JPH043107B2 - - Google Patents
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- JPH043107B2 JPH043107B2 JP57076303A JP7630382A JPH043107B2 JP H043107 B2 JPH043107 B2 JP H043107B2 JP 57076303 A JP57076303 A JP 57076303A JP 7630382 A JP7630382 A JP 7630382A JP H043107 B2 JPH043107 B2 JP H043107B2
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- wafer
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W46/00—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification
- H10W46/601—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification for use after dicing
- H10W46/603—Formed on wafers or substrates before dicing and remaining on chips after dicing
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体、セラミツク等のウエハを検
査、測定、加工等するに際し、位置決めされたウ
エハ内チツプが如何なる種別であるか自動的に確
認し得るようにしたウエハ内チツプの自動種別確
認装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides an in-wafer chip that automatically confirms the type of a positioned chip in a wafer when inspecting, measuring, processing, etc. a semiconductor, ceramic, etc. wafer. This invention relates to an automatic type confirmation device.
集積回路製造において、各種処理工程を終えた
半導体ウエハの性能検査を行なう為にチツプの移
動と試験を繰り返すウエハプローバが多く使われ
ている。 In integrated circuit manufacturing, wafer probers are often used to repeatedly move and test chips in order to inspect the performance of semiconductor wafers that have undergone various processing steps.
このウエハの最終チツプ工程を担うウエハプロ
ービング工程において、ウエハの大口径化と共に
その取り扱いの確実化、省力化(自動化)のため
にウエハの自動ロード/アンロード化が進められ
ている。 In the wafer probing process, which is the final chipping process for wafers, automatic loading/unloading of wafers is being promoted in order to increase the diameter of wafers, ensure reliable handling of the wafers, and save labor (automation).
この構成においては、例えば25枚のウエハを収
納できるカセツトからウエハが順次1枚ずつベル
トコンベアによりプリアライメントステージに移
送される。そして、例えばベルヌイチヤクを使つ
てプロービングマシンのウエハチヤツクテーブル
(測定台)上に置かれる。一方、測定が終了した
ウエハは、上記ウエハチヤツクテーブルからアン
ロード位置に搬送され、ベルトコンベアにより収
納カセツトに収められる。また、プロービングマ
シンでは、ITV等のイメージセンサからの撮像
信号をデジタルパタン信号に変換し、これをパタ
ン認識することによつて、チツプ或いはサブチツ
プを画成する区分線(スクライブライン)を検出
するというアライニング及びチツプに対する針合
せを自動的に行なう。 In this configuration, wafers are sequentially transferred one by one from a cassette that can accommodate, for example, 25 wafers to the prealignment stage by a belt conveyor. The wafer is then placed on the wafer chuck table (measuring table) of the probing machine using, for example, a Verneuil chuck. On the other hand, the wafers for which the measurement has been completed are transported from the wafer chuck table to the unloading position and placed in a storage cassette by a belt conveyor. In addition, probing machines convert the imaging signal from an image sensor such as an ITV into a digital pattern signal, and by recognizing this pattern, detect the dividing line (scribe line) that defines a chip or subchip. Automatically performs alignment and needle alignment to the tip.
しかしながら、例えば研究試作用のウエハに見
られるように異なる種類のチツプが形成されたウ
エハに対しては、それぞれのチツプの種類を判別
することが、上記の全自動ウエハプローバではで
きないという欠点がある。従つて、例えば第1図
に示すように点線で示された異なる9種類のチツ
プIC(サブチツプ)が実線で示すようにチツプ群
毎に配列された場合、チツプ種別の管理に対して
はX、Y軸方向にそれぞれ3サブチツプ分ずつ飛
び飛びに測定する等の特別な考慮を必要とする
が、そのようなことが困難であるという欠点があ
つた。 However, for wafers on which different types of chips are formed, such as wafers for research prototyping, the fully automatic wafer prober described above has the disadvantage that it is not possible to discern the type of each chip. . Therefore, for example, if nine different types of chip ICs (subchips) indicated by dotted lines are arranged in each chip group as indicated by solid lines as shown in FIG. 1, X, This method requires special consideration, such as measuring three subchips at intervals in the Y-axis direction, but it has the disadvantage that it is difficult to do so.
