JPH04338B2 - - Google Patents
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- JPH04338B2 JPH04338B2 JP57218171A JP21817182A JPH04338B2 JP H04338 B2 JPH04338 B2 JP H04338B2 JP 57218171 A JP57218171 A JP 57218171A JP 21817182 A JP21817182 A JP 21817182A JP H04338 B2 JPH04338 B2 JP H04338B2
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/28—Static spectrometers
- H01J49/32—Static spectrometers using double focusing
- H01J49/326—Static spectrometers using double focusing with magnetic and electrostatic sectors of 90 degrees
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高磁場領域でも安定した高分解能マス
スペクトルが得られる質量分析装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a mass spectrometer that can obtain stable high-resolution mass spectra even in high magnetic field regions.
質量分析装置は試料をイオン化して均一磁場か
らなる分析場に導き、該分析場により前記試料イ
オンを質量対電荷比に応じて空間的に分離し、そ
の特定位置に到来するイオンを検出器により電気
信号として検出し、前記分析場の強度を掃引する
ことによりマススペクトルを得るものである。第
1図は従来から使用されている二重収束質量分析
装置の光学図であり、1はイオン源、2はエネル
ギー分散用電場、3は質量分散用の分析磁場、4
はイオン検出器を示している。前記電場2の前に
はαスリツト5、該電場の後にはβスリツト6が
設置されており、電場へのイオン流の開き角が制
限され、且つ電場から分析磁場3へ向かうイオン
流のエネルギーの広がりが制限される。該両スリ
ツトの幅を小さくすると分解能は高くなるわけで
あるが、該スリツト幅を小さくしすぎると感度が
低下するので、両方の兼ね合いからスリツト幅は
決められる。前記イオン源からのイオンはスリツ
ト5を通り電場2によりエネルギー(速度)に応
じて分離され、その内スリツト6を通過したもの
が分析磁場3に入射して質量対電荷の比に応じて
分離され、その特定な軌道をとるイオンのみが検
出器4に検出される。そこで、分析磁場3の強度
を掃引すれば、空間的に分離されていたイオンが
次々に該検出器に入射するようになり、該検出器
の出力を表示、又は記録することによつてマスス
ペクトルを得ることができるわけである。 A mass spectrometer ionizes a sample and guides it into an analysis field consisting of a homogeneous magnetic field.The analysis field spatially separates the sample ions according to their mass-to-charge ratio, and the ions arriving at that specific position are detected by a detector. It is detected as an electrical signal and a mass spectrum is obtained by sweeping the intensity of the analysis field. Figure 1 is an optical diagram of a conventionally used double-focus mass spectrometer, in which 1 is an ion source, 2 is an electric field for energy dispersion, 3 is an analytical magnetic field for mass dispersion, and 4
indicates an ion detector. An α slit 5 is installed in front of the electric field 2, and a β slit 6 is installed after the electric field, which limits the opening angle of the ion flow toward the electric field and reduces the energy of the ion flow from the electric field toward the analytical magnetic field 3. Spread is limited. If the widths of both slits are made smaller, the resolution will be increased, but if the slit widths are made too small, the sensitivity will be lowered, so the slit width is determined by taking both of these into consideration. Ions from the ion source pass through a slit 5 and are separated according to their energy (velocity) by an electric field 2, and those that pass through a slit 6 enter an analysis magnetic field 3 and are separated according to their mass-to-charge ratio. , only those ions that take that specific trajectory are detected by the detector 4. Therefore, by sweeping the strength of the analysis magnetic field 3, the spatially separated ions will enter the detector one after another, and by displaying or recording the output of the detector, the mass spectrum can be obtained. In other words, we can obtain .
このような装置において、検出器4上のイオン
ビームの収束条件を決定するイオン光学上の最重
要パラメータは端縁場も含めた分析磁場3におけ
る光軸上の磁場分布である。この分布を示す磁場
分布関数は従来の装置があまり高い磁場強度で使
用されていないこともあつて、通常一定値として
扱われている。 In such an apparatus, the most important parameter in ion optics that determines the convergence conditions of the ion beam on the detector 4 is the magnetic field distribution on the optical axis in the analytical magnetic field 3 including the edge field. The magnetic field distribution function indicating this distribution is usually treated as a constant value, partly because conventional devices are not used at very high magnetic field strengths.
