JPH0432782B2 - - Google Patents
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- JPH0432782B2 JPH0432782B2 JP19950987A JP19950987A JPH0432782B2 JP H0432782 B2 JPH0432782 B2 JP H0432782B2 JP 19950987 A JP19950987 A JP 19950987A JP 19950987 A JP19950987 A JP 19950987A JP H0432782 B2 JPH0432782 B2 JP H0432782B2
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明はタイル用釉薬に係り、特に内装用タイ
ルを1回の焼成のみで製造する、所謂一度焼きに
用いるタイル用釉薬に関する。 [従来の技術] 従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経
る、所謂二度焼きにより製造されている。即ち、
従来の内装用タイルは、坏土の成形及び乾燥の
後、第1回目の焼成(素焼き)を行ない、冷却
後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2回目の焼
成を行うことにより製造されている。 このように内装用タイルの場合に二度焼きする
理由は次の通りである。外装用タイルに比べ、内
装用タイルは厚く釉掛けする必要があるのである
が、仮に一度焼きするために坏土成形体(圧粉
体)に厚く釉掛けすると、焼成過程において坏土
から発生するガスが釉層を通過しにくくなり、半
溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り、釉
層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホー
ル、亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じて
しまうのである。 即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセス
においては、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の
熱分解や有機物質の燃焼に伴つてガスが発生す
る。このガス発生は、極めてゆつくりと昇温する
場合には700〜800℃程度で完了するのであるが、
ローラーハースキルン等を採用する高生産効率製
造法の下では昇温速度が大であり、上記ガス発生
反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超える領域に
までずれ込むようになる。殊に、成形体内部にお
いては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲
温度が1100℃になつてもガス発生反応が継続して
いる場合すらある。 従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程
度から急速に軟化を開始し、溶融状態となつてタ
イル素地表面を覆うようになるのであるが、この
ように溶けた釉が表面を覆つた後でも前記の如く
素地内部からガスが発生してくることになると前
記の泡吹き現象が生じてしまうのである。 二度焼き方式によれば、素地は素焼品となつて
おり、2度目の焼成時には素地からのガス発生は
無く、厚く釉掛けしても泡吹き現象が発生せず、
光沢に富み奇麗な平坦施釉面を有する内装用タイ
ルが製造される。 [発明が解決しようとする問題点] 叙上の如く、従来の釉薬を用いて内装用タイル
を一度焼き方式にて製造しようとすると、泡吹き
現象が生じ、およそ製品とするには適わない釉面
となつてしまつていた。 そのため、従来では、内装用タイルは二度焼き
によらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高
く、焼成の手間等も嵩み、生産性が低いものとな
つていた。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、一度焼きにて内装用タイルを製造す
ることを可能とするタイル用釉薬を提供するもの
であり、このタイル用釉薬は下記〜の成分
100重量部に対して0〜15重量部の顔料を含むも
のである。 SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以
上 合計で0〜10重量% を含むフリツト:50〜90重量部 長石:8〜25重量部 粘土:0.5〜10重量部 ジルコン:0〜20重量部 珪砂:0〜10重量部 アルミナ:0〜5重量部 酸化チタン:0〜10重量部 炭酸バリウム:0〜10重量部 酸化亜鉛:0〜5重量部 [作用] かかる本発明のタイル用釉薬に含まれるフリツ
トは、アルカリ金属の酸化物及びB2O3成分が微
量であり、軟化開始点よりも高い温度に加熱して
も粘性低下が緩慢であり、軟化開始温度よりも相
当高温にならないと素地表面を全面的に、所謂べ
たつと覆うようにはならない。また、フリツト以
外の成分も同様である。そのため、素地内部から
ガスが発生しても、このガスはフリツト粒子の間
を通り抜けて外部に容易に抜け出すことができる
ようになり、泡吹き現象が防止される。 以下、本発明のタイル用釉薬の各成分の作用を
その好ましい態様と共に詳細に説明する。 まず、本発明のタイル用釉薬に含まれるフリ