また、本発明者等は、ウエハ上の位置が特定さ
れている特定チツプ及びこの特定チツプに対する
相対位置が定められている(アドレスが管理され
ている)複数チツプを1枚のウエハ上に形成し、
アドレスが管理されている複数個のチツプについ
て各種の測定を行ない、その測定結果によりウエ
ハ全体の評価を行なう方法を考えているが、上記
従来の全自動ウエハプローバでは単にウエハチツ
プの針合せだけを目的とするものであつたため、
チツプ種別対応での多様な測定、試験項目をそれ
ぞれ能率良く実施してウエハ全体を上記方法で評
価することが困難であつた。 In addition, the present inventors formed on a single wafer a specific chip whose position on the wafer is specified and a plurality of chips whose relative positions to this specific chip are determined (addresses are managed). ,
We are considering a method of performing various measurements on multiple chips whose addresses are managed and evaluating the entire wafer based on the measurement results, but the conventional fully automatic wafer prober mentioned above is only used to align the wafer chips. Because it was hot,
It has been difficult to efficiently carry out various measurements and test items corresponding to each chip type and to evaluate the entire wafer using the above method.
本発明はこのような従来の欠点を改善したもの
であり、その目的は、所定の処理位置に位置決め
されたウエハ内のチツプが如何なる種別のチツプ
であるかを自動的に確認し得るようにすることに
ある。 The present invention improves these conventional drawbacks, and its purpose is to automatically confirm what type of chip is in a wafer positioned at a predetermined processing position. There is a particular thing.
本発明は、上記目的を達成するために以下のよ
うな構成をとる。すなわち、プロービングマシン
部内に、探針によるチツプ検査部とチツプ種別判
定用読み取り部が併置され、チツプ検査部の位置
で、ウエハチヤツクテーブルを動かして、探針と
チツプの電極を合わせた後、この状態で固定され
たウエハの位置(特定位置)から、チツプ種別判
定用読み取り部までの移動量M1を検出し、さら
に、前記チツプ種別判定用読み取り部で表出させ
た読み取り領域枠をチツプ名用特定パタンに位置
合せした移動量M2を検出する機構と、検出され
た移動量M1、M2を記憶し、読み取り領域枠内の
チツプ名用特定パタンを記憶し、チツプ名用特定
パタンの種別判別資料を記憶させてある記憶装置
と、これらの記憶された内容を呼び出す機構と、
前記チツプ名用特定パタンと前記チツプ名用特定
パタンの種別判別資料とを比較するパタン種別認
識手段とを備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration. That is, in the probing machine section, a chip inspection section using a probe and a reading section for determining the chip type are placed side by side, and after moving the wafer chuck table at the position of the chip inspection section and aligning the probe with the electrode of the chip, In this state, the movement distance M1 from the fixed wafer position (specific position) to the chip type determination reading unit is detected, and the reading area frame exposed by the chip type determination reading unit is A mechanism for detecting the amount of movement M2 aligned with the specific pattern for the chip, storing the detected movement amounts M1 and M2, memorizing the specific pattern for the chip name within the reading area frame, and determining the type of the specific pattern for the chip name. A storage device storing materials, a mechanism for recalling these stored contents,
The present invention is characterized by comprising a pattern type recognition means for comparing the specific pattern for chip name and the type discrimination material of the specific pattern for chip name.
以下実施例について詳細に説明する。 Examples will be described in detail below.
第2図は本発明を実施する自動ウエハプローバ
の一構成例を示す概略平面図である。この構成例
における自動ウエハプローバ1は、プロービング
マシン部1aとウエハ移送部1bとから成る。こ
のプロービングマシン部1aは、ウエハチヤツク
テーブル5(搬送器)を水平面内(X.Y方向)で
移動させられ、且つθ方向の水平面内で回転させ
られる。これにより、尖端が測定電極に対応して
配列されている探針に対しウエハの相対位置を任
意に変えることができる。 FIG. 2 is a schematic plan view showing an example of the configuration of an automatic wafer prober implementing the present invention. The automatic wafer prober 1 in this configuration example consists of a probing machine section 1a and a wafer transfer section 1b. In this probing machine section 1a, a wafer chuck table 5 (transporter) is moved within a horizontal plane (XY directions) and rotated within a horizontal plane in the θ direction. This makes it possible to arbitrarily change the relative position of the wafer with respect to the probe whose tips are arranged in correspondence with the measurement electrodes.
一方、第2図に図示してあるウエハチヤツクテ
ーブル5の位置に探針によるチツプ検査部があ
り、測定時には、ウエハチヤツクテーブル5が押
し上げられた状態で探針とチツプの電極(ボンデ
イングパツト)とが所要の接触圧をもつて電気的
に接続される。更にチツプ種別判定用読み取り部
として、アライニングを含む自動位置合せ並びに
チツプの種別判定のために、ウエハ表面を拡大し
て撮影する読み取り装置例えば撮像装置ITVが
設けられている。そして、撮像装置ITVからの
撮像信号を受けて、上記拡大した画像を表示する
デイスプレイ装置(図示せず)が設けられてい
る。 On the other hand, there is a chip inspection section using a probe at the position of the wafer chuck table 5 shown in FIG. ) are electrically connected with the required contact pressure. Further, as a reading section for chip type determination, a reading device such as an image pickup device ITV is provided which magnifies and photographs the wafer surface for automatic alignment including alignment and chip type determination. A display device (not shown) is provided that receives an imaging signal from the imaging device ITV and displays the enlarged image.