しかし、近時高い質量数までの分析が要求され
るようになつたため、分析磁場の強度は必然的に
高くなり該分析磁場を形成する磁石のポールピー
ス材料は準飽和領域、又はそれより高い磁場強度
の下で使用されるようになつた。この高磁場にお
ける磁場分布は低磁場領域より必然的に悪化し、
二重収束条件が満足されなくなり、分解能と感度
の低下を招来する。 However, as analysis of up to a high mass number has recently become required, the strength of the analytical magnetic field has inevitably increased, and the material of the pole piece of the magnet that forms the analytical magnetic field is in the quasi-saturation region or in a magnetic field higher than that. Now used under strength. The magnetic field distribution in this high field is inevitably worse than in the low field region,
The double convergence condition is no longer satisfied, resulting in a decrease in resolution and sensitivity.
このように、磁場強度が大きく変化した場合、
第1図においてX,Yで示す平面内で分析磁場3
を機械的に位置調整し、イオンの収束条件を満す
方法が実験室的に行なわれているが、操作性は甚
だ悪く、且つ全領域での質の良いマススペクトル
を得ることは不可能であり、実用には供されな
い。 In this way, when the magnetic field strength changes significantly,
Analyzing magnetic field 3 in the plane indicated by X and Y in Figure 1
A method has been used in the laboratory to mechanically adjust the position of the ion beam to satisfy the ion focusing conditions, but the operability is extremely poor and it is impossible to obtain a high-quality mass spectrum over the entire region. Yes, it is not put into practical use.
本発明は上記点に鑑み、分析磁場を低磁場領域
から飽和領域まで大きく変化させても常に高い分
解能及び感度が保証できる装置を提供することを
目的とするものである。 In view of the above points, it is an object of the present invention to provide an apparatus that can always guarantee high resolution and sensitivity even when the analytical magnetic field is greatly changed from the low magnetic field region to the saturated region.
本発明に基づく質量分析装置は、試料をイオン
化するイオン源と、該試料イオンを質量対電荷比
に応じて分離するための分析磁場と、該分析磁場
の磁場強度を掃引するための磁場強度掃引手段
と、該分析されたイオンを電気信号として検出す
るためのイオン検出器とを備えた装置において、
前記イオン源と分析磁場との間又は分析磁場とイ
オン検出器との間にイオン流の方向収束を行う四
重極レンズを配置すると共に、該四重極レンズの
強度を予め定めた関数に従つて掃引するレンズ強
度掃引手段と、前記磁場強度掃引手段によつて掃
引される磁場強度が基準値以上であることを検出
する比較手段とを設け、該比較手段の出力信号に
基づいて前記レンズ強度掃引手段を制御すること
により、前記磁場強度掃引手段によつて掃引され
る磁場強度が基準値以上のとき該磁場強度に応じ
て前記四重極レンズの強度を予め定めた関数に従
つて変化させることを特徴とするものである。 A mass spectrometer based on the present invention includes an ion source for ionizing a sample, an analysis magnetic field for separating the sample ions according to their mass-to-charge ratio, and a magnetic field intensity sweep for sweeping the magnetic field strength of the analysis magnetic field. and an ion detector for detecting the analyzed ions as an electrical signal,
A quadrupole lens for directional focusing of the ion flow is disposed between the ion source and the analytical magnetic field or between the analytical magnetic field and the ion detector, and the strength of the quadrupole lens is adjusted according to a predetermined function. and a comparison means for detecting that the magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is equal to or higher than a reference value, and the lens strength is determined based on the output signal of the comparison means. By controlling the sweeping means, when the magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is equal to or higher than a reference value, the strength of the quadrupole lens is changed according to a predetermined function according to the magnetic field strength. It is characterized by this.
以下本発明を図面に基づき詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below based on the drawings.
