 has substantially the same construction as that of the first cleaning unit 3.
上記乾燥ユニツト5に隣接して配設された取出
ユニツト6は、乾燥されたワーク1をアンローデ
イング位置にセツトされた容器10内に順次収納
するもので、供給ユニツト2における供給アーム
12,12及び持上げアーム11と同様の構成を
有する受取アーム81,81及び収納アーム82
を備え、該受取アーム81,81の前方にレール
部材83が配設されている。 The take-out unit 6 disposed adjacent to the drying unit 5 sequentially stores the dried workpieces 1 into the container 10 set at the unloading position, and takes out the supply arms 12 and 12 of the supply unit 2. Receiving arms 81, 81 and storage arm 82 having the same configuration as the lifting arm 11
A rail member 83 is disposed in front of the receiving arms 81, 81.
而して、上記各ユニツト2〜6は、それらの工
程中心間距離aが等しくなるように構成され、ま
た、各ユニツトにおける搬送体16,35,6
0,75は、それらの間に設けられた連結部材2
3によつて上記工程中心間距離aと同じ間隔で連
結されている。そして、これらの搬送体を駆動す
るシリンダ等の駆動源84(第1図)が供給ユニ
ツト2に設けられると共に、該供給ユニツト2の
搬送体16に連結され、この駆動源84によつて
各搬送体16,35,60,75が上記工程中心
間距離aだけ同期的に往復駆動され、ワーク1を
次々に隣接するユニツトに搬送するようになつて
いる。即ち、上記連結部材23と駆動源84とに
よつて、搬送体16,35,60,75を一定間
隔で同期的に駆動するための駆動手段が構成され
ている。 Each of the units 2 to 6 is configured such that the distance a between their process centers is equal, and the transport bodies 16, 35, 6 in each unit are
0,75 is the connecting member 2 provided between them
3 at the same interval as the distance a between the process centers. A drive source 84 (FIG. 1) such as a cylinder for driving these conveyance bodies is provided in the supply unit 2 and is connected to the conveyance body 16 of the supply unit 2. The bodies 16, 35, 60, and 75 are synchronously reciprocated by the distance a between the process centers, and the workpieces 1 are successively conveyed to adjacent units. That is, the connecting member 23 and the driving source 84 constitute a driving means for driving the conveying bodies 16, 35, 60, and 75 synchronously at regular intervals.
上記搬送体の駆動手段としては、それらを電気
的に同期をとりながら駆動するタイプのものを使
用することもできる。 As the drive means for the above-mentioned conveyance bodies, it is also possible to use a type that drives them while electrically synchronizing them.
なお、図中79は、洗浄室30及び乾燥室70
にそれぞれ設けられ、各室内の塵埃を除去してそ
れらを高度の清浄状態に保持するためのクリーン
ユニツトである。このようなクリーンユニツト
は、取出ユニツト6にも同様に設けることができ
る。 In addition, 79 in the figure indicates the cleaning chamber 30 and the drying chamber 70.
This is a clean unit installed in each room to remove dust from each room and maintain them in a highly clean state. Such a clean unit can be similarly provided in the take-out unit 6.
次に、上記構成を有する洗浄装置の作用につい
て説明する。 Next, the operation of the cleaning device having the above configuration will be explained.
まず、洗浄すべきワーク1の種類や洗浄方法等
に応じて各ユニツトの数や種類、配列順序等が決
められ、それらが横一列に接続される。この接続
により、各ユニツト2〜6のレール部材17,3
6,36,76,83は一体に連結されて一本の
レールを構成し、また、各搬送体16,35,6
0,75も連結部材23により一定間隔aで一体
的に連結される。 First, the number, type, arrangement order, etc. of each unit are determined according to the type of workpiece 1 to be cleaned, the cleaning method, etc., and the units are connected in a horizontal line. With this connection, the rail members 17, 3 of each unit 2-6
6, 36, 76, 83 are integrally connected to constitute one rail, and each transport body 16, 35, 6
0 and 75 are also integrally connected by the connecting member 23 at a constant interval a.
供給ユニツト2において、持上げアーム11に
より容器10から持上げられた未洗浄ワーク1が
供給アーム12,12によつて搬送体16に渡さ
れると、このワーク1は、該搬送体16によつて
第1洗浄ユニツト3に搬送され、受渡しアーム3
4によつて支持回転軸31に供給される。このと
き、洗浄室30の扉30aは開放している。そし
て、この扉30aが閉鎖したあと、上記支持回転
軸31に保持されたワーク1は、高速で回転駆動
されながらブラシ機構32における一対のブラシ
50,50間に挟持されて洗浄液供給ノズル33
から供給される洗剤により洗浄される。このと
き、各搬送体は元の位置に復帰している。 In the supply unit 2, when the unwashed workpiece 1 lifted from the container 10 by the lifting arm 11 is transferred to the carrier 16 by the supply arms 12, 12, the workpiece 1 is transferred to the first carrier 16 by the carrier 16. It is transported to the cleaning unit 3 and transferred to the delivery arm 3.