また、プロービングマシン部1aには、トラン
スフアアーム(図示せず)が取り付けられてい
る。このトランスフアアームは、ロードステージ
3に移送されたウエハを、ロードポジシヨン5a
に移動されたウエハチヤツクテーブル5上に搬送
する。一方、測定が終了したウエハは、ウエハチ
ヤツクテーブル5がアンロードポジシヨン5bに
移動した後、アンロード位置4に搬送される。 Further, a transfer arm (not shown) is attached to the probing machine section 1a. This transfer arm transfers the wafer transferred to the load stage 3 to the load position 5a.
The wafer is transferred onto the chuck table 5 which has been moved to On the other hand, the wafer whose measurement has been completed is transferred to the unload position 4 after the wafer chuck table 5 moves to the unload position 5b.
ウエハ移送部1bは、上述したウエハの自動ロ
ード/アンロード機構を備えたプロービングマシ
ン部1aに対し、ウエハが収納されているカセツ
トを設置する4個のエレベータ機構(サドル)2
a,2b並びにプリアライメントステージとして
も機能するロード位置3及びアンロード位置4の
それぞれに連なるベルトコンベア6a,6b,7
a及び7bで構成されている。 The wafer transfer section 1b has four elevator mechanisms (saddles) 2 for installing cassettes containing wafers, with respect to the probing machine section 1a equipped with the above-mentioned automatic wafer loading/unloading mechanism.
belt conveyors 6a, 6b, 7 connected to each of the loading position 3 and unloading position 4 which also function as a pre-alignment stage.
It is composed of a and 7b.
これらの各機能を有する全自動ウエハプローバ
の各動作は、第3図に示すような構成の制御シス
テムの制御プログラムに従つて行なわれる。 Each operation of the fully automatic wafer prober having each of these functions is performed according to a control program of a control system configured as shown in FIG.
マイクロプロセツサCPUは、次のような各制
御プログラムに従つて、信号バスラインBUSを
介して接続された各制御ユニツトを制御する。パ
ネルユニツトPANLはマイクロプロセツサCPU
の起動、停止を行なうと共に、各制御プログラム
において必要なプリセツト情報を入力ないし指示
し、また必要なプリセツト情報の入力ないし指示
及び必要な表示を行なう。またステージ制御ユニ
ツトSTGCに対するマニユアル制御のための制御
信号を入力するためにも用いられる。 The microprocessor CPU controls each control unit connected via the signal bus line BUS according to each control program as follows. The panel unit PANL is a microprocessor CPU
It starts and stops the program, inputs or instructs necessary preset information in each control program, inputs or instructs necessary preset information, and performs necessary display. It is also used to input control signals for manual control of the stage control unit STGC.
ローダ部制御ユニツトRODCは前記エレベータ
機構、ベルトコンベア及びプリアライメントを制
御し、またトランスフアアーム及びウエハチヤツ
クテーブル5の制御を受け持つ。 The loader section control unit RODC controls the elevator mechanism, belt conveyor, and prealignment, and also controls the transfer arm and wafer chuck table 5.
ステージ制御ユニツトSTGCは、パルス信号
(1個のパルスが所定の移動量と高精度に対応し
ている)を受けて、パルスモータを駆動するもの
であり、X、Y、Zステージ制御及びθステージ
制御が、各動作モードに応じて行なわれる。 The stage control unit STGC drives a pulse motor in response to a pulse signal (one pulse corresponds to a predetermined amount of movement with high accuracy), and controls the X, Y, and Z stages and the θ stage. Control is performed according to each operating mode.
上記ロードポジシヨン5aにおいて、ウエハの
搬送が行なわれた後、ウエハチヤツクテーブル5
は一定量移動させられ、撮像装置ITV直下の撮
像ポジシヨン5cで停止する。 After the wafer is transferred at the load position 5a, the wafer chuck table 5
is moved by a certain amount and stops at an imaging position 5c directly below the imaging device ITV.
撮像装置ITVからの撮像信号は、A/D変換
器ADCでデジタル化され、記憶装置MEMに書き
込まれる。この時、撮像装置ITVで映し出され
るウエハ部分は特に限定しないが1mm×1mm程度
である。 The imaging signal from the imaging device ITV is digitized by an A/D converter ADC and written to the storage device MEM. At this time, the wafer portion imaged by the image pickup device ITV is approximately 1 mm x 1 mm, although it is not particularly limited.