第2図は分析磁場3の磁場分布を示すもので、
図中3a,3bはポールピース、3cは実効端面
を示している。又、横軸はX軸を、縦軸は分析磁
場中心部の磁場強度Boに対する各部の磁場強度
Bxの比を示している。曲線aは低磁場の分布、
bは純飽和領域の場合、cは飽和領域の場合の分
布であり、低磁場では分布は変化しないが純飽和
領域bになると急激に、且つ大きく変化するよう
になる。而して、この準飽和領域を検知し、この
領域以上の磁場強度になつたとき何等かの手段で
イオンビームの収束条件を変えれば該高磁場領域
でも充分に高い分解能と感度が確保できるはずで
ある。本発明は斯かる点に着目し、四重極レンズ
を用い、分析磁場の強度が一定値以上になつたと
き該磁場強度に応じて前記四重極レンズに補正用
の電圧を与えるようになしたものである。 Figure 2 shows the magnetic field distribution of analysis magnetic field 3.
In the figure, 3a and 3b indicate pole pieces, and 3c indicates an effective end face. Also, the horizontal axis is the X-axis, and the vertical axis is the magnetic field strength at each part relative to the magnetic field strength Bo at the center of the analysis magnetic field.
Shows the ratio of Bx. Curve a is the distribution of low magnetic field,
b is the distribution in the pure saturation region, and c is the distribution in the saturation region.The distribution does not change in a low magnetic field, but in the pure saturation region b, it changes rapidly and greatly. Therefore, if we detect this quasi-saturation region and change the ion beam convergence conditions by some means when the magnetic field strength exceeds this region, we should be able to secure sufficiently high resolution and sensitivity even in this high magnetic field region. It is. The present invention focuses on this point, and uses a quadrupole lens, and when the strength of the analysis magnetic field exceeds a certain value, a correction voltage is applied to the quadrupole lens according to the strength of the magnetic field. This is what I did.
第3図乃至第5図は本発明の一実施例を説明す
る図であり、第3図はイオン光学図、第4図は電
気回路のブロツク図、第5図は動作説明図であ
る。第3図において、第1図と同一符号は同一の
構成物を示している。本実施例において2つの四
重極レンズ7及び8が使用されている。四重極レ
ンズ7は電場2の前段、つまりイオン源1とαス
リツト5との間にあり、方向収束作用のために使
用される。又、四重極レンズ8は電場2と分析磁
場3との間に置かれ、エネルギー収束作用のため
に使用される。該四重極レンズの内、エネルギー
収束用のレンズ8は必ずしも必要ではなく、極め
て高い分解能を要求されるとき使用すれば良い。
該四重極レンズ7,8には第4図に示す回路より
補正信号が供給される。第4図において、3a,
3bは分析磁場を作る磁石のポールピースであ
り、電磁コイル9a,9bにより励磁されてい
る。10はポールピース間に挿入されたホール素
子の如き磁場検出器で、その出力は増幅器11を
介して比較器12に導入されている。該比較器に
は基準電源13より基準電圧が供給されており、
ホール素子の出力が該基準信号以上になつたとき
検出信号を補正関数発生器14a,14bに送
る。該関数発生器は比較器からの信号を予め設定
された関数に変換する。該変換された信号は加算
器15a,15bに送られ、直流電源16a,1
6bからの電圧と加算され、前記各四重極レンズ
7及び8に印加される。前記関数発生器14a,
14bは夫々別の関数を発生するように設定して
あり、レンズ7及び8による収束条件の補正が適
正になるようにしてある。 3 to 5 are diagrams for explaining one embodiment of the present invention, in which FIG. 3 is an ion optical diagram, FIG. 4 is a block diagram of an electric circuit, and FIG. 5 is an operation explanatory diagram. In FIG. 3, the same reference numerals as in FIG. 1 indicate the same components. Two quadrupole lenses 7 and 8 are used in this example. The quadrupole lens 7 is located before the electric field 2, that is, between the ion source 1 and the α-slit 5, and is used for directional focusing. Also, a quadrupole lens 8 is placed between the electric field 2 and the analytical magnetic field 3 and is used for energy focusing. Among the quadrupole lenses, the energy focusing lens 8 is not necessarily necessary, and may be used when extremely high resolution is required.