ツトの成分について説明する。 本発明のフリツトにおいて、SiO2、Al2O3は高
軟化点フリツトを構成する主成分であり、アルミ
ノシリケート系ガラスの骨格部分を構成する。 また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、
R2Oと略)とは、それぞれ上記アルミノシリケー
トのネツトワークを部分的に断ち切り、そのガラ
ス化を促進し、軟化開始温度を低下させる作用を
有する。 本発明において、フリツトの組成は、SiO2が
55〜65重量%(以下%と略)Al2O3が10〜18%、
CaOが18〜25%、R2Oが0.5〜4%であることが
好適であり、それぞれ上記範囲を逸脱するとフリ
ツトの軟化温度が過度に低くなつて泡吹き現象を
もたらしたり、逆に軟化温度が過度に高くなつて
素地焼成後においても釉が十分には溶けない事態
が生じる。特に好ましい範囲は、SiO2は60〜64
%、Al2O3は12〜16%、CaOは19〜23%、R2Oは
1〜3%である。なお、Li2Oはなくてもよいが、
二度焼に準ずる釉面の平滑性を得るためには添加
するのが好ましい。このLi2Oの含有%は0.5〜1.5
%の範囲が好ましい。0.5%未満では平滑性の改
善効果が少なく、1.5%を超えると釉面にピンホ
ールが出易くなる。 本発明のフリツトは、B2O3、MgO、ZnO、
SrO及びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を
必要に応じ含有させることにより、フリツトの軟
化点を低下させることができる。これらの酸化物
は、過度に多く含有するとフリツトの軟化点が過
度に低下し、また軟化開始後急速にフリツトの粘
性を低下させるようになるので、B2O3は2%以
下とりわけ1%以下、MgOは5%以下とりわけ
3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以
下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、
MgO、BaO、SrO及びZnOは合量でも10%以下
とする。 本発明のフリツトは、素地の隠蔽力を付与する
ZrO2を10%以下含有していても良い。 本発明のフリツトは、さらに必要に応じ他の
BaO等の酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を
含んでも良いが、それらは合量でも3%以下とり
わけ1%以下とするのが好ましい。 本発明に用いるフリツトは常法に従い、通常の
フリツト用原料を調合及び溶融後、冷却し、次い
で粉砕することにより製造することができる。 長石、粘土は、釉薬の融点を上げる作用を
有する。本発明において釉薬の好適な融点を得る
ために、長石を8〜25重量部、好ましくは15〜21
重量部、カオリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量
部好ましくは2〜4重量部とする。 ジルコン(珪酸ジルコニウム)は隠蔽力を付
与する成分であつて、その配合量は0〜20重量
部、好ましくは10〜15重量部とする。 珪砂、アルミナ、酸化チタン、炭酸バ
リウム、酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並び
に、表面の光沢の調整を行なう成分であつて、そ
れぞれ配合量は、珪砂0〜10重量部、アルミナ0
〜5重量部、酸化チタン0〜10重量部、炭酸バリ
ウム0〜10重量部、酸化亜鉛0〜5重量部とす
る。 顔料は、タイルの施釉面の意匠性の向上の目的
で、必要に応じて配合される。顔料としてはタイ
ル用に用いられる顔料であればいずれも使用する
ことができあ、この配合量は、上記〜の成分
100重量部に対して、0〜15重量部とする。 本発明のタイル用釉薬は、上記〜の成分及
び必要に応じて顔料、その他の成分を所定割合と
なるように、水、アルコールその他適宜の液体に
必要に応じ分散剤を用い分散させて調製される。 [実施例] 以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさら
に詳細に説明する。 なお、以下の実施例及び比較例において、タイ
ル用の坏土成形体としては次のものを用いた。即
ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石灰石10重
量部及びシヤモツト5重量部をボールミルで粉砕
し、混合し、水分を加え、350Kg/cm2で成形し、
これを乾燥したものである。この成形体(素地)
の大きさは10cm×10cm×0.5cmである。 また、この成形体を焼成するには全長25mのロ
ーラーハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、
焼成帯最高温度1190℃とした。 実施例 1 原料として長石、珪石、石灰石を採用し、これ
らを乾燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中
で1400℃にて1時間溶融した後急冷し、フリツト
とした。このフリツト化学組成を第1表に示す。 このフリツト70重量部に対し長石15重量部、粘
土2重量部、ジルコン13重量部を加え、ボールミ
ルにて混合した。これに水33重量部とカルボン酸
系分散剤0.2重量部を加え、さらにボールミル中
で混合し、泥漿釉とした。 この泥漿釉を幕掛け法により前記成形体表面に
乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付し、
乾燥後焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ、釉面は泡吹
きは全くなく、平坦で光沢を帯び、厚い釉薬層を
有する高級感に富む内装用タイルであることが認
められた。 実施例 2〜8 実施例1において原料の配合比を変更すること
により、また原料としてさらにジルコン、ホウ
砂、マグネシア、酸化亜鉛を付加すること以外は
同様にして第1表に示す組成のフリツトを製造し
た。そして、これらのフリツトを用い、実施例1
と同様にして泥漿釉とし、成形体に塗付し乾燥及
び焼成を行なつた。 その結果いずれも実施例1と同様に優れた表面
性状を有する内装用タイルが製造された。 比較例 1、2、3、4 組成を第1表に示す通りとしたこと以外は上記
実施例と同様にしてフリツトを製造し、同様に泥
漿釉とし、成形体に塗付し乾燥及び焼成を行なつ
た。その結果、いずれも釉薬層に泡吹きが生じ
た。 比較例 5 長石43重量部、珪砂65重量部、粘土4.0重量部、
石灰13.0重量部を調合することにより第1表に示
す組成の釉薬(生釉)を製造した。これを泥漿に
して成形体に塗付し、乾燥及び焼成を行なつたと
ころ、釉薬層に泡吹きが生じた。
ルを1回の焼成のみで製造する、所謂一度焼きに
用いるタイル用釉薬に関する。 [従来の技術] 従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経
る、所謂二度焼きにより製造されている。即ち、
従来の内装用タイルは、坏土の成形及び乾燥の
後、第1回目の焼成(素焼き)を行ない、冷却
後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2回目の焼
成を行うことにより製造されている。 このように内装用タイルの場合に二度焼きする
理由は次の通りである。外装用タイルに比べ、内
装用タイルは厚く釉掛けする必要があるのである
が、仮に一度焼きするために坏土成形体(圧粉
体)に厚く釉掛けすると、焼成過程において坏土
から発生するガスが釉層を通過しにくくなり、半
溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り、釉
層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホー
ル、亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じて
しまうのである。 即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセス
においては、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の
熱分解や有機物質の燃焼に伴つてガスが発生す
る。このガス発生は、極めてゆつくりと昇温する
場合には700〜800℃程度で完了するのであるが、
ローラーハースキルン等を採用する高生産効率製
造法の下では昇温速度が大であり、上記ガス発生
反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超える領域に
までずれ込むようになる。殊に、成形体内部にお
いては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲
温度が1100℃になつてもガス発生反応が継続して
いる場合すらある。 従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程
度から急速に軟化を開始し、溶融状態となつてタ
イル素地表面を覆うようになるのであるが、この
ように溶けた釉が表面を覆つた後でも前記の如く
素地内部からガスが発生してくることになると前
記の泡吹き現象が生じてしまうのである。 二度焼き方式によれば、素地は素焼品となつて
おり、2度目の焼成時には素地からのガス発生は
無く、厚く釉掛けしても泡吹き現象が発生せず、
光沢に富み奇麗な平坦施釉面を有する内装用タイ
ルが製造される。 [発明が解決しようとする問題点] 叙上の如く、従来の釉薬を用いて内装用タイル
を一度焼き方式にて製造しようとすると、泡吹き
現象が生じ、およそ製品とするには適わない釉面
となつてしまつていた。 そのため、従来では、内装用タイルは二度焼き
によらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高
く、焼成の手間等も嵩み、生産性が低いものとな
つていた。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、一度焼きにて内装用タイルを製造す
ることを可能とするタイル用釉薬を提供するもの
であり、このタイル用釉薬は下記〜の成分
100重量部に対して0〜15重量部の顔料を含むも
のである。 SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以
上 合計で0〜10重量% を含むフリツト:50〜90重量部 長石:8〜25重量部 粘土:0.5〜10重量部 ジルコン:0〜20重量部 珪砂:0〜10重量部 アルミナ:0〜5重量部 酸化チタン:0〜10重量部 炭酸バリウム:0〜10重量部 酸化亜鉛:0〜5重量部 [作用] かかる本発明のタイル用釉薬に含まれるフリツ
トは、アルカリ金属の酸化物及びB2O3成分が微
量であり、軟化開始点よりも高い温度に加熱して
も粘性低下が緩慢であり、軟化開始温度よりも相