次いで、この制御システムは、ウエハチヤツク
テーブル5をステージ制御ユニツトSTGCを介し
てX或いはY方向に移動させてスクライブライン
を検出し、更に回転させてスクライブラインの向
きをX軸方向に平行となるように調整する。これ
が終ると以後はθ方向の回転は行なわず、探針直
下にチツプが正しく位置するように上記ウエハチ
ヤツクテーブル5はX、Y方向に移動させられ
る。こうしてウエハチヤツクテーブル5の移動量
が公知の移動量検出手段により検出され、パネル
ユニツトPANLからの指示によつて記憶装置
MEMに書き込まれる。以上によつてウエハの位
置決めが完了する。、第2枚目以降のウエハは第
1枚目のウエハについて実施された位置決めに必
要なウエハチヤツクテーブル5の移動量に関する
記憶情報に導かれて自動的に位置決めされる。そ
して、位置決めが終ると、ウエハ上の所望チツプ
と検査装置TSTとが探針を介して電気的に接続
されて各種の測定、検査が行なわれる。なお以上
のような位置決め動作の詳細は、例えば特開昭58
−86739号公報等に記載されているが、他の位置
決め方法を採用しても良いことは勿論のことであ
る。 Next, this control system moves the wafer chuck table 5 in the X or Y direction via the stage control unit STGC to detect the scribe line, and further rotates the wafer chuck table 5 so that the direction of the scribe line is parallel to the X-axis direction. Adjust as follows. When this is completed, the wafer chuck table 5 is moved in the X and Y directions so that the chip is correctly positioned directly below the probe without further rotation in the θ direction. In this way, the amount of movement of the wafer chuck table 5 is detected by a known movement amount detection means, and the amount of movement of the wafer chuck table 5 is detected by a known movement amount detection means.
Written to MEM. With the above steps, the positioning of the wafer is completed. The second and subsequent wafers are automatically positioned based on stored information regarding the amount of movement of the wafer chuck table 5 necessary for positioning the first wafer. When the positioning is completed, the desired chips on the wafer are electrically connected to the inspection device TST via the probes, and various measurements and inspections are performed. The details of the above positioning operation can be found in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983
Although it is described in Japanese Patent No.-86739, etc., it goes without saying that other positioning methods may be employed.
探針の直下に位置しているチツプの種別(チツ
プ名)を読み取る手順は次のようにして行なわれ
る。 The procedure for reading the type (chip name) of the chip located directly below the probe is performed as follows.
(A) 位置決めを終了した後、最初のウエハに対し
手動動作により以下の手順に従つて、探針直下
から空間的に固定されている撮像装置ITVの
読み取り領域内にチツプ名用特定パタンを収め
ることができる位置までウエハチヤツクテーブ
ル5等を移動させ、このウエハチヤツクテーブ
ル5の移動量(ステージの移動量)等を検出し
て記憶させる。(A) After completing the positioning, manually move the first wafer to fit the specific pattern for the chip name within the reading area of the spatially fixed imaging device ITV from directly below the probe according to the following steps. The wafer chuck table 5 and the like are moved to a position where the wafer chuck table 5 can be moved, and the amount of movement of the wafer chuck table 5 (the amount of movement of the stage) is detected and stored.
(1) まず、ジヨイスステイツクを手動操作して
例えば第4図に示すような探針直下にあるチ
ツプ名用特定パタンNKを含むチツプICMが
撮像装置ITVの視野(デイスプレイ画面)
内に収まるようにウエハチヤツクテーブル5
を移動させる。チツプ名用特定パタンNK
は、操作者がデイスプレイ画面上で見分ける
ことができる程度の適当な大きさ、例えば30
×30ドツト位の大きさとパタン的な特徴を持
つている。このチツプ名用特定パタンNKの
実施例は後で詳述する。 (1) First, by manually operating the joystick, the chip ICM containing the specific pattern NK for the chip name located directly below the probe as shown in Fig. 4 is placed in the field of view of the imaging device ITV (display screen).
Wax chuck table 5 to fit inside
move. Specific pattern NK for chip name
is an appropriate size that the operator can see on the display screen, for example 30
It has a size of about 30 dots and a characteristic pattern. An example of this specific pattern NK for chip name will be described in detail later.
(2) チツプ名用特定パタンNKを含むチツプ
ICMを撮像装置ITVの視野内に収めると、
探針直下から現在の位置までのウエハチヤツ
クテーブル5の移動量M1を検出して記憶装
置MEMに記憶させる。 (2) Chips containing a specific pattern NK for chip names
When the ICM is placed within the field of view of the imager ITV,
The amount of movement M1 of the wafer chuck table 5 from directly below the probe to the current position is detected and stored in the storage device MEM.