A correction signal is supplied to the quadrupole lenses 7 and 8 from a circuit shown in FIG. In FIG. 4, 3a,
3b is a pole piece of a magnet that creates an analysis magnetic field, and is excited by electromagnetic coils 9a and 9b. 10 is a magnetic field detector such as a Hall element inserted between the pole pieces, and its output is introduced into a comparator 12 via an amplifier 11. A reference voltage is supplied to the comparator from a reference power supply 13,
When the output of the Hall element exceeds the reference signal, a detection signal is sent to the correction function generators 14a and 14b. The function generator converts the signal from the comparator into a preset function. The converted signals are sent to adders 15a, 15b, and DC power supplies 16a, 1
6b and applied to each of the quadrupole lenses 7 and 8. the function generator 14a,
14b are set to generate different functions, respectively, so that correction of the convergence conditions by the lenses 7 and 8 is appropriate.
第5図は第4図の動作を説明するための図であ
り、a図はホール素子の出力電圧V(従つて、磁
場強度)の変化を、b図は四重極レンズ7及び8
に与える電圧VQを時間軸に関して示している。
a図において、V1は基準電圧であり、準飽和領
域に達するときの電圧である。而して、磁場を掃
引していき、ホール素子の出力がV1になつたと
き(時刻t1)以後(斜線を施した部分)比較器1
2は該ホール素子からの出力信号を関数発生器1
4a,14bに送り、b図のVQ1及びVQ2のt1か
らt2までに示すように、ホール素子の出力(従つ
て分析磁場の強度)に応じて変化する電圧を発生
する。該信号は加算器15a,15bに送られ、
電源16a,16bからの一定の電圧と加算され
る。それにより、四重極レンズ7及び8はそのレ
ンズ強度が補正され、第2図に示すようなポール
ピース端面部における磁場分布の変化に拘わら
ず、イオンビームは常に検出器4上に収束される
ようになる。 FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of FIG. 4, and FIG.
The voltage VQ applied to is shown on the time axis.
In figure a, V 1 is a reference voltage, which is the voltage at which the quasi-saturation region is reached. Then, the magnetic field is swept, and when the output of the Hall element reaches V 1 (time t 1 ), the comparator 1
2 converts the output signal from the Hall element into a function generator 1
4a and 14b, and as shown from t1 to t2 of VQ1 and VQ2 in Fig. b, a voltage is generated that changes depending on the output of the Hall element (therefore, the strength of the analytical magnetic field). The signals are sent to adders 15a, 15b,
It is added to the constant voltage from the power supplies 16a and 16b. As a result, the lens strengths of the quadrupole lenses 7 and 8 are corrected, and the ion beam is always focused on the detector 4, regardless of changes in the magnetic field distribution at the end face of the pole piece as shown in FIG. It becomes like this.
上記関数発生器14a,14bを通した信号の
曲線は装置によつて異なるが、概略自乗曲線又は
それに近似している場合が多く、又補正は10%程
度の誤差が許容できる。それ故、実際の装置に適
用する場合には数乃至十点程度の折れ線近似を行
なう回路を使用すると構成は簡単で経済的にも有
利である。 Although the curve of the signal passed through the function generators 14a and 14b differs depending on the device, it is often approximately a squared curve or approximated thereto, and an error of about 10% can be tolerated in the correction. Therefore, when applied to an actual device, it is advantageous to use a circuit that performs polygonal line approximation using several to ten points, since the configuration is simple and economically advantageous.
以上詳説したような構成となすことにより、分
析磁場をポールピースが準飽和、又は飽和する領
域まで強励磁しても検出器上でのイオンビームの
収束条件は殆んど変化しなくなり、高分解能、高
感度を保持したままハイマスの試料分析が可能と
なる。 With the configuration detailed above, the convergence conditions of the ion beam on the detector hardly change even if the analysis magnetic field is strongly excited to the region where the pole piece is quasi-saturated or saturated, resulting in high resolution. , it becomes possible to analyze high-mass samples while maintaining high sensitivity.