当高温にならないと素地表面を全面的に、所謂べ
たつと覆うようにはならない。また、フリツト以
外の成分も同様である。そのため、素地内部から
ガスが発生しても、このガスはフリツト粒子の間
を通り抜けて外部に容易に抜け出すことができる
ようになり、泡吹き現象が防止される。 以下、本発明のタイル用釉薬の各成分の作用を
その好ましい態様と共に詳細に説明する。 まず、本発明のタイル用釉薬に含まれるフリ
ツトの成分について説明する。 本発明のフリツトにおいて、SiO2、Al2O3は高
軟化点フリツトを構成する主成分であり、アルミ
ノシリケート系ガラスの骨格部分を構成する。 また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、
R2Oと略)とは、それぞれ上記アルミノシリケー
トのネツトワークを部分的に断ち切り、そのガラ
ス化を促進し、軟化開始温度を低下させる作用を
有する。 本発明において、フリツトの組成は、SiO2が
55〜65重量%(以下%と略)Al2O3が10〜18%、
CaOが18〜25%、R2Oが0.5〜4%であることが
好適であり、それぞれ上記範囲を逸脱するとフリ
ツトの軟化温度が過度に低くなつて泡吹き現象を
もたらしたり、逆に軟化温度が過度に高くなつて
素地焼成後においても釉が十分には溶けない事態
が生じる。特に好ましい範囲は、SiO2は60〜64
%、Al2O3は12〜16%、CaOは19〜23%、R2Oは
1〜3%である。なお、Li2Oはなくてもよいが、
二度焼に準ずる釉面の平滑性を得るためには添加
するのが好ましい。このLi2Oの含有%は0.5〜1.5
%の範囲が好ましい。0.5%未満では平滑性の改
善効果が少なく、1.5%を超えると釉面にピンホ
ールが出易くなる。 本発明のフリツトは、B2O3、MgO、ZnO、
SrO及びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を
必要に応じ含有させることにより、フリツトの軟
化点を低下させることができる。これらの酸化物
は、過度に多く含有するとフリツトの軟化点が過
度に低下し、また軟化開始後急速にフリツトの粘
性を低下させるようになるので、B2O3は2%以
下とりわけ1%以下、MgOは5%以下とりわけ
3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以
下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、
MgO、BaO、SrO及びZnOは合量でも10%以下
とする。 本発明のフリツトは、素地の隠蔽力を付与する
ZrO2を10%以下含有していても良い。 本発明のフリツトは、さらに必要に応じ他の
BaO等の酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を
含んでも良いが、それらは合量でも3%以下とり
わけ1%以下とするのが好ましい。 本発明に用いるフリツトは常法に従い、通常の
フリツト用原料を調合及び溶融後、冷却し、次い
で粉砕することにより製造することができる。 長石、粘土は、釉薬の融点を上げる作用を
有する。本発明において釉薬の好適な融点を得る
ために、長石を8〜25重量部、好ましくは15〜21
重量部、カオリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量
部好ましくは2〜4重量部とする。 ジルコン(珪酸ジルコニウム)は隠蔽力を付
与する成分であつて、その配合量は0〜20重量
部、好ましくは10〜15重量部とする。 珪砂、アルミナ、酸化チタン、炭酸バ
リウム、酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並び
に、表面の光沢の調整を行なう成分であつて、そ
れぞれ配合量は、珪砂0〜10重量部、アルミナ0
〜5重量部、酸化チタン0〜10重量部、炭酸バリ
ウム0〜10重量部、酸化亜鉛0〜5重量部とす
る。 顔料は、タイルの施釉面の意匠性の向上の目的
で、必要に応じて配合される。顔料としてはタイ
ル用に用いられる顔料であればいずれも使用する
ことができあ、この配合量は、上記〜の成分
100重量部に対して、0〜15重量部とする。 本発明のタイル用釉薬は、上記〜の成分及
び必要に応じて顔料、その他の成分を所定割合と
なるように、水、アルコールその他適宜の液体に
必要に応じ分散剤を用い分散させて調製される。 [実施例] 以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさら
に詳細に説明する。 なお、以下の実施例及び比較例において、タイ
ル用の坏土成形体としては次のものを用いた。即
ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石灰石10重
量部及びシヤモツト5重量部をボールミルで粉砕
し、混合し、水分を加え、350Kg/cm2で成形し、
これを乾燥したものである。この成形体(素地)
の大きさは10cm×10cm×0.5cmである。 また、この成形体を焼成するには全長25mのロ
ーラーハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、
焼成帯最高温度1190℃とした。 実施例 1 原料として長石、珪石、石灰石を採用し、これ
らを乾燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中
で1400℃にて1時間溶融した後急冷し、フリツト