(3) 次にパネルユニツトPANLの押釦を操作
して、画面上のチツプ名用特定パタンNKと
同一または多少大き目の枠(読み取り領域)
をデイスプレイ画面上の特定位置に表示させ
る。 (3) Next, operate the push button on the panel unit PANL to create a frame (reading area) that is the same as or slightly larger than the chip name specific pattern NK on the screen.
to be displayed at a specific position on the display screen.
(4) 次に、チツプ名用特定パタンNKがその中
に納まるようにその枠を移動させる。そし
て、その移動量M2を記憶装置MEMに書き
込む。 (4) Next, move the frame so that the chip name specific pattern NK fits within it. Then, the amount of movement M2 is written into the storage device MEM.
(5) 以上の操作を終了すると上記手順(2)におけ
る記憶された移動量M1に基づき該チツプ
ICMは再び探針直下に移動される。 (5) When the above operations are completed, the chip will move based on the movement amount M1 stored in step (2) above.
The ICM is moved directly below the probe again.
なお、ここまで述べた操作は1枚目のウエ
ハについて位置決めを終了した直後に引き続
いて実施しておくだけで良い。これ以後ウエ
ハの測定評価の実施に入る。 Note that the operations described so far only need to be performed immediately after the positioning of the first wafer is completed. After this, wafer measurement and evaluation will begin.
(B) 次に探針直下にあるチツプの種別を読み取る
手順を述べる。(B) Next, we will explain the procedure for reading the type of chip located directly below the probe.
(6) 操作者からの命令によりチツプ名読み取り
指令が測定システムの上位計算機から出力さ
れると、本装置は上記手順(2)の移動量M1を
記憶装置MEMから読み出して、その分だけ
ステージ制御ユニツトSTGCを介してウエハ
チヤツクテーブル5を撮像装置ITV直下に
自動的に移動させる。 (6) When a command to read the chip name is output from the upper computer of the measurement system in response to a command from the operator, this device reads the movement amount M1 in step (2) above from the storage device MEM, and controls the stage by that amount. The wafer chuck table 5 is automatically moved directly below the imaging device ITV via the unit STGC.
(7) 次に枠(読み取り領域)を表出させた後、
再び記憶装置MEMから上記手順(4)の移動量
M2を読み取り、その分だけ枠を移動させて
チツプ名用特定パタンNKをその枠内にとら
える。 (7) Next, after exposing the frame (reading area),
Transfer amount from the storage device MEM again in step (4) above
Read M2, move the frame by that amount, and capture the chip name specific pattern NK within that frame.
(8) 次に、この枠内のパタンは撮像装置ITV
により撮像信号化されたあとA/D変換器
ADCを介して記憶装置MEMに明暗の2値化
されたチツプ名情報として書き込まれる。 (8) Next, the pattern within this frame is
After being converted into an image signal by the A/D converter
It is written to the storage device MEM via the ADC as binary chip name information of brightness and darkness.
(9) 次に、この枠内の所定の場所に対応する場
所の明暗の組合せによりチツプ種別の認識を
行なう。これは予め記憶させておいたチツプ
名用特定パタンの種別判別資料と前述したチ
ツプ名情報としてチツプ名用特定パタンとを
比較するパタン種別認識手段によつて行われ
る。 (9) Next, the chip type is recognized based on the combination of brightness and darkness at a location corresponding to a predetermined location within this frame. This is performed by a pattern type recognition means that compares the type discrimination material of the chip name specific pattern stored in advance with the chip name specific pattern described above as the chip name information.
(10) 最後に再びウエハは元の位置に戻される。 (10) Finally, the wafer is returned to its original position.
第5図は、チツプ種別を表示する特定パタ
ンの実施例を示す線図である。同図Aは櫛形
パタン、同図Bは点列形パタンを示し、点線
が上記小枠によつて仕切られた撮像領域を示
している。斜線を施した部分は明度の高い撮
像信号を発生させる部分である。このパタン
は分割線100によつて2つの領域イ,ロに
分けられている。領域イはチツプ種別認識用
信号を構成する部分、ロは上記小枠に対する
合せマーク部分である。即ち、ロの部分はチ
ツプ種別読み取り領域を指定するものであ
る。同図Bの点列形パタンではロの部分が両
端に設けられているが、どちらか一方のみで
あつても良い。領域イは本実施例では更に5
分割されて明暗の組合せが作れるようになつ
ている。第5図ではこれらの各分割領域にそ
れぞれB1〜B5の符号を付してある。 FIG. 5 is a diagram showing an example of a specific pattern for displaying chip types. Figure A shows a comb-shaped pattern, Figure B shows a dotted pattern, and the dotted lines indicate the imaging areas partitioned by the small frames. The shaded area is the area where a high brightness imaging signal is generated. This pattern is divided into two areas A and B by a dividing line 100. Area A is a portion constituting a chip type recognition signal, and area B is an alignment mark portion for the above-mentioned small frame. That is, the part B specifies the chip type reading area. In the dot array pattern shown in FIG. 2B, the portions B are provided at both ends, but they may be provided only at either end. In this example, area A is further divided into 5 areas.