尚、以上は本発明の一例であり、実施に際して
は種々の変更が可能である。例えば、四極レンズ
を分析磁場とイオン検出器との間に配置しても全
く同様に補正できる。又、上記は二重収束質量分
析装置を例に説明したが、電場を持たない単収束
質量分析装置にも同様に適用できる。この場合、
方向収束用の四重極レンズ7のみ使用すれば良
い。又、レンズ7による方向収束の補正に対し、
レンズ8によるエネルギー収束の補正の方が一
桁、又はそれ以上小さいので、装置の性能により
二重収束質量分析装置といえども前記エネルギー
収束用の四重極レンズは使用する必要はない。更
に、磁場強度の検出器や関数発生器等は図示のも
のに限られず、その目的に適うものであればどの
ようなものでも良い。 Note that the above is an example of the present invention, and various changes are possible when implementing the present invention. For example, even if a quadrupole lens is placed between the analysis magnetic field and the ion detector, the same correction can be made. Further, although the above description has been made using a double convergence mass spectrometer as an example, the present invention can be similarly applied to a single convergence mass spectrometer that does not have an electric field. in this case,
It is sufficient to use only the quadrupole lens 7 for directional focusing. Also, for correction of directional convergence by lens 7,
Since the energy convergence correction by the lens 8 is one order of magnitude or more smaller, it is not necessary to use the quadrupole lens for energy convergence even in a double convergence mass spectrometer depending on the performance of the apparatus. Further, the magnetic field strength detector, function generator, etc. are not limited to those shown in the drawings, and may be of any type as long as they are suitable for the purpose.
第1図は従来の二重収束質量分析装置のイオン
光学図、第2図は本発明の原理を説明するための
図、第3図は本発明の一実施例のイオン光学図、
第4図は本発明の一実施例の主要部を示すブロツ
ク的回路図、第5図は第4図の動作説明図であ
る。
1:イオン源、2:エネルギー分散用電場、
3:分析磁場、4:イオン検出器、7:方向収束
用四重極レンズ、8:エネルギー収束用四重極レ
ンズ、10:磁場強度検出器、12:比較器、1
3:基準電源、14a,14b:関数発生回路、
15a,15b:加算器、16a,16b:直流
電源。
FIG. 1 is an ion optical diagram of a conventional double focus mass spectrometer, FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of the present invention, and FIG. 3 is an ion optical diagram of an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a block circuit diagram showing the main part of an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an explanatory diagram of the operation of FIG. 4. 1: ion source, 2: electric field for energy dispersion,
3: Analysis magnetic field, 4: Ion detector, 7: Quadrupole lens for direction focusing, 8: Quadrupole lens for energy focusing, 10: Magnetic field strength detector, 12: Comparator, 1
3: Reference power supply, 14a, 14b: Function generation circuit,
15a, 15b: Adder, 16a, 16b: DC power supply.