4 to the support rotating shaft 31. At this time, the door 30a of the cleaning chamber 30 is open. After the door 30a is closed, the workpiece 1 held on the support rotating shaft 31 is held between the pair of brushes 50, 50 in the brush mechanism 32 while being rotated at high speed, and is then transferred to the cleaning liquid supply nozzle 33.
Cleaned with detergent supplied by At this time, each carrier has returned to its original position.
洗浄の終つたワーク1は、扉30aの開いた洗
浄室30から受渡しアーム34により搬出されて
搬送体35に渡されたあと、該搬送体35によつ
て次の第2洗浄ユニツト4に送られ、同様にして
純水による洗浄が行われる。 The workpiece 1 that has been cleaned is carried out by the transfer arm 34 from the cleaning chamber 30 with the door 30a open and transferred to the conveyor 35, and then sent to the next second cleaning unit 4 by the conveyor 35. , Cleaning with pure water is performed in the same manner.
純水による洗浄の終つたワーク1は、受渡しア
ーム34により搬送体60に渡されて乾燥ユニツ
ト5に送られるが、その搬送の途中で、中心穴1
aに近い部分に付着した水分が拭取り機構61に
おける2つのテープユニツト61a,61bの拭
取りテープ63a,63bによつて拭き取られ
る。即ち、上記搬送の途中で、第10図の待機位
置にあつた第2テープユニツト61bが第9図の
拭取り位置に回動し、同時に押圧シリンダ68
a,68bが作動して押圧子67a,67bを前
進させるため、拭取りテープ63a,63bがワ
ーク1に圧接して拭取りが行われる。 The workpiece 1 that has been cleaned with pure water is transferred to the conveyor 60 by the transfer arm 34 and sent to the drying unit 5. During the conveyance, the workpiece 1
Moisture adhering to the area near a is wiped off by the wiping tapes 63a and 63b of the two tape units 61a and 61b in the wiping mechanism 61. That is, during the above-mentioned conveyance, the second tape unit 61b, which was in the standby position shown in FIG. 10, is rotated to the wiping position shown in FIG.
a, 68b actuate to move the pushers 67a, 67b forward, so that the wiping tapes 63a, 63b are brought into pressure contact with the workpiece 1 to perform wiping.
そして、上記ワーク1が受渡しアーム74によ
り支持回転軸71に渡されて保持されると、カバ
ー73が前進してきてワーク1を被い、回転する
ワーク1の両面に供給ノズル72から温純水と冷
純水とが経時的に供給されて仕上げ洗浄が行わ
れ、同時に、高速回転により水分が吹飛ばされて
その乾燥が行われる。上記温純水及び冷純水は、
第11図に示すように、拭取りの行われた部分よ
り外側の部分に、ノズル72をワーク1の内側か
ら外側に向けて半径方向へ移動させながら供給さ
れ、これによつて、信号面に残留している界面活
性剤などが除去される。 When the workpiece 1 is transferred to the support rotation shaft 71 by the transfer arm 74 and held, the cover 73 moves forward and covers the workpiece 1, and the supply nozzle 72 supplies cold pure water to both sides of the rotating workpiece 1. Water is supplied over time to perform final cleaning, and at the same time, high-speed rotation blows away moisture to dry it. The above warm pure water and cold pure water are
As shown in FIG. 11, the nozzle 72 is supplied to the area outside the area where wiping has been performed while moving the nozzle 72 in the radial direction from the inside to the outside of the workpiece 1, and thereby the signal surface is Remaining surfactants and the like are removed.
上記乾燥工程においては、ワーク1の中心付近
の水分が予め拭き取られているので、それが回転
によりデイスク面を伝つて外方へ飛散することが
なく、拭き取りを行わない場合に比べてしみ等の
発生する確率は非常に小さい。しかも、ワーク1
を高速回転させて水切りと乾燥とを行うようにし
ているため、加熱による乾燥などに比べて乾燥が
非常に速く、且つ確実である。 In the drying process mentioned above, since the moisture near the center of the workpiece 1 is wiped off in advance, it does not travel along the disk surface due to rotation and scatter outward, causing stains and other problems compared to the case where wiping is not performed. The probability of this occurring is very small. Moreover, work 1
Since the water is rotated at high speed for draining and drying, the drying is much faster and more reliable than drying by heating.
而して、仕上げ洗浄と乾燥とが終つたワーク1
は、搬送体75により取出ユニツト6に送られ、
受取りアーム81,81によつて収納アーム82
に渡されたあと、容器10内に順次収納される。 Workpiece 1 has been finished with final cleaning and drying.
is sent to the take-out unit 6 by the carrier 75,
Storage arm 82 by receiving arms 81, 81
After being delivered to the container 10, they are sequentially stored in the container 10.