It is divided so that combinations of light and dark can be created. In FIG. 5, each of these divided areas is labeled B1 to B5, respectively.
第6図はこれらの各分割領域の組合せ、即
ち明暗の組合せによる26種のチツプ名用特定
パタンの構成を示す線図である。この図によ
れば、第5図のパタンはチツプ種別Vを示し
ている。 FIG. 6 is a diagram showing the structure of 26 types of chip name specific patterns based on combinations of these divided areas, that is, combinations of brightness and darkness. According to this figure, the pattern in FIG. 5 indicates chip type V.
なお、操作者がチツプ種の判別を命令した
際に、上記手順(7)の枠の移動量M2のみでは
パタンをその枠内にとりこめぬ場合には、第
5図のパタンのロ部分が枠内にくるように
(読み取り領域内にチツプ名用特定パタンが
含まれるように)枠若しくはウエハの位置を
調整する。このためには、ロ部分の撮像信号
がすべて明になる方向に枠を動かせば良い。
この際、枠位置調整量に或閾値を設けておく
ことは極めて有効である。例えばその閾値と
して探針がパツド部分から外れてしまう量を
用いることができる。 Furthermore, when the operator instructs the chip type to be determined, if the pattern cannot be placed within the frame using only the moving amount M2 of the frame in step (7) above, the B part of the pattern in Figure 5 will be placed in the frame. Adjust the position of the frame or wafer so that the chip name specific pattern is included within the reading area. To do this, it is sufficient to move the frame in the direction in which all the imaging signals in the b part become bright.
At this time, it is extremely effective to set a certain threshold value for the frame position adjustment amount. For example, the amount by which the probe deviates from the pad portion can be used as the threshold value.
以上は、画面上のチツプ名用特定パタンNKと
同一又は多少大き目の枠を表出させて行なうチツ
プ種別の自動確認装置を説明してきたが、この際
用いた枠はチツプ種別を認識すべく適宜に設定さ
れるべき認識領域であつて、その領域の形状は任
意のものであつて良い。また上記手順(9)で述べた
チツプ種別の認識に必要な明暗の読み取り部分は
第5図のイ部分内の各分割領域B1〜B5なる定
義域内の各領域についてそれぞれ必要な明暗情報
を読み取れば足りる。従つて、チツプ種別の認識
に必要な情報を得るための認識領域は、例えば上
記枠の幅を極端に小さくして(最小の場合は読み
取り用走査線1本)、それを上記各定義域を貫通
するように設定することもできる。 The above has described an automatic chip type confirmation device that displays a frame that is the same as or slightly larger than the specific pattern NK for chip names on the screen. This is a recognition area to be set as a recognition area, and the shape of the area may be arbitrary. In addition, the reading part of the brightness necessary for recognizing the chip type described in step (9) above can be obtained by reading the necessary brightness information for each area within the defined area of each divided area B1 to B5 in part A of Fig. 5. Enough. Therefore, the recognition area for obtaining the information necessary for chip type recognition can be created by, for example, making the width of the above frame extremely small (in the minimum case, one scanning line for reading) and dividing it into each of the above definition areas. It can also be set to penetrate.
チツプ名用特定パタンとしてはアルフアベツト
のような文字或いは製品名を示す記号等を用いて
定義することも容易にできる。更にチツプに特有
な回路や素子のパタンの一部を定義して用いるこ
とも容易にできる。これらの場合には上で説明し
たような単に明暗の組合せ情報の読み取りではな
く2次元的な広がりをもつたパタン認識を行なう
必要がある。従つてそのチツプ名用特定パタンを
予めチツプ種別判別資料として記憶させておき、
この記憶したパタンと現在認識したパタンとの一
致をとつてチツプ種別を認識すれば良い。 The specific pattern for the chip name can also be easily defined using characters such as alphabets or symbols indicating the product name. Furthermore, it is also possible to easily define and use part of the circuit and element patterns specific to the chip. In these cases, it is necessary to perform pattern recognition with a two-dimensional spread, rather than simply reading the combination information of brightness and darkness as described above. Therefore, the specific pattern for the chip name is stored in advance as chip type identification material,
The chip type can be recognized by matching the stored pattern with the currently recognized pattern.