Claims (1)
ンを質量対電荷比に応じて分離するための分析磁
場と、該分析磁場の磁場強度を掃引するための磁
場強度掃引手段と、該分析されたイオンを電気信
号として検出するためのイオン検出器とを備えた
装置において、前記イオン源と分析磁場との間又
は分析磁場とイオン検出器との間にイオン流の方
向収束を行う四重極レンズを配置すると共に、該
四重極レンズの強度を予め定めた関数に従つて掃
引するレンズ強度掃引手段と、前記磁場強度掃引
手段によつて掃引される磁場強度が基準値以上で
あることを検出する比較手段とを設け、該比較手
段の出力信号に基づいて前記レンズ強度掃引手段
を制御することにより、前記磁場強度掃引手段に
よつて掃引される磁場強度が基準値以上のとき該
磁場強度に応じて前記四重極レンズの強度を予め
定めた関数に従つて変化させることを特徴とする
質量分析装置。 2 前記分析磁場の前段にイオンのエネルギー分
散用の電場がある場合には、前記四重極レンズは
該電場とイオン源との間に置かれる特許請求の範
囲第1項記載の質量分析装置。 3 試料をイオン化するイオン源と、該試料イオ
ンを質量対電荷比に応じて分離するための分析磁
場と、該分析磁場とイオン源との間におかれたエ
ネルギー分散用の電場と、前記分析磁場で分析さ
れたイオンを電気信号として検出するためのイオ
ン検出器とを備えた装置において、前記イオン源
と電場との間にイオン流の方向収束を行なう四重
極レンズを配置し、また前記電場と分析磁場との
間にエネルギー収束用の四重極レンズを配置する
と共に、該夫々の四重極レンズの強度を予め定め
た関数に従つて掃引するレンズ強度掃引手段と、
前記磁場強度掃引手段によつて掃引される磁場強
度が基準値以上であることを検出する比較手段と
を設け、該比較手段の出力信号に基づいて前記レ
ンズ強度掃引手段を制御することにより、前記磁
場強度掃引手段によつて掃引される磁場強度が基
準値以上のとき該磁場強度に応じて前記両四重極
レンズの強度を予め定めた関数に従つて夫々変化
させることを特徴とする質量分析装置。[Scope of Claims] 1. An ion source for ionizing a sample, an analysis magnetic field for separating the sample ions according to their mass-to-charge ratio, and a magnetic field intensity sweeping means for sweeping the magnetic field strength of the analysis magnetic field. , an ion detector for detecting the analyzed ions as electrical signals, the ion flow direction focusing between the ion source and the analytical magnetic field or between the analytical magnetic field and the ion detector. a lens strength sweeping means for sweeping the strength of the quadrupole lens according to a predetermined function; and a magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is equal to or higher than a reference value. By controlling the lens strength sweeping means based on the output signal of the comparing means, the magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is greater than or equal to the reference value. A mass spectrometer characterized in that the intensity of the quadrupole lens is changed according to a predetermined function in accordance with the magnetic field intensity. 2. The mass spectrometer according to claim 1, wherein when an electric field for ion energy dispersion is provided before the analysis magnetic field, the quadrupole lens is placed between the electric field and the ion source. 3. An ion source for ionizing a sample, an analytical magnetic field for separating the sample ions according to their mass-to-charge ratio, an electric field for energy dispersion placed between the analytical magnetic field and the ion source, and An apparatus comprising an ion detector for detecting ions analyzed in a magnetic field as electrical signals, wherein a quadrupole lens for directional focusing of the ion flow is disposed between the ion source and the electric field, and the A lens intensity sweeping means that disposes a quadrupole lens for energy focusing between the electric field and the analysis magnetic field, and sweeps the intensity of each quadrupole lens according to a predetermined function;
Comparing means for detecting that the magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is equal to or higher than a reference value, and controlling the lens strength sweeping means based on an output signal of the comparing means. Mass spectrometry characterized in that, when the magnetic field strength swept by the magnetic field strength sweeping means is equal to or higher than a reference value, the strength of both quadrupole lenses is changed according to a predetermined function in accordance with the magnetic field strength. Device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218171A JPS59108255A (en) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | Mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218171A JPS59108255A (en) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | Mass spectrometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59108255A JPS59108255A (en) | 1984-06-22 |
| JPH04338B2 true JPH04338B2 (en) | 1992-01-07 |
Family
ID=16715734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57218171A Granted JPS59108255A (en) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | Mass spectrometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59108255A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01304650A (en) * | 1988-06-01 | 1989-12-08 | Hitachi Ltd | mass spectrometer |
| CN106404882B (en) * | 2016-08-31 | 2019-08-23 | 兰州空间技术物理研究所 | A Magnetic Deflection Mass Spectrometer Based on Cylindrical Electric Field Analyzer |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5220089A (en) * | 1975-08-08 | 1977-02-15 | Hitachi Ltd | Ion detecting device for mass spectometers |
| JPS5953501B2 (en) * | 1978-01-06 | 1984-12-25 | 株式会社日立製作所 | mass spectrometer |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP57218171A patent/JPS59108255A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59108255A (en) | 1984-06-22 |
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