とした。このフリツト化学組成を第1表に示す。 このフリツト70重量部に対し長石15重量部、粘
土2重量部、ジルコン13重量部を加え、ボールミ
ルにて混合した。これに水33重量部とカルボン酸
系分散剤0.2重量部を加え、さらにボールミル中
で混合し、泥漿釉とした。 この泥漿釉を幕掛け法により前記成形体表面に
乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付し、
乾燥後焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ、釉面は泡吹
きは全くなく、平坦で光沢を帯び、厚い釉薬層を
有する高級感に富む内装用タイルであることが認
められた。 実施例 2〜8 実施例1において原料の配合比を変更すること
により、また原料としてさらにジルコン、ホウ
砂、マグネシア、酸化亜鉛を付加すること以外は
同様にして第1表に示す組成のフリツトを製造し
た。そして、これらのフリツトを用い、実施例1
と同様にして泥漿釉とし、成形体に塗付し乾燥及
び焼成を行なつた。 その結果いずれも実施例1と同様に優れた表面
性状を有する内装用タイルが製造された。 比較例 1、2、3、4 組成を第1表に示す通りとしたこと以外は上記
実施例と同様にしてフリツトを製造し、同様に泥
漿釉とし、成形体に塗付し乾燥及び焼成を行なつ
た。その結果、いずれも釉薬層に泡吹きが生じ
た。 比較例 5 長石43重量部、珪砂65重量部、粘土4.0重量部、
石灰13.0重量部を調合することにより第1表に示
す組成の釉薬(生釉)を製造した。これを泥漿に
して成形体に塗付し、乾燥及び焼成を行なつたと
ころ、釉薬層に泡吹きが生じた。
【表】
なお、実施例1の釉及び比較例4で調合した生
釉を圧力10Kg/cm2で直径0.2cm、高さ0.3cmの円柱
体(以下、ボタンという。)に成形し、これらを
昇温速度10℃/minにて空気雰囲気下で常温から
1200℃まで加熱し、ボタンの高さの経時変化をマ
イクロスコープにて測定した。その結果を第1図
に示す。 第1図より、生釉は1040℃位から急速に軟化を
開始し、その後の粘性低下も急であることが認め
られる。これに対し、実施例1の釉は、約900℃
位で軟化を開始するものの、その後の粘性低下は
極めて緩慢であり、1100℃〜1150℃の高温域にお
いても相当の高粘性であることが認められる。な
お、図中、横軸は温度である。縦軸は、ボタンの
高さ(焼成前の高さを100とした時の各温度での
ボタンの高さ)を示している。 このように本発明に用いられているフリツトは
高温域でも高粘性であるため、焼成時に成形体か
ら発生するガスがフリツト粒子同志の間を容易に
通過するようになり、釉薬層の泡吹き現象が確実
に防止されることが裏付けられた。なお、本発明
の釉薬のフリツトは、成形体からのガス発生が終
了する焼成帯の最高温度付近においては十分に軟
化し、素地の表面を均一に覆うようになる。 実施例9〜14、比較例6〜9 第1表に示す組成のフイツトNo.1〜3のうちの
いずれかを用い、フリツト、長石、粘土、ジルコ
ン、その他を第2表に示す割合で配合したこと以
外は、実施例1と同様にして釉を調製し、得られ
た釉を成形体表面に塗付、乾燥、焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ実施例9〜14
のものはいずれも釉面に泡吹きは全くなく、平坦
で光沢を帯び、厚い釉薬層を有する高級感に富む
内装用タイルであることが認められ。 一方、比較例6〜9のうち、比較例6〜8は焼
成中に泡が吹き、比較例9のものは光沢が不足
し、いずれも製品には不適であることが確認され
た。
釉を圧力10Kg/cm2で直径0.2cm、高さ0.3cmの円柱
体(以下、ボタンという。)に成形し、これらを
昇温速度10℃/minにて空気雰囲気下で常温から
1200℃まで加熱し、ボタンの高さの経時変化をマ
イクロスコープにて測定した。その結果を第1図
に示す。 第1図より、生釉は1040℃位から急速に軟化を
開始し、その後の粘性低下も急であることが認め
られる。これに対し、実施例1の釉は、約900℃
位で軟化を開始するものの、その後の粘性低下は
極めて緩慢であり、1100℃〜1150℃の高温域にお
いても相当の高粘性であることが認められる。な
お、図中、横軸は温度である。縦軸は、ボタンの
高さ(焼成前の高さを100とした時の各温度での
ボタンの高さ)を示している。 このように本発明に用いられているフリツトは
高温域でも高粘性であるため、焼成時に成形体か
ら発生するガスがフリツト粒子同志の間を容易に
通過するようになり、釉薬層の泡吹き現象が確実
に防止されることが裏付けられた。なお、本発明
の釉薬のフリツトは、成形体からのガス発生が終
了する焼成帯の最高温度付近においては十分に軟
化し、素地の表面を均一に覆うようになる。 実施例9〜14、比較例6〜9 第1表に示す組成のフイツトNo.1〜3のうちの
いずれかを用い、フリツト、長石、粘土、ジルコ
ン、その他を第2表に示す割合で配合したこと以
外は、実施例1と同様にして釉を調製し、得られ
た釉を成形体表面に塗付、乾燥、焼成した。 焼成後、タイルを観察したところ実施例9〜14
のものはいずれも釉面に泡吹きは全くなく、平坦
で光沢を帯び、厚い釉薬層を有する高級感に富む
内装用タイルであることが認められ。 一方、比較例6〜9のうち、比較例6〜8は焼
成中に泡が吹き、比較例9のものは光沢が不足
し、いずれも製品には不適であることが確認され
た。
【表】
[効果]
以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、