更に、上述した移動量設定手順において、処理
位置にあるチツプに設けた特定パタンが撮像装置
の読み取り領域に含まれるようにテーブル5を手
動で移動させた際の移動量を記憶させ、枠の移動
を省略する構成とすることも可能である。また、
当初位置決めされたウエハ設置場所から、その場
所にあつたチツプについて設けたチツプ名用特定
パタンの一部若しくは全部を読み取る装置のある
場所までの相対位置関係が予め明らかであるとき
は、その値を移動量設定手段によりメモリに記憶
すれば足りる。 Furthermore, in the movement amount setting procedure described above, the movement amount when the table 5 is manually moved so that the specific pattern provided on the chip at the processing position is included in the reading area of the imaging device is memorized, and the movement of the frame is It is also possible to omit the configuration. Also,
If the relative positional relationship from the initially positioned wafer installation location to the location of the device that reads part or all of the chip name specific pattern set for the chip located at that location is known in advance, that value shall be used. It is sufficient to store it in the memory using the movement amount setting means.
以上説明したように、本発明は、最初のウエハ
についてのみ手動操作により探針直下に位置する
チツプのチツプ名用特定パタンを撮像装置ITV
の視野内におけるパタン認識領域に移す移動量を
記憶させておけば、それ以降の任意の時点に探針
直下にあるチツプ名を確認できるのであるから、
例えば研究、開発段階のウエハ若しくは異なつた
ICを含む完成ウエハのように異種の素子や回路
をもつたチツプから構成されているウエハであつ
ても、能率良くウエハ評価を行なうことができ
る。即ち、予め各チツプ種について定められた試
験項目にしたがつて必要な試験プログラム名を登
録しておけば、チツプ種の確認によつてこれらプ
ログラムを順序良くスケジユールして各種の測定
を自動的に実施できる利点がある。 As explained above, in the present invention, only for the first wafer, a specific pattern for the chip name of the chip located directly under the probe tip is transferred to the imaging device ITV by manual operation.
If you memorize the amount of movement to the pattern recognition area within the field of view, you can check the chip name directly under the probe at any time thereafter.
For example, research, development stage wafers or different
Even if the wafer is composed of chips with different types of elements and circuits, such as a completed wafer containing an IC, wafer evaluation can be performed efficiently. In other words, by registering the necessary test program names in advance according to the test items determined for each chip type, these programs can be scheduled in an orderly manner based on the chip type confirmation, and various measurements can be performed automatically. There are advantages to implementing it.
また、チツプ種別を各チツプに固有のものとし
て設置すれば、チツプそのものの指定機能をもつ
ものとして利用することができる。このことは後
程ウエハがチツプに分割された場合でも、該チツ
プがどの位置にあつたチツプかを判別することも
可能となり、特性評価値との対応をとるのにも有
効である。 Furthermore, if a chip type is set unique to each chip, the chip itself can be used as having a designation function. Even if the wafer is later divided into chips, this makes it possible to determine the position of the chip, and is also effective in determining the correspondence with the characteristic evaluation values.
また、測定には探針が正しくパツドに接触して
いることが必要であるが、例えば外部からの雑音
によつてプローバが誤動作し1チツプ分ずれた場
合とか、針がパツドから外れてしまつた場合にも
対処することができる。このことは、何枚ものウ
エハを人手を介さずに自動的にプロービングする
際には試験を中断して無効データをとらずに済ま
せたり、素子の電気的破壊を防いだりすることが
可能となるなど特段の効果がある。 In addition, it is necessary for the probe to be in proper contact with the pad for measurement, but for example, if the probe malfunctions due to external noise and shifts by one chip, or if the needle comes off the pad. You can also deal with the situation. This means that when automatically probing a number of wafers without human intervention, it is possible to stop the test without collecting invalid data, and to prevent electrical damage to the device. There are special effects such as
第1図は研究用ウエハの一例を示すチツプパタ
ン図、第2図は本発明を実施する自動ウエハプロ
ーバの構成例を示す平面図、第3図は第2図示自
動ウエハプローバの制御システムの一実施例を示
すブロツク図、第4図はプローバ動作を説明する
ためのチツプパタン図、第5図はチツプ名用特定
パタンの一例を示す線図、第6図は第5図に示す
チツプ名用特定パタンのパタン形状の違いによる
分類を説明する線図である。
1は自動ウエハプローバ、1aはプロービング
マシン部、1bはウエハ移送部、2a,2bはエ
レベータ機構、3はロード位置、4はアンロード
位置、5はウエハチヤツクテーブル、5aはロー
ドポジシヨン、5bはアンロードポジシヨン、5
cは撮影ポジシヨン、6a,6b,7a,7bは
ベルトコンベア、ITVは撮像装置、CPUはマイ
クロプロセツサ、PANLはパネルユニツト、
STGCはステージ制御ユニツト、RODCはローダ
部制御ユニツト、MEMは記憶装置、ADCはA/
D変換器、I/Oは入出力インターフエイス、
TSTは検査装置、PCはプローブカード、100
はパタンの役割を説明するための分割線、イはパ
タン種別定義領域、ロはパタン種別認識用小枠の
位置合せ用領域である。