なお、上記一連の動作は、マイクロコンピユー
タによつて自動的に制御されるものである。 Note that the series of operations described above is automatically controlled by a microcomputer.
[発明の効果]
上記構成を有する本発明によれば、洗浄の終つ
たワークを高速回転させて水切りすると共に乾燥
させるようにしているため、その乾燥を非常に短
時間で確実に行うことができ、しかも、乾燥の前
に中心付近に付着した水分を拭き取るようにして
いるので、その部分の水分が回転によりワークの
表面を伝つて外方へ流動することがなく、水分に
よるしみの発生が抑えられる。[Effects of the Invention] According to the present invention having the above-mentioned configuration, since the workpiece that has been cleaned is rotated at high speed to drain water and dry it, it is possible to reliably dry the workpiece in a very short time. Moreover, since the moisture adhering to the center area is wiped off before drying, the moisture in that area does not flow outward along the surface of the workpiece due to rotation, and the occurrence of stains due to moisture is suppressed. It will be done.
第1図は本発明の一実施例を示す部分破断正面
図、第2図はその平断面図、第3図は第2図の部
分拡大図、第4図は搬送体の側面図、第5図はワ
ークの受渡し状態を説明するための正面図、第6
図及び第8図は洗浄液供給ノズルの配置について
の説明図、第7図はブラシの側面図、第9図及び
第10図は拭取り機構の異なる使用状態での平面
図及び正面図、第11図は乾燥室の部分拡大正面
図である。
1……ワーク、3,4……洗浄ユニツト、5…
…乾燥ユニツト、60……搬送体、61……拭取
り機構、61a,61b……拭取りユニツト、6
3a,63b……拭取りテープ、71……支持回
転軸。
FIG. 1 is a partially cutaway front view showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan sectional view thereof, FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2, FIG. 4 is a side view of the carrier, and FIG. The figure is a front view for explaining the delivery state of the workpiece.
8 are explanatory diagrams of the arrangement of the cleaning liquid supply nozzle, FIG. 7 is a side view of the brush, FIGS. 9 and 10 are plan views and front views of the wiping mechanism in different usage states, and FIG. The figure is a partially enlarged front view of the drying chamber. 1... Workpiece, 3, 4... Cleaning unit, 5...
...Drying unit, 60...Transporter, 61...Wiping mechanism, 61a, 61b...Wiping unit, 6
3a, 63b...wiping tape, 71...support rotating shaft.
Claims (1)
浄されたワークを乾燥させる乾燥部とを備えた洗
浄装置において、上記洗浄部と乾燥部との間に洗
浄が終つたワークの中心付近に付着した水分を拭
き取るための拭取り機構を設けると共に、乾燥部
に、ワークを高速回転させて水切り乾燥させるた
めの支持回転軸を設けたことを特徴とする洗浄装
置。 2 上記拭取り機構が、洗浄部から乾燥部へワー
クを搬送する搬送体上に設けられていることを特
徴とする特許請求の範囲第1頁記載の洗浄装置。 3 上記拭取り機構が、巻取り自在の拭取りテー
プを備えた2つの拭取りユニツトからなつてお
り、一方の拭取りユニツトが、拭取り位置と待機
位置とに回動自在であることを特徴とする特許請
求の範囲第1頁記載の洗浄装置。[Scope of Claims] 1. In a cleaning device equipped with a cleaning section that cleans a disk-shaped workpiece and a drying section that dries the cleaned workpiece, the workpiece that has been cleaned is placed between the cleaning section and the drying section. A cleaning device characterized by being provided with a wiping mechanism for wiping off water adhering to the vicinity of the center of the workpiece, and a support rotating shaft provided in the drying section for rotating the workpiece at high speed to drain and dry the workpiece. 2. The cleaning device according to claim 1, wherein the wiping mechanism is provided on a conveyor that conveys the workpiece from the cleaning section to the drying section. 3. The wiping mechanism is comprised of two wiping units each having a wiping tape that can be wound up, and one of the wiping units is rotatable between a wiping position and a standby position. A cleaning device according to claim 1, page 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22471086A JPS6380890A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22471086A JPS6380890A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6380890A JPS6380890A (en) | 1988-04-11 |
| JPH0419918B2 true JPH0419918B2 (en) | 1992-03-31 |
Family
ID=16818031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22471086A Granted JPS6380890A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Washer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6380890A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2597534B2 (en) * | 1994-04-13 | 1997-04-09 | 産電子工業株式会社 | Automatic cleaning and wiping device for continuous transport of various recording cards |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP22471086A patent/JPS6380890A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6380890A (en) | 1988-04-11 |
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