本発明のタイル用釉薬を用いることにより美麗な
厚掛けした釉薬層を有するタイルが一度焼きにし
て製造される。従つて、本発明のタイル用釉薬を
採用することにより内装用タイルの製造コストが
大幅に低減される。
本発明のタイル用釉薬を用いることにより美麗な
厚掛けした釉薬層を有するタイルが一度焼きにし
て製造される。従つて、本発明のタイル用釉薬を
採用することにより内装用タイルの製造コストが
大幅に低減される。
第1図は実施例における測定結果を示すグラフ
である。
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 合計で100重量部の下記〜、即ち、 SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以
上 合計で0〜10重量% を含むフリツト:50〜90重量部 長石:8〜25重量部 粘土:0.5〜10重量部 ジルコン:0〜20重量部 珪砂:0〜10重量部 アルミナ:0〜5重量部 酸化チタン:0〜10重量部 炭酸バリウム:0〜10重量部 酸化亜鉛:0〜5重量部 を含み、さらにこの100重量部に対して0〜15重
量部の顔料を含むタイル用釉薬。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19950987A JPS6442342A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Glaze for tile |
| ES198888307217T ES2037836T3 (es) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Metodo de produccion de azulejos. |
| DE8888307217T DE3877278T2 (de) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Verfahren zur herstellung von fliesen mit einer einzigen brennstufe. |
| EP88307217A EP0303402B1 (en) | 1987-08-10 | 1988-08-04 | Method of producing tiles by single firing |
| KR1019880010166A KR910003251B1 (ko) | 1987-08-10 | 1988-08-10 | 타일용 유약 및 타일의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19950987A JPS6442342A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Glaze for tile |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6442342A JPS6442342A (en) | 1989-02-14 |
| JPH0432782B2 true JPH0432782B2 (ja) | 1992-06-01 |
Family
ID=16408999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19950987A Granted JPS6442342A (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Glaze for tile |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6442342A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04349144A (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-03 | Inax Corp | 超光沢釉 |
| KR101238264B1 (ko) * | 2010-12-21 | 2013-03-04 | 명지대학교 산학협력단 | 티알라이트계 회색 안료 및 이의 제조방법 |
| JP6205751B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-10-04 | Toto株式会社 | 高拡散反射性耐汚染性釉薬層を形成可能な釉薬組成物およびそれにより形成された釉薬層を有する部材 |
| CN112408793B (zh) * | 2020-11-24 | 2022-09-06 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 高透光耐磨熔块及其制备方法、釉料和大理石瓷砖 |
| CN113336443B (zh) * | 2021-06-21 | 2022-12-27 | 广东家美陶瓷有限公司 | 应用于深黑色全抛陶瓷砖生产的数码透明釉料 |
-
1987
- 1987-08-10 JP JP19950987A patent/JPS6442342A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6442342A (en) | 1989-02-14 |
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