FIG. 1 is a chip pattern diagram showing an example of a research wafer, FIG. 2 is a plan view showing an example of the configuration of an automatic wafer prober that implements the present invention, and FIG. 3 is an implementation of the control system of the automatic wafer prober shown in the second diagram. A block diagram showing an example, FIG. 4 is a chip pattern diagram for explaining the prober operation, FIG. 5 is a line diagram showing an example of a specific pattern for chip name, and FIG. 6 is a diagram of a specific pattern for chip name shown in FIG. 5. FIG. 3 is a diagram illustrating classification based on differences in pattern shapes. 1 is an automatic wafer prober, 1a is a probing machine section, 1b is a wafer transfer section, 2a and 2b are elevator mechanisms, 3 is a loading position, 4 is an unloading position, 5 is a wafer chuck table, 5a is a loading position, 5b is the unload position, 5
c is the photographing position, 6a, 6b, 7a, and 7b are the belt conveyors, ITV is the imaging device, CPU is the microprocessor, PANL is the panel unit,
STGC is the stage control unit, RODC is the loader control unit, MEM is the storage device, and ADC is the A/
D converter, I/O is input/output interface,
TST is inspection equipment, PC is probe card, 100
is a dividing line for explaining the role of the pattern, A is a pattern type definition area, and B is an area for positioning a small frame for pattern type recognition.
Claims (1)
読み取り部が、プロービングマシン部内に併置さ
れ、 前記探針によるチツプ検査部で、ウエハチヤツ
クテーブルにより、探針とチツプの電極を合わせ
て固定されたウエハ上の特定位置から、前記チツ
プ種別判定用読み取り部までの移動量M1を検出
し、前記チツプ種別判定用読み取り部で表出させ
た読み取り領域枠をチツプ名用特定パタンに位置
合せした移動量M2を検出する移動量検出機構と、 検出された前記移動量M1、M2を記憶し、前記
読み取り領域枠内の前記チツプ名用特定パタンを
記憶し、前記チツプ名用特定パタンの種別判別資
料を記憶させてある記憶装置と、 前記移動量M1、M2を前記記憶装置から呼び出
す移動量設定機構と、 前記チツプ名用特定パタンと前記チツプ名用特
定パタンの種別判別資料とを比較するパタン種別
認識手段 とを備えたことを特徴とするウエハ内チツプの自
動種別確認機構を有する検査装置。[Scope of Claims] 1. A chip inspection section using a probe and a reading section for determining the chip type are placed side by side in a probing machine section, and the chip inspection section using a probe has a wafer chuck table that detects the electrodes of the probe and the chip. The amount of movement M1 from the fixed fixed position on the wafer to the chip type determination reading unit is detected, and the reading area frame exposed by the chip type determination reading unit is used as a specific pattern for chip name. a movement amount detection mechanism that detects a movement amount M2 aligned with the chip name; a movement amount detection mechanism that stores the detected movement amounts M1 and M2; stores a specific pattern for the chip name within the reading area; a storage device storing pattern type discrimination data; a movement amount setting mechanism for reading the movement amounts M1 and M2 from the storage device; and type discrimination data for the chip name specific pattern and the chip name specific pattern. 1. An inspection apparatus having an automatic type confirmation mechanism for chips in a wafer, comprising a pattern type recognition means for comparing patterns.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57076303A JPS58194348A (en) | 1982-05-07 | 1982-05-07 | Automatic classification confirmation system for chip in wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57076303A JPS58194348A (en) | 1982-05-07 | 1982-05-07 | Automatic classification confirmation system for chip in wafer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194348A JPS58194348A (en) | 1983-11-12 |
| JPH043107B2 true JPH043107B2 (en) | 1992-01-22 |
Family
ID=13601597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57076303A Granted JPS58194348A (en) | 1982-05-07 | 1982-05-07 | Automatic classification confirmation system for chip in wafer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194348A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0715931B2 (en) * | 1985-08-30 | 1995-02-22 | キヤノン株式会社 | Wafer processing equipment |
| JPH04130386U (en) * | 1991-05-23 | 1992-11-30 | 株式会社ダイクレ | Laminated structure of FRP grating |
-
1982
- 1982-05-07 JP JP57076303A patent/JPS58194348A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58194348A (en) | 1983-11-12 